JPH0618382A - 組織学的試験用組織標本の準備装置 - Google Patents
組織学的試験用組織標本の準備装置Info
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- JPH0618382A JPH0618382A JP3204447A JP20444791A JPH0618382A JP H0618382 A JPH0618382 A JP H0618382A JP 3204447 A JP3204447 A JP 3204447A JP 20444791 A JP20444791 A JP 20444791A JP H0618382 A JPH0618382 A JP H0618382A
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Abstract
理効率を増加させること。 【構成】 本発明は、組織学的検査用の多数の組織標本
を準備するための積層自在カセットおよび装置に関する
ものである。カセットは、空所を画定する底壁、2つの
側壁、前方壁、後方壁を有している。底壁は、カセット
を通って底壁面に垂直な方向に流体通路をつくるように
配置された複数の穴を有している。後方壁、2つの側
壁、前方壁から選択された少なくとも2つの壁は、カセ
ットを通り底壁面に平行な方向に流体通路をつくるよう
に配置された複数の穴を有している。本発明の一実施例
においては、カセットはさらに底壁、側壁の穴上に配置
された多孔質材料のウエブを有している。カセットは積
層された関係で置かれたとき、積層カセットの底壁は下
側カセット用のカバーを与える。
Description
サンプルの準備に関し、さらに詳しく言えば、顕微鏡試
験の準備のさいにパラフィン等に組織サンプルを埋め込
む前の組織サンプルの処理装置に関するものである。
めの標準手続は、組織サンプルをパラフィン中に埋め込
み、そして、ミクロトームによってパラフィン埋込み組
織サンプルを非常に薄く切断することを含んでいる。組
織サンプルを埋め込む前に、組織サンプルは、試験に適
した種々の溶液中に予備処理される。代表的には、パラ
フィン埋め込み前に、組織サンプルは溶融パラフィンに
よって固定され、脱水され、洗浄され、浸透され、そし
て、試験にもとづいて染められる。このような組織サン
プルの前処理は、エタノール、ジレン、フォルムアルデ
ヒド、水を含む種々の流体に組織サンプルを接触するこ
とを要求する。
ンプルを処理し、また、組織はできるだけ効率的に準備
されることが重要である。多種の装置が、準備工程の効
率を改良するように開発されてきた。米国特許第3,6
74,396号は、組織サンプルが種々の溶液にさらす
ことによって埋め込むために準備され、かつ、カプセル
内に埋め込まれるカプセルを開示している。該特許は、
組織サンプルがその準備のために必要な種々の流体に静
的にさらされる。そのカプセルにおいては、穴明き底壁
が、種々の溶液の組織サンプルに、最終的には溶融パラ
フィンに接近させながら、組織サンプルを保持するよう
に用いられる。
第4,569,647号は、組織試験用組織サンプルを
準備しかつ埋め込むための改良された装置を開示してい
る。前者の特許においては、1対のインターロック・フ
レームを有する組織処理カプセルが設けられる。各フレ
ームは、ウエブ間に分割された領域内で組織標本を保持
するための中央開口を横断して広げられた多孔ウエブを
有している。多孔ウエブは流体の処理および浸透によっ
て標本に接近させる。組織標本が処理された後に、それ
はカプセルから除去され、鋳型の凹部に置かれる。空の
カプセルは、組織標本を収容する鋳型凹部上に置かれ
る。溶融パラフィンが鋳型内に注入されて、凹部を満た
し、かつ、組織標本およびカプセルの多孔質材料を被覆
する。溶融パラフィンが、外方に延びる組織含有部分用
の突固め可能ベースとして働くカプセルによって組織ブ
ロックを成形するように凝固する。
標本を処理するように用いられる流体と組織標本と接触
させる改良された方法を開示している。この特許におい
ては、組織サンプルを処理しかつ埋め込むためのカプセ
ルは、組織サンプルを受けるための空所を与える鋳型を
有している。鋳型は、上端および多孔または無孔底を有
している。カプセルは、鋳型の開口上端に嵌合するカバ
ーを有している。カバーは、それが凹部を設けられるよ
うに、フレームの上部と底部との中間に多孔質材料のウ
エブを配置されたフレームを有している。多孔ウエブ
は、組織処理液体およびパラフィンのような液状組織埋
め込み材料に接近を与えるが、しかし、発生されてもよ
い組織標本の小部分の通過を防止し、これにより、個々
にカプセル化されかつ一体に処理された組織サンプルの
横断汚染を防止する。組織サンプルが液状流体によって
処理された後に、埋め込み材料が凝固するときに、多孔
ウエブが埋め込まれ、凝固材料が鋳型内のブロックに成
形されるように、多孔ウエブ上のカバー凹部が溶融パラ
フィン埋め込み材料によって少なくとも部分的に充填さ
れる。多孔ウエブと組織サンプルとを凝固パラフィンの
ブロック内に相互に埋設した状態でブロックが鋳型から
取り去られ、カバーがミクロトーム内に取り付けられ、
ミクロトーム・ブレードによって切断される。
例においては、カプセルが積層を成形するようにつくら
れ、鋳型が埋設パラフィンに粘着しない多孔底を設けら
れている。積層カプセルが、その上下に垂直な方向に処
理流体の通路をつくるように、鋳型およびカバー・フレ
ームによって画定される上下に延びる通路を与える。積
層カプセル内に保持された組織サンプルは、積層カプセ
ルによって成形された通路を通して溶液を流すことによ
って処理される。溶融パラフィン埋設材料は、積層カプ
セルに最終的に導入される。積層体が分離されたとき、
各組織サンプルが各カバーに取り付けられる材料のブロ
ック内に埋め込まれる。
つ埋設するための方法および装置は、長年にわたって進
歩してきたが、組学研究所によって毎日準備される多数
の組織サンプルは、処理されうるサンプルの数を増加さ
せるのに有用な最も効率的な技術を要求する。
種々の要求された流体によって流体の標本の処理効率を
増加させる組織学的試験用の組織標本の処理に用いるカ
セットを得ることにある。
数の組織標本の同時処理用の装置を得ることにある。
するために用いられ、また、組織埋め込みおよび切断の
最終段階においてカセット要素を処理するための経済的
使用のさいに用いられる種々の試薬を再生する組織処理
液用の連続流システムおよび往復流システムを提供する
ことにある。
用の多数の組織標本を準備するための積層自在カセット
および装置に関するものである。カセットは、空所を画
定する底壁、2つの側壁、前方壁、後方壁を有してい
る。底壁は、カセットを通って底壁面に垂直な方向に流
体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。後方壁、2つの側壁、前方壁から選択された少なく
とも2つの壁は、カセットを通り底壁面に平行な方向に
流体通路をつくるように配置された複数の穴を有してい
る。本発明の一実施例においては、カセットはさらに底
壁、側壁の穴上に配置された多孔質材料のウエブを有し
ている。カセットは積層された関係で置かれたとき、積
層カセットの底壁は下側カセット用のカバーを与える。
組織標本の同時準備装置を含んでいる。その装置は共同
積層自在の複数のカセットからできている。各カセット
は上述した特徴を有している。積層配列中の各上積みカ
セットの底壁は、各下積みカセット用の頂壁またはカバ
ーを与える。積層カセットは、下積みカセットの底壁と
上積みカセットの底壁とによって画定される上部から下
部まで延びる通路を与える。カセットの積層は、その積
層カセットを通る流体の通路用の複数の穴を明けたカバ
ーで終了している。積層カセット内に保持された組織標
本は、カセットの底壁面に垂直でかつ積層カセットによ
って成形された通路を通って流れる溶液によって処理さ
れる。積層カプセルは、底壁の面に垂直に延びる一連の
通路を与え、これによって、溶液は底壁に平行な方向に
カセットを通過されてもよい。カセットの両側に成形さ
れた穴は、カセット内の標本と流動溶液との十分な接触
を助成する格別の特徴を有している。
われるか、または、カセットが一旦積層フレーム中に配
置されてしまうと、バッチ・システムにおいて行われて
もよい。
理および埋め込みを行うために、連続積層体13に積み
上げられた複数のカセット11が示されている。一体に
積み重ねられたとき、カセットは底壁面に垂直な連続通
路を集合的に画定する。図1に示すように、カセット1
1は底壁17、前方壁19、後方壁21、2つの側壁2
3からできている。後方壁21、前方壁19、側壁23
から選ばれた少なくとも2つの壁には、底壁面に平行な
方向にカセットを通る流体の通路のための複数の穴を設
けられている。好ましくは、穴明けされた選択壁は、前
方壁19と後方壁21または2つの側壁23から選択さ
れた対向壁である。
る。図1,2に示す実施例においては、後方壁21およ
び前方壁19には穴27を設けられ、両側壁23および
後方壁21には穴29を設けられている。
1、側壁23の各々の頂部が壁部分からずらされて、壁
を包囲する積層フランジをつくる。カセットが上下に互
いに積み重ねられたとき、カセットは積層フランジによ
って確実に重ねられる。
積層フレームが図4に示されている。積層フレーム31
がベース33と、仕切り部35とを有している。仕切り
部35は側壁37と後方壁39とを有している。スロッ
ト41は後方壁39内に設けられる。スロット41の機
能は後述する。ベース33はその下の位置から流体の流
れのためのスリット43の形体の開口または他の適当な
形式の穴を含んでいる。
受けるのに適した寸法の凹部44を有する。一連のカセ
ットは、ベース33から上方に作動配列に重ねられる。
カバー・プレートは最上カセット上に置かれる。カバー
・プレート45は流体通路用の穴47を含んでいる。カ
バー・プレート45の下面は多孔質材料で被覆されてい
る。カバー・プレート45は、カセットの積層配列に安
定性を与えるように仕切り部35の後方壁のスロット4
1に係合するように用いられる舌49を有している。ロ
ック・ハンドル51は、カバー・プレート45とカセッ
トの積層を定位置にロックするように設けられる。ロッ
ク・ハンドル51はスタッド53とカム55とを有して
いる。スタッド53は、仕切り部35の側壁37から切
断される適当な半円形支持面52に係合される。ハンド
ルが下降されたとき、カム55がカバー・プレート45
に対して下方推進圧力をつくる。
れているように、多孔質材料はカセット11の底壁およ
び直立穴明け壁上に置かれうる。多孔質材料は、カバー
・プレート45の穴上に置かれてもよい。組織サンプル
が処理されつつあるときに多孔質材料が用いられる。こ
のことは、カセット11の穴またはカバー・プレート4
5の穴を通過するのに十分に小さい寸法につくられてい
る組織サンプルの一部を生じる。多孔質材料は、液体を
容易に通過させるが組織の一部を保持する多孔繊維、好
ましくは不織のものである。多孔材料は、約5ミクロン
の最大小孔寸法で約35%と約65%との間の多孔性を
有する繊維である。好ましい繊維は、Monsanto
によって商標「Cerex」で販売されている不織ナイ
ロンである。
され、そして、ハンドル51によって定位置に止められ
た後に、複数のカセットが処理の準備を整える。カセッ
トの装着は多数の現存する処理技術によって処理される
のに適している。例えば、カセットの装着積層が図8に
示すように作業コンテナ59に置かれうる。カバー61
はカセットの装着積層を入口63と出口65とを通して
与えられる流体の流れによる処理のために定位置に包囲
するコンテナに設けられる。代案として、カセットの装
着積層はAmes Lab VIPプロセッサのような
水平のプロセッサ内に置かれうる。水平位置において
は、流体はカセットの垂直壁の穴を通るカセット11の
底壁に平行な方向の通路に適している。
示されている。これらの図面に示すように、穴は側壁、
前方壁、後方壁のすべてに、格別の特徴を有する細長く
垂直に配置されたスロットの形体で成形される。この実
施例においては、細長いスロットの少なくともいくつか
が壁の面に関して角度を付けて整列される。後方壁21
および前方壁19のスロットは後方壁の面に関して角度
Aになっている。スロットはある方向にすべて整列され
てもよい。好ましくは、図2の上方から見たとき、前後
方壁の左側のスロットはカセットの右側に対向する角度
で配置される。右側のスロットは、カセットの左側に対
向する角度で配置される。逆向き、すなわち、右に整列
された右手スロットと左に整列された左手スロットが有
用である。側壁23のスロットは、カセットの前方壁ま
たは後方壁に対面するか、または後方壁のスロットにつ
いて述べたように分割整列を有してもよい角度Bになっ
ている。角度AおよびBは格別に厳密ではないが、これ
らの角度は約5度から約45度の範囲内にある。角度付
きスロットを設けることによって、渦巻きまたは乱流運
動が流体に与えられて、流体がカセット11の底壁17
に平行な方向に通過するさいに、カセット内でその流体
が与えられている。
1,12に示されている。この実施例においては、別個
のロック・カバー85が各カセットについて設けられて
いる。この別個のロック・カバーを設けることによっ
て、積層フレームを用いずに単独のカセットの個々の取
扱いを許す。カバー85は、カセットの前方でチャネル
93を介して挿入されるロック・タブ91から有してい
る。ロック・タブ91はロック位置にあるロック凹部9
7に係合される外方に延びるチップ95を有している。
ロック・タブ91は、それがチャネル93に挿入された
ときに、チップ95がチャネル93の前方壁から離れる
ようにロック・タブを押し付ける弾性材料からできてい
る。チップ95は、上向き圧力がハンドル99に加えら
れたときに、カバー85の非係合を許す湾曲形状を有し
ている。カバー85は、前述したように、カセットを通
る流体の流れを許す穴101を設けられている。カバー
85はカバーの周囲に延びる積層フランジ86を与える
ようにカセットと同じオフセット形状を有している。こ
れは、カバーの有無カセットが混ぜた不規則の配列に積
層されうるように本発明のカセットの使用のさいに極端
な融通性を許す。
に特別に適した一形式の処理装置は、洗浄機械式作用を
与えるものである。フレーム31にロックされた後の積
層カセットはコンテナ内に置かれる。コンテナは適当な
処理流体を設けられ、また、コンテナは180度一方方
向に回転させることによってただちに続く他方の方向に
180度回転するようにされる。このような運動は底壁
17に平行な処理流体の流れの成分を与え、また、本発
明のカセットの両処理特徴を利用する底壁17に垂直な
流れの成分を与える。
本67はステーション1においてカセット11内に置か
れる。組織標本67はミクロトーム切断に最も適した方
向にカセット内で動かされなくなったままで、また、低
密度のポリウレタンのようなスポンジ材料のブロック
(図示せず)が各組織サンプル上に置かれる。カセット
のラベル貼付領域69が図1に示すようにマークを付け
られ、また、その領域69が前方壁19から延びる傾斜
面上にある。前方壁19から延びる傾斜面69はカセッ
トを積層配列に把持しかつ配置することを助成する。傾
斜面69はラベル貼付の目的で大きい面を与える。
に重ねられ、また、ステーション2に示すように、カバ
ー・プレート45およびロック・ハンドル51を用いて
定位置に止められる。カセットの装着された積層がステ
ーション3に示すように往復式の処理室に置かれるか、
または、ステーション4に示すように適当な流体の連続
通路用のコンテナ59内に置かれてもよい。ステーショ
ン5において、一連の処理試薬が標本の処理用の往復コ
ンテナに置かれる。カセットは、ステーション6,7に
示すように、積層フレームから取り除かれる。標本67
はカセットから取り除かれ、ステーション8において鋳
型73の凹部71に置かれる。パラフィン溜め(図示せ
ず)からの溶融パラフィンが凹部71に置かれる。溶融
パラフィンの硬化前に、標本が取り除かれたカセット1
1が標本67に関して重なって鋳型173の受け部分に
置かれる。追加の溶融パラフィンが、それが硬化したと
きにカセットを標本にただちに嵌合されるようにカセッ
ト11の上面に注がれる。取り付けられた標本を有する
カセットが鋳型から取り除かれ、そして、カセットを保
持するチャック75と、1つの組織標本67を組織部分
79に切断するミクロトーム・ブレード77とを有する
ステーション9としてミクロトーム切断部分に伝達され
る。
10に示すように、組織の切断部分はガラス・スライド
81上の温水浴における処理、試薬82による処理、お
よび周知の組織技術にもとづいて第2ガラス・スライド
83による被覆によってさらに処理される。
されうるであろう。組織サンプルの埋設および切断によ
る定着から組織サンプルが完全に処理されるカセット
は、単純で安価である。カセットは2つの方向に処理液
の流通を与えて、同じ溶液で処理された組織サンプルの
横断汚染に対して完全な保証を与えながら、組織標本に
対して処理流体のより効率的な接触を促進させる。カセ
ットは個々のカセットのための上カバーを与える必要性
を排除して重ねることができる。カセットは最小容量の
溶液で組織標本を処理し、かつ、最小容量のパラフィン
で標本を埋め込むことができる。積層カセットが特に適
用できる液体流システムはほとんど習熟時間を必要とし
ない。必要に応じて、組織サンプルはカセット内で染め
られることもできる。
フレームの斜視図である。
複数のカセットを示す。
方法の操作に用いる室内に置かれた図1の複数のカセッ
トの斜視図である。
線図である。
の別の実施例の斜視図である。
部分を示す部分破断図である。
部分を示す部分破断図である。
9:前方壁、21:後方壁、23:側壁、27:穴、2
9:穴、31:積層フレーム、35:仕切部、41:ス
ロット、33:ベース、45:カバー・プレート、5
1:ロック・ハンドル、53:スタッド、55:カム、
59:作業コンテナ、61:カバー、85:ロック・カ
バー、91:ロック・タブ、97:ロック凹部、86:
積層フランジ、67:組織標本、69:ラベル貼付領
域、77:ミクロトーム・ブレード。
Claims (22)
- 【請求項1】 底壁、2つの側壁、前方壁、後方壁を有
する開口頂部コンテナからなり、前記底壁は該底壁の面
に垂直な方向にカセットを通る流体通路をつくるように
配置された複数の第1穴を有し、前記後方壁、側壁、前
方壁のうちの少なくとも2が複数の第2穴を有し、該第
2穴は前記底壁の面に平行な方向にカセットを通る流体
通路をつくるように配置された垂直方向に細長くされた
スロットであり、前記スロットのうちの少なくともいく
つかが前記壁の面に角度を付けて配置されて渦巻き運動
をカセットを通る流体の通路中に前記流体に与え、組織
試験用標本の準備に用いる積層自在カセット。 - 【請求項2】 前記スロットのすべてが該スロットが配
置される各壁の面に角度を付けて配置されていることを
特徴とした請求項1に記載のカセット。 - 【請求項3】 前記第2穴が前記後方壁と前記前方壁に
配置されることを特徴とした請求項1に記載のカセッ
ト。 - 【請求項4】 前記第2穴が前記側壁の配置されること
を特徴とした請求項1に記載のカセット。 - 【請求項5】 前記第2穴が前記後方壁、前方壁、側壁
のすべてに配置されていることを特徴とした請求項1に
記載のカセット。 - 【請求項6】 前記後方壁および前記前方壁の前記角度
付きスロットが角度Aで配置されていることを特徴とし
た請求項5に記載のカセット。 - 【請求項7】 前記角度Aは5度から45度であること
を特徴とした請求項6に記載のカセット。 - 【請求項8】 前記側壁の前記第2穴の少なくともいく
つかが角度Bで配置されていることを特徴とした請求項
5に記載のカセット。 - 【請求項9】 前記角度Bは5度から45度であること
を特徴とした請求項8に記載のカセット。 - 【請求項10】 多孔質材料が穴の少なくともいくつか
の上に置かれることを特徴とした請求項1に記載のカセ
ット。 - 【請求項11】 複数の穴を明けたカバーを有し、該カ
バーがカセットにロック関係に配置されうるようになっ
ていて標本の個々の処理のために閉鎖カセットを与える
ことを特徴とした請求項1に記載のカセット。 - 【請求項12】 前記カバーは該カバーの頂部にカセッ
トの重積を許す包囲円周フランジにオフセット凹部を有
することを特徴とした請求項11に記載のカセット。 - 【請求項13】 複数の共同の積層自在のカセットを有
し、各カセットは底壁、2つの側、前方壁、後方壁を有
し、重ねられた各上のカセットが各下のカセット用の頂
部壁を与え、前記底壁は該底壁の面に垂直な方向にカセ
ットを通る流体通路をつくるように配置された複数の第
1穴を有し、前記後方壁、側壁、前方壁のうちの少なく
とも2が複数の第2穴を有し、該第2穴は前記底壁の面
に平行な方向にカセットを通る流体通路をつくるように
配置された垂直方向に細長くされたスロットであり、前
記スロットのうちの少なくともいくつかが前記壁の面に
角度を付けて配置されて渦巻き運動をカセットを通る流
体の通路中に前記流体に与え、組織学的試験用の多数の
組織標本の同時準備装置。 - 【請求項14】 前記第2穴が少なくとも前記後方壁と
前記前方壁に配置されることを特徴とした請求項13に
記載の装置。 - 【請求項15】 前記第2穴が少なくとも前記側壁に配
置されることを特徴とした請求項13に記載の装置。 - 【請求項16】 前記角度付きスロットが少なくとも後
方壁および前記前方壁に配置され、上から見て前記両壁
の左側にある角度付きスロットが前記カセットの右側に
対向する角度Aで配置され、前記両壁の右側の角度付き
スロットが前記カセットの左側に対向する角度Aで配置
されていることを特徴とした請求項13に記載の装置。 - 【請求項17】 前記角度Aは5度から45度であるこ
とを特徴とした請求項13に記載の装置。 - 【請求項18】 前記側壁の前記第2穴の少なくともい
くつかが角度Bで配置されている細長い垂直スロットで
あることを特徴とした請求項15に記載の装置。 - 【請求項19】 前記角度Bは5度から45度であるこ
とを特徴とした請求項18に記載の装置。 - 【請求項20】 積層ロック配列に複数の積層自在のカ
セットを保持するための積層フレームを有することを特
徴とした請求項18に記載の装置。 - 【請求項21】 カセットの積層の最上に複数の穴を明
けたカバーを有していることを特徴とした請求項20に
記載の装置。 - 【請求項22】 前記カセットの積層のうちの中間のカ
セットの少なくとも1つがロック・カバーを設けられて
いることを特徴とした請求項21に記載の装置。
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