JP3152963B2 - 組織学的試験用組織標本の準備装置 - Google Patents
組織学的試験用組織標本の準備装置Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/30—Staining; Impregnating ; Fixation; Dehydration; Multistep processes for preparing samples of tissue, cell or nucleic acid material and the like for analysis
- G01N1/31—Apparatus therefor
- G01N1/312—Apparatus therefor for samples mounted on planar substrates
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B10/00—Other methods or instruments for diagnosis, e.g. instruments for taking a cell sample, for biopsy, for vaccination diagnosis; Sex determination; Ovulation-period determination; Throat striking implements
- A61B10/0096—Casings for storing test samples
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、組織学的試験用の組織
サンプルの準備に関し、さらに詳しく言えば、顕微鏡試
験の準備のさいにパラフィン等に組織サンプルを埋め込
む前の組織サンプルの処理装置に関するものである。
サンプルの準備に関し、さらに詳しく言えば、顕微鏡試
験の準備のさいにパラフィン等に組織サンプルを埋め込
む前の組織サンプルの処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】顕微鏡試験用組織サンプルを準備するた
めの標準手続は、組織サンプルをパラフィン中に埋め込
み、そして、ミクロトームによってパラフィン埋込み組
織サンプルを非常に薄く切断することを含んでいる。組
織サンプルを埋め込む前に、組織サンプルは、試験に適
した種々の溶液中に予備処理される。代表的には、パラ
フィン埋め込み前に、組織サンプルは溶融パラフィンに
よって固定され、脱水され、洗浄され、浸透され、そし
て、試験にもとづいて染められる。このような組織サン
プルの前処理は、エタノール、ジレン、フォルムアルデ
ヒド、水を含む種々の流体に組織サンプルを接触するこ
とを要求する。
めの標準手続は、組織サンプルをパラフィン中に埋め込
み、そして、ミクロトームによってパラフィン埋込み組
織サンプルを非常に薄く切断することを含んでいる。組
織サンプルを埋め込む前に、組織サンプルは、試験に適
した種々の溶液中に予備処理される。代表的には、パラ
フィン埋め込み前に、組織サンプルは溶融パラフィンに
よって固定され、脱水され、洗浄され、浸透され、そし
て、試験にもとづいて染められる。このような組織サン
プルの前処理は、エタノール、ジレン、フォルムアルデ
ヒド、水を含む種々の流体に組織サンプルを接触するこ
とを要求する。
【０００３】組織学研究所は試験のための多数の組織サ
ンプルを処理し、また、組織はできるだけ効率的に準備
されることが重要である。多種の装置が、準備工程の効
率を改良するように開発されてきた。米国特許第３，６
７４，３９６号は、組織サンプルが種々の溶液にさらす
ことによって埋め込むために準備され、かつ、カプセル
内に埋め込まれるカプセルを開示している。該特許は、
組織サンプルがその準備のために必要な種々の流体に静
的にさらされる。そのカプセルにおいては、穴明き底壁
が、種々の溶液の組織サンプルに、最終的には溶融パラ
フィンに接近させながら、組織サンプルを保持するよう
に用いられる。
ンプルを処理し、また、組織はできるだけ効率的に準備
されることが重要である。多種の装置が、準備工程の効
率を改良するように開発されてきた。米国特許第３，６
７４，３９６号は、組織サンプルが種々の溶液にさらす
ことによって埋め込むために準備され、かつ、カプセル
内に埋め込まれるカプセルを開示している。該特許は、
組織サンプルがその準備のために必要な種々の流体に静
的にさらされる。そのカプセルにおいては、穴明き底壁
が、種々の溶液の組織サンプルに、最終的には溶融パラ
フィンに接近させながら、組織サンプルを保持するよう
に用いられる。
【０００４】米国特許第４，５５７，９０３号および同
第４，５６９，６４７号は、組織試験用組織サンプルを
準備しかつ埋め込むための改良された装置を開示してい
る。前者の特許においては、１対のインターロック・フ
レームを有する組織処理カプセルが設けられる。各フレ
ームは、ウエブ間に分割された領域内で組織標本を保持
するための中央開口を横断して広げられた多孔ウエブを
有している。多孔ウエブは流体の処理および浸透によっ
て標本に接近させる。組織標本が処理された後に、それ
はカプセルから除去され、鋳型の凹部に置かれる。空の
カプセルは、組織標本を収容する鋳型凹部上に置かれ
る。溶融パラフィンが鋳型内に注入されて、凹部を満た
し、かつ、組織標本およびカプセルの多孔質材料を被覆
する。溶融パラフィンが、外方に延びる組織含有部分用
の突固め可能ベースとして働くカプセルによって組織ブ
ロックを成形するように凝固する。
第４，５６９，６４７号は、組織試験用組織サンプルを
準備しかつ埋め込むための改良された装置を開示してい
る。前者の特許においては、１対のインターロック・フ
レームを有する組織処理カプセルが設けられる。各フレ
ームは、ウエブ間に分割された領域内で組織標本を保持
するための中央開口を横断して広げられた多孔ウエブを
有している。多孔ウエブは流体の処理および浸透によっ
て標本に接近させる。組織標本が処理された後に、それ
はカプセルから除去され、鋳型の凹部に置かれる。空の
カプセルは、組織標本を収容する鋳型凹部上に置かれ
る。溶融パラフィンが鋳型内に注入されて、凹部を満た
し、かつ、組織標本およびカプセルの多孔質材料を被覆
する。溶融パラフィンが、外方に延びる組織含有部分用
の突固め可能ベースとして働くカプセルによって組織ブ
ロックを成形するように凝固する。
【０００５】米国特許第４，５６９，６４７号は、組織
標本を処理するように用いられる流体と組織標本と接触
させる改良された方法を開示している。この特許におい
ては、組織サンプルを処理しかつ埋め込むためのカプセ
ルは、組織サンプルを受けるための空所を与える鋳型を
有している。鋳型は、上端および多孔または無孔底を有
している。カプセルは、鋳型の開口上端に嵌合するカバ
ーを有している。カバーは、それが凹部を設けられるよ
うに、フレームの上部と底部との中間に多孔質材料のウ
エブを配置されたフレームを有している。多孔ウエブ
は、組織処理液体およびパラフィンのような液状組織埋
め込み材料に接近を与えるが、しかし、発生されてもよ
い組織標本の小部分の通過を防止し、これにより、個々
にカプセル化されかつ一体に処理された組織サンプルの
横断汚染を防止する。組織サンプルが液状流体によって
処理された後に、埋め込み材料が凝固するときに、多孔
ウエブが埋め込まれ、凝固材料が鋳型内のブロックに成
形されるように、多孔ウエブ上のカバー凹部が溶融パラ
フィン埋め込み材料によって少なくとも部分的に充填さ
れる。多孔ウエブと組織サンプルとを凝固パラフィンの
ブロック内に相互に埋設した状態でブロックが鋳型から
取り去られ、カバーがミクロトーム内に取り付けられ、
ミクロトーム・ブレードによって切断される。
標本を処理するように用いられる流体と組織標本と接触
させる改良された方法を開示している。この特許におい
ては、組織サンプルを処理しかつ埋め込むためのカプセ
ルは、組織サンプルを受けるための空所を与える鋳型を
有している。鋳型は、上端および多孔または無孔底を有
している。カプセルは、鋳型の開口上端に嵌合するカバ
ーを有している。カバーは、それが凹部を設けられるよ
うに、フレームの上部と底部との中間に多孔質材料のウ
エブを配置されたフレームを有している。多孔ウエブ
は、組織処理液体およびパラフィンのような液状組織埋
め込み材料に接近を与えるが、しかし、発生されてもよ
い組織標本の小部分の通過を防止し、これにより、個々
にカプセル化されかつ一体に処理された組織サンプルの
横断汚染を防止する。組織サンプルが液状流体によって
処理された後に、埋め込み材料が凝固するときに、多孔
ウエブが埋め込まれ、凝固材料が鋳型内のブロックに成
形されるように、多孔ウエブ上のカバー凹部が溶融パラ
フィン埋め込み材料によって少なくとも部分的に充填さ
れる。多孔ウエブと組織サンプルとを凝固パラフィンの
ブロック内に相互に埋設した状態でブロックが鋳型から
取り去られ、カバーがミクロトーム内に取り付けられ、
ミクロトーム・ブレードによって切断される。
【０００６】米国特許第４，５６９，６４７号の一実施
例においては、カプセルが積層を成形するようにつくら
れ、鋳型が埋設パラフィンに粘着しない多孔底を設けら
れている。積層カプセルが、その上下に垂直な方向に処
理流体の通路をつくるように、鋳型およびカバー・フレ
ームによって画定される上下に延びる通路を与える。積
層カプセル内に保持された組織サンプルは、積層カプセ
ルによって成形された通路を通して溶液を流すことによ
って処理される。溶融パラフィン埋設材料は、積層カプ
セルに最終的に導入される。積層体が分離されたとき、
各組織サンプルが各カバーに取り付けられる材料のブロ
ック内に埋め込まれる。
例においては、カプセルが積層を成形するようにつくら
れ、鋳型が埋設パラフィンに粘着しない多孔底を設けら
れている。積層カプセルが、その上下に垂直な方向に処
理流体の通路をつくるように、鋳型およびカバー・フレ
ームによって画定される上下に延びる通路を与える。積
層カプセル内に保持された組織サンプルは、積層カプセ
ルによって成形された通路を通して溶液を流すことによ
って処理される。溶融パラフィン埋設材料は、積層カプ
セルに最終的に導入される。積層体が分離されたとき、
各組織サンプルが各カバーに取り付けられる材料のブロ
ック内に埋め込まれる。
【０００７】組織学的試験用の組織サンプルを準備し且
つ埋設するための方法及び装置は、長年にわたって進歩
してきた。しかし、組織学研究所では、毎日、多数の組
織サンプルが準備されている。そこで、処理可能なサン
プル数を増加させることができる有用で最も効率的な技
術が必要とされている。
つ埋設するための方法及び装置は、長年にわたって進歩
してきた。しかし、組織学研究所では、毎日、多数の組
織サンプルが準備されている。そこで、処理可能なサン
プル数を増加させることができる有用で最も効率的な技
術が必要とされている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
種々の要求された流体によって流体の標本の処理効率を
増加させる組織学的試験用の組織標本の処理に用いるカ
セットを得ることにある。
種々の要求された流体によって流体の標本の処理効率を
増加させる組織学的試験用の組織標本の処理に用いるカ
セットを得ることにある。
【０００９】本発明の別の目的は、組織学的試験用の多
数の組織標本の同時処理用の装置を得ることにある。
数の組織標本の同時処理用の装置を得ることにある。
【００１０】本発明の他の目的は、組織サンプルを処理
するために用いられ、また、組織埋め込みおよび切断の
最終段階においてカセット要素を処理するための経済的
使用のさいに用いられる種々の試薬を再生する組織処理
液用の連続流システムおよび往復流システムを提供する
ことにある。
するために用いられ、また、組織埋め込みおよび切断の
最終段階においてカセット要素を処理するための経済的
使用のさいに用いられる種々の試薬を再生する組織処理
液用の連続流システムおよび往復流システムを提供する
ことにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、組織学的検査
用の多数の組織標本を準備するための積層自在カセット
および装置に関するものである。カセットは、空所を画
定する底壁、２つの側壁、前方壁、後方壁を有してい
る。底壁は、カセットを通って底壁面に垂直な方向に流
体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。後方壁、２つの側壁、前方壁から選択された少なく
とも２つの壁は、カセットを通り底壁面に平行な方向に
流体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。本発明の一実施例においては、カセットはさらに底
壁、側壁の穴上に配置された多孔質材料のウエブを有し
ている。カセットは積層された関係で置かれたとき、積
層カセットの底壁は下側カセット用のカバーを与える。
用の多数の組織標本を準備するための積層自在カセット
および装置に関するものである。カセットは、空所を画
定する底壁、２つの側壁、前方壁、後方壁を有してい
る。底壁は、カセットを通って底壁面に垂直な方向に流
体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。後方壁、２つの側壁、前方壁から選択された少なく
とも２つの壁は、カセットを通り底壁面に平行な方向に
流体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。本発明の一実施例においては、カセットはさらに底
壁、側壁の穴上に配置された多孔質材料のウエブを有し
ている。カセットは積層された関係で置かれたとき、積
層カセットの底壁は下側カセット用のカバーを与える。
【００１２】本発明はさらに、組織学的試験用の多数の
組織標本の同時準備装置を含んでいる。その装置は共同
積層自在の複数のカセットからできている。各カセット
は上述した特徴を有している。積層配列中の各上積みカ
セットの底壁は、各下積みカセット用の頂壁またはカバ
ーを与える。積層カセットは、下積みカセットの底壁と
上積みカセットの底壁とによって画定される上部から下
部まで延びる通路を与える。カセットの積層は、その積
層カセットを通る流体の通路用の複数の穴を明けたカバ
ーで終了している。積層カセット内に保持された組織標
本は、カセットの底壁面に垂直でかつ積層カセットによ
って成形された通路を通って流れる溶液によって処理さ
れる。積層カプセルは、底壁の面に垂直に延びる一連の
通路を与え、これによって、溶液は底壁に平行な方向に
カセットを通過されてもよい。カセットの両側に成形さ
れた穴は、カセット内の標本と流動溶液との十分な接触
を助成する格別の特徴を有している。
組織標本の同時準備装置を含んでいる。その装置は共同
積層自在の複数のカセットからできている。各カセット
は上述した特徴を有している。積層配列中の各上積みカ
セットの底壁は、各下積みカセット用の頂壁またはカバ
ーを与える。積層カセットは、下積みカセットの底壁と
上積みカセットの底壁とによって画定される上部から下
部まで延びる通路を与える。カセットの積層は、その積
層カセットを通る流体の通路用の複数の穴を明けたカバ
ーで終了している。積層カセット内に保持された組織標
本は、カセットの底壁面に垂直でかつ積層カセットによ
って成形された通路を通って流れる溶液によって処理さ
れる。積層カプセルは、底壁の面に垂直に延びる一連の
通路を与え、これによって、溶液は底壁に平行な方向に
カセットを通過されてもよい。カセットの両側に成形さ
れた穴は、カセット内の標本と流動溶液との十分な接触
を助成する格別の特徴を有している。
【００１３】組織標本処理は連続流システムによって行
われるか、または、カセットが一旦積層フレーム中に配
置されてしまうと、バッチ・システムにおいて行われて
もよい。
われるか、または、カセットが一旦積層フレーム中に配
置されてしまうと、バッチ・システムにおいて行われて
もよい。
【００１４】
【実施例】図５において、幾つかの組織サンプルの処理
及び埋設を行うために、連続積層体１３に積み上げられ
た複数のカセット１１が示されている。複数のカセット
１１は、集合して一体に積み重ねられたときに、底壁面
に対して垂直方向に延在する連続通路を画定する。図１
に示すように、カセット１１は、底壁１７と、前方壁１
９と、後方壁２１と、２個の側壁２３と、を有するコン
テナからなる。前方壁１９、後方壁２１及び２個の側壁
２３の中から選択された少なくとも２個の壁には、底壁
面に対して平行な方向にカセットを貫通して流体を流す
ための複数の穴が設けられている。好ましくは、複数の
穴を有する選択された壁は、前方壁１９及び後方壁２１
の組み合わせ若しくは２個の側壁２３の組み合わせのい
ずれかの対向する２枚の壁の組み合わせである。
及び埋設を行うために、連続積層体１３に積み上げられ
た複数のカセット１１が示されている。複数のカセット
１１は、集合して一体に積み重ねられたときに、底壁面
に対して垂直方向に延在する連続通路を画定する。図１
に示すように、カセット１１は、底壁１７と、前方壁１
９と、後方壁２１と、２個の側壁２３と、を有するコン
テナからなる。前方壁１９、後方壁２１及び２個の側壁
２３の中から選択された少なくとも２個の壁には、底壁
面に対して平行な方向にカセットを貫通して流体を流す
ための複数の穴が設けられている。好ましくは、複数の
穴を有する選択された壁は、前方壁１９及び後方壁２１
の組み合わせ若しくは２個の側壁２３の組み合わせのい
ずれかの対向する２枚の壁の組み合わせである。
【００１５】底壁には、複数の穴２５が設けられてい
る。図１及び図２の実施例に示すように、後方壁２１及
び前方壁１９には、複数の穴２７が設けられていて、両
方の側壁２３及び後方壁２１には、複数の穴２９が設け
られている。
る。図１及び図２の実施例に示すように、後方壁２１及
び前方壁１９には、複数の穴２７が設けられていて、両
方の側壁２３及び後方壁２１には、複数の穴２９が設け
られている。
【００１６】図１に示すように、前方壁１９、後方壁２
１、側壁２３の各々の頂部が壁部分からずらされて、壁
を包囲する積層フランジをつくる。カセットが上下に互
いに積み重ねられたとき、カセットは積層フランジによ
って確実に重ねられる。
１、側壁２３の各々の頂部が壁部分からずらされて、壁
を包囲する積層フランジをつくる。カセットが上下に互
いに積み重ねられたとき、カセットは積層フランジによ
って確実に重ねられる。
【００１７】図４に、作動状態に複数の積層体を把持す
るための積層フレームが示されている。積層フレーム３
１は、ベース３３と、支柱３５と、を含む。支柱３５
は、側壁３７と、後壁３９と、を含む。後壁３９には、
後述するカバープレート４５の舌部４９を受け入れるた
めのスロット４１が設けられている。ベース３３は、ベ
ース３３の下方にある位置からの流体を流すためのスリ
ット４３の形態の開口又は他の適当なタイプの穴を含
む。
るための積層フレームが示されている。積層フレーム３
１は、ベース３３と、支柱３５と、を含む。支柱３５
は、側壁３７と、後壁３９と、を含む。後壁３９には、
後述するカバープレート４５の舌部４９を受け入れるた
めのスロット４１が設けられている。ベース３３は、ベ
ース３３の下方にある位置からの流体を流すためのスリ
ット４３の形態の開口又は他の適当なタイプの穴を含
む。
【００１８】ベース３３は、カセット１１の下部を受け
入れるに適した寸法の凹部４４を有する。ベース３３か
ら上方に向かって、一連のカセット１１が作動列に積み
重ねられる。カバー・プレート４５は、最上部のカセッ
ト１１の頂部に置かれる。カバー・プレート４５は、カ
バー・プレート４５を貫通する流体通路用の穴４７を含
む。カバー・プレート４５の下側の表面は、さらに多孔
質材料で被覆されてもよい。カバー・プレート４５は、
複数のカセットが積層されてなる積層体を安定に保持す
るために、支柱３５の後壁３９内のスロット４１に係合
する舌部４９を含む。ロック・ハンドル５１は、カバー
・プレート４５と複数のカセット１１の積層体とを定置
にロックするために設けられている。ロック・ハンドル
５１は、スタッド５３及びカム５５を含む。スタッド５
３は、支柱３５の側壁３７の切り欠き部分である適当な
半円形支持面５２と係合する。ロック・ハンドル５１を
下方に下げると、カム５５がカバー・プレート４５を下
方に押し下げる。
入れるに適した寸法の凹部４４を有する。ベース３３か
ら上方に向かって、一連のカセット１１が作動列に積み
重ねられる。カバー・プレート４５は、最上部のカセッ
ト１１の頂部に置かれる。カバー・プレート４５は、カ
バー・プレート４５を貫通する流体通路用の穴４７を含
む。カバー・プレート４５の下側の表面は、さらに多孔
質材料で被覆されてもよい。カバー・プレート４５は、
複数のカセットが積層されてなる積層体を安定に保持す
るために、支柱３５の後壁３９内のスロット４１に係合
する舌部４９を含む。ロック・ハンドル５１は、カバー
・プレート４５と複数のカセット１１の積層体とを定置
にロックするために設けられている。ロック・ハンドル
５１は、スタッド５３及びカム５５を含む。スタッド５
３は、支柱３５の側壁３７の切り欠き部分である適当な
半円形支持面５２と係合する。ロック・ハンドル５１を
下方に下げると、カム５５がカバー・プレート４５を下
方に押し下げる。
【００１９】米国特許第４，５６９，６４７号に記載さ
れているように、多孔質材料は、カセット１１の底壁２
９及び穴あき直立壁２１及び／又は２３上に位置づけら
れてもよい。多孔質材料は、カバー・プレート４５の穴
の上に位置づけられてもよい。多孔質材料は、組織サン
プルの切片をカセット１１の穴又はカバー・プレート４
５の穴を通過するのに十分に小さい寸法に形成する組織
サンプルの処理の際に用いられる。多孔質材料は、液体
を容易に通過させるが組織片を保持する多孔質繊維、好
ましくは不織布である。多孔質材料は、最大孔寸法が約
５ミクロンであり、約３５％〜６５％の間の孔隙率を有
する繊維である。好ましい繊維は、モンサント社（Mons
ant）から商標「Cerex」で販売されている不織布ナイロ
ンである。
れているように、多孔質材料は、カセット１１の底壁２
９及び穴あき直立壁２１及び／又は２３上に位置づけら
れてもよい。多孔質材料は、カバー・プレート４５の穴
の上に位置づけられてもよい。多孔質材料は、組織サン
プルの切片をカセット１１の穴又はカバー・プレート４
５の穴を通過するのに十分に小さい寸法に形成する組織
サンプルの処理の際に用いられる。多孔質材料は、液体
を容易に通過させるが組織片を保持する多孔質繊維、好
ましくは不織布である。多孔質材料は、最大孔寸法が約
５ミクロンであり、約３５％〜６５％の間の孔隙率を有
する繊維である。好ましい繊維は、モンサント社（Mons
ant）から商標「Cerex」で販売されている不織布ナイロ
ンである。
【００２０】複数のカセットが積層フレーム３１に装填
され、そして、ハンドル５１によって定位置に止められ
た後に、複数のカセットが処理の準備を整える。カセッ
トの装着は多数の現存する処理技術によって処理される
のに適している。例えば、カセットの装着積層が図８に
示すように作業コンテナ５９に置かれうる。カバー６１
はカセットの装着積層を入口６３と出口６５とを通して
与えられる流体の流れによる処理のために定位置に包囲
するコンテナに設けられる。代案として、カセットの装
着積層はＡｍｅｓ Ｌａｂ ＶＩＰプロセッサのような
水平のプロセッサ内に置かれうる。水平位置において
は、流体はカセットの垂直壁の穴を通るカセット１１の
底壁に平行な方向の通路に適している。
され、そして、ハンドル５１によって定位置に止められ
た後に、複数のカセットが処理の準備を整える。カセッ
トの装着は多数の現存する処理技術によって処理される
のに適している。例えば、カセットの装着積層が図８に
示すように作業コンテナ５９に置かれうる。カバー６１
はカセットの装着積層を入口６３と出口６５とを通して
与えられる流体の流れによる処理のために定位置に包囲
するコンテナに設けられる。代案として、カセットの装
着積層はＡｍｅｓ Ｌａｂ ＶＩＰプロセッサのような
水平のプロセッサ内に置かれうる。水平位置において
は、流体はカセットの垂直壁の穴を通るカセット１１の
底壁に平行な方向の通路に適している。
【００２１】本発明の重要な実施例は、図１，図２及び
図３に示されている。これらの図面に示すように、穴２
５，２７，２９は、側壁２３，前方壁１９及び後方壁２
１のすべてに、格別の特徴を有する細長く垂直に配置さ
れたスロットの形態で形成される。この実施例において
は、細長いスロットの少なくとも幾つかのスロットが壁
の面に関して傾斜角度を付されて整列されている。後方
壁２１及び前方壁１９のスロット２７は、後方壁２１の
面に関して第１の所定角度Ａで傾斜して設けられてい
る。スロット２７は、すべてが一方向に整列していても
よい。しかし、好ましくは、図２の上方からみたとき
に、前方壁１９及び後方壁２１の左側に位置するスロッ
ト２７は、カセット１１の右側に向かって第１の所定角
度Ａで傾斜しており、逆に右側に位置するスロット２７
は、カセット１１の左側に向かって第１の所定角度Ａで
傾斜している。このように、逆向き、すなわち右に整列
された右手スロットと、左に整列された左手スロット
と、からなる分割整列が有用である。側壁２３のスロッ
ト２５は、第２の所定角度Ｂで傾斜して設けられてい
る。すなわち、カセット１１の前方壁１９又は後方壁２
１のいずれかに向かって第２の所定角度Ｂで傾斜してい
るか、若しくは後方壁２１のスロット２７について上述
したように、第２の所定角度Ｂで向かい合う分割整列を
有していてもよい。角度Ａ及び角度Ｂは、格別に厳密で
はないが、約５度〜約４５度の範囲内にあることが好ま
しい。角度付スロットを設けることによって、流体がカ
セット１１の底壁１７に平行な方向に通過する際に、渦
巻き又は乱流運動がカセット１１内の流体に与えられ
る。
図３に示されている。これらの図面に示すように、穴２
５，２７，２９は、側壁２３，前方壁１９及び後方壁２
１のすべてに、格別の特徴を有する細長く垂直に配置さ
れたスロットの形態で形成される。この実施例において
は、細長いスロットの少なくとも幾つかのスロットが壁
の面に関して傾斜角度を付されて整列されている。後方
壁２１及び前方壁１９のスロット２７は、後方壁２１の
面に関して第１の所定角度Ａで傾斜して設けられてい
る。スロット２７は、すべてが一方向に整列していても
よい。しかし、好ましくは、図２の上方からみたとき
に、前方壁１９及び後方壁２１の左側に位置するスロッ
ト２７は、カセット１１の右側に向かって第１の所定角
度Ａで傾斜しており、逆に右側に位置するスロット２７
は、カセット１１の左側に向かって第１の所定角度Ａで
傾斜している。このように、逆向き、すなわち右に整列
された右手スロットと、左に整列された左手スロット
と、からなる分割整列が有用である。側壁２３のスロッ
ト２５は、第２の所定角度Ｂで傾斜して設けられてい
る。すなわち、カセット１１の前方壁１９又は後方壁２
１のいずれかに向かって第２の所定角度Ｂで傾斜してい
るか、若しくは後方壁２１のスロット２７について上述
したように、第２の所定角度Ｂで向かい合う分割整列を
有していてもよい。角度Ａ及び角度Ｂは、格別に厳密で
はないが、約５度〜約４５度の範囲内にあることが好ま
しい。角度付スロットを設けることによって、流体がカ
セット１１の底壁１７に平行な方向に通過する際に、渦
巻き又は乱流運動がカセット１１内の流体に与えられ
る。
【００２２】本発明のさらに別の実施例は、図１０，図
１１及び図１２に示されている。この実施例において
は、別個のロック・カバー８５が各カセット１１に設け
られている。この別個のロック・カバー８５を設けるこ
とによって、積層フレームを用いずに、単独のカセット
１１の個々の取り扱いが可能となる。ロック・カバー８
５は、カセット１１の後方壁にあるスロット８９などの
突起物係合部と符合する突起物８７を備える。ロック・
カバー８５はさらに、カセット１１の前方壁にあるチャ
ネル９３に挿入されるロック・タブ９１を備える。ロッ
ク・タブ９１は、前方に延在するチップ９５を有する。
チップ９５は、ロック凹部９７と係合して、ロック位置
におかれる。ロック・タブ９１は、弾性材料から形成さ
れていて、ロック・タブ９１がチャネル９３に挿入され
たときに、チップ９５がロック・タブ９１をチャネル９
３の前方壁から強制的に離隔させ得るようにする。チッ
プ９５は、湾曲形状を有していて、上向きの圧力がハン
ドル９９に与えられたときに、ロック・カバー８５を外
すことができるようにする。ロック・カバー８５は、上
述したように、カセット１１を貫通して流体を流すこと
ができるようにする穴１０１を具備している。ロック・
カバー８５は、ロック・カバー８５の周囲を取り巻いて
延在する積層フランジ８６を与えるように、カセット１
１と同じオフセット形状を有する。こうして、本発明の
カセットの使用時に非常に優れた融通性を提供すること
が可能とする。すなわち、カバー付のカセット及びカバ
ーなしのカセットが混ざってランダム配列に積層され得
ることになる。
１１及び図１２に示されている。この実施例において
は、別個のロック・カバー８５が各カセット１１に設け
られている。この別個のロック・カバー８５を設けるこ
とによって、積層フレームを用いずに、単独のカセット
１１の個々の取り扱いが可能となる。ロック・カバー８
５は、カセット１１の後方壁にあるスロット８９などの
突起物係合部と符合する突起物８７を備える。ロック・
カバー８５はさらに、カセット１１の前方壁にあるチャ
ネル９３に挿入されるロック・タブ９１を備える。ロッ
ク・タブ９１は、前方に延在するチップ９５を有する。
チップ９５は、ロック凹部９７と係合して、ロック位置
におかれる。ロック・タブ９１は、弾性材料から形成さ
れていて、ロック・タブ９１がチャネル９３に挿入され
たときに、チップ９５がロック・タブ９１をチャネル９
３の前方壁から強制的に離隔させ得るようにする。チッ
プ９５は、湾曲形状を有していて、上向きの圧力がハン
ドル９９に与えられたときに、ロック・カバー８５を外
すことができるようにする。ロック・カバー８５は、上
述したように、カセット１１を貫通して流体を流すこと
ができるようにする穴１０１を具備している。ロック・
カバー８５は、ロック・カバー８５の周囲を取り巻いて
延在する積層フランジ８６を与えるように、カセット１
１と同じオフセット形状を有する。こうして、本発明の
カセットの使用時に非常に優れた融通性を提供すること
が可能とする。すなわち、カバー付のカセット及びカバ
ーなしのカセットが混ざってランダム配列に積層され得
ることになる。
【００２３】本発明のカセットを用いる組織標本の処理
に特に適した処理装置の一例は、洗浄機械タイプの作用
をなすものである。積層フレーム３１にロックされた後
の積層カセットは、作業コンテナ内に位置づけられる。
作業コンテナ内には、適当な処理流体が入れられてい
て、作業コンテナは、一方向に１８０度回転させられ、
そのすぐ後に逆方向に１８０度回転させられる。このよ
うな動作によって、本発明のカセットの両処理特徴を利
用する底壁１７に平行な処理流体の流れ成分及び底壁１
７に垂直な処理流体の流れ成分を与える。
に特に適した処理装置の一例は、洗浄機械タイプの作用
をなすものである。積層フレーム３１にロックされた後
の積層カセットは、作業コンテナ内に位置づけられる。
作業コンテナ内には、適当な処理流体が入れられてい
て、作業コンテナは、一方向に１８０度回転させられ、
そのすぐ後に逆方向に１８０度回転させられる。このよ
うな動作によって、本発明のカセットの両処理特徴を利
用する底壁１７に平行な処理流体の流れ成分及び底壁１
７に垂直な処理流体の流れ成分を与える。
【００２４】図９のブロック線図を参照すれば、組織標
本６７は、ステーション１において、カセット１１内に
置かれる。組織標本６７は、ミクロトームスライスに最
も適する一方向にカセット１１内で固定されたままであ
り、一般的には低密度ポリウレタンなどのスポンジ材料
のブロック（図示せず）が各組織標本６７の上に置かれ
ることが好ましい。次いで、カセットのラベル貼付エリ
ア６９がマークされる。ラベル貼付エリア６９は、図１
に示すように、前方壁１９から延在する傾斜表面上にあ
る。前方壁１９から延在する傾斜表面６９は、カセット
１１を積層配列に把持し且つ配置することを助成する。
傾斜表面６９はさらに、ラベル貼付目的のために大きな
表面を与える。
本６７は、ステーション１において、カセット１１内に
置かれる。組織標本６７は、ミクロトームスライスに最
も適する一方向にカセット１１内で固定されたままであ
り、一般的には低密度ポリウレタンなどのスポンジ材料
のブロック（図示せず）が各組織標本６７の上に置かれ
ることが好ましい。次いで、カセットのラベル貼付エリ
ア６９がマークされる。ラベル貼付エリア６９は、図１
に示すように、前方壁１９から延在する傾斜表面上にあ
る。前方壁１９から延在する傾斜表面６９は、カセット
１１を積層配列に把持し且つ配置することを助成する。
傾斜表面６９はさらに、ラベル貼付目的のために大きな
表面を与える。
【００２５】次いで、ステーション２において示すよう
に、複数のカセット１１は、積層フレーム３１内に一緒
に積層されて、カバープレート４５及びロック・ハンド
ル５１を用いて定置にロックされる。次いで、積層され
てロックされたカセット１１は、ステーション３におい
て示すように往復運動タイプの処理チャンバ内に置かれ
るか、若しくはステーション４において示すように適当
な流体が連続的に通過する作業コンテナ５９内に置かれ
てもよい。ステーション５において、組織標本の処理の
ために、一連の処理試薬が往復運動タイプの処理チャン
バ（若しくは作業コンテナ）内に入れられる。次いで、
カセット１１は、ステーション６及び７において示すよ
うに、積層フレーム３１から取り除かれる。ステーショ
ン８において、組織標本は、カセット１１から取り除か
れて、鋳型７３の凹部７１に置かれる。溶融パラフィン
が硬化する前に、組織標本が取り除かれたカセット１１
は、組織標本６７の上に重なるように鋳型７３の受け入
れ部分に置かれる。追加の溶融パラフィンがカセット１
１の頂部から注がれて、溶融パラフィンが硬化したとき
にカセット１１に組織標本６７が密接に接着するように
する。次いで、組織標本６７が接着しているカセット１
１を鋳型７３から取り除き、ステーション９に示すよう
に、カセット１１を保持するチャック７５と１個の組織
標本６７を複数の組織切片７９にスライスするためのミ
クロトームブレード７７とを含むミクロトームスライス
部分まで移動させる。
に、複数のカセット１１は、積層フレーム３１内に一緒
に積層されて、カバープレート４５及びロック・ハンド
ル５１を用いて定置にロックされる。次いで、積層され
てロックされたカセット１１は、ステーション３におい
て示すように往復運動タイプの処理チャンバ内に置かれ
るか、若しくはステーション４において示すように適当
な流体が連続的に通過する作業コンテナ５９内に置かれ
てもよい。ステーション５において、組織標本の処理の
ために、一連の処理試薬が往復運動タイプの処理チャン
バ（若しくは作業コンテナ）内に入れられる。次いで、
カセット１１は、ステーション６及び７において示すよ
うに、積層フレーム３１から取り除かれる。ステーショ
ン８において、組織標本は、カセット１１から取り除か
れて、鋳型７３の凹部７１に置かれる。溶融パラフィン
が硬化する前に、組織標本が取り除かれたカセット１１
は、組織標本６７の上に重なるように鋳型７３の受け入
れ部分に置かれる。追加の溶融パラフィンがカセット１
１の頂部から注がれて、溶融パラフィンが硬化したとき
にカセット１１に組織標本６７が密接に接着するように
する。次いで、組織標本６７が接着しているカセット１
１を鋳型７３から取り除き、ステーション９に示すよう
に、カセット１１を保持するチャック７５と１個の組織
標本６７を複数の組織切片７９にスライスするためのミ
クロトームブレード７７とを含むミクロトームスライス
部分まで移動させる。
【００２６】次いで、図９のブロック線図のステーショ
ン１０に示すように、スライスされた組織切片７９は、
周知の組織処理技術に従って、スライドガラス８１上で
の温水浴処理、８２における試薬での処理及び第２のス
ライドガラス８３でのカバーリングによって、さらに処
理される。
ン１０に示すように、スライスされた組織切片７９は、
周知の組織処理技術に従って、スライドガラス８１上で
の温水浴処理、８２における試薬での処理及び第２のス
ライドガラス８３でのカバーリングによって、さらに処
理される。
【００２７】
【発明の効果】本発明のいくつかの利点は、十分に理解
されうるであろう。組織サンプルの埋設および切断によ
る定着から組織サンプルが完全に処理されるカセット
は、単純で安価である。カセットは２つの方向に処理液
の流通を与えて、同じ溶液で処理された組織サンプルの
横断汚染に対して完全な保証を与えながら、組織標本に
対して処理流体のより効率的な接触を促進させる。カセ
ットは個々のカセットのための上カバーを与える必要性
を排除して重ねることができる。カセットは最小容量の
溶液で組織標本を処理し、かつ、最小容量のパラフィン
で標本を埋め込むことができる。積層カセットが特に適
用できる液体流システムはほとんど習熟時間を必要とし
ない。必要に応じて、組織サンプルはカセット内で染め
られることもできる。
されうるであろう。組織サンプルの埋設および切断によ
る定着から組織サンプルが完全に処理されるカセット
は、単純で安価である。カセットは２つの方向に処理液
の流通を与えて、同じ溶液で処理された組織サンプルの
横断汚染に対して完全な保証を与えながら、組織標本に
対して処理流体のより効率的な接触を促進させる。カセ
ットは個々のカセットのための上カバーを与える必要性
を排除して重ねることができる。カセットは最小容量の
溶液で組織標本を処理し、かつ、最小容量のパラフィン
で標本を埋め込むことができる。積層カセットが特に適
用できる液体流システムはほとんど習熟時間を必要とし
ない。必要に応じて、組織サンプルはカセット内で染め
られることもできる。
【図１】本発明のカセットの斜視図である。
【図２】図１のカセットの平面図である。
【図３】図２のカセットの一部の拡大破断図である。
【図４】図１の複数のカセットを積層するために有用な
フレームの斜視図である。
フレームの斜視図である。
【図５】図４の積層フレームの側面図であって、図１の
複数のカセットを示す。
複数のカセットを示す。
【図６】カセットの積層体の側面図である。
【図７】図６の積層体の一部の部分破断断面図である。
【図８】図４の積層フレーム内に装填され且つ本発明の
方法の操作に用いる作業コンテナ内に置かれた図１の複
数のカセットの斜視図である。
方法の操作に用いる作業コンテナ内に置かれた図１の複
数のカセットの斜視図である。
【図９】カセットの処理の種々の工程を示す流れ線図で
ある。
ある。
【図１０】カセット用ロック・カバーを示す本発明の別
の実施例の斜視図である。
の実施例の斜視図である。
【図１１】カバーを定置にロックしたカセットの後方部
分を示す部分破断図である。
分を示す部分破断図である。
【図１２】カバーを定置にロックしたカセットの前方部
分を示す部分破断図である。
分を示す部分破断図である。
１１：カセット １３：複数のカセットの積層体 １７：カセットの底壁 １９：カセットの前方壁 ２１：カセットの後方壁 ２３：カセットの側壁２５：第１の穴（スロット） ２７，２９：第２の穴（スロット） ３１：積層フレーム ３３：ベース ３５：支柱 ４５：カバー・プレート ８５：ロック・カバー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−36035（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−135166（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−63841（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 1/28
Claims (22)
- 【請求項１】 組織試験用標本の準備に用いる積層自在
カセットであって、 底壁、２つの側壁、前方壁及び後方壁を有する頂部開口
コンテナからなり、上記底壁は、流体が上記カセットを上記底壁の面に対し
て垂直方向に貫通して流れる流体通路のための複数の第
１の穴を有し、 上記後方壁、側壁及び前方壁のうち少なくとも２つの壁
は、流体が上記カセットを上記底壁の面に平行な方向に
貫通して流れる流体通路のための縦方向に細長いスロッ
トである複数の第２の穴を有し、 少なくとも幾つかの上記スロットは、流体が上記カセッ
トを通過する際に、上記流体に渦巻き運動を与えるよう
に、上記後方壁、側壁及び前方壁のうち少なくとも２つ
の壁の面に所定角度で傾斜して配設されている、ことを
特徴とする 積層自在カセット。 - 【請求項２】 請求項１のカセットであって、前記スロ
ットはすべて、前記スロットが位置づけられている各壁
の面に、所定角度で傾斜して配設されていることを特徴
とするカセット。 - 【請求項３】 請求項１のカセットであって、前記第２
の穴は、前記後方壁及び前記前方壁に配置されているこ
とを特徴とするカセット。 - 【請求項４】 請求項１のカセットであって、前記第２
の穴は、前記側壁に配置されていることを特徴とするカ
セット。 - 【請求項５】 請求項１のカセットであって、前記第２
の穴は、前記後方壁、前記前方壁及び前記側壁のすべて
に配置されていることを特徴とするカセット。 - 【請求項６】 請求項３又は請求項５のカセットであっ
て、前記後方壁及び前記前方壁に配置されている前記ス
ロットは、第１の所定角度で傾斜して配置されているこ
とを特徴とするカセット。 - 【請求項７】 請求項６のカセットであって、前記第１
の所定角度は、約５度〜約４５度の範囲にあることを特
徴とするカセット。 - 【請求項８】 請求項４又は請求項５のカセットであっ
て、前記側壁に配置されている第２の穴のうち少なくと
も幾つかの穴は、第２の所定角度で傾斜して配置されて
いることを特徴とするカセット。 - 【請求項９】 請求項８のカセットであって、前記第２
の所定角度は、約５度〜約４５度の範囲にあることを特
徴とするカセット。 - 【請求項１０】 請求項１のカセットであって、前記カ
セットの少なくとも幾つかの前記穴の上に多孔質材料が
置かれていることを特徴とするカセット。 - 【請求項１１】 請求項１のカセットであって、複数の
穴を有し、前記カセットとのロック関係に置かれて、組
織標本の個々を処理するためにカセットを閉鎖するよう
になされているカバーを有することを特徴とするカセッ
ト。 - 【請求項１２】 請求項１１のカセットであって、前記
カバーは、上記カバーの頂部上に１個のカセットを積層
可能とする包囲円周フランジ形態のオフセット凹部を有
することを特徴とするカセット。 - 【請求項１３】 組織学的試験用の多数の組織標本を同
時に調整するための装置であって、 それぞれが、底壁、２つの側壁、前方壁及び後方壁を有
する一緒に積層可能な複数のカセットであって、積層さ
れた列において上に重なるカセットの各底壁が下に重な
るカセットの頂部となる複数のカセットを有し、 上記底壁は、流体が上記カセットを上記底壁の面に対し
て垂直方向に貫通して流れる流体通路のための複数の第
１の穴を有し、 上記後方壁、側壁及び前方壁のうち少なくとも２つの壁
は、流体が上記カセットを上記底壁の面に平行な方向に
貫通して流れる流体通路のための縦方向に細長いスロッ
トである複数の第２の穴を有し、 少なくとも幾つかの上記スロットは、流体が上記カセッ
トを通過する際に、上記流体に渦巻き運動を与えるよう
に、上記後方壁、側壁及び前方壁のうち少なくとも２つ
の壁の面に所定角度で傾斜して配設されている、ことを
特徴とする装置。 - 【請求項１４】 請求項１３の装置であって、前記第２
の穴は、少なくとも前記後方壁及び前記前方壁に配置さ
れていることを特徴とする装置。 - 【請求項１５】 請求項１３の装置であって、前記第２
の穴は、少なくとも前記側壁に配置されていることを特
徴とする装置。 - 【請求項１６】 請求項１３の装置であって、 前記複数のスロットは、少なくとも前記後方壁及び前記
前方壁に配置されていて、 上部からみて前記後方壁及び前記前方壁の左側に配置さ
れている複数のスロットは、前記カセットの右側に向か
って第１の所定角度で傾斜して配置されていて、 上部からみて前記後方壁及び前記前方壁の右側に配置さ
れている複数のスロットは、前記カセットの左側に向か
って第１の所定角度で傾斜して配置されている、 ことを特徴とする装置。 - 【請求項１７】 請求項１６の装置であって、前記第１
の所定角度は５度〜４５度の範囲にあることを特徴とす
る装置。 - 【請求項１８】 請求項１５の装置であって、 少なくとも幾つかの 前記側壁に配置されている前記第２
の穴は、第２の所定角度で傾斜している縦方向に細長い
スロットである、ことを特徴とする装置。 - 【請求項１９】 請求項１８の装置であって、前記第２
の所定角度は、５度〜４５度の範囲にあることを特徴と
する装置。 - 【請求項２０】 請求項１８の装置であって、前記積層
可能な複数のカセットを積層してロックした列に保持す
る積層フレームを有することを特徴とする装置。 - 【請求項２１】 請求項２０の装置であって、前記複数
のカセットの積層体の最上部にあるカセット用の複数の
穴付のカバーを有することを特徴とする装置。 - 【請求項２２】 請求項２１の装置であって、前記積層
可能な複数のカセットの積層体の中間部にあるカセット
の少なくとも１個のカセットは、ロック・カバーを有す
ることを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/567,274 US5080869A (en) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | Apparatus and method for preparing tissue samples for histological examination |
| US567274 | 1990-08-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0618382A JPH0618382A (ja) | 1994-01-25 |
| JP3152963B2 true JP3152963B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=24266477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20444791A Expired - Lifetime JP3152963B2 (ja) | 1990-08-14 | 1991-08-14 | 組織学的試験用組織標本の準備装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5080869A (ja) |
| EP (1) | EP0471534B1 (ja) |
| JP (1) | JP3152963B2 (ja) |
| DE (1) | DE69117227T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101958641B1 (ko) * | 2017-05-08 | 2019-07-03 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 홈포트 배기 방법 |
| KR102677969B1 (ko) * | 2020-12-30 | 2024-06-26 | 세메스 주식회사 | 노즐 대기 포트와 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용한 노즐 세정 방법 |
Families Citing this family (69)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5273905A (en) * | 1991-02-22 | 1993-12-28 | Amoco Corporation | Processing of slide mounted material |
| US5269671A (en) * | 1992-02-11 | 1993-12-14 | Mccormick James B | Apparatus for embedding tissue samples |
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