JP3168588U

JP3168588U - 流体供給量調節装置

Info

Publication number: JP3168588U
Application number: JP2011001960U
Authority: JP
Inventors: 笹尾　起美仁; 起美仁笹尾
Original assignee: Advance Denki Kogyo KK
Current assignee: Advance Denki Kogyo KK
Priority date: 2011-04-08
Filing date: 2011-04-08
Publication date: 2011-06-16
Anticipated expiration: 2021-04-08
Also published as: TW201241588A; TWI512420B

Abstract

【課題】流量調節弁部が被制御流体の圧力変動を受けて弁座の開度が変化することを抑制するとともに、発塵を極力抑え微少流量域の流量調節に適した流体供給量調節装置を提供する。【解決手段】流量調節を行う流量調節弁部１０Ａ、被制御流体の圧力変動を抑制する圧力制御弁部２０Ａ、流量センサと演算装置７Ａを備えてフィードバック制御を行い、微少流量域の流量を調節する装置５Ａであり、流量調節弁部は、第１流路部１１１及び第２流路部１１２と、弁室１１０を形成した弁室ボディ部１０１と、第１流路部が弁室に対し直径を１ｍｍ以下とする平坦状に形成した弁座１１５と、弁座を進退自在にシールするシール部１２１を備えた平坦弁体１２２と、シール部側と逆側に形成され弁室側に装着されたダイヤフラム部１２３を備える弁機構体１２０と、弁機構体を進退させる進退手段１３０とを備え、第２流路部側に圧力制御弁部２０Ａを備える。【選択図】図２

Description

本考案は流体供給量調節装置に関し、特に半導体製造装置の各種薬液の混合時における供給流量の制御のために用いられる流体供給量調節装置に関する。

半導体の製造等において、シリコンウエハの洗浄やエッチング処理用の薬液等の流体を供給する場合、流体に高い清浄度が求められる。国際半導体技術ロードマップ（ＩＴＲＳ）において２０１０年から３２ｎｍの配線ピッチによる製造が本格的に始まり、今後さらに配線幅を狭めた生産が予定されている。そのため、流体の流通経路から混入する発塵（パーティクル）を極力抑制することが大きな意味を有する。

現在、シリコンウエハは枚葉方式による洗浄が主流である。そのため、極少量のフッ酸等の薬液を正確な精度で供給し純水と混合、供給する必要がある。このような微少流量域の調節を可能とするため、例えばニードル弁と称される調節弁（特許文献１等参照）やその他の調節弁が用いられる（特許文献２等参照）。特許文献１等の調節弁は、主に薬液と純水の混合部の上流位置に、薬液毎の供給配管内に接続される（特許文献３等参照）。

既存の微少流量用の調節弁は、ダイヤフラムを備え開度を調節する弁体と弁座を有する。そのため、調節弁の下流側に生じた圧力変動（流体の供給、供給停止等も含まれる。）の影響を当該調節弁の弁室内の流体が受ける。調節弁の構造上ダイヤフラムは弁室に面しているため、わずかな圧力変動であったとしても、ダイヤフラムに加わる圧力が変化して、ダイヤフラムに連結された弁体の位置も変化してしまう。すなわち、弁座の開度が変化することである。

このような圧力変動に伴う弁座の開度の変化への対応として、弁室に２枚のダイヤフラムを対向して配置し、両ダイヤフラムを軸部により接続した構造を有する調節弁が提案されている（特許文献４参照）。しかしながら、特許文献４の調節弁の場合、弁室内に前記の軸部が挿通されるため、弁室のオリフィス径を小さくすることが難しい。そのため、微少流量域の調節に不向きである。また、軸部の加工、組み立て、動作時の位置のぶれ等により、動作時に軸部が弁室のオリフィスと接触して発塵するおそれもある。

特開２００４−６８９３５号公報特許第４３６５４７７号公報特開２００８−２５８４３７号公報特開２００７−２４０６９号公報

本考案は、前記の点に鑑みなされたものであり、ダイヤフラムを備える流量調節弁部が被制御流体の圧力変動を受けて当該流量調節弁部内の弁座の開度が変化することを抑制するとともに、発塵を極力抑え微少流量域の流量調節に適した流体供給量調節装置を提供する。

すなわち、請求項１の考案は、被制御流体の供給部と流体混合部との間の流体配管に接続され、被制御流体の流量調節を行う流量調節弁部と、被制御流体に生じる圧力変動を抑制する圧力制御弁部と、前記流体配管に備えられた流量センサと、演算装置とを備え、前記演算装置が前記流量センサの流量計測値に基づいたフィードバック制御を行い、１５０ｍＬ／ｍｉｎ以下の微少流量域の被制御流体の供給流量を調節する流量調節装置であって、前記流量調節弁部は、被制御流体が通過する第１流路部及び第２流路部と、前記第１流路部と前記第２流路部を接続し被制御流体を流通させる弁室を形成してなる弁室ボディ部と、前記弁室ボディ部において前記第１流路部が前記弁室に対し直径を１ｍｍ以下とする弁室開口部を平坦状に形成してなる弁座と、前記弁座を進退自在にシールするシール部を備えるとともに該シール部を平坦状に形成した平坦弁体と、前記シール部側と逆側に形成され前記弁室側に装着されたダイヤフラム部とを備える弁機構体と、前記演算装置により行われるフィードバック制御を受けて前記弁機構体を進退させることにより前記平坦弁部と前記弁座との距離を調節する進退手段とを備えており、前記第２流路部側に前記圧力制御弁部が備えられ、前記ダイヤフラム部に加わる被制御流体に生じた圧力変動が抑制されることを特徴とする流体供給量調節装置に係る。

請求項２の考案は、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁である請求項１に記載の流体供給量調節装置に係る。

請求項３の考案は、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁であって、前記圧力制御弁部が前記流量調節弁部内に形成されている請求項１に記載の流体供給量調節装置に係る。

請求項４の考案は、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における上流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の下流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁である請求項１に記載の流体供給量調節装置に係る。

請求項５の考案は、前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御に基づいて電空変換器により作出される調圧気体を用いる請求項１に記載の流体供給量調節装置に係る。

請求項６の考案は、前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御を受けてモータ制御基板に基づいて制御されるステッピングモータである請求項１に記載の流体供給量調節装置に係る。

請求項１の考案に係る流体供給量調節装置によると、被制御流体の供給部と流体混合部との間の流体配管に接続され、被制御流体の流量調節を行う流量調節弁部と、被制御流体に生じる圧力変動を抑制する圧力制御弁部と、前記流体配管に備えられた流量センサと、演算装置とを備え、前記演算装置が前記流量センサの流量計測値に基づいたフィードバック制御を行い、１５０ｍＬ／ｍｉｎ以下の微少流量域の被制御流体の供給流量を調節する流量調節装置であって、前記流量調節弁部は、被制御流体が通過する第１流路部及び第２流路部と、前記第１流路部と前記第２流路部を接続し被制御流体を流通させる弁室を形成してなる弁室ボディ部と、前記弁室ボディ部において前記第１流路部が前記弁室に対し直径を１ｍｍ以下とする弁室開口部を平坦状に形成してなる弁座と、前記弁座を進退自在にシールするシール部を備えるとともに該シール部を平坦状に形成した平坦弁体と、前記シール部側と逆側に形成され前記弁室側に装着されたダイヤフラム部とを備える弁機構体と、前記演算装置により行われるフィードバック制御を受けて前記弁機構体を進退させることにより前記平坦弁部と前記弁座との距離を調節する進退手段とを備えており、前記第２流路部側に前記圧力制御弁部が備えられ、前記ダイヤフラム部に加わる被制御流体に生じた圧力変動が抑制されることを特徴とするため、ダイヤフラムを備える流量調節弁部が被制御流体の圧力変動を受けて当該流量調節弁部内の弁座の開度の変化が抑制される。また、弁体の構造から発塵を極力抑えることができ、微少流量域の流量調節に適し発塵の抑制可能な流体供給量調節装置を得ることができる。

特に、本考案の流体供給量調節装置は、微少流量域の被制御流体の供給流量調節を目的としているため、被制御流体の流体圧力の変動が流量調節弁部に及ぼす影響を抑えることにより被制御流体の供給量の正確さを確保することができる。

請求項２の考案に係る流体供給量調節装置によると、請求項１に係る考案において、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁であるため、流体供給量調節装置の流量調節弁部の下流側に生じた被制御流体の流体圧力の変動の影響が流量調節弁部に及ぼす影響を少なくすることができる。

請求項３の考案に係る流体供給量調節装置によると、請求項１に係る考案において、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁であって、前記圧力制御弁部が前記流量調節弁部内に形成されているため、流体供給量調節装置内の流量調節弁部の下流側からの被制御流体の流体圧力の変動の影響が流量調節弁部に及ぼす影響を少なくすることができる。さらに、装置自体の容積を抑えることができ設置場所を少なくすることができる。

請求項４の考案に係る流体供給量調節装置によると、請求項１に係る考案において、前記第２流路部側が前記流量調節弁部における上流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の下流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁であるため、流体供給量調節装置の流量調節弁部の上流側に生じた被制御流体の流体圧力の変動の影響が流量調節弁部に及ぼす影響を少なくすることができる。

請求項５の考案に係る流体供給量調節装置によると、請求項１に係る考案において、前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御に基づいて電空変換器により作出される調圧気体を用いるため、もしも電空変換器への電源供給が停止したときに弁座の状態を安全な位置に維持することができる。

請求項６の考案に係る流体供給量調節装置によると、請求項１に係る考案において、前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御を受けてモータ制御基板に基づいて制御されるステッピングモータであるため、絶対的または相対的な位置制御が容易である。加えて、圧縮エアの設備が無い場合においても開度の調節が可能である。

本考案の流体供給量調節装置を組み入れた基板処理装置の概略図である。第１実施例に係る流体供給量調節装置の断面図である。第２実施例に係る流体供給量調節装置の流量調節弁部の断面図である。第３実施例に係る流体供給量調節装置の断面図である。第４実施例に係る流体供給量調節装置の流量調節弁部の断面図である。第５実施例に係る流体供給量調節装置の流量調節弁部の断面図である。本考案の他の流体供給量調節装置を組み入れた基板処理装置の一部概略図である。第６実施例に係る流体供給量調節装置の断面図である。

図１の概略図はシリコンウエハＷを１枚ずつ処理する枚葉方式の基板処理装置を表す。本考案の流体供給量調節装置５Ａ，５Ｂ，５Ｃは主に開示の基板処理装置内に組み入れられる。シリコンウエハＷはスピンチャック１の回転盤に載置される。シリコンウエハＷの直上に処理液を放出する処理液ノズル２が備えられる。シリコンウエハの洗浄等の処理液は流体配管３を通じて処理液ノズル２に供給される。被制御流体としてはフッ酸、塩酸、アンモニア水等の薬液が例示される。図示では薬液の種類毎に供給部９Ａ，９Ｂ，９Ｃに蓄えられ、順に流体配管３ａ，３ｂ，３ｃを流通する。各薬液は、供給部１４に貯留され流体配管１５から供給される純水（温純水を含む）と流体混合部４において所定割合に基づいて混合、調製され、流体配管３に供給される。

図示のとおり、被制御流体となる薬液毎に流体供給量調節装置が備えられ、当該薬液の流量の調節、供給停止または供給再開が制御される。各流体配管３ａ，３ｂ，３ｃに備えられる流体供給量調節装置は同構成であるため、代表として流体供給量調節装置５Ａに基づいて装置の構成を順に説明する。被制御流体（薬液）の供給部９Ａと流体混合部４との間の流体配管３ａに流体供給量調節装置５Ａが接続される。流体供給量調節装置５Ａに当該被制御流体の流量調節を行う流量調節弁部１０Ａが接続される。流体配管３ａ内の被制御流体に生じた流体圧力の変動を抑制する圧力制御弁部２０Ａも同流体配管３ａに接続される。そして、流体配管３ａ内の被制御流体（薬液）の流量を検出する流量センサ６Ａ（流量計）も備えられる。

流量センサ６Ａからの検知信号は信号線ｓを通じて演算装置７Ａ（ＰＬＣ：プログラマブル・ロジック・コントローラ）に送信される。演算装置７Ａにおいて、前記の流量センサ６Ａの検知結果に応じたフィードバック制御の演算が行われる。フィードバック制御の制御演算の結果に基づいて流量調節弁部１０Ａの流量調節が行われる。流量調節にフィードバック制御を採用しているため、流量を切り替える際に応答速度が速く、さらに精度よく安定した流量調節を行うことができる。

流量調節弁部１０Ａ等において、その弁部の開度調節が調圧気体により行われる機構（図２等参照）が採用されている場合、演算装置７Ａにより制御される調圧気体を作出するための電空変換器８Ａ（電空レギュレータ）が備えられる。流体供給量調節装置５Ｂ並びに５Ｃにおいても、流体配管３ｂ，３ｃにおける流量調節弁部１０Ｂ，１０Ｃ、圧力制御弁部２０Ｂ，２０Ｃ、流量センサ６Ｂ，６Ｃの配置、これらと演算装置７Ｂ，７Ｃ、電空変換器８Ｂ，８Ｃとの接続は同様である。また、図３の流量調節弁部１０Ｋのようにモータ各相への駆動電流を作出するためのモータ制御基板８Ｒが備えられる。図６も同様である。図１中、符号１１は純水（温純水を含む）の流体配管１５に備えられる流量センサ、１２は流量制御弁部、１３が圧力制御弁部である。

特に、流体供給量調節装置５Ａは、１５０ｍＬ／ｍｉｎ以下、さらには５〜２０ｍＬ／ｍｉｎの微少流量域の被制御流体（薬液）の供給流量の精密な調節に用いられる。また、図示する５Ｂ，５Ｃをはじめ、以下の図示の実施例に開示の流体供給量調節装置も同様に微少流量域の被制御流体（薬液）の供給流量の調節に用いられる。

図２の断面図を用い、微少流量域の被制御流体の供給流量を調節する流体供給量調節装置５Ａ（第１実施例）について、同装置５Ａに備えられる流量調節弁部１０Ａ及び圧力制御弁部２０Ａの構造を説明する。

流量調節弁部１０Ａは、主に弁室ボディ部１０１と、ハウジングボディ部１０２と、弁室ボディ部１０１とハウジングボディ部１０２を接続する中間ボディ部１０３の３部位から構成される。

弁室ボディ部１０１には、被制御流体（薬液）が通過する第１流路部１１１及び第２流路部１１２が備えられる。同時に第１流路部１１１及び第２流路部１１２と接続して被制御流体を流通させる弁室１１０が形成される。図２の流体供給量調節装置５Ａの流量調節弁部１０Ａでは、第１流路部１１１側が上流側（供給部側）であり第２流路部１１２側が下流側（流体混合部側）である。図中の符号１１３は第１流路接続部、１１４は第２流路接続部である。

弁室ボディ部１０１において、第１流路部１１１は弁室１１０に対し直径を１ｍｍ（φ１ｍｍ）以下とする弁室開口部１１６を形成している。弁室開口部１１６の弁室１１０側への開口末端は平坦状に形成された弁座１１５となる。弁座１１５の直上に当該弁座１１５を進退自在にシールするシール部１２１が備えられる。シール部１２１は平坦状に形成されており、シール部１２１は平坦弁体１２２に配置される。従来のニードル弁の場合、部材自身の公差、製造や組み立て時の軸のずれ等の要因から弁体が弁座側に接触して、弁座、弁体等が削られて弁座の開口量が変化し、これに伴って流量が変化しやすい点が指摘されていた。この点、平坦弁体１２２のシール部１２１と弁座１１５との関係では、軸ずれの影響が軽減され、結果として平坦弁体１２２の進退動作に伴い発生するパーティクルを抑制することができる。

平坦弁体１２２のシール部１２１側と逆側にダイヤフラム部１２３が弁室１１０側を向いて備えられる。実施例は、平坦弁体１２２とダイヤフラム部１２３を一体に形成して弁機構体１２０を形成している。図示と異なり平坦弁体とダイヤフラム部を別々の部品から構成することもできる。ダイヤフラム部１２３の周囲にダイヤフラム縁部１２４が形成される。ダイヤフラム縁部１２４は弁室ボディ部１０１と中間ボディ部１０３に挟持されるため、弁機構体１２０は弁室１１０の所定位置に配置される。中間ボディ部１０３には呼吸路１０５も形成され、ダイヤフラム部１２４の背面側の空気の流出入に用いられる。

弁機構体１２０は、その上部の弁体接続部１２５を介してピストン部１３１のピストン下部１３２に接続される。図示から把握されるように、中間ボディ部１０３にはピストン部１３１が摺動可能な貫通部が形成される。中間ボディ部１０３の上部のハウジングボディ部１０２内に、ピストン部１３１とばね１３５が収容される。ばね１３５はピストン部１３１のピストン頭部１３３を介して当該ピストン部１３１を押し下げ方向に付勢する。

また、ハウジングボディ部１０２にはエアポート１０４が形成され、電空変換器８Ａにより作出される調圧気体がハウジングボディ部１０２内の空気室１３４に流出入する。調圧気体の流出入量は、演算装置７Ａが流量センサ６Ａの検知結果に応じたフィードバック制御の演算結果に基づいて電空変換器８Ａを制御して調節される。また、作業者の被制御流体の供給停止もしくは供給再開の制御も受ける。

図示のとおり、ハウジングボディ部１０２内の空間はピストン頭部１３３により空気室１３４とばね室１３６により区画される。そのため、空気室１３４の内部圧力が上昇すると、ばね１３５の付勢力に抗してピストン部１３１とこれに接続された弁機構体１２０を持ち上げることができ、平坦弁体１２２のシール部１２１と弁座１１５との距離を広げて弁座１１５の開度を大きくすることができる。

逆に、空気室１３４の内部圧力が低下した場合には、ばね１３５の付勢力が勝りピストン部１３１とこれに接続された弁機構体１２０は降下する。つまり、平坦弁体１２２のシール部１２１と弁座１１５との距離は狭くなり、さらには、平坦弁体１２２は弁座１１５に着座する。

図示とその説明から明らかなように、流量調節弁部１０Ａにおいて、演算装置７Ａにより行われるフィードバック制御を受けて弁機構体１２０を進退させることにより平坦弁部１２１と弁座１１５との距離の調節は、電空変換器８Ａにより作出される調圧気体、ピストン部１３１、及びばね１３５により担われている。そこで、実施例の流量調節弁部１０Ａでは、調圧気体、ピストン部１３１、及びばね１３５が進退手段１３０となる。調圧気体を用いる進退駆動の場合、例えば、電空変換器８Ａへの電源供給が停止して調圧気体の供給が無くなった場合であっても、弁座１１５の状態を安全な位置に維持することができる。

ピストン部１３１には、ウレタンゴム、ＮＢＲ、ＨＮＢＲ、シリコーンゴム、フッ素樹脂ゴム等の耐久性素材から形成されるＯリング１３７が巻着される。そのため、空気室１３４の気密は確保され、ピストン部１３１の進退動作は安定化する。ばね室１３６の空気はハウジング呼吸路１０６を通じて流出入する。

図１，２のとおり、流量調節弁部１０Ａの第２流路部１１２側は下流側である。そこで、流量調節弁部１０Ａの下流側となる第２流路部１１２側から生じた被制御流体の圧力変動の影響は、流量調節弁部１０Ａの弁室１１０と面するダイヤフラム部１２３に伝わる。つまり、第２流路部１１２側からの被制御流体の圧力変動を弁機構体１２０のダイヤフラム部１２３が受ける。ダイヤフラム部１２３はシール部１２１に比べて広い面積で圧力変動を受けるため平坦弁体１２２のシール部１２１と弁座１１５との距離が変化し、弁座１１５の開度が変化するおそれがある。

この点に対応するべく、流体供給量調節装置５Ａにおいて、流量調節弁部１０Ａの第２流路部１１２側に前記のダイヤフラム部１２３に加わる被制御流体の生じた圧力変動を抑制するために、圧力制御弁部２０Ａが備えられる。図２に開示の圧力制御弁部２０Ａは、背圧弁等と称される圧力制御弁であり、当該圧力制御弁部２０Ａの上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする機能を有する。

圧力制御弁部２０Ａにおいて、弁室ボディ部２０１には、被制御流体（薬液）が通過する第１流路部２１１及び第２流路部２１２が備えられる。同時に第１流路部２１１及び第２流路部２１２と接続して被制御流体を流通させる弁室２１０が形成される。図中の符号２１３は第１流路接続部、２１４は第２流路接続部である。流量調節弁部１０Ａの第２流路接続部１１４に第１流路接続部２１３が接続される。なお、双方の接続形態、接続方法等は適宜である。また、流量調節弁部１０Ａの弁室ボディ部１０１と圧力制御弁部２０Ａの弁室ボディ部２０１を一体化したパッケージ品として構成することも可能である。

第２流路部２１２と弁室２１０との接続部位は弁座２１５である。弁座２１５の直上に弁体２２２が配置される。弁体２２２には弁座２１５を進退自在にシールするシール部２２１が備えられる。

弁体２２２のシール部２２１側と逆側にダイヤフラム部２２３は弁室２１０側を向いて備えられる。実施例の圧力制御弁部２０Ａは、弁体２２２とダイヤフラム部２２３を一体に形成して弁機構体２２０を形成している。図示と異なり平坦弁体とダイヤフラム部を別々の部品から構成することもできる。ダイヤフラム部２２３の周囲にダイヤフラム縁部２２４が形成される。ダイヤフラム縁部２２４は弁室ボディ部１０１とハウジングボディ部２０２に挟持されるため、弁機構体２２０は弁室２１０の所定位置に配置される。

ハウジングボディ部２０２内には、収容室２２８が形成され、ばね２２５と同ばね２２５の付勢力を受ける付勢ブロック２２６が備えられる。付勢ブロック２２６は弁機構体２２０と接続されている。通常、弁機構体２２０のシール部２２１は、ばね２２５の付勢力を受けて弁座２１５と着座している。圧力制御弁部２０Ａの上流側の流量調節弁部１０Ａから所定流量の被制御流体が供給されることによって、被制御流体の流体圧力による荷重がばね２２５の付勢力に抗するとき、シール部２２１と弁座２１５との着座状態が解除される。このため、所定の流体圧力の被制御流体が送通可能となる。ハウジングボディ部２０２には呼吸路２２７も形成され、ダイヤフラム部２２３（付勢ブロック２２６）の背面側の空気の流出入に用いられる。

ここで、圧力制御弁部２０Ａの下流側において被制御流体の流体圧力が急に上昇または降下した場合、その流体圧力の変動は、圧力制御弁部２０Ａの弁室２１０と面するダイヤフラム部２２３に伝わる。ばね２２５の付勢力を受ける弁機構体２２０は、ダイヤフラム部２２３を通じて、弁体２２２のシール部１２１と弁座２１５との距離を変化させることができる。そこで、圧力制御弁２０Ａの下流側の圧力変動は、弁機構体２２０が弁座２１５との開度を変化させる制御により調整される。つまり、流量調節弁部１０Ａは圧力制御弁２０Ａの下流側の圧力変動の影響を受けなくなる。

図３の断面図は、図１の各流体供給量調節装置５Ａ，５Ｂ，５Ｃ内の流量調節弁部１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃと代替することができる流量調節弁部１０Ｋを示す（第２実施例）。図３の流量調節弁部１０Ｋにおいても、第１流路部、第２流路部、弁室、弁座、及び弁機構体等の構成、さらに作用は本質的に前出の流量調節弁部１０Ａと同様である。従って、共通する部位には図２の流量調節弁部１０Ａと同一符号を付した。

流量調節弁部１０Ｋにおいて、弁機構体１２０を進退させることにより平坦弁部１２２のシール部１２１と弁座１１５との距離を調節する進退手段１３０Ｋとして、演算装置７Ｒのフィードバック制御を受けてモータ制御基板８Ｒに基づいて制御されるステッピングモータ１４０が組み込まれる。図示のステッピングモータ１４０は中間ボディ部１０３の上方に収容される。これらの蓋となるようにハウジングボディ部１０２が被せられ、ボルト１４６によりステッピングモータ１４０は中間ボディ部１０３に固定される。

ステッピングモータ１４０には、固定側となるステーター１４４（電磁石）と回転側となるローター１４１（永久磁石）が備えられ、回転角度の正確な制御に基づいてローター１４１の回転が行われる。ローター１４１のさらに内部に中空円筒状のモータシャフト１４２（回転軸）が備えられる。モータシャフト１４２内には昇降軸１５１が挿通される。昇降軸１５１の表面に昇降軸溝１５２が形成され、昇降軸溝１５２はモータシャフト１４２内に形成された内軸ねじ山１４３と螺合する。昇降軸１５１の下端に押圧部１５３が備えられる。

演算装置７Ｒによるフィードバック制御の信号がモータ制御基板８Ｒに送信され、同モータ制御基板８Ｒにおいてパルスが出力される。そこで、ステッピングモータ１４０内のローター１４１が所定角度の回転することに伴いモータシャフト１４２も所定角度回転する。モータシャフト１４２の回転量は、同モータシャフト１４２と螺合する昇降軸１５１の上下方向の移動量に変換される。この結果、押圧部１５３の上下方向の移動量が変化する。符号１４７は配線である。

押圧部１５３が降下する場合、ピストン部１３１の上部に置かれるばね１３５は押圧部１５３により下方へ押し下げられることからピストン部１３１は降下する。そこで、ピストン部１３１に接続された弁機構体１２０の平坦弁体１２２のシール部１２１は弁座１１５に接近、さらには着座することになる。逆に、押圧部１５３が上昇する場合、ばね１３５に対する押圧部１５３の下方へ押し下げ力は軽減される。そこで、ピストン部１３１に接続された弁機構体１２０の平坦弁体１２２のシール部１２１は弁座１１５から離脱する。

ステッピングモータ１４０では、電気信号によりローター１４１と連動してモータシャフト１４２が回転される。その結果、モータシャフト１４２と螺合する昇降軸１５１、押圧部１５３を介してばね１３５のばね荷重の細かな変化も可能となる。図中、符号１４５は原点センサである。ステッピングモータを用いることにより、絶対的または相対的な位置制御が容易となり、ばね荷重の細かな調節も可能となる。加えて、圧縮エアの設備が無い場合においても開度の調節が可能である。

図４の流体供給量調節装置５Ｄは（第３実施例）、流量調節弁部１０Ａの第２流路部１１２の下流側に接続される圧力制御弁部２０Ｄに背圧制御弁等と称される圧力制御弁を適用した装置である。当該流体供給量調節装置５Ｄにおける流量調節弁部は、既述の１０Ａもしくは１０Ｋのいずれとしても良い。図示では１０Ａとした。流量調節弁部１０Ａの構造、作用等は、図２において説明したとおりであるため、詳細を省略する。

圧力制御弁部２０Ｄの構造については、日本国特許第３４６７４３８号、ＵＳ６３８６５０９Ｂ等が参照される。圧力制御弁部２０Ｄは、主に上部ボディ部３０１ａ、中間ボディ部３０１ｂ、下部ボディ部３０１ｃから組み合わされ、中間ボディ部３０１ｂ内に流路部３０２が形成される。

被制御流体は第１流路接続部３０３から圧力制御弁部２０Ｄ内の第１弁室３０６に流入する。第１弁室３０６に面する位置に第１ダイヤフラム部３２１が配置される。第１ダイヤフラム部３２１の周囲に設けられたダイヤフラム縁部３２３が上部ボディ部３０１ａ及び中間ボディ部３０１ｂにより挟持され、第１ダイヤフラム部３２１は固定される。第１ダイヤフラム部３２１の背後側には第１加圧室３０８が形成される。そこで、第１ダイヤフラム部３２１は給気ポート３１２から第１加圧室３０８内に流入し同第１加圧室に保持された調圧気体の加圧力を受ける。符号３１４は調圧気体のための排気ポートである。

中間ボディ部３０１ｂの中央部分には上下の貫通路が形成され、その途中に弁座３０５が備えられる。被制御流体は第１弁室３０６から弁座３０５を経由して第２弁室３０７に到達する。そして、第２流路接続部３０４から流出する。図４の流量調節弁部１０Ａと圧力制御弁２０Ｄの配置から理解されるとおり、第１流路接続部３０３は上流側であり、第２流路接続部３０４は下流側である。

第２弁室３０７に面する位置に第２ダイヤフラム部３２２が配置される。第２ダイヤフラム部３２２の周囲に設けられたダイヤフラム縁部３２４が中間ボディ部３０１ｂ及び下部ボディ部３０１ｃにより挟持され、第２ダイヤフラム部３２２も固定される。第２ダイヤフラム部３２２の背後側には第２加圧室３０９が形成される。そこで、第２ダイヤフラム部３２２は第２ばね３１１の付勢を受ける。符号３１３は第２加圧室３０９内の空気のための呼吸路、３２５は保持部材である。

第１ダイヤフラム部３２１と第２ダイヤフラム部３２２は弁部３２０により連結されて弁機構体Ｃ１が形成される。弁機構体Ｃ１の弁部３２０と弁座３０５との距離（近接、離隔、着座）は、給気ポート３１２から第１加圧室３０８内に流入する調圧気体の加圧力により調整される。この実施例では、流量センサの検知流量、設定変更後の流量に応じて、弁部３２０と弁座３０５との最適な開度調節が可能である。圧力制御弁部２０Ｄにおいて、第１ダイヤフラム部３２１は調圧気体の加圧力を受け、第２ダイヤフラム部３２２は第２ばね３１１の付勢を受ける構成であるがこれらに限られることなく、いずれのダイヤフラム部においても、ばねによる付勢あるいはばねと調圧気体の双方による付勢や加圧を適宜選択することができる。

圧力制御弁２０Ｄの下流側となる被制御流体の圧力変動に対し、まず第２ダイヤフラム部３２２が作用を受ける。第１ダイヤフラム部３２１及び第２ダイヤフラム部３２２が備えられ、互いに連結されていることから、第２ダイヤフラム部３２２側の変化に伴い弁部３２０とともに第１ダイヤフラム部３２１も移動する。結果的に、両ダイヤフラム部のそれぞれが被制御流体の流体圧力を受けて双方の均衡した位置に弁部３２０が移動し、圧力制御弁部２０Ｄの弁座３０５の開度が変化する。こうして、圧力制御弁部２０Ｄにおいて被制御流体の圧力変動の影響は吸収され、結果的に圧力制御弁部の上流に配置される流量調節弁部１０Ａが被る被制御流体の圧力変動は抑制される。

図５の流体供給量調節装置５Ｅ（第４実施例）は、図２等に開示の流量調節弁部の内部にリリーフ弁等の圧力制御弁部自体を組み込んで形成した装置である。すなわち、流量調節弁部と圧力制御弁部を組み合わせた複合調節弁部（５Ｅ）ということができる。図５の流体供給量調節装置５Ｅにおいて、上部側には被制御流体の流量調節を担う流量調節弁部１０Ｅが形成される。また、下部側に被制御流体の圧力変動を一定に保持可能とする圧力制御弁部２０Ｅも形成される。流体供給量調節装置５Ｅの流量調節弁部１０Ｅと圧力制御弁部２０Ｅは、図２に開示の流体供給量調節装置５Ａにおける流量調節弁部１０Ａ及び圧力制御弁部２０Ａとそのまま交換することができる。流量調節弁部１０Ｅは本質的に前述の流量調節弁部１０Ａと同様の構成が採用されるため、共通する構造部位に同一符号を用いる。

流体供給量調節装置（複合調節弁部）５Ｅは、被制御流体のための流路を内部に形成した弁室ボディ部１０１と、前述の進退手段１３０（ピストン部１３１）等を進退自在に収容するハウジングボディ部１０２と、弁室ボディ部１０１とハウジングボディ部１０２を接続する中間ボディ部１０３を備え、さらに、弁室ボディ部１０１の直下に底部ハウジングボディ部１０７が備えられる。

流体供給量調節装置５Ｅの全体において、第１流路接続部１１３が上流側となり被制御流体は流入し、第２流路接続部１１４が下流側となり被制御流体は流出する。弁室ボディ部１０１には、被制御流体が通過する第１流路部１１１及び第２流路部１７２（制御側流路部）と、第１流路部１１１から被制御流体が流入する第１弁室１１０と、被制御流体が第２流路部１７２へ流出する第２弁室１７０が形成される。

弁室ボディ部１０１において、第１流路部１１１は第１弁室１１０に対し直径を１ｍｍ（φ１ｍｍ）以下とする弁室開口部１１６を形成している。弁室開口部１１６の弁室１１０側への開口末端は平坦状に形成された弁座１１５となる。さらに弁室ボディ部１０１には、第２流路部１７２が第２弁室１７０に開口する第２弁座１７５と、第１弁室１１０と第２弁室１７０を接続する内部流路部１７１も形成される。流量調節弁部１０Ｅの構成において内部流路部１７１は図２参照の第２流路１１２に相当する。また、圧力制御弁部２０Ｅの構成において内部流路部１７１は図２参照の第１流路部２１１に相当する。

第１弁座１１５の直上に第１平坦弁体１２２が配置される。第１平坦弁体１２２には第１弁座１１５を進退自在にシールする第１シール部１２１が備えられ、当該第１シール部１２１も平坦状に形成される。第１平坦弁体１２２の第１シール部１２１側と逆側に第１ダイヤフラム部１２３が第１弁室１１０側を向いて備えられる。実施例は、第１平坦弁体１２２と第１ダイヤフラム部１２３を一体に形成して第１弁機構体１２０を形成している。第１ダイヤフラム部１２３の周囲に第１ダイヤフラム縁部１２４が形成される。第１ダイヤフラム縁部１２４は弁室ボディ部１０１と中間ボディ部１０３に挟持されるため、第１弁機構体１２０は弁室１１０の所定位置に配置される。中間ボディ部１０３には呼吸路１０５も形成され、第１ダイヤフラム部１２４の背面側の空気の流出入に用いられる。

第１弁機構体１２０は、ピストン部１３１のピストン下部１３２に接続される。中間ボディ部１０３にはピストン部１３１が摺動可能な貫通部が形成される。中間ボディ部１０３の上部のハウジングボディ部１０２内に、ピストン部１３１と該ピストン部１３１と第１ばね１３５が収容される。第１ばね１３５はピストン部１３１のピストン頭部１３３を介して当該ピストン部１３１を押し下げ方向に付勢する。

ハウジングボディ部１０２にはエアポート１０４が形成され、電空変換器８Ａにより作出される調圧気体がハウジングボディ部１０２内の空気室１３４に流入する。調圧気体の流入量は、演算装置７Ａが流量センサ６Ａの検知結果に応じたフィードバック制御の演算結果に基づいて電空変換器８Ａを制御して調節される。また、作業者の被制御流体の供給停止もしくは供給再開の制御も受ける。流体供給量調節装置５Ｅの流量調節弁部１０Ｅにおいても、演算装置７Ａにより行われるフィードバック制御を受けて第１弁機構体１２０を進退させることにより第１平坦弁部１２１と第１弁座１１５との距離の調節は、電空変換器８Ａにより作出される調圧気体、ピストン部１３１、及び第１ばね１３５により担われている。そこで、実施例の流量調節弁部１０Ｅでも、調圧気体、ピストン部１３１、及び第１ばね１３５が進退手段１３０となる。

圧力制御弁部２０Ｅにおいても、第２弁座１７５の直下にも第２平坦弁体１８２が配置される。第２平坦弁体１８２には第２弁座１７５を進退自在にシールする第２シール部１８１が備えられ、当該第２シール部１８１も平坦状に形成される。第２平坦弁体１８２の第２シール部１８１側と逆側に第２ダイヤフラム部１８３が第２弁室１７０側を向いて備えられる。実施例は、第２平坦弁体１８２と第２ダイヤフラム部１８３も一体に形成して第２弁機構体１８０を形成している。第２ダイヤフラム部１８３の周囲に第２ダイヤフラム縁部１８４が形成される。第２ダイヤフラム縁部１８４は弁室ボディ部１０１と底部ハウジングボディ部１０７に挟持されるため、第２弁機構体１８０も第２弁室１７０の所定位置に配置される。実施例では第２平坦弁体１８２を平坦状として図示しているがこの形態に限定されない。

底部ハウジングボディ部１０７内には、収容室１７６が形成され、第２ばね１８５と同第２ばね１８５の付勢力を受ける第２付勢ブロック１８６が備えられる。第２付勢ブロック１８６は第２弁機構体１８０と接続されている。常時、第２弁機構体１８０の第２シール部１８１は、ばね１８５の付勢力を受けて第２弁座１７５と着座している。圧力制御弁部２０Ｅの上流側となる流量調節弁部１０Ｅの内部流路部１７１から所定流量の被制御流体が供給されることによって、被制御流体の流体圧力が第２ばね１８５の付勢力に抗するとき、第２シール部１８１と第２弁座１７５との着座状態は解除される。このため、所定の流体圧力の被制御流体が送通可能となる。底部ハウジングボディ部１０７に呼吸路１０８が形成され、第２ダイヤフラム部１８３（付勢ブロック１８６）の背面側の空気の流出入に用いられる。

流体供給量調節装置５Ｅにおいて、ニードル弁形状を採用していないことから、前述と同様に軸ずれの影響は軽減され、第１平坦弁体１２２や第２平坦弁体１８２の進退動作に伴い発生するパーティクルを抑制することができる。実施例の流体供給量調節装置５Ｅのように、異なる機能を有する流量調節弁部１０Ｅと圧力制御弁部２０Ｅをひとつの装置に組み合わせることによって、装置自体の容積を抑え、設置場所を少なくすることができる。

図６の流体供給量調節装置５Ｆ（第５実施例）も図２等に開示の流量調節弁部の内部にリリーフ弁等の圧力制御弁部自体を組み込んで形成した装置である。同様に、流量調節弁部と圧力制御弁部を組み合わせた複合調節弁部（５Ｆ）ということができる。図６の流体供給量調節装置５Ｆにおいて、上部側には被制御流体の流量調節を担う流量調節弁部１０Ｆが形成される。また、下部側に被制御流体の圧力変動を一定に保持可能とする圧力制御弁部２０Ｆも形成される。従って、流量調節弁部１０Ｆ並びに圧力制御弁部２０Ｆは前述の流量調節弁部１０Ｅ並びに圧力制御弁部２０Ｅと同様の構成が採用される。このため、共通する構造部位に同一符号を用い、説明を省略する。

図６の流体供給量調節装置５Ｆでは、前出の図５に開示の流体供給量調節装置５Ｅにおける進退手段（調圧気体、ピストン部、及び第１ばね）が、演算装置７Ｒのフィードバック制御を受けてモータ制御基板８Ｒに基づいて制御されるステッピングモータ１４０とする進退手段１３０Ｌに変更された構成である。図中のステッピングモータ１４０における内部構成、動作は前出の図３にて説明のとおりであるため、共通する構造部位に同一符号を用い、説明を省略する。

図７は、本考案の他の流体供給量調節装置を組み入れた基板処理装置を部分的に示す概略図である。同図において、被制御流体は、供給部９Ｇから流量センサ６Ｇ、圧力制御弁部２０Ｇ、そして流量調節弁部１０Ｇの順に流体配管３ｇを流通し、流体混合部４において所定割合に基づいて純水（温純水）等の混合、調製され、流体配管３に供給される。図示の流体供給量調節装置５Ｇは、前出の図１の装置の場合と流量調節弁部と圧力制御弁部とを逆に入れ替えた構成である。

流体配管に接続する流量調節弁部や圧力制御弁部の配置は、管路構成に応じて柔軟に設定される。被制御流体の圧力変動をダイヤフラム部で受ける場合、シール部が被制御流体の圧力変動を受ける場合と比較して、受圧面積が広いため圧力変動の影響を大きく受け、それにより開度を変化させてしまう。このような開度変化を抑制する必要から、図７の流体供給量調節装置５Ｇの構成も勘案される。なお、演算装置７Ｇ、電空変換器８Ｇ（電空レギュレータ）の構成、作用は前出の図１の装置と同様である。

図８は、図７の流体供給量調節装置５Ｇの詳細となる圧力制御弁部２０Ｇ及び流量調節弁部１０Ｇを開示する断面図である（第６実施例）。流体供給量調節装置５Ｇに備えられる流量調節弁部１０Ｇは、第１流路部、第２流路部、弁室、弁座、及び弁機構体等の構成、さらに作用は本質的に前出の流量調節弁部１０Ａと同様である。従って、共通する部位には図２の流量調節弁部１０Ａと同一符号を付し詳細を省略する。図示する流量調節弁部１０Ｇの流路部の向きに倣って、前出の図３の流量調節弁部１０Ｋ（第２実施例）を適用することもできる。

ただし、図示の装置配置から理解されるとおり、第１流路部１１１は、流量調節弁部１０Ｇの弁室１１０に対し直径を１ｍｍ以下とする弁室開口部１１６を平坦状とする弁座１１５を形成している。このとおり、弁座１１５を形成している第１流路部１１１は被制御流体が弁室１１５から流出する側であることから下流側となる。被制御流体は第２流路部１１２を通じて弁室１１５内に流入するため、この実施例では第２流路部１１２側が流量調節弁部１０Ｇの上流側となる。そこで、流量調節弁部１０Ｇの上流側となる第２流路部１１２側から生じた被制御流体の圧力変動の影響は、流量調節弁部１０Ｇの弁室１１０と面するダイヤフラム部１２３に伝わり、第２流路部１１２側からの被制御流体の圧力変動を弁機構体１２０のダイヤフラム部１２３が受ける。前述と同様に、ダイヤフラム部１２３はシール部１２１に比べて広い面積で圧力変動を受けるため平坦弁体１２２のシール部１２１と弁座１１５との距離が変化し、弁座１１５の開度が変化するおそれがある。

そこで、流体供給量調節装置５Ｇのとおり、流量調節弁部１０Ｇの上流側に圧力制御弁２０Ｇが備えられる。圧力制御弁２０Ｇは、その下流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする機能を有する。図８の流体供給量調節装置５Ｇは（第６実施例）、流量調節弁部１０Ｇの第１流路部１１１の上流側に接続される圧力制御弁２０Ｇに減圧弁等と称される制御弁を適用した装置である。

流量調節弁部１０Ｇの上流側に接続される圧力制御弁部２０Ｇは、例えば日本国特許第２６７１１８３号、日本国特許第３３７３１４４号（ＵＳ５９８３９２６Ｂ）、日本国特許第３２７６９３６号（ＵＳ６１９９５８２Ｂ、ＥＰ１０１４２４４Ｂ、ＤＥ６９９２１４３４．３Ｂ）等に開示された構造の圧力制御弁である。圧力制御弁部２０Ｇは、主に上部ボディ部４０１ａ、中間ボディ部４０１ｂ、下部ボディ部４０１ｃから組み合わされ、中間ボディ部４０１ｂ内に流路部４０２が形成される。

被制御流体は第１流路接続部４０３から圧力制御弁部２０Ｇ内の第１弁室４０６に流入する。第１弁室４０６に面する位置に第１ダイヤフラム部４２１が配置される。第１ダイヤフラム部４２１の周囲に設けられたダイヤフラム縁部４２３が中間ボディ部４０１ｂ及び下部ボディ部４０１ｃにより挟持され、第１ダイヤフラム部４２１は固定される。第１ダイヤフラム部４２１の背後側には第１加圧室４０８が形成される。そこで、第１ダイヤフラム部４２１は第１ばね４１０の付勢を受ける。符号４１３は第１加圧室４０８内の空気のための呼吸路である。

中間ボディ部４０１ｂの中央部分には上下の貫通路が形成され、その途中に弁座４０５が備えられる。被制御流体は第１弁室４０６から弁座４０５を経由して第２弁室４０７に到達する。そして、第２流路接続部４０４から流出する。図８の圧力制御弁部２０ｇと流量調節弁部１０Ｇの配置から理解されるとおり、第１流路接続部４０３は上流側であり、第２流路接続部４０４は下流側である。

第２弁室４０７に面する位置に第２ダイヤフラム部４２２が配置される。第２ダイヤフラム部４２２の周囲に設けられたダイヤフラム縁部４２４が上部ボディ部４０１ａ及び中間ボディ部４０１ｂにより挟持され、第２ダイヤフラム部４２２も固定される。第２ダイヤフラム部４２２の背後側には第２加圧室４０９が形成される。そこで、第２ダイヤフラム部４２２は給気ポート４１２から第２加圧室４０９内に流入し同第２加圧室内に保持された調圧気体の加圧力を受ける。符号４１４は調圧気体のための排気ポートである。

第１ダイヤフラム部４２１と第２ダイヤフラム部４２２は弁部４２０により連結されて弁機構体Ｃ２が形成される。弁機構体Ｃ２の弁部４２０と弁座４０５との距離（近接、離隔、着座）は、給気ポート４１２から第２加圧室４０９内に流入する調圧気体の加圧力により調整される。この実施例では、流量センサの検知流量、設定変更後の流量に応じて、弁部４２０と弁座４０５との最適な開度調節が可能である。圧力制御弁部２０Ｇにおいて、第１ダイヤフラム部４２１は第１ばね４１０の付勢を受け、第２ダイヤフラム部４２２は調圧気体の加圧力を受ける構成であるがこれらに限られることなく、いずれのダイヤフラム部においても、ばねによる付勢あるいはばねと調圧気体の双方による付勢や加圧を適宜選択することができる。

圧力制御弁部２０Ｇの上流側となる被制御流体の圧力変動に対し、まず第１ダイヤフラム部４２１が作用を受ける。圧力制御弁部２０Ｇに第１ダイヤフラム部４２１及び第２ダイヤフラム部４２２が備えられ、両ダイヤフラム部は互いに連結されていることから、第２ダイヤフラム部４２２側の変化に伴い弁部４２０とともに第１ダイヤフラム部４２１も移動する。両ダイヤフラム部のそれぞれが被制御流体の流体圧力を受けて双方の均衡した位置に弁部４２０が移動し、圧力制御弁部２０Ｇの弁座４０５の開度が変化する。こうして、圧力制御弁部２０Ｇにおいて被制御流体の圧力変動の影響は吸収され、結果的に圧力制御弁部の下流に配置される流量調節弁部１０Ｇが被る被制御流体の圧力変動は抑制される。

これまでに図示し詳述した流量調節弁部並びに圧力制御弁部において、その内部を流通する被制御流体は主に薬液であることから腐食性が高い。そのため、各図の弁室ボディ部をはじめとする各種のボディ部、各図のダイヤフラム部や弁部（弁機構体）は、耐食性、耐薬品性に優れたＰＴＦＥをはじめとする各種フッ素樹脂等から形成され、切削等により加工される。

３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｇ流体配管
４流体混合部
５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ，５Ｅ，５Ｆ，５Ｇ流体供給量調節装置
６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，６Ｇ流量センサ
７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｇ，７Ｒ演算装置
８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｇ電空変換器
８Ｒモータ制御基板
９Ａ，９Ｂ，９Ｃ，９Ｇ供給部
１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ，１０Ｇ，１０Ｋ流量調節弁部
２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇ圧力制御弁部
１０１弁室ボディ部
１０２ハウジングボディ部
１０３中間ボディ部
１０４エアポート
１１０弁室
１１１第１流路部
１１２第２流路部
１１５弁座
１１６弁室開口部
１２０弁機構体
１２１シール部
１２２平坦弁体
１２３ダイヤフラム部
１３０，１３０Ｋ，１３０Ｌ進退手段
１３１ピストン部
１３４空気室
１３５ばね
１４０ステッピングモータ
１４１ローター
１４２モータシャフト
１４４ステーター
１５１昇降軸
１５３押圧部

Claims

被制御流体の供給部と流体混合部との間の流体配管に接続され、被制御流体の流量調節を行う流量調節弁部と、
被制御流体に生じる圧力変動を抑制する圧力制御弁部と、
前記流体配管に備えられた流量センサと、
演算装置とを備え、
前記演算装置が前記流量センサの流量計測値に基づいたフィードバック制御を行い、１５０ｍＬ／ｍｉｎ以下の微少流量域の被制御流体の供給流量を調節する流量調節装置であって、
前記流量調節弁部は、
被制御流体が通過する第１流路部及び第２流路部と、前記第１流路部と前記第２流路部を接続し被制御流体を流通させる弁室を形成してなる弁室ボディ部と、
前記弁室ボディ部において前記第１流路部が前記弁室に対し直径を１ｍｍ以下とする弁室開口部を平坦状に形成してなる弁座と、
前記弁座を進退自在にシールするシール部を備えるとともに該シール部を平坦状に形成した平坦弁体と、
前記シール部側と逆側に形成され前記弁室側に装着されたダイヤフラム部とを備える弁機構体と、
前記演算装置により行われるフィードバック制御を受けて前記弁機構体を進退させることにより前記平坦弁部と前記弁座との距離を調節する進退手段とを備えており、
前記第２流路部側に前記圧力制御弁部が備えられ、前記ダイヤフラム部に加わる被制御流体に生じた圧力変動が抑制される
ことを特徴とする流体供給量調節装置。
前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁である請求項１に記載の流体供給量調節装置。
前記第２流路部側が前記流量調節弁部における下流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の上流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁であって、前記圧力制御弁部が前記流量調節弁部内に形成されている請求項１に記載の流体供給量調節装置。
前記第２流路部側が前記流量調節弁部における上流側であり、前記圧力制御弁部が該圧力制御弁部の下流側の被制御流体の流体圧力を一定に保持可能とする圧力制御弁である請求項１に記載の流体供給量調節装置。
前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御に基づいて電空変換器により作出される調圧気体を用いる請求項１に記載の流体供給量調節装置。
前記進退手段が前記演算装置のフィードバック制御を受けてモータ制御基板に基づいて制御されるステッピングモータである請求項１に記載の流体供給量調節装置。