JP3171462B2 - 被覆ガラス及びその製造法 - Google Patents
被覆ガラス及びその製造法Info
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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Description
【０００１】本発明は、熱分解的に形成された金属酸化
物被覆を担持するガラス基体、及びガラス基体を酸素の
存在下に被覆プリカーサー材料と接触させることにより
熱いガラス基体上に金属酸化物被覆を熱分解的に形成す
る方法に関する。
物被覆を担持するガラス基体、及びガラス基体を酸素の
存在下に被覆プリカーサー材料と接触させることにより
熱いガラス基体上に金属酸化物被覆を熱分解的に形成す
る方法に関する。
【０００２】本発明は特に酸化錫被覆を担持するガラス
に関する。
に関する。
【０００３】ガラス上の酸化錫被覆それ自体は知られて
おり、熱エネルギー保存が経済的に重要である場所で用
途が見出されている。ドープされた酸化錫被覆は赤外放
射線、特に３０００ｎｍより大きい波長を有するかかる
放射線を反射するのに有効であり、従ってそれらは建築
物の内部の如き低温源から長波長の赤外放射線の通過を
遮蔽しながら、太陽エネルギーの透過をする。しかしな
がらガラスの大面積上に被覆を形成するとき、被覆を均
一にするのに困難に遭遇する、そしてこれは光学的及び
美的観点から問題を生ぜしめうる。従って温室の如き構
造物とは反対に住居建築における酸化錫被覆窓ガラスの
使用は、エネルギー保存及び経済的考慮により正当化さ
れること程大きな問題ではないかもしれない。導電性酸
化錫被覆は他の目的のため、例えば電気抵抗加熱パネル
にも使用でき、これには同様に光学的及び美的考慮が適
用される。
おり、熱エネルギー保存が経済的に重要である場所で用
途が見出されている。ドープされた酸化錫被覆は赤外放
射線、特に３０００ｎｍより大きい波長を有するかかる
放射線を反射するのに有効であり、従ってそれらは建築
物の内部の如き低温源から長波長の赤外放射線の通過を
遮蔽しながら、太陽エネルギーの透過をする。しかしな
がらガラスの大面積上に被覆を形成するとき、被覆を均
一にするのに困難に遭遇する、そしてこれは光学的及び
美的観点から問題を生ぜしめうる。従って温室の如き構
造物とは反対に住居建築における酸化錫被覆窓ガラスの
使用は、エネルギー保存及び経済的考慮により正当化さ
れること程大きな問題ではないかもしれない。導電性酸
化錫被覆は他の目的のため、例えば電気抵抗加熱パネル
にも使用でき、これには同様に光学的及び美的考慮が適
用される。
【０００４】この問題は二重になる。高い視感透過率が
要求されるとき、それは薄い被覆の使用をする必要があ
る。不幸にして酸化錫のかかる薄い層は一次の数干渉オ
ーダーの光学的厚さ及び被覆の厚さにおける変動を有す
る、従ってそれがどんなに小さくても反射において明ら
かに目に見える干渉色の出現を生ぜしめる。かかるイリ
デセンスは酸化錫被覆の非常に小さい避けられない変動
に原因がある、しかし完全に均一な厚さの被覆の場合に
おいてさえも、被覆窓ガラスの視角が変わるとイリデセ
ンスが示されることがある、この問題は未来の近代建築
に活用される大きなガラス面積を考えたとき重大なもの
となりうる。
要求されるとき、それは薄い被覆の使用をする必要があ
る。不幸にして酸化錫のかかる薄い層は一次の数干渉オ
ーダーの光学的厚さ及び被覆の厚さにおける変動を有す
る、従ってそれがどんなに小さくても反射において明ら
かに目に見える干渉色の出現を生ぜしめる。かかるイリ
デセンスは酸化錫被覆の非常に小さい避けられない変動
に原因がある、しかし完全に均一な厚さの被覆の場合に
おいてさえも、被覆窓ガラスの視角が変わるとイリデセ
ンスが示されることがある、この問題は未来の近代建築
に活用される大きなガラス面積を考えたとき重大なもの
となりうる。
【０００５】イリデセンスを説明しうる一般的な理論原
理は長年にわたり良く知られている。入射光の一定の割
合が異なる屈折率（ｎ1 及びｎ2 ）の二つの材料間の界
面で反射される。これはフレネルの式によって与えら
れ、これは反射される通常の入射光の割合は（ｎ1 −ｎ
2 ）2 ／（ｎ1 ＋ｎ2 ）2 であると述べている。
理は長年にわたり良く知られている。入射光の一定の割
合が異なる屈折率（ｎ1 及びｎ2 ）の二つの材料間の界
面で反射される。これはフレネルの式によって与えら
れ、これは反射される通常の入射光の割合は（ｎ1 −ｎ
2 ）2 ／（ｎ1 ＋ｎ2 ）2 であると述べている。
【０００６】従って光は酸化錫被覆とガラス基体の間の
界面で反射される。酸化錫被覆が一定の範囲内の光学的
厚さを有するとき、その界面で反射される光は酸化錫被
覆の前面から反射される光を干渉するであろう。たとえ
酸化錫被覆が完全に均一な幾何学的厚さを有していて
も、その見掛けの光学的厚さは視角によって変化し、従
って被覆された領域にわたって色の変化が見られる。
界面で反射される。酸化錫被覆が一定の範囲内の光学的
厚さを有するとき、その界面で反射される光は酸化錫被
覆の前面から反射される光を干渉するであろう。たとえ
酸化錫被覆が完全に均一な幾何学的厚さを有していて
も、その見掛けの光学的厚さは視角によって変化し、従
って被覆された領域にわたって色の変化が見られる。
【０００７】酸化錫被覆は又拡散で一定割合の光を透過
もする、従って曇りを生ぜしめる。曇りの問題は一般に
酸化錫被覆中にナトリウムイオンが存在することに起因
する。熱分解酸化錫被覆は被覆プリカーサー材料として
塩化錫を用いてしばしば作られ、曇りの最もしばしば生
ずる原因の一つが、（ソーダーライム）ガラスからのナ
トリウムイオンがプリカーサー材料の塩素と反応するこ
とにある。被覆中のナトリウムの正確な変差が何であ
れ、明らかなことはナトリウムを含有する酸化錫被覆が
曇りを示すことである。
もする、従って曇りを生ぜしめる。曇りの問題は一般に
酸化錫被覆中にナトリウムイオンが存在することに起因
する。熱分解酸化錫被覆は被覆プリカーサー材料として
塩化錫を用いてしばしば作られ、曇りの最もしばしば生
ずる原因の一つが、（ソーダーライム）ガラスからのナ
トリウムイオンがプリカーサー材料の塩素と反応するこ
とにある。被覆中のナトリウムの正確な変差が何であ
れ、明らかなことはナトリウムを含有する酸化錫被覆が
曇りを示すことである。
【０００８】イリデセンスを軽減するため及び／又は曇
りを軽減するため多くの提案がなされて来た。最も適切
な提案の中に、酸化錫被覆を付与する前に、ガラス基体
にアンダーコートを形成することに依存するものがあ
る。例えば、酸化錫オーバーコートの付着前に、二酸化
ケイ素アンダーコートを付与することが提案された。二
酸化ケイ素被覆はガラスから酸化錫被覆へとナトリウム
の移行するのを実質的に防止するために配置できる。
りを軽減するため多くの提案がなされて来た。最も適切
な提案の中に、酸化錫被覆を付与する前に、ガラス基体
にアンダーコートを形成することに依存するものがあ
る。例えば、酸化錫オーバーコートの付着前に、二酸化
ケイ素アンダーコートを付与することが提案された。二
酸化ケイ素被覆はガラスから酸化錫被覆へとナトリウム
の移行するのを実質的に防止するために配置できる。
【０００９】又「反射防止」被覆を設ける考えも長年に
わたって良く知られている。二つの他の媒質の間に第三
の媒質の層を導入すると、そしてその第三の媒質が、こ
れら二つの媒質の屈折率ｎ1 とｎ2 の間の中間の屈折率
ｎ3 を有すると、かくして形成された二つの新しい界面
で反射される光の量は、従来の一つの界面で反射される
光の量と比較して減少することがフレネルの式からわか
る。
わたって良く知られている。二つの他の媒質の間に第三
の媒質の層を導入すると、そしてその第三の媒質が、こ
れら二つの媒質の屈折率ｎ1 とｎ2 の間の中間の屈折率
ｎ3 を有すると、かくして形成された二つの新しい界面
で反射される光の量は、従来の一つの界面で反射される
光の量と比較して減少することがフレネルの式からわか
る。
【００１０】中間（ｎ3 ）層によって形成された二つの
界面で反射される光の量は、その層の屈折率が他の二つ
の媒質の屈折率の積の平方根に等しいとき等しいことも
わかる。従ってその中間層の厚さを、その二つの界面で
反射される一定の波長の光が相の外１８０°であるよう
に選択すれば、そのとき被覆された構造物の内部的に反
射される可視光の著しい割合が干渉によって消され、イ
リデセント効果が更に減少するであろう。
界面で反射される光の量は、その層の屈折率が他の二つ
の媒質の屈折率の積の平方根に等しいとき等しいことも
わかる。従ってその中間層の厚さを、その二つの界面で
反射される一定の波長の光が相の外１８０°であるよう
に選択すれば、そのとき被覆された構造物の内部的に反
射される可視光の著しい割合が干渉によって消され、イ
リデセント効果が更に減少するであろう。
【００１１】例えば熱分解的に形成された酸化錫被覆の
屈折率が約１．９であり、代表的なソーダライムガラス
の屈折率が１．５２であるとすると、約１．７の屈折率
を有する材料の中間層を形成することが望ましいことを
理論的には予期され、人間の眼が最も敏感である帯域に
おいて約５６０ｎｍの波長ラムダを有する反射光の干渉
消光を達成するために、その中間層はラムダ／２に等し
い有効長の光路を規定すべきこと、従ってラムダ／４、
即ち１４０ｎｍの光学的厚さを有し、従ってその幾何学
的厚さは約８０ｎｍであることが予期される。
屈折率が約１．９であり、代表的なソーダライムガラス
の屈折率が１．５２であるとすると、約１．７の屈折率
を有する材料の中間層を形成することが望ましいことを
理論的には予期され、人間の眼が最も敏感である帯域に
おいて約５６０ｎｍの波長ラムダを有する反射光の干渉
消光を達成するために、その中間層はラムダ／２に等し
い有効長の光路を規定すべきこと、従ってラムダ／４、
即ち１４０ｎｍの光学的厚さを有し、従ってその幾何学
的厚さは約８０ｎｍであることが予期される。
【００１２】本発明の目的は、新しい組成のアンダーコ
ートの存在によって、許容しうる低い曇りと許容しうる
低イリデセンスのものである熱分解的に形成された酸化
錫オーバーコートを含む多層被覆を有するガラス基体を
提供することにある。
ートの存在によって、許容しうる低い曇りと許容しうる
低イリデセンスのものである熱分解的に形成された酸化
錫オーバーコートを含む多層被覆を有するガラス基体を
提供することにある。
【００１３】本発明によれば熱分解的に形成された金属
酸化物被覆を担持するガラス基体を提供し、かかる被覆
が、金属がアルミニウム原子及びアルミニウム原子の２
％〜１０％の範囲内の量のバナジウム原子を含有する熱
分解的に形成された金属酸化物下層（アンダーコート）
及びアンダーコート上の酸化錫の熱分解的に形成された
上被覆層（オーバーコート）を含有し、アンダーコート
の光学的厚さをオーバーコートによる反射可視光干渉効
果が減少するような厚さに選択することを特徴とする。
酸化物被覆を担持するガラス基体を提供し、かかる被覆
が、金属がアルミニウム原子及びアルミニウム原子の２
％〜１０％の範囲内の量のバナジウム原子を含有する熱
分解的に形成された金属酸化物下層（アンダーコート）
及びアンダーコート上の酸化錫の熱分解的に形成された
上被覆層（オーバーコート）を含有し、アンダーコート
の光学的厚さをオーバーコートによる反射可視光干渉効
果が減少するような厚さに選択することを特徴とする。
【００１４】本発明はかかる被覆ガラス基体の製造法に
もあり、従って酸素の存在下に被覆プリカーサー材料と
基体を接触させることによって熱いガラス基体上に金属
酸化物被覆を熱分解的に形成する方法を含み、前記被覆
の金属酸化物下層（アンダーコート）をアンダーコート
ステーションで、基体をアルミニウム原子及びバナジウ
ム原子を含有するアンダーコート形成プリカーサー材料
と接触させて熱分解的に形成し、かくしてかかるアンダ
ーコートの金属酸化物がアルミニウム原子及びアルミニ
ウム原子の２％〜１０％の範囲内の量のバナジウム原子
を含有するようにし、その後アンダーコート上に酸化錫
の上被覆層（オーバーコート）を熱分解的に形成し、ア
ンダーコートの光学的厚さをオーバーコートによる反射
可視光干渉効果が減少するような厚さに選択することを
特徴とする。
もあり、従って酸素の存在下に被覆プリカーサー材料と
基体を接触させることによって熱いガラス基体上に金属
酸化物被覆を熱分解的に形成する方法を含み、前記被覆
の金属酸化物下層（アンダーコート）をアンダーコート
ステーションで、基体をアルミニウム原子及びバナジウ
ム原子を含有するアンダーコート形成プリカーサー材料
と接触させて熱分解的に形成し、かくしてかかるアンダ
ーコートの金属酸化物がアルミニウム原子及びアルミニ
ウム原子の２％〜１０％の範囲内の量のバナジウム原子
を含有するようにし、その後アンダーコート上に酸化錫
の上被覆層（オーバーコート）を熱分解的に形成し、ア
ンダーコートの光学的厚さをオーバーコートによる反射
可視光干渉効果が減少するような厚さに選択することを
特徴とする。
【００１５】かかる被覆は反射において実質的に中性で
あり、低い曇りを示す。製品は従って、窓ガラス面積が
広いものでさえも、住居建築中に組入れるため光学的に
も美的にも許容しうる窓ガラスパネルとして具体化でき
る。製品は低輻射率の赤外遮蔽パネルとして、又は抵抗
加熱パネル、例えば加熱可能自動車用窓として用いるこ
とができる。本発明の方法はそれ自体知られている種類
の装置、例えば英国特許第２１８５２４９号に記載され
ている如き装置を使用して実施できる。
あり、低い曇りを示す。製品は従って、窓ガラス面積が
広いものでさえも、住居建築中に組入れるため光学的に
も美的にも許容しうる窓ガラスパネルとして具体化でき
る。製品は低輻射率の赤外遮蔽パネルとして、又は抵抗
加熱パネル、例えば加熱可能自動車用窓として用いるこ
とができる。本発明の方法はそれ自体知られている種類
の装置、例えば英国特許第２１８５２４９号に記載され
ている如き装置を使用して実施できる。
【００１６】かかる酸化されたアルミニウム／バナジウ
ム被覆を有するガラスはそれ自体新規であり、有利なも
のであり、その第二の観点において本発明は熱分解的に
形成された金属酸化物被覆を担持するガラス基体を提供
し、かかる被覆は、前記金属がアルミニウム原子及びア
ルミニウム原子の２％〜１０％の範囲内の量のバナジウ
ム原子を含有する層であって少なくとも１．６７の屈折
率、好ましくは少なくとも１．６９の屈折率を有する層
を含むことを特徴としている。
ム被覆を有するガラスはそれ自体新規であり、有利なも
のであり、その第二の観点において本発明は熱分解的に
形成された金属酸化物被覆を担持するガラス基体を提供
し、かかる被覆は、前記金属がアルミニウム原子及びア
ルミニウム原子の２％〜１０％の範囲内の量のバナジウ
ム原子を含有する層であって少なくとも１．６７の屈折
率、好ましくは少なくとも１．６９の屈折率を有する層
を含むことを特徴としている。
【００１７】酸化されたアルミニウム層中への小割合の
酸化されたバナジウムの導入は、その被覆層の屈折率に
制御の目処を与えることで特別の価値のあるものである
と信ずる、その屈折率はガラスと酸化錫の屈折率の値の
間の中点値における値にすることができる。事実塊状結
晶酸化アルミニウムの理論屈折率は１．７６である、し
かし熱分解によって形成された酸化アルミニウム被覆は
一般に約１．６の屈折率を有する。小割合のバナジウム
を加えることによって、酸化されたアルミニウム／バナ
ジウム層に対して１．６７以上の屈折率を達成すること
は容易にできる。このことは全く意外な効果であった、
何故なら最も安定な酸化バナジウムであり又製造するの
が最も容易である五酸化バナジウムの理論屈折率は酸化
アルミニウムのそれより大でないからであった。従って
この効果は、混合物中の各成分の屈折率及びそれらの割
合から計算される混合物の屈折率が期待されるとき、よ
り高い屈折率の材料を混合するという事実に起因するも
のではない。これは被覆層が必ずしも五酸化バナジウム
をそのまま含有することを意味しない。事実かかる被覆
層を導入した幾つかの試料をＸ線回折分析を受けさせ
た、そして五酸化バナジウムの回折パターンはなかっ
た。これはバナジウムがバナジウム酸アルミニウムとし
て存在するのかも知れない、しかしこれは確実でない。
酸化されたバナジウムの導入は、その被覆層の屈折率に
制御の目処を与えることで特別の価値のあるものである
と信ずる、その屈折率はガラスと酸化錫の屈折率の値の
間の中点値における値にすることができる。事実塊状結
晶酸化アルミニウムの理論屈折率は１．７６である、し
かし熱分解によって形成された酸化アルミニウム被覆は
一般に約１．６の屈折率を有する。小割合のバナジウム
を加えることによって、酸化されたアルミニウム／バナ
ジウム層に対して１．６７以上の屈折率を達成すること
は容易にできる。このことは全く意外な効果であった、
何故なら最も安定な酸化バナジウムであり又製造するの
が最も容易である五酸化バナジウムの理論屈折率は酸化
アルミニウムのそれより大でないからであった。従って
この効果は、混合物中の各成分の屈折率及びそれらの割
合から計算される混合物の屈折率が期待されるとき、よ
り高い屈折率の材料を混合するという事実に起因するも
のではない。これは被覆層が必ずしも五酸化バナジウム
をそのまま含有することを意味しない。事実かかる被覆
層を導入した幾つかの試料をＸ線回折分析を受けさせ
た、そして五酸化バナジウムの回折パターンはなかっ
た。これはバナジウムがバナジウム酸アルミニウムとし
て存在するのかも知れない、しかしこれは確実でない。
【００１８】それにも拘らず、あたかもそれがアルミニ
ウム及びバナジウム酸化物の混合物を含有するというの
が好都合である。
ウム及びバナジウム酸化物の混合物を含有するというの
が好都合である。
【００１９】アンダーコート形成層は結晶質であり、結
晶構造は正方晶系であることが判る。それは酸化アルミ
ニウムの晶癖へのこの変性にあると思われ、これはバナ
ジウムの存在に起因し、これが屈折率の増大を生ぜしめ
る。しかしその現象の理由は完全には明らかでない。
晶構造は正方晶系であることが判る。それは酸化アルミ
ニウムの晶癖へのこの変性にあると思われ、これはバナ
ジウムの存在に起因し、これが屈折率の増大を生ぜしめ
る。しかしその現象の理由は完全には明らかでない。
【００２０】別の可能な説明は、酸化アルミニウム基被
覆中のバナジウムの存在が、その被覆層の緻密化を促進
し、かくして観察された高屈折率をもたらすことであ
る。
覆中のバナジウムの存在が、その被覆層の緻密化を促進
し、かくして観察された高屈折率をもたらすことであ
る。
【００２１】酸化錫基層の下の下層としてアルミニウム
−バナジウム基酸化物層を用いることの更に驚くべき効
果がある。１．６７の屈折率を有するアルミニウム−バ
ナジウム基酸化物層を酸化錫基層でオーバーコートした
とき、下層の有効屈折率が約１．６９５に増大する。
−バナジウム基酸化物層を用いることの更に驚くべき効
果がある。１．６７の屈折率を有するアルミニウム−バ
ナジウム基酸化物層を酸化錫基層でオーバーコートした
とき、下層の有効屈折率が約１．６９５に増大する。
【００２２】このことの可能な説明は、オーバーコート
形成層の形成中に二つの層の相互侵入があることであ
る。二つの層の晶癖における類似性（それらは共に正方
晶系である）が、この現象において幾らかの役割を果た
しうる。しかしそれがそうであっても、屈折率の増大が
著しく、それは何ら理論的説明にならない。
形成層の形成中に二つの層の相互侵入があることであ
る。二つの層の晶癖における類似性（それらは共に正方
晶系である）が、この現象において幾らかの役割を果た
しうる。しかしそれがそうであっても、屈折率の増大が
著しく、それは何ら理論的説明にならない。
【００２３】本発明によるバナジウム含有酸化アルミニ
ウム被覆の更に別の利点は、熱分解的に形成した酸化ア
ルミニウム被覆と比較したときそれらの非常に改良され
た機械的性質にある。バナジウムが存在しないと、かか
る被覆は幾分粉末状であり、ガラスへの良好な接着性を
有しない。バナジウムの含有は、被覆の機械的性質を大
きく改良する驚くべき効果を有する。
ウム被覆の更に別の利点は、熱分解的に形成した酸化ア
ルミニウム被覆と比較したときそれらの非常に改良され
た機械的性質にある。バナジウムが存在しないと、かか
る被覆は幾分粉末状であり、ガラスへの良好な接着性を
有しない。バナジウムの含有は、被覆の機械的性質を大
きく改良する驚くべき効果を有する。
【００２４】本発明の好ましい実施態様において、酸化
錫オーバーコートは２５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の幾
何学的厚さに形成する。かかる幾何学的厚さのドープさ
れた酸化錫被覆は赤外放射線の低輻射率及び高い視感透
過率を与えるのに有効であることが見出され、又その範
囲の幾何学的厚さでのかかる被覆は特にイリデセンスを
示し易い、従って本発明の適用はそこに最大の利点を提
供する。
錫オーバーコートは２５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の幾
何学的厚さに形成する。かかる幾何学的厚さのドープさ
れた酸化錫被覆は赤外放射線の低輻射率及び高い視感透
過率を与えるのに有効であることが見出され、又その範
囲の幾何学的厚さでのかかる被覆は特にイリデセンスを
示し易い、従って本発明の適用はそこに最大の利点を提
供する。
【００２５】有利には、アンダーコートを６５ｎｍ〜１
００ｎｍ、好ましくは７５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の幾
何学的厚さに形成する。かかる範囲内のアンダーコート
の厚さは曇り減少の点及びイリデセンスの減少の点の両
方で最大の利点を提供することが判った。
００ｎｍ、好ましくは７５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の幾
何学的厚さに形成する。かかる範囲内のアンダーコート
の厚さは曇り減少の点及びイリデセンスの減少の点の両
方で最大の利点を提供することが判った。
【００２６】かかるアンダーコートを形成しうる種々の
方法がある。本発明の最も好ましい実施態様において
は、アルミニウムアセチルアセトネート及びバナジウム
アセチルアセトネートを含有するアンダーコート形成プ
リカーサー溶液を、前記アンダーコート形成ステーショ
ンで噴霧して基体と接触させる。かかる有機金属化合物
は熱分解被覆条件下に容易に分解して酸化アルミニウム
及び酸化バナジウムの混合酸化物被覆を生ずる、その屈
折率は噴霧する混合物の与えられた組成により、確実に
再現性がある。溶媒として氷酢酸を含有させることがか
かるプリカーサー溶液にとって特に好適である。
方法がある。本発明の最も好ましい実施態様において
は、アルミニウムアセチルアセトネート及びバナジウム
アセチルアセトネートを含有するアンダーコート形成プ
リカーサー溶液を、前記アンダーコート形成ステーショ
ンで噴霧して基体と接触させる。かかる有機金属化合物
は熱分解被覆条件下に容易に分解して酸化アルミニウム
及び酸化バナジウムの混合酸化物被覆を生ずる、その屈
折率は噴霧する混合物の与えられた組成により、確実に
再現性がある。溶媒として氷酢酸を含有させることがか
かるプリカーサー溶液にとって特に好適である。
【００２７】アンダーコートはアルミニウム原子の約２
％〜約１０％の割合でバナジウム原子を含有する。この
範囲はＸ線蛍光法で観察したインパルス数から推論され
る。金属酸化物アンダーコートへのかかる量のバナジウ
ムの添加は、ガラスと酸化錫の屈折率の積の平方根に近
い屈折率をその層に与えることで特に有利である。これ
は酸化錫とその直ぐ下の面の間の界面での反射を減ずる
ために価値があり、従ってイリデセンスに対し固有の低
容量を提供する。酸化アルミニウム基層中の酸化バナジ
ウムの割合は低く保つべきである。何故ならその存在は
その層内での光吸収を促進する傾向があり、かかる吸収
は通常望ましくないからである。
％〜約１０％の割合でバナジウム原子を含有する。この
範囲はＸ線蛍光法で観察したインパルス数から推論され
る。金属酸化物アンダーコートへのかかる量のバナジウ
ムの添加は、ガラスと酸化錫の屈折率の積の平方根に近
い屈折率をその層に与えることで特に有利である。これ
は酸化錫とその直ぐ下の面の間の界面での反射を減ずる
ために価値があり、従ってイリデセンスに対し固有の低
容量を提供する。酸化アルミニウム基層中の酸化バナジ
ウムの割合は低く保つべきである。何故ならその存在は
その層内での光吸収を促進する傾向があり、かかる吸収
は通常望ましくないからである。
【００２８】有利には、アンダーコートは形成直後の熱
いガラスのリボン上に形成する。これは冷却ガラス、例
えば予め切ったガラスシートを、熱分解被覆反応が生起
するのに要する温度まで再加熱するエネルギーを節約
し、そしてガラスの面が被覆のための初期の状態にある
ことを確実にする傾向がある。本発明のアンダーコート
及びオーバーコートを付与するために必要な二つの被覆
ステーションは、例えば、ガラスリボン形成装置からの
出口とそのリボンの徐冷レアへの入口の間に置くことが
できる。
いガラスのリボン上に形成する。これは冷却ガラス、例
えば予め切ったガラスシートを、熱分解被覆反応が生起
するのに要する温度まで再加熱するエネルギーを節約
し、そしてガラスの面が被覆のための初期の状態にある
ことを確実にする傾向がある。本発明のアンダーコート
及びオーバーコートを付与するために必要な二つの被覆
ステーションは、例えば、ガラスリボン形成装置からの
出口とそのリボンの徐冷レアへの入口の間に置くことが
できる。
【００２９】リボン形成装置はガラス引上げ装置である
ことができるが、それは、ガラスリボンがフロートガラ
スのリボンであることが好ましい。フロートガラスは一
般に引上げガラスよりも高い光学的品質のものである、
従ってフロートガラスの基体を被覆することが好まし
い。
ことができるが、それは、ガラスリボンがフロートガラ
スのリボンであることが好ましい。フロートガラスは一
般に引上げガラスよりも高い光学的品質のものである、
従ってフロートガラスの基体を被覆することが好まし
い。
【００３０】本発明をここに実施例によって説明する。
二つの被覆ステーションを、連続ガラスリボンを形成す
るフロートガラス室からの出口と、リボンをシートに切
断する前にリボンが通過する水平徐冷レアとの間に連続
して位置させる。各被覆ステーションは、リボンの進行
通路を横切って前後運動するよう装着したスプレーガ
ン、及び被覆反応生成物及び未使用被覆プリカーサー材
料を引き出すためのアスピレーターを含む。放射線ヒー
ターを二つの被覆ステーションの間でリボンの通路上に
置き、アンダーコートが付着させられる第一被覆ステー
ションで生ずる被覆反応によるエネルギー吸収に原因す
るリボン中の熱損失または温度不均衡を保証する。
二つの被覆ステーションを、連続ガラスリボンを形成す
るフロートガラス室からの出口と、リボンをシートに切
断する前にリボンが通過する水平徐冷レアとの間に連続
して位置させる。各被覆ステーションは、リボンの進行
通路を横切って前後運動するよう装着したスプレーガ
ン、及び被覆反応生成物及び未使用被覆プリカーサー材
料を引き出すためのアスピレーターを含む。放射線ヒー
ターを二つの被覆ステーションの間でリボンの通路上に
置き、アンダーコートが付着させられる第一被覆ステー
ションで生ずる被覆反応によるエネルギー吸収に原因す
るリボン中の熱損失または温度不均衡を保証する。
【００３１】実施例 １ アンダーコートを形成する特別の実施例において、１ｌ
について２２０ｇのアルミニウムアセチルアセトネート
Al(C５H７O２)３ 及び約１２ｇのバナジウムトリアセチ
ルアセトネートV(C５H７O２)３を含有する氷酢酸中の溶
液を作った。この溶液を、熱いガラスの温度が５５０℃
以上である間に熱いガラスの送行リボンに接触させるた
め往復運動するスプレーヘッドを通して噴霧し、幾何学
的厚さで７５ｎｍの被覆をその場で形成した。形成され
た被覆はアルミニウムとバナジウムの酸化物混合物から
形成された。被覆は１．６７の屈折率を有していた。
について２２０ｇのアルミニウムアセチルアセトネート
Al(C５H７O２)３ 及び約１２ｇのバナジウムトリアセチ
ルアセトネートV(C５H７O２)３を含有する氷酢酸中の溶
液を作った。この溶液を、熱いガラスの温度が５５０℃
以上である間に熱いガラスの送行リボンに接触させるた
め往復運動するスプレーヘッドを通して噴霧し、幾何学
的厚さで７５ｎｍの被覆をその場で形成した。形成され
た被覆はアルミニウムとバナジウムの酸化物混合物から
形成された。被覆は１．６７の屈折率を有していた。
【００３２】アンダーコートしたリボン基体を次に放射
線ヒーターの下を通し、第二の被覆ステーションに通し
た、そこで弗化水素アンモニウム（被覆にドーピングイ
オンを与えるため）を含有する塩化第一錫の水溶液を噴
霧し、それ自体知られている方法で、酸化錫のオーバー
コートを形成した、幾何学的厚さ３００ｎｍの被覆を形
成した。アンダーコート層の有効屈折率は１．６９５に
増大した。
線ヒーターの下を通し、第二の被覆ステーションに通し
た、そこで弗化水素アンモニウム（被覆にドーピングイ
オンを与えるため）を含有する塩化第一錫の水溶液を噴
霧し、それ自体知られている方法で、酸化錫のオーバー
コートを形成した、幾何学的厚さ３００ｎｍの被覆を形
成した。アンダーコート層の有効屈折率は１．６９５に
増大した。
【００３３】形成された被覆は反射において中性であ
り、従って認めうるイリデセンスはなかった。この二つ
の層被覆に対するハンターカラー座標はａ＝−０．１そ
してｂ＝＋０．５であった。曇りは０．３％拡散透過率
より小であった。３０００ｎｍより大なる波長を有する
赤外放射線に対する酸化錫被覆の輻射率は０．１６であ
り、被覆ガラスシート（厚さ６ｍｍ）の全可視光透過率
は８２％であった。±４０ｎｍ以下の酸化錫オーバーコ
ートの厚さの変動は認知し得る干渉効果を生ぜしめるこ
となく許容できた。
り、従って認めうるイリデセンスはなかった。この二つ
の層被覆に対するハンターカラー座標はａ＝−０．１そ
してｂ＝＋０．５であった。曇りは０．３％拡散透過率
より小であった。３０００ｎｍより大なる波長を有する
赤外放射線に対する酸化錫被覆の輻射率は０．１６であ
り、被覆ガラスシート（厚さ６ｍｍ）の全可視光透過率
は８２％であった。±４０ｎｍ以下の酸化錫オーバーコ
ートの厚さの変動は認知し得る干渉効果を生ぜしめるこ
となく許容できた。
【００３４】実施例 ２ 第二の特別の実施例において、アンダーコートを形成す
るため、１ｌについて１８０ｇのアルミニウムアセチル
アセトネートAl(C５H７O２)３ 、及び約２０ｇのバナジ
ウムトリアセチルアセトネートV(C５H７O２)３を含有す
る氷酢酸中の溶液を作った。この溶液を、熱ガラスの温
度が５５０℃以上である間に熱いガラスの送行リボンと
接触させるため、往復運動するスプレーヘッドを通して
噴霧してその場で幾何学的厚さ７０ｎｍの被覆を形成し
た。形成された被覆はアルミニウム及びバナジウムの酸
化物の混合物から形成された。
るため、１ｌについて１８０ｇのアルミニウムアセチル
アセトネートAl(C５H７O２)３ 、及び約２０ｇのバナジ
ウムトリアセチルアセトネートV(C５H７O２)３を含有す
る氷酢酸中の溶液を作った。この溶液を、熱ガラスの温
度が５５０℃以上である間に熱いガラスの送行リボンと
接触させるため、往復運動するスプレーヘッドを通して
噴霧してその場で幾何学的厚さ７０ｎｍの被覆を形成し
た。形成された被覆はアルミニウム及びバナジウムの酸
化物の混合物から形成された。
【００３５】アンダーコートしたリボン基体を次いで放
射線ヒーターの下を通し、第二被覆ステーションに通し
た、そこで実施例１のプリカーサー材料を用いて５００
ｎｍの幾何学的厚さにそれ自体知られている方法で酸化
錫のオーバーコートを形成した。アンダーコート層は
１．７の有効屈折率を有していた。
射線ヒーターの下を通し、第二被覆ステーションに通し
た、そこで実施例１のプリカーサー材料を用いて５００
ｎｍの幾何学的厚さにそれ自体知られている方法で酸化
錫のオーバーコートを形成した。アンダーコート層は
１．７の有効屈折率を有していた。
【００３６】形成された被覆は反射において中性であ
り、従って認知しうるイリデセンスは有していなかっ
た。この二つの層被覆に対するハンターカラー座標はゼ
ロに近かった。曇りは０．３％拡散透過率より小であっ
た。３０００ｎｍより大なる波長を有する赤外放射線に
対する酸化錫被覆の輻射率は０．２であり、被覆ガラス
シート（厚さ６ｍｍ）の全可視光透過率は７８％であっ
た。
り、従って認知しうるイリデセンスは有していなかっ
た。この二つの層被覆に対するハンターカラー座標はゼ
ロに近かった。曇りは０．３％拡散透過率より小であっ
た。３０００ｎｍより大なる波長を有する赤外放射線に
対する酸化錫被覆の輻射率は０．２であり、被覆ガラス
シート（厚さ６ｍｍ）の全可視光透過率は７８％であっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭55−6586（ＪＰ，Ｂ２) 英国特許2031756（ＧＢ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 17/00 - 17/44 C23C 16/00 - 16/56
Claims (16)
- 【請求項１】 熱分解的に形成された金属酸化物被覆を
担持するガラス基体において、かかる被覆が、金属がア
ルミニウム原子及びアルミニウム原子の２％〜１０％の
範囲内の量のバナジウム原子を含有する熱分解的に形成
された金属酸化物下層（アンダーコート）、及びアンダ
ーコート上の酸化錫の熱分解的に形成された上被覆層
（オーバーコート）を含有し、アンダーコートの光学的
厚さをオーバーコートによる反射可視光干渉効果が減少
するような厚さに選択することを特徴とする被覆ガラス
基体。 - 【請求項２】 酸化錫オーバーコートが２５０ｎｍ〜７
００ｎｍの範囲の幾何学的厚さを有することを特徴とす
る請求項１の被覆ガラス基体。 - 【請求項３】 アンダーコートを６５ｎｍ〜１００ｎｍ
の範囲の幾何学的厚さに形成することを特徴とする請求
項１又は２の被覆ガラス基体。 - 【請求項４】 アンダーコートを７５ｎｍ〜１００ｎｍ
の範囲の幾何学的厚さに形成することを特徴とする請求
項３の被覆ガラス基体。 - 【請求項５】 アンダーコートが少なくとも１．６９の
屈折率を有することを特徴とする請求項１〜４の何れか
１項の被覆ガラス基体。 - 【請求項６】 熱分解的に形成された金属酸化物被覆を
担持するガラス基体において、かかる被覆が、前記金属
がアルミニウム原子及びアルミニウム原子の２％〜１０
％の範囲内の量のバナジウム原子とを含有する層であっ
て少なくとも１．６７の屈折率を有する層を含むことを
特徴とする被覆ガラス基体。 - 【請求項７】 アルミニウム原子及びバナジウム原子を
含有するかかる酸化物被覆層が少なくとも１．６９の屈
折率を有することを特徴とする請求項６の被覆ガラス基
体。 - 【請求項８】 基体がフロートガラスから形成されるこ
とを特徴とする請求項１〜７の何れか１項の被覆ガラス
基体。 - 【請求項９】 酸素の存在下に被覆プリカーサー材料と
ガラス基体を接触させることにより熱いガラス基体上に
金属酸化物被覆を熱分解的に形成する方法において、前
記被覆の金属酸化物下層（アンダーコート）を、アンダ
ーコート形成ステーションでアルミニウム原子及びバナ
ジウム原子を含有するアンダーコート形成プリカーサー
材料と基体を接触させることにより熱分解的に形成し、
かくしてかかるアンダーコートの金属酸化物がアルミニ
ウム原子及びアルミニウム原子の２％〜１０％の範囲内
の量のバナジウム原子とを含有するようにし、その後ア
ンダーコート上に酸化錫の上被覆層（オーバーコート）
を熱分解的に形成し、アンダーコートの光学的厚さをオ
ーバーコートによる反射可視光干渉効果が減少するよう
な厚さに選択することを特徴とする方法。 - 【請求項１０】 酸化錫オーバーコートを２５０ｎｍ〜
７００ｎｍの範囲の幾何学的厚さに形成することを特徴
とする請求項９の方法。 - 【請求項１１】 アンダーコートを６５ｎｍ〜１００ｎ
ｍの範囲の幾何学的厚さに形成することを特徴とする請
求項９又は１０の方法。 - 【請求項１２】 アンダーコートを７５ｎｍ〜１００ｎ
ｍの範囲の幾何学的厚さに形成することを特徴とする請
求項１１の方法。 - 【請求項１３】 アルミニウムアセチルアセトネート及
びバナジウムアセチルアセトネートを含有するアンダー
コート形成プリカーサー溶液を、前記アンダーコート形
成ステーションで噴霧して基体と接触させることを特徴
とする請求項９〜１２にいずれか１項の方法。 - 【請求項１４】 前記アンダーコート形成プリカーサー
溶液が溶媒として氷酢酸を含有することを特徴とする請
求項１３の方法。 - 【請求項１５】 アンダーコートを形成直後の熱いガラ
スリボン上に形成することを特徴とする請求項９〜１４
の何れか１項の方法。 - 【請求項１６】 ガラスリボンがフロートガラスのリボ
ンであることを特徴とする請求項１５の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9019117.2 | 1990-09-01 | ||
| GB909019117A GB9019117D0 (en) | 1990-09-01 | 1990-09-01 | Coated glass and method of manufacturing same |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04265253A JPH04265253A (ja) | 1992-09-21 |
| JP3171462B2 true JP3171462B2 (ja) | 2001-05-28 |
Family
ID=10681521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24263491A Expired - Lifetime JP3171462B2 (ja) | 1990-09-01 | 1991-08-27 | 被覆ガラス及びその製造法 |
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|---|---|
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| JP (1) | JP3171462B2 (ja) |
| AT (1) | AT404934B (ja) |
| BE (1) | BE1005318A3 (ja) |
| CA (1) | CA2049442C (ja) |
| CH (1) | CH683182A5 (ja) |
| DE (1) | DE4128601B4 (ja) |
| ES (1) | ES2049134B1 (ja) |
| FR (1) | FR2666326B1 (ja) |
| GB (1) | GB9019117D0 (ja) |
| IT (1) | IT1249990B (ja) |
| LU (1) | LU87996A1 (ja) |
| NL (1) | NL194987C (ja) |
| NO (1) | NO302355B1 (ja) |
| SE (1) | SE468852B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102140013B (zh) * | 2010-02-01 | 2014-01-08 | 天津城建大学 | 一种制备禁带梯度化TiO2多孔薄膜的方法 |
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| GB9304575D0 (en) * | 1993-03-05 | 1993-04-21 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
| DE4324576C1 (de) * | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Ver Glaswerke Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe |
| GB9408359D0 (en) * | 1994-04-27 | 1994-06-15 | Glaverbel | Glazing panel and process for forming the same |
| US5762674A (en) * | 1995-09-27 | 1998-06-09 | Glasstech, Inc. | Apparatus for coating glass sheet ribbon |
| GB9806030D0 (en) * | 1998-03-20 | 1998-05-20 | Glaverbel | Solar control coated substrate with high reflectance |
| GB9822338D0 (en) * | 1998-10-13 | 1998-12-09 | Glaverbel | Solar control coated glass |
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| US7372610B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
| WO2014112415A1 (ja) * | 2013-01-16 | 2014-07-24 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
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| US3396052A (en) * | 1965-07-14 | 1968-08-06 | Bell Telephone Labor Inc | Method for coating semiconductor devices with silicon oxide |
| LU56869A1 (ja) * | 1968-09-12 | 1970-03-13 | ||
| DE1812455C3 (de) * | 1968-12-03 | 1980-03-13 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zum Herstellen einer aus einem Metalloxyd bestehenden isolierenden Schutzschicht an der Oberfläche eines Halbleiterkristalls |
| BE785764A (ja) * | 1971-07-08 | 1973-01-03 | Glaverbel | |
| IT996924B (it) * | 1972-12-21 | 1975-12-10 | Glaverbel | Procedimento per formare uno strato di ossido metallico |
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-
1990
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-
1991
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- 1991-08-19 CA CA002049442A patent/CA2049442C/en not_active Expired - Fee Related
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