JP3181826B2 - ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 - Google Patents
２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法Info
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- JP3181826B2 JP3181826B2 JP01450696A JP1450696A JP3181826B2 JP 3181826 B2 JP3181826 B2 JP 3181826B2 JP 01450696 A JP01450696 A JP 01450696A JP 1450696 A JP1450696 A JP 1450696A JP 3181826 B2 JP3181826 B2 JP 3181826B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルコール分解反
応により特定のチアゾール誘導体を工業的に有利に製造
する方法に関する。
応により特定のチアゾール誘導体を工業的に有利に製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】下記式（II）で示される２−アミノチア
ゾール酢酸誘導体は、医薬品中間体として有用であり、
例えばセフェム系等の抗生物質の側鎖として用いられる
重要な化合物である。
ゾール酢酸誘導体は、医薬品中間体として有用であり、
例えばセフェム系等の抗生物質の側鎖として用いられる
重要な化合物である。
【０００３】
【化３】
【０００４】（但し、Ｒ1はアミノ基の保護基であり、
Ｒ3はカルボキシル基の保護基である。） 従来、かかる２−アミノチアゾール酢酸誘導体として、
様々なアミノ基の保護基で保護された該化合物が提唱さ
れてはいるものの、実際に合成されたものは、保護基と
してトリフェニルメチル基（以下トリチル基と称す。）
が使用された２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのみであっ
た（特開昭５２−１０２２９３号公報）。
Ｒ3はカルボキシル基の保護基である。） 従来、かかる２−アミノチアゾール酢酸誘導体として、
様々なアミノ基の保護基で保護された該化合物が提唱さ
れてはいるものの、実際に合成されたものは、保護基と
してトリフェニルメチル基（以下トリチル基と称す。）
が使用された２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルのみであっ
た（特開昭５２−１０２２９３号公報）。
【０００５】これは、該化合物の出発原料である２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノ酢酸エチルが分子内に、二つの反応性官能基、即
ち、アミノ基と水酸基を有しているため、トリチル基以
外の保護基では、アミノ基のみを選択的に保護できなか
ったことに起因している。
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ
イミノ酢酸エチルが分子内に、二つの反応性官能基、即
ち、アミノ基と水酸基を有しているため、トリチル基以
外の保護基では、アミノ基のみを選択的に保護できなか
ったことに起因している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記式（II）
で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体は、その医
薬中間体としての重要性から、様々な保護基でアミノ基
を保護する必要性があるため、新規な合成方法の開発が
強く望まれていた。
で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体は、その医
薬中間体としての重要性から、様々な保護基でアミノ基
を保護する必要性があるため、新規な合成方法の開発が
強く望まれていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討を続けてきた。その結果、下記
（Ｉ)で示されるチアゾール誘導体から水酸基の保護基
のみを選択的に除去できれば目的とする上記式（II）で
示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を合成できる
との考えに至った。
題を解決すべく鋭意検討を続けてきた。その結果、下記
（Ｉ)で示されるチアゾール誘導体から水酸基の保護基
のみを選択的に除去できれば目的とする上記式（II）で
示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を合成できる
との考えに至った。
【０００８】
【化４】
【０００９】（但し、Ｒ1はアミノ基の保護基であり、
Ｒ2は水酸基の保護基であり、Ｒ3はカルボキシル基の保
護基である。） 通常、水酸基の保護基の保護基を除去する手段として
は、反応系を酸性もしくは塩基性にする必要がある。し
かしながら、上記式（II）で示される化合物はカルボキ
シル基の保護基を有しているため、反応系を中性から酸
性あるいは塩基性に片寄らせることは、即ち、カルボキ
シル基の保護基の分解をも助長することを意味し、さら
には、目的物の水酸基は、酸性条件下では容易に異性化
反応を起こすことも知られている。
Ｒ2は水酸基の保護基であり、Ｒ3はカルボキシル基の保
護基である。） 通常、水酸基の保護基の保護基を除去する手段として
は、反応系を酸性もしくは塩基性にする必要がある。し
かしながら、上記式（II）で示される化合物はカルボキ
シル基の保護基を有しているため、反応系を中性から酸
性あるいは塩基性に片寄らせることは、即ち、カルボキ
シル基の保護基の分解をも助長することを意味し、さら
には、目的物の水酸基は、酸性条件下では容易に異性化
反応を起こすことも知られている。
【００１０】本発明者らは、上記実状に鑑みさらに鋭意
検討を続けてきた。その結果、上記式（Ｉ）で示される
チアゾール誘導体とアルコールとを反応させることによ
り、容易に上記式(II）の化合物に誘導できることを見
い出し、本発明を完成させるに至った。
検討を続けてきた。その結果、上記式（Ｉ）で示される
チアゾール誘導体とアルコールとを反応させることによ
り、容易に上記式(II）の化合物に誘導できることを見
い出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】即ち、本発明は、下記式（Ｉ）
【００１２】
【化５】
【００１３】（但し、Ｒ1はアミノ基の保護基であり、
Ｒ2は水酸基の保護基であり、Ｒ3はカルボキシル基の保
護基である。）で示されるチアゾール誘導体を、アルコ
ールと反応させることを特徴とする、下記式（II）
Ｒ2は水酸基の保護基であり、Ｒ3はカルボキシル基の保
護基である。）で示されるチアゾール誘導体を、アルコ
ールと反応させることを特徴とする、下記式（II）
【００１４】
【化６】
【００１５】（但し、Ｒ1及びＲ3は上記式（Ｉ）と同
じ。）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製
造方法である。
じ。）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製
造方法である。
【００１６】上記式（Ｉ）において、Ｒ1で示されるア
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
コキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシカルボニ
ル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換アラルキル
オキシカルボニル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアルコキシカ
ルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフェ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルカル
ボニル基等を挙げることができる。
ミノ基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な
アミノ基の保護基を何等制限なく採用することができ
る。例えば、アシル基、アルコキシカルボニル基、アル
コキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシカルボニ
ル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換アラルキル
オキシカルボニル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキルスルホニル基、アルキルスルホニルアルコキシカ
ルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフェ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルカル
ボニル基等を挙げることができる。
【００１７】これらの基をより具体的に説明すると、ア
シル基は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ
−バレリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数
が１〜５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカル
ボニル基等の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキ
シアルキルカルボニル基は、メトキシアセチル基、メト
キシプロピオニル基が好適であり、置換アルコキシカル
ボニル基は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適で
あり、アラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−
ビフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、
３，５−ジメトキシフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニ
ル基、イソニコチルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜１５の基が好適であり、置換アラルキルオキシカルボ
ニル基は、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜９の基が好適であり、アラルキル基は、トリチル基が
好適であり、アルケニル基は、２−ベンゾイル−１−メ
チルビニル基が好適であり、アルキルスルホニル基は、
メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ｉｓｏ−
プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基等の炭素数
１〜４の基が好適であり、アルキルスルホニルアルコキ
シカルボニル基、メタンスルホニルエチルオキシカルボ
ニル基が好適であり、アリールスルホニル基は、フェニ
ルスルホニル基、トリルスルホニル基等の炭素数６〜７
の基が好適であり、アリールスルフェニル基は、ｏ−ニ
トロフェニルスルフェニル基、３−ニトロ−２−ピリジ
ンスルフェニル基等の炭素数５〜６の基が好適であり、
アリールオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオ
イル基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数が７〜
１１の基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フ
ェニルアセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数
８〜９の基を好適に挙げることができる。
シル基は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ
−バレリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数
が１〜５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカル
ボニル基等の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキ
シアルキルカルボニル基は、メトキシアセチル基、メト
キシプロピオニル基が好適であり、置換アルコキシカル
ボニル基は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適で
あり、アラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−
ビフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、
３，５−ジメトキシフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニ
ル基、イソニコチルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜１５の基が好適であり、置換アラルキルオキシカルボ
ニル基は、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜９の基が好適であり、アラルキル基は、トリチル基が
好適であり、アルケニル基は、２−ベンゾイル−１−メ
チルビニル基が好適であり、アルキルスルホニル基は、
メタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ｉｓｏ−
プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基等の炭素数
１〜４の基が好適であり、アルキルスルホニルアルコキ
シカルボニル基、メタンスルホニルエチルオキシカルボ
ニル基が好適であり、アリールスルホニル基は、フェニ
ルスルホニル基、トリルスルホニル基等の炭素数６〜７
の基が好適であり、アリールスルフェニル基は、ｏ−ニ
トロフェニルスルフェニル基、３−ニトロ−２−ピリジ
ンスルフェニル基等の炭素数５〜６の基が好適であり、
アリールオキシカルボニル基は、ベンゾイル基、トルオ
イル基、ナフトイル基、フタロイル基等の炭素数が７〜
１１の基が好適であり、アラルキルカルボニル基は、フ
ェニルアセチル基、フェニルプロピオニル基等の炭素数
８〜９の基を好適に挙げることができる。
【００１８】上記式（Ｉ）において、Ｒ2で示される水
酸基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な水
酸基の保護基を何等制限なく採用することができる。例
えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換ア
ラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリール
スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキ
ルカルボニル基等を挙げることができる。
酸基の保護基としては、一般に使用される脱離容易な水
酸基の保護基を何等制限なく採用することができる。例
えば、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシアルキルカルボニル基、置換アルコキシ
カルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、置換ア
ラルキルオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アルキルスルホニルアルコキシカルボニル基、アリール
スルホニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキ
ルカルボニル基等を挙げることができる。
【００１９】これらの基をより具体的に説明すると、ア
ルキルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ
−バレリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数
が２〜５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカル
ボニル基等の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキ
シアルキルカルボニル基は、メトキシアセチル基、メト
キシプロピオニル基が好適であり、置換アルコキシカル
ボニル基は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適で
あり、アラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−
ビフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、
３，５−ジメトキシフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニ
ル基、イソニコチルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜１５の基が好適であり、置換アラルキルオキシカルボ
ニル基は、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜９の基が好適であり、アルキルスルホニル基は、メタ
ンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ｉｓｏ−プロ
パンスルホニル基、ブタンスルホニル基等の炭素数１〜
４の基が好適であり、アルキルスルホニルアルコキシカ
ルボニル基は、メタンスルホニルエチルオキシカルボニ
ル基が好適であり、アリールスルホニル基は、フェニル
スルホニル基、トリルスルホニル基等の炭素数６〜７の
基が好適であり、アリールオキシカルボニル基は、ベン
ゾイル基、トルオイル基、ナフトイル基、フタロイル基
等の炭素数が７〜１１の基が好適であり、アラルキルカ
ルボニル基は、フェニルアセチル基、フェニルプロピオ
ニル基等の炭素数８〜９の基を好適に挙げることができ
る。
ルキルカルボニル基は、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ｉｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ
−バレリル基、オキサリル基、ピバロイル基等の炭素数
が２〜５の基が好適であり、アルコキシカルボニル基
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プ
ロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル
基、ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカル
ボニル基等の炭素数２〜７の基が好適であり、アルコキ
シアルキルカルボニル基は、メトキシアセチル基、メト
キシプロピオニル基が好適であり、置換アルコキシカル
ボニル基は、トリクロロエトキシカルボニル基が好適で
あり、アラルキルオキシカルボニル基は、ベンジルオキ
シカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ｐ−
ビフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、
３，５−ジメトキシフェニル−ｉｓｏ−プロピルオキシ
カルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニ
ル基、イソニコチルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜１５の基が好適であり、置換アラルキルオキシカルボ
ニル基は、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニル基等の炭素数が８
〜９の基が好適であり、アルキルスルホニル基は、メタ
ンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ｉｓｏ−プロ
パンスルホニル基、ブタンスルホニル基等の炭素数１〜
４の基が好適であり、アルキルスルホニルアルコキシカ
ルボニル基は、メタンスルホニルエチルオキシカルボニ
ル基が好適であり、アリールスルホニル基は、フェニル
スルホニル基、トリルスルホニル基等の炭素数６〜７の
基が好適であり、アリールオキシカルボニル基は、ベン
ゾイル基、トルオイル基、ナフトイル基、フタロイル基
等の炭素数が７〜１１の基が好適であり、アラルキルカ
ルボニル基は、フェニルアセチル基、フェニルプロピオ
ニル基等の炭素数８〜９の基を好適に挙げることができ
る。
【００２０】上記式（Ｉ）において、Ｒ3は、カルボキ
シル基の保護基である。これらカルボキシル基の保護基
としては、エステル等のアミド化反応に供することので
きるカルボン酸誘導体を形成する基であれば何等差し支
えない。例えば、アルキル基、アルケニル基、アラルキ
ル基、置換されていてもよいアリール等を挙げることが
できる。これらの基をより具体的に説明すると、例え
ば、アルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の低級アルキル基
が好適であり、アルケニル基はアリル基、プロペニル
基、ヘキセニル基等の炭素数３〜６の基が好適であり、
アラルキル基はベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等
の炭素数７〜１０の基が好適であり、置換されていても
よいアリール基はフェニル基、トリル基、キシリル基、
ｐ−ニトロフェニル基等の炭素数６〜８が好適である。
中でも入手及び取扱いの容易さを考慮すると、アルキル
基を好適に採用することができる。
シル基の保護基である。これらカルボキシル基の保護基
としては、エステル等のアミド化反応に供することので
きるカルボン酸誘導体を形成する基であれば何等差し支
えない。例えば、アルキル基、アルケニル基、アラルキ
ル基、置換されていてもよいアリール等を挙げることが
できる。これらの基をより具体的に説明すると、例え
ば、アルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の低級アルキル基
が好適であり、アルケニル基はアリル基、プロペニル
基、ヘキセニル基等の炭素数３〜６の基が好適であり、
アラルキル基はベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基等
の炭素数７〜１０の基が好適であり、置換されていても
よいアリール基はフェニル基、トリル基、キシリル基、
ｐ−ニトロフェニル基等の炭素数６〜８が好適である。
中でも入手及び取扱いの容易さを考慮すると、アルキル
基を好適に採用することができる。
【００２１】本発明において好適に用い得る上記式
（Ｉ）で示される化合物を具体的に例示すると、例え
ば、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸メチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−アセトキシイミノ酢酸ベンゾル、２−（２−
ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）
−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸ベンジル、
２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニル
オキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシカルボニル酢酸エチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキシ
イミノアセトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−
ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メタンスルホニルオキ
シイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メタンスルホニ
ルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−メタンス
ルホニルオキシミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−アセチルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ホルミルアミノチ
アゾール−４−）−２−アセトキシイミノ酢酸メチル、
２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ア
セトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ホルミルアミノ
チアゾール−４−）−２−アセトキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２
−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２
−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−メ
トキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−
メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキ
シイミノ酢酸メチル、２−（２−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ベンジルオキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノチアゾール
−４−イル）−２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸メチル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸エチル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンゾイルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ベンゾイルオキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−ベンゾイルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ベンゾイルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−ベンゾイルアミノチアゾール−４−イル）−２−
ベンゾイルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシ
カルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−エトキシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エ
チル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シイミノ酢酸エチル、２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ
イミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−エト
キシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシイ
ミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセト
キシイミノ酢酸エチル等を挙げることができる。
（Ｉ）で示される化合物を具体的に例示すると、例え
ば、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸メチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−アセトキシイミノ酢酸ベンゾル、２−（２−
ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）
−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）−２−プロピオニルオキシイミノ酢酸ベンジル、
２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−
４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニル
オキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−
（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−
イル）−２−メトキシカルボニル酢酸エチル、２−（２
−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキシ
イミノアセトキシイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−
ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２
−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４
−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノチアゾール−４−イル）−２−メタンスルホニルオキ
シイミノ酢酸メチル、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノチアゾール−４−イル）−２−メタンスルホニ
ルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−メタンス
ルホニルオキシミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシイミノ
酢酸メチル、２−（２−アセチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−アセチルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセト
キシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−ホルミルアミノチ
アゾール−４−）−２−アセトキシイミノ酢酸メチル、
２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ア
セトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ホルミルアミノ
チアゾール−４−）−２−アセトキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２
−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２
−（２−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−ホルミルアミノチアゾール−４−）−２−ｔ−ブトキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−メ
トキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−
メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−メトキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ベンジルオキシカルボニルオキ
シイミノ酢酸メチル、２−（２−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ベンジルオキ
シカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ベンジルオキシカルボニルオキシイミノ酢酸ベンジ
ル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノチアゾール−４−イル）−２−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシイミノ酢酸メチル、２−（２−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノチアゾール
−４−イル）−２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシイミノ
酢酸ベンジル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸メチル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸エチル、２−（２−メトキシアセチルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−メトキシアセチルオキシイミ
ノ酢酸ベンジル、２−（２−ベンゾイルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ベンゾイルオキシイミノ酢酸メチ
ル、２−（２−ベンゾイルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ベンゾイルオキシイミノ酢酸エチル、２−
（２−ベンゾイルアミノチアゾール−４−イル）−２−
ベンゾイルオキシイミノ酢酸ベンジル、２−（２−アセ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシ
カルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２−メトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−エトキシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エ
チル、２−（２−ベンジルオキシカルボニルアミノチア
ゾール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シイミノ酢酸エチル、２−（２−トリチルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ
イミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−ｔ−
ブトキシカルボニルオキシイミノ酢酸エチル、２−（２
−メトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−エト
キシカルボニルオキシアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−ベン
ジルオキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ｔ−アセトキシイミノ酢酸エチル、２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセトキシイ
ミノ酢酸エチル、２−（２−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−アセト
キシイミノ酢酸エチル等を挙げることができる。
【００２２】なお、上記式（Ｉ）で示される化合物は、
オキシイミノ基に関して理論的にシン（Ｚ）及びアンチ
（Ｅ）の両異性体が存在し得るが、本発明においては両
者とも同様に用いることができる。
オキシイミノ基に関して理論的にシン（Ｚ）及びアンチ
（Ｅ）の両異性体が存在し得るが、本発明においては両
者とも同様に用いることができる。
【００２３】本発明において、使用されるアルコールと
しては、通常のアルコールが何等制限なく用いることが
できる。それを具体的に例示すると、メタノール、エタ
ノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブ
タノール、２−ブタノール等の脂肪族アルコール、ベン
ジルアルコール、メトキシベンジルアルコール、フェノ
ール等の芳香族アルコールを挙げることができる。これ
らのアルコールの中でも特に、取扱いの容易さ及び反応
後、生成物からの除去の容易さ等から、メタノール、エ
タノール、１−プロパノール、２−プロパノール等の炭
素数１〜７の低級アルコールが特に好適に用いられる。
しては、通常のアルコールが何等制限なく用いることが
できる。それを具体的に例示すると、メタノール、エタ
ノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブ
タノール、２−ブタノール等の脂肪族アルコール、ベン
ジルアルコール、メトキシベンジルアルコール、フェノ
ール等の芳香族アルコールを挙げることができる。これ
らのアルコールの中でも特に、取扱いの容易さ及び反応
後、生成物からの除去の容易さ等から、メタノール、エ
タノール、１−プロパノール、２−プロパノール等の炭
素数１〜７の低級アルコールが特に好適に用いられる。
【００２４】アルコールの使用量としては、アルコール
自身が溶媒として使用可能であるため、上記式（Ｉ）で
示された化合物に対して当量以上であれば何等制限はな
く用いることができるが、１バッチあたりの生産効率を
考慮すると、一般式（Ｉ）で示される化合物に対して１
〜３００倍当量、さらには１〜２００倍当量の範囲であ
ることが好ましい。
自身が溶媒として使用可能であるため、上記式（Ｉ）で
示された化合物に対して当量以上であれば何等制限はな
く用いることができるが、１バッチあたりの生産効率を
考慮すると、一般式（Ｉ）で示される化合物に対して１
〜３００倍当量、さらには１〜２００倍当量の範囲であ
ることが好ましい。
【００２５】また、本反応は、上記の溶媒としても用い
得る上記アルコールの他、通常の溶媒を何等制限なく使
用することができる。それらの溶媒を具体的に例示する
と、テトラハイドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル
類；ｔ−ブチルアルコール、ｔ−アミルアルコール等の
３級アルコール類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、酢酸ｔ−ブチル等のエステル類；アセトニトリ
ル、プロピオニトリル等のニトリル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化脂肪族炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類；クロロベンゼン等の置換芳香族炭化水素
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ジ
メチルカーボネート等のカーボネート類；ジメチルスル
フォキシド等を挙げることができる。
得る上記アルコールの他、通常の溶媒を何等制限なく使
用することができる。それらの溶媒を具体的に例示する
と、テトラハイドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル
類；ｔ−ブチルアルコール、ｔ−アミルアルコール等の
３級アルコール類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、酢酸ｔ−ブチル等のエステル類；アセトニトリ
ル、プロピオニトリル等のニトリル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン
類；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化脂肪族炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類；クロロベンゼン等の置換芳香族炭化水素
類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ジ
メチルカーボネート等のカーボネート類；ジメチルスル
フォキシド等を挙げることができる。
【００２６】これらの溶媒は、単独で使用しても２種類
以上を混合して使用しても一向に差し支えない。使用す
る溶媒の量としては特に制限されないが、あまり少ない
と攪拌に影響を及ぼし、あまり多いと生産効率が下がる
ため、一般的に溶媒中での一般式（Ｉ）で示される化合
物の濃度が０．１〜８０重量％、好ましくは１〜７０重
量％の範囲になるように溶媒を使用するのが好ましい。
以上を混合して使用しても一向に差し支えない。使用す
る溶媒の量としては特に制限されないが、あまり少ない
と攪拌に影響を及ぼし、あまり多いと生産効率が下がる
ため、一般的に溶媒中での一般式（Ｉ）で示される化合
物の濃度が０．１〜８０重量％、好ましくは１〜７０重
量％の範囲になるように溶媒を使用するのが好ましい。
【００２７】本発明におけるアルコール分解反応の反応
温度としては特に制限されないが、あまり温度が低いと
反応速度が小さくなり、逆に温度が高いと原料及び生成
物の分解、着色、副生成物の増大等の問題が生じるた
め、通常反応系の凝固点〜沸点の範囲、好ましくは２０
〜８０℃の範囲で行うのがよい。
温度としては特に制限されないが、あまり温度が低いと
反応速度が小さくなり、逆に温度が高いと原料及び生成
物の分解、着色、副生成物の増大等の問題が生じるた
め、通常反応系の凝固点〜沸点の範囲、好ましくは２０
〜８０℃の範囲で行うのがよい。
【００２８】反応は常圧、加圧、減圧のいずれの場合も
可能であり、反応に要する時間は、反応の温度、溶媒の
種類、塩基の量によっても異なるが、通常は１〜１００
時間の反応で十分である。
可能であり、反応に要する時間は、反応の温度、溶媒の
種類、塩基の量によっても異なるが、通常は１〜１００
時間の反応で十分である。
【００２９】こうして、上記式（II）で示される２−ア
ミノチアゾール酢酸誘導体を生成させた後の該２−アミ
ノチアゾール酢酸誘導体と溶媒との分離方法は、特に制
限されない。一般に、アルコール分解後に２−アミノチ
アゾール酢酸誘導体の結晶が析出している場合は、その
まま固液分離を行えばよいし、生成した２−アミノチア
ゾール誘導体が有機溶媒に溶解している場合は、溶媒を
濃縮して該チアゾール誘導体を析出させ固液分離を行え
ばよい。また、濃縮液から固体が析出しない場合には、
ヘキサン、ヘプタン等の貧溶媒を加えて固体を析出さ
せ、固液分離を行えばよい。このような固液分離は、公
知の固液分離方法を何等制限なく採用することができ
る。例えば、自然ろ過、加圧ろ過、吸引ろ過等の公知の
ろ過方法、デカンテーション、或いは遠心分離等の方法
を採用することができる。
ミノチアゾール酢酸誘導体を生成させた後の該２−アミ
ノチアゾール酢酸誘導体と溶媒との分離方法は、特に制
限されない。一般に、アルコール分解後に２−アミノチ
アゾール酢酸誘導体の結晶が析出している場合は、その
まま固液分離を行えばよいし、生成した２−アミノチア
ゾール誘導体が有機溶媒に溶解している場合は、溶媒を
濃縮して該チアゾール誘導体を析出させ固液分離を行え
ばよい。また、濃縮液から固体が析出しない場合には、
ヘキサン、ヘプタン等の貧溶媒を加えて固体を析出さ
せ、固液分離を行えばよい。このような固液分離は、公
知の固液分離方法を何等制限なく採用することができ
る。例えば、自然ろ過、加圧ろ過、吸引ろ過等の公知の
ろ過方法、デカンテーション、或いは遠心分離等の方法
を採用することができる。
【００３０】このようにして、前記式（II）で示される
２−アミノチアゾール誘導体を工業的に有利に製造する
ことができる。
２−アミノチアゾール誘導体を工業的に有利に製造する
ことができる。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、温和な条件下で前記一
般式（Ｉ）で示されるチアゾール誘導体から一般式（I
I）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を得る
ことができる。また、本発明の方法によれば、該２−ア
ミノチアゾール酢酸誘導体は、高収率で得ることがで
き、本発明は、工業的に極めて有用である。
般式（Ｉ）で示されるチアゾール誘導体から一般式（I
I）で示される２−アミノチアゾール酢酸誘導体を得る
ことができる。また、本発明の方法によれば、該２−ア
ミノチアゾール酢酸誘導体は、高収率で得ることがで
き、本発明は、工業的に極めて有用である。
【００３２】
【実施例】以下、実施例を掲げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に制限されるものではない。
本発明はこれら実施例に制限されるものではない。
【００３３】実施例１ ３００ｍｌの茄子型フラスコに（Ｚ）−２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−ｔ−アセトキシイミノ酢酸メチル１７．２ｇ（５０ｍ
ｍｏｌ）、メタノール１００ｍｌを加え、５０℃で反応
を行った。９時間攪拌した後、反応液を０℃に冷却し、
結晶をろ別し、ろ過物を取り出して乾燥することによ
り、２−（Ｚ）−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エ
チルをベージュ色結晶として１４．３ｇ（収率９５．０
％）得た。
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−ｔ−アセトキシイミノ酢酸メチル１７．２ｇ（５０ｍ
ｍｏｌ）、メタノール１００ｍｌを加え、５０℃で反応
を行った。９時間攪拌した後、反応液を０℃に冷却し、
結晶をろ別し、ろ過物を取り出して乾燥することによ
り、２−（Ｚ）−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エ
チルをベージュ色結晶として１４．３ｇ（収率９５．０
％）得た。
【００３４】実施例２〜２５ 表１及び表２に示した各種の２−アミノチアゾール酢酸
誘導体を用い、表１及び表２に示した反応条件で実施例
１と同様の操作を行った。その結果を表１及び表２に示
した。
誘導体を用い、表１及び表２に示した反応条件で実施例
１と同様の操作を行った。その結果を表１及び表２に示
した。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【表２】
【００３７】実施例２６ ３００ｍｌの茄子型フラスコに（Ｚ）−２−（２−−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−アセトキシイミノ酢酸メチル１７．２ｇ（５０ｍｍ
ｏｌ）、メタノール３０ｍ、ジオキサン７０ｍｌを加
え、６０℃で１５時間反応を行った。反応終了後、溶媒
を９０ｍｌ留去した後、ヘキサン９０ｍｌ加え、析出し
た固体をろ別、乾燥したところ（Ｚ）−−２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ酢酸メチルをベージュ色の結晶と
して１２．９ｇ（収率８５．６％）得た。
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−アセトキシイミノ酢酸メチル１７．２ｇ（５０ｍｍ
ｏｌ）、メタノール３０ｍ、ジオキサン７０ｍｌを加
え、６０℃で１５時間反応を行った。反応終了後、溶媒
を９０ｍｌ留去した後、ヘキサン９０ｍｌ加え、析出し
た固体をろ別、乾燥したところ（Ｚ）−−２−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ酢酸メチルをベージュ色の結晶と
して１２．９ｇ（収率８５．６％）得た。
【００３８】実施例２７〜３０ 表３に示した各種の２−アミノチアゾール酢酸誘導体と
有機溶媒を用い、表３に示した反応条件で実施例２６と
同様の操作を行った。
有機溶媒を用い、表３に示した反応条件で実施例２６と
同様の操作を行った。
【００３９】その結果を表３に示した。
【００４０】
【表３】
【００４１】比較例１ ３００ｍｌの茄子型フラスコに（Ｚ）−２−（２−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−ｔ−アセトキシイミノ酢酸メチル１．７２ｇ（１０ｍ
ｍｏｌ）、４Ｎの塩化水素ジオキサン溶液５ｍｌ、ジオ
キサン１５ｍｌを加え、２０℃で反応を行った。２４時
間攪拌した後、反応液を１８ｍｌ留去し、これにヘキサ
ン１８ｍｌを加えた。析出した結晶をろ別、乾燥したと
ころ、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルを
ベージュ色結晶として１４．５ｇ（収率９６．２％）得
た。この結晶を、高速液体クロマトグラフィーによって
分析したところ、Ｚ体とＥ体が１対１の混合物であっ
た。
ブトキシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２
−ｔ−アセトキシイミノ酢酸メチル１．７２ｇ（１０ｍ
ｍｏｌ）、４Ｎの塩化水素ジオキサン溶液５ｍｌ、ジオ
キサン１５ｍｌを加え、２０℃で反応を行った。２４時
間攪拌した後、反応液を１８ｍｌ留去し、これにヘキサ
ン１８ｍｌを加えた。析出した結晶をろ別、乾燥したと
ころ、２−（２−ｔ−ブトキシカルボニルアミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルを
ベージュ色結晶として１４．５ｇ（収率９６．２％）得
た。この結晶を、高速液体クロマトグラフィーによって
分析したところ、Ｚ体とＥ体が１対１の混合物であっ
た。
Claims (1)
- 【請求項１】下記式（Ｉ） 【化１】 （但し、Ｒ1はアミノ基の保護基であり、Ｒ2は水酸基の
保護基であり、Ｒ3はカルボキシル基の保護基であ
る。）で示されるチアゾール誘導体を、アルコールと反
応させることを特徴とする、下記式（II） 【化２】 （但し、Ｒ1及びＲ3は上記式（Ｉ）と同じ。）で示され
る２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01450696A JP3181826B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01450696A JP3181826B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09208568A JPH09208568A (ja) | 1997-08-12 |
| JP3181826B2 true JP3181826B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=11862961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01450696A Expired - Fee Related JP3181826B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | ２−アミノチアゾール酢酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3181826B2 (ja) |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP01450696A patent/JP3181826B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09208568A (ja) | 1997-08-12 |
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