JP3182630B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真に利用される電
子写真感光体に関し、特に電子写真感光体の構成層の構
成要件に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来電子写真感光体として、板状、ベル
ト状又はドラム状のアルミ基体上に、無機光導電性材料
を用いた感光層や有機光導電性材料を用いた感光層を設
けた感光体が知られている。

【０００３】前記感光体の電子写真性能はアルミニウム
基体の表面状態及び材質による影響が大である。即ち基
体表面の機械的平滑度が悪く凹凸や傷があると電気的欠
陥を生じ、画像形成時白抜けや黒筋等を発生する。そこ
で通常ダイアモンドバイト等により鏡面加工が施され
る。またアルミニウム基体は所望の機械的強度を確保す
るために、通常マグネシウム、鉄、ケイ素、銅、マンガ
ン等が合金成分として含有れる。

【０００４】ところでアルミニウム基体の表面の各種欠
陥を被覆し、感光体として用いたときの画質の調整を目
的として、例えばポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂等の中間層を設ける技術が知られている。

【０００５】しかしながら前記中間層を設けた感光体で
は、繰り返し像形成の過程で疲労劣化を生じ易く、帯電
性、電荷保持性が低下しかつ残留電位が上昇して画質が
悪化するという問題がある。

【０００６】そこで例えば特開昭64-29852号には、アル
ミニウム基体上に水和した酸化アルミニウム層を設け、
この上に電荷発生物質（ＣＧＭ）と電荷輸送物質（ＣＴ
Ｍ）を含有する感光層を設けた感光体が提案されてい
る。

【０００７】前記水和した酸化アルミニウム層は、例え
ば100℃付近の純水で処理することにより形成され、水
和加工が容易でかつ簡単であり、しかも整流性を有する
ことから、感光体に高感度化、及び優れた帯電性、電荷
保持性、繰返特性等を付与することができるという記載
がある。

【０００８】しかしながら、本発明者らの検討の結果、
アルミニウム基体上への前記水和した酸化アルミニウム
層の生成に不均一性を有するということが分かった。そ
のため水和した酸化アルミニウム層を設けたアルミニウ
ム基体を用いた感光体では、水和酸化アルミニウム層が
他に比べ薄いところや生成しなかったところにおいて、
基体側からのフリーキャリアーの注入を阻止することが
できず、その結果として画像上に微小な白抜けや濃度低
下といった画像欠陥が発生する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は不均一
な酸化アルミニウム層を有するアルミニウム基体の感光
体を用いても画像欠陥が生じず、帯電性、電荷保持率及
び感度に優れていて、かつ繰り返し使用においても帯電
電位、感度の低下がなく、残留電位の上昇を起こさない
感光体を提供する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】アルミニウム基体上に電
荷発生層と電荷輸送層とをこの順に積層した感光層を有
する電子写真感光体において、上記基体の表面が１０Ｍ
Ωｃｍ以上の比抵抗を有する水を用いて水和された酸化
アルミニウム層よりなり、電荷発生層に電荷発生物質と
して下記一般式〔Ｉ〕及び／または〔ＩＩ〕で示される
ペリレン系化合物を用いることにより達成される。

【００１１】

【化２】

【００１２】但し、一般式〔Ｉ〕、〔II〕において、Ｚ
は置換、無置換の２価の芳香族基を表す。

【００１３】以下本発明を更に詳しく説明する。

【００１４】本発明の電子写真感光体は電荷発生層に電
荷発生物質として少なくとも前記一般式〔Ｉ〕及び／ま
たは〔II〕で表されるペリレン系化合物を含有する。

【００１５】前記一般式〔Ｉ〕または〔II〕で表される
ペリレン系化合物において、Ｚで表される芳香族基の好
ましい例としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、
アントラセン環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、ピラゾール環、アントラキノン環等が挙げら
れ、特にベンゼン環又はナフタレン環であることが好ま
しい。またＺで表される芳香族環は置換されていてもよ
く、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アシール基、アシロキシ
基、アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基などを挙げることができる。

【００１６】以下本発明に好ましく用いられるペリレン
系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらによって限
定されるものではない。

【００１７】

【化３】

【００１８】電子写真感光体の層構成は種々の形態が知
られているが、本発明の電子写真感光体は機能分離型感
光体であり、図１（１）、（２）のような構成となる。
図１（１）に示す層構成は、アルミニウム基体１１表面
に１０ＭΩｃｍ以上の比抵抗を有する水を用いて設けら
れた水和酸化アルミニウム層１２上に、電荷発生物質
（以下ＣＧＭと略す）を含有する電荷発生層（以下ＣＧ
Ｌと略す）２１を形成し、これに電荷輸送物質（以下Ｃ
ＴＭと略す）を含有する電荷輸送層（以下ＣＴＬと略
す）２２を積層して感光層（以下ＰＣＬと略す）１４を
形成したものであり、図１（２）は（１）の層構成のＰ
ＣＬ１４と水和酸化アルミニウム層１２の間に接着層、
バリア層などの中間層（以下ＡＳＬと略す）１３を設け
たものである。図１（１）、（２）の構成において、最
表層には更に保護層を設けてもよく、またＣＧＬ２１中
にＣＴＭを含有してもよい。本発明においてはＣＧＬと
ＣＴＬの少なくとも２層を有する感光体が特に好まし
い。

【００１９】ＣＧＬ21は例えば下記、に示す方法に
よって作製された塗布液をアルミニウム基体11表面に設
けられた水和酸化アルミニウム層12上に直接、あるいは
必要に応じて接着層もしくはバリヤ層などのＡＳＬ15を
設けた上に塗布することにより形成することができる。

【００２０】前記ＣＧＭを適当な溶媒に溶解した溶
液、あるいは更に必要に応じてバインダ樹脂および又は
ＣＴＭを加え混合溶解した溶液。

【００２１】前記ＣＧＭをボールミル、サンドグライ
ンダ等を用いて分散を行い微細粒子（好ましくは粒径５
μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下）とし、必要に応
じてバインダ樹脂および／又はＣＴＭを加え混合分散し
た分散液。

【００２２】ＣＧＬの形成に使用される溶媒あるいは分
散媒としては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムア
ミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロ
ピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、1,
2-ジクロルエタン、1,2-ジクロルプロパン、1,1,2-トリ
クロルエタン、1,1,1-トリクロルエタン、トリクロルエ
チレン、テトラクロルエタン、ジクロルメタン、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチル
スルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられるが、本
発明はこれらに限定されるものではない。また、分散媒
としては上記溶媒の混合溶液でもよい。

【００２３】少なくともＣＴＭを含有するＣＴＬは上記
ＣＧＬと同様にして形成することができる。

【００２４】ＣＧＬあるいはＣＴＬの形成に用いられる
バインダ樹脂は任意のものを用いることができるが、疎
水性で、かつ誘電率が高く、電気絶縁性のフィルム形成
性高分子重合体を用いることが好ましい。このような高
分子重合体としては、例えば次のものを挙げることがで
きるが、これらに限定されるものではない。

【００２５】Ｐ−１） ポリカーボネート Ｐ−２） ポリエステル Ｐ−３） メタクリル酸 Ｐ−４） ポリアクリル樹脂 Ｐ−５） ポリ塩化ビニル Ｐ−６） ポリ塩化ビニリデン Ｐ−７） ポリスチレン Ｐ−８） ポリビニルアセテート Ｐ−９） スチレン-プタジエン共重合体 Ｐ−10） 塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体 Ｐ−11） 塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体 Ｐ−12） 塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重
合体 Ｐ−13） シリコーン樹脂 Ｐ−14） シリコーン-アルキッド樹脂 Ｐ−15） フェノールホルムアルデヒド樹脂 Ｐ−16） スチレン-アルキッド樹脂 Ｐ−17） ポリ-N-ビニルカルバゾール Ｐ−18） ポリビニルブチラール Ｐ−19） ポリビニルフォルマール これらのバインダ樹脂は、単独であるいは２種以上の混
合物として用いることができる。

【００２６】以上のようにして形成されるＣＧＬにおい
て、一般式〔Ｉ〕および／または一般式〔II〕で表され
るペリレン系化合物からなるＣＧＭとバインダとの重量
比は好ましくは100：10〜1000である。ＣＧＭの含有割
合がこれより少いと光感度が低く、残留電位の増加を招
き、またこれにより多いと暗減衰及び受容電位が低下す
る。

【００２７】また、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有する場合に
は、ＣＧＭとＣＴＭとの割合は重量比で10：０〜10：10
00であることが好ましく、特に好ましくは10：０〜10：
100である。

【００２８】形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μｍである。

【００２９】また、前記のようにして形成されるＣＴＬ
において、ＣＴＭはＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。

【００３０】また、形成されるＣＴＬの厚さは、好まし
くは５〜60μｍ、特に好ましくは10〜40μｍである。

【００３１】本発明に用いられるＣＴＭとしては、特に
制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導
体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダ
ゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリ
ジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラ
ゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベ
ンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キ
ナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導
体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ
-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9
-ビニルアントラセン等が挙げられる。

【００３２】ただし本発明においてＣＴＭは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記ペリレン系化合物等のＣＧＭとの組合
せも考慮して選択されることが好ましく、かかるＣＴＭ
としては下記一般式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合
物を挙げることができる。

【００３３】

【化４】

【００３４】但し、Ａr₁，Ａr₂，Ａr₄はそれぞれ置換又
は無置換のアリール基を表し、Ａr₃は置換又は無置換の
アリーレン基を表し、Ｒ₁は水素原子、置換若しくは無
置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール
基を表す。

【００３５】

【化５】

【００３６】式中Ａr₁，Ａr₄，Ａr₅はそれぞれ置換、無
置換のアリール基、好ましくは置換、無置換のフェニル
基、置換、無置換のナフチル基を表し、Ｒ₁，Ｒ₂は水素
原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアリ
ール基を表し、好ましくは水素原子、炭素原子数１個か
ら８個のアルキル基、置換、無置換のフェニル基、置
換、無置換のナフチル基を表す。Ａr₂，Ａr₃は置換、無
置換のアリーレン基、好ましくは置換、無置換のフェニ
レン基、置換、無置換のナフチレン基を表す。

【００３７】本発明の電子写真感光体に用いられるアル
ミニウム基体としては、機械的強度を増すためアルミニ
ウム合金が好ましく、前記アルミニウム合金としては、
アルミニウム−マグネシウム系合金であり、該合金中の
鉄成分及びケイ素成分がそれぞれ0.2wt％以下であり、
さらに前記アルミニウム合金がアルミニウムよりイオン
化傾向が小さくかつ前記鉄及びケイ素成分以外の合金成
分が0.2wt％以下である。

【００３８】鉄、ケイ素のような合金成分は基体加工過
程においてアルミニウム合金を形成するとともに、結晶
化して水和酸化アルミニウム層により被覆されにくい晶
出物を生成し易い。一方マグネシウムはアルミニウムと
固溶体を生成するため晶出物を生成しないことが知られ
ている。またアルミニウムよりもイオン化傾向が大きい
金属の存在下ではアルミニウムが溶出しやすくなり水和
酸化反応が抑制され、一方アルミニウムよりもイオン化
傾向の小さい金属の存在下では、アルミニウムは溶出せ
ずむしろ水和酸化反応が促進されることが知られてい
る。

【００３９】また、上記感光層中には保存性、耐久性、
耐環境性を向上させる目的で酸化防止剤や光安定剤等の
劣化防止剤を含有させることができる。そのような目的
に用いられる化合物としては例えば、ビフェニル、ター
フェニル、ジフェニルエーテル、炭酸ジフェニル、安息
香酸フェニル、フタル酸ジフェニル、トコフェロール等
のクロマノール誘導体及びそのエーテル化化合物もしく
はエステル化化合物、ポリアリールアルカン化合物、ハ
イドロキノン誘導体及びそのモノ及びジエーテル化化合
物、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導
体、チオエーテル化合物、ホスホン酸エステル、亜燐酸
エステル、フェニレンジアミン誘導体、フェノール化合
物、ヒンダードフェノール化合物、直鎖アミン化合物、
環状アミン化合物、ヒンダードアミン化合物などが有効
である。特に有効な化合物の具体例としては、「IRGANO
X 1010」，「IRGANOX565」（チバ・ガイギー社製），
「スミライザー BHT」，「スミライザー MDP」（住友化
学工業社製）等のヒンダードフェノール化合物、「サノ
ール LS−2626」，「サノール LS−622LD」（三共社
製）等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。これら
化合物とキャリア輸送物質との重量比は0.001〜0.1：１
で、好ましくは0.01〜0.1：１である。

【００４０】本発明において、水和酸化アルミニウム層
と電荷発生層との間に中間層を有してもよく、その際中
間層の膜厚は0.01〜15μｍ、好ましくは0.05〜３μｍで
ある。

【００４１】0.01μｍを下回ると基体から感光層への電
荷の注入が阻止され難く、また基体の凹凸を原因として
感光体にピンホールが発生しやすくなる。15μｍを上回
ると感光層の残留電位が効果的に除去されない。

【００４２】さらに中間層に用いられるバインダーとし
ては、電気抵抗、耐環境性、他層との接着性あるいは他
層の溶媒に不溶であること等を考慮して選ばれるが、本
発明においてはポリアミド樹脂が最も好ましい。

【００４３】ポリアミドとしては、アルコール可溶性ポ
リアミドが最も好ましく、少なくとも２種のポリアミド
モノマー混合体を重合して得られる重合体ポリアミドや
Ｎ−アルコキシ変性ナイロン等を用いることができる。

【００４４】本発明のＰＣＬにはＣＧＭの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に２級アミンを添加するのが好ましい。

【００４５】かかる２級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジ-ノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。

【００４６】かかる有機アミン類の添加量としては、Ｃ
ＧＭの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。

【００４７】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００４８】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブ
ロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フ
タル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、
無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノ
キノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5-ニトロ
サリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリ
ット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げるこ
とができる。

【００４９】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質：電子受容性物質＝100：0.01＝200、好ましく
は100：0.1〜100である。

【００５０】電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でＣ
ＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、好ましくは10
0：0.1〜50である。

【００５１】また本発明の感光体には、その他、必要に
よりＰＣＬを保護する目的で酸化防止剤や紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。

【００５２】また本発明においては、電荷輸送層中には
レベリング剤を添加してもよい。レベリング剤としては
ジメチルシリコンオイル、メチルフェニルシリコンオイ
ルなどのシリコンオイル類が使用され、その使用量はバ
インダー樹脂に対して０〜１wt％程度が適当である。

【００５３】本発明において、アルミニウム素管を洗浄
した後アルミニウム基体上に水和した酸化アルミニウム
層を形成するには比抵抗が10ＭΩcm以上好ましくは17Ｍ
Ωｃｍ以上かつ温度が６０〜90℃、このましくは70〜80
℃である水中に所定時間以上、好ましくは少なくとも20
秒以上浸漬することにより形成できる。また水和酸化皮
膜を形成させる前のアルミニウム基体の洗浄としては、
下記〜のような方法で行えばよい。

【００５４】液体の噴射によって洗浄（ジェト洗浄） 摺擦部材によって洗浄（擦り洗浄） 300nm以下の紫外線を照射併用（UV洗浄） 有機溶剤による超音波および蒸気洗浄 スポンジ状ローラによる洗浄

【００５５】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、これにより本発明の実施態様が限定されるもの
ではない。

【００５６】実施例１ （アルミニウム素管の洗浄）本発明に係わるアルミニウ
ム合金引抜管を両端インロー加工後、ダイヤモンドバイ
トで鏡面加工を施し、トリクレンを用いて超音波洗浄を
し、蒸気乾燥により洗浄を行った。

【００５７】素管の大きさ：φ80mm×355.5mm 素管表面粗さ：0.3ｓ以下 （水和酸化加工）80℃の超純水に１分間浸漬させて水和
酸化処理を施した後、0.5cm/secの引上速度にて素管を
引き上げ、素管を乾燥した。

【００５８】（感光層の形成） 〔中間層の塗布〕ポリアミドＣＭ8000（東レ社製）1.5
ｇ、メタノール-n-ブタノール混合溶媒100ml（重量比メ
タノール：n-ブタノール＝４：１）から成る中間層液に
より、浸漬塗布にて膜厚0.2μｍの中間層を形成させ
た。

【００５９】〔電荷発生層の塗布〕例示化合物Ａ−１
7.5ｇ、ブチラール樹脂エレックスＢＸ−Ｌ（積水化学
工業社製）1.5ｇ、メチルエチルケトン300mlからなるサ
ンドグラインダーにより分散して得た電荷発生層液によ
り、浸漬塗布にて膜厚0.5μｍの電荷発生層を形成させ
た。

【００６０】〔電荷輸送層の塗布〕ビスフェノールＺ型
ポリカーボネート樹脂ユーピロンＺ300（三菱瓦斯化学
社製）16.5ｇ、下記電荷輸送物質（Ｃ）11.75ｇ、ジク
ロルエタン100mlから成る電荷輸送層液により、浸漬塗
布にて膜厚30μｍの電荷輸送層を形成させた（乾燥：90
℃で１時間）。

【００６１】

【化６】

【００６２】得られた感光体試料１について下記に示す
特性評価を行った。

【００６３】〔画像評価試験〕上記にて作成した本発明
の感光体１を電子写真複写機「Ｕ−Ｂｉｘ4045」（コニ
カ社製）に組み込み、実写評価を行った。なお、白抜け
の評価は画像解析装置「オムニコン3000形」（島津製作
所社製）を用いて白抜けの粒径と個数を測定し、白抜け
の大きさとＡ４画像当たりの個数により判断した。

【００６４】濃度低下は反射濃度計を用いてその濃度を
測定することにより評価した。

【００６５】〔繰り返し特性試験〕上記複写機を改良し
表面電位計を備えた複写機を用いて、帯電→露光→徐電
のプロセスを、10000回繰り返した時の１回目と10000回
目の黒紙電位、白紙電位（それぞれＶ_B、Ｖ_W）及び残留
電位Ｖ_Rを測定した。なお、黒紙電位とは光学濃度1.30
の原稿を複写する際の感光体の表面電位、白紙電位とは
光学濃度0.00の原稿を複写する際の感光体の表面電位で
ある。

【００６６】得られた結果を表１に示す。

【００６７】実施例２ 実施例１において中間層を塗布していない以外は実施例
１と同様にして感光体試料２を作製し実施例１と同様の
評価を行った。その結果を表１に示す。

【００６８】比較例１ 実施例１において電荷発生物質の例示化合物Ａ−１に換
えて、下記ペリレン化合物（Ｄ）を用いた以外は同様に
して、比較試料３を作製し、実施例１と同様の評価を行
った。

【００６９】以下同様にして、感光体試料２の例示化合
物Ａ−１に換えて、下記ペリレン化合物（Ｄ）を用いた
比較試料４を作製し、実施例１と同様の評価を行った。
これらの結果を表１に示す。

【００７０】

【化７】

【００７１】

【表１】

【００７２】画像欠陥評価 ◎ ：画像濃度1.3以上かつ0.3mm以上白抜け０個（Ａ４
で） ○ ：画像濃度1.2以上かつ0.3mm以上0.5mm未満白抜け５
個以下かつ0.5mm以上白 抜け０個（Ａ４で） × ：画像濃度1.2以上かつ0.3mm以上白抜け６個以上
（Ａ４で）又は画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上0.5mm未
満の白抜け５個以下（Ａ４で） ××：画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上白抜け６個以上
（Ａ４で） 表１の結果から明らかな様に、比較試料に比べ本発明の
構成のものは、表面に水和酸化アルミニウム層を有する
アルミニウム素管の感光体を用いても画像欠陥が生じ
ず、帯電性に優れかつ10000回後繰り返し使用において
も帯電電位の低下がなく、残留電位の上昇を起こさない
感光体であることがわかる。

【００７３】

【発明の効果】表面に水和酸化アルミニウム層を有する
アルミニウム素管の感光体を用いても画像欠陥が生じ
ず、帯電性に優れかつ繰り返し使用においても帯電電位
の低下がなく、残留電位の上昇を起こさない感光体を提
供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体の断面図

【符号の説明】

１１ アルミニウム合金基体 １２ 水和酸化アルミニウム層 １３ 中間層 １４ 感光層 ２１ 電荷発生層 ２２ 電荷輸送層

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−180956（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−276761（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−29852（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−156758（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−22664（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−242748（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−109567（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−285953（ＪＰ，Ａ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム基体上に電荷発生層と電荷
   輸送層とをこの順に設けた感光層とからなる電子写真感
   光体において、上記基体の表面が１０ＭΩｃｍ以上の比
   抵抗を有する水を用いて水和された酸化アルミニウム層
   よりなり、電荷発生層が下記一般式〔Ｉ〕及び／又は
   〔ＩＩ〕で示される電荷発生物質を含むことを特徴とす
   る電子写真感光体。 【化１】 〔但し、一般式〔Ｉ〕、〔ＩＩ〕において、Ｚは置換、
   無置換の２価の芳香族基を表す。〕
2. 【請求項２】 アルミニウム基体と感光層との間に中間
   層を有し、該中間層がポリアミド樹脂よりなる請求項１
   に記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記アルミニウム基体がアルミニウム−
   マグネシウム系合金であり、該合金中の鉄成分及びケイ
   素成分がそれぞれ０．２ｗｔ％以下である請求項１又は
   ２に記載の電子写真感光体。