JP3152897B2 - 半導体装置製造工程用超純水の製造のための殺菌組成物及びこれを利用した超純水製造装置の殺菌方法 - Google Patents
半導体装置製造工程用超純水の製造のための殺菌組成物及びこれを利用した超純水製造装置の殺菌方法Info
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- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 title claims description 104
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 70
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims description 70
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 51
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 49
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 110
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 98
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 67
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 claims description 24
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 claims description 17
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 15
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 57
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 10
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 6
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 2
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 2
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001332 colony forming effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000001048 orange dye Substances 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- -1 oxidizing ag ents) Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002306 Glycocalyx Polymers 0.000 description 1
- 241000191938 Micrococcus luteus Species 0.000 description 1
- 241000589516 Pseudomonas Species 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004443 bio-dispersant Substances 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000030414 genetic transfer Effects 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 210000004517 glycocalyx Anatomy 0.000 description 1
- 230000000415 inactivating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 231100000957 no side effect Toxicity 0.000 description 1
- 235000016709 nutrition Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
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Description
造のための殺菌組成物及びこれを利用した超純水製造装
置の殺菌方法に関するもので、より詳しくは過酸化水素
と過酢酸の混合物でなる殺菌組成物と、この殺菌組成物
と熱水を利用して半導体装置製造工程用超純水製造装置
を殺菌する方法に関するものである。
工場のような清浄産業は、非常に厳しい程度の高純度の
純水として、超純水(Ultrapure Water)又は脱イオン
水(Deionized Water)などの使用を要求している。
オン水の重要性は、半導体装置製造工程中洗浄工程のよ
うに処理中のウェーハが相当な時間水の中で処理される
場合を例としてあげられるし、これは単一工程としては
空気以外でとても多くの時間ウェーハが露出された状態
を維持する工程である。
用される水は超純水でなければ、水中の水溶性鉱物、不
純物の粒子及びバクテリアなどの汚染物質が相当溶解又
は分散されているのでそれ自体が一つの汚染源になり得
る。
製造装置などによって超純水又は脱イオン水などに高度
に精製されて使用されなければならないし、一旦精製さ
れた徴純水は超純水配管を通じて他の汚染源などに露出
されることなく超純水が使用される所まで供給されなけ
ればならない。
物、不純物の粒子などは物理的な篩(Sieve)による濾
過(Filtering)、逆浸透圧法(Reverse Osmosis)によ
る濾過、活性炭(Active Carbon)の層を通過する濾
過、脱気(Degassing)、イオン交換(Ion Exchange)
によるイオンの吸着などのいくつかの方法と装置など及
びこれらの組み合わせを使用してきた。
のために紫外線照射(Ultra-violetRadiation)による
殺菌などの方法を並行して使用してきた。このような超
純水や脱イオン水の製造は当該技術分野で熟練された物
には適切な装置などを常用的に購入して使用できるくら
いに公知されるものと理解され得る。
イオンなどとは違って、微生物の場合、所定の水準まで
の殺菌や滅菌を通しての除去は可能であるが、完全除去
が不可能で、無菌状態に完全殺菌したとしても一般大気
中やその他によりいつでも再汚染が可能で、一旦再汚染
されると、水中の各種の栄養物質などを利用して増殖で
きるので単純な細胞数の減少は微生物の源泉的除去には
影響を与えない。特に他の汚染物とは、その除去が異な
るように取り扱われなければならないということは明ら
かなことである。
よりは微生物の増殖に後続する生物膜(Biofilm)の形
成及びそれによる微生物沈殿(Biofouling)で移行され
る漸進的なメカニズムが問題になる。
液体の界面、即ち基底(substratum)の表面で付着成長
する微生物群集及びこれらが分泌した体外の複合物(EP
S;Extracellular Polymeric Substances)の集合体が
形成されたゲル(gel)上の膜を指すことで、その大部
分が水で(湿潤総量の70ないし95重量%)、水を除去し
た乾燥重量の大部分が有機物(乾燥総量の70ないし95重
量%)の膜である。
いる形態であると知られているし、生物膜の化学的組成
は生物膜内の微生物の種類と環境条件によって異なるこ
とができるが、主に多糖類と構成されている。この生物
膜の主な構造的及び機能的な役割を生物膜が担当してい
てグリコカリックス(Glycocalyx)という名前で呼ばれ
たりもする。
に均一に形成されたり、また、極一部表面でのみパッチ
タイプ(Patchy)として表れたり、その厚さは比較的薄
く最大で数百μm程度である。このような生物膜はまた
水中の溶存酸素の拡散を妨害するので、生物膜の厚さが
約50ないし150μmになると嫌気性になり、嫌気性微生
物が生存することができる環境を提供するようになる。
いくつかの種類の微生物としてなっており、同時に場所
と時間によってこのような微生物の種類が変わるので異
質性(Structural Heterogenelty)を示すが、これらの
微生物などが一つの共同体(Microconsortia)を形成し
て同一の機能を表すことで機能的には同質性(Function
al Homogenelty)を示すものと整理され得る。
に環境要因が劣悪な極限環境に適応できる一つの生物学
的器具として考えられているし、例えば、空の栄養の水
系に溶存されている微量の栄養素を蓄積する機能、短期
間のpH、塩、殺菌剤、脱水などのような環境要因の変化
に対する耐性を有する機能、生物膜に成長する微生物の
間の遺伝的交換が行われることができる場所(Pool)と
しての機能及び多様な機能などを有する様々な微生物な
どが共生することで難分解性物質の分解のような新しい
生態的地位(Ecological Niche)を有する微生物共同体
の形成機能などを有することであると明らかになった。
する水において、水の残存時間(Residence Time)が微
生物の増殖時間(大略貧しい栄養状態で2時間程度)よ
り短いので、超純水又は脱イオン水自体での微生物の成
長は品質管理(Quality Control)に影響を与えないも
のと考えられ、従って、品質管理の次元での微生物管理
の主要因子などは主に超純水製造装置、超純水配管シス
テム、生産ライン又は半導体製造工程中の半導体素材の
表面に成長する生物膜などがあげられる。
物膜が生成されるという事実は非常に注目すべきこと
で、特に日々集積度が高くなっている半導体装置の生産
では非常に重要に考慮されるべき事項である。
に低くても、生物膜上の微生物の数は107ないし1011cel
ls/ml生物膜量(Biofilm Mass)でとても高い数値を示
していることは注目すべきことである。
々に脱着され有機炭素の汚染源として作用し、従って水
中の微生物の除去は勿論超純水製造装置や超純水配管内
に形成された生物膜の除去もやはり非常に重要に考慮さ
れなければならない。
るとても一般的な方法としては、殺菌剤(Biocide)を
処理することではあるが、前記のような生物膜の存在な
どによって単純な殺菌や滅菌では根元的な問題解決が行
われないし、たとえ生理活性を失った微生物であっても
ある微生物は物体の表面に吸着される性質を有してい
る。
物などの養分、又はこれらの新しく流入される微生物が
付着されて着生できる表面に作用して新しい生物膜が形
成される根拠として作用できるからである。
生物膜もまた異なる新しく流入された微生物などの養分
として、又はこれらの新しく流入される微生物などが付
着されて着生できる表面として作用するのでやはり問題
になり得る。
クス(matrix)を形成するので一般的に単独に浮遊する
浮遊微生物に比べて殺菌が難しい。
遊する微生物の数に関係なく一定の遷移過程を経るし、
生物膜の量と微生物上に影響を及ぼす因子としては栄養
分の種類と量、水の剪断力(shear force)などがあげ
られる。
が、生物膜をなす微生物菌体を除去することは一般的に
さらに難しくまた重要なものと考慮される。
除去するために考慮されなければならない2段階の除去
方法は次のようである。一つ目は、生物膜マトリックス
を弱化させるための段階として、酸化剤(oxidizing ag
ents)、生物学的分散剤(biodispersants)、界面活性
剤(surfactants)及び酵素など化学的方法を利用して
物体の表面と生物膜マトリックスの間に作用する引力を
弱化させる段階である。この時注意する点はこのような
化学的処理方法が処理しようとする対象である物体に影
響を与えないということである。
的方法(Mechanical Methods)、超音波エネルギーの適
用(Application of Ultrasonic Energy)などの物理的
方法を利用して処理対象である物体の表面から生物膜を
含む微生物の沈殿を除去する段階である。
化学的殺菌剤の特性は次のような条件を満足しなければ
ならない。
を効率的に除去しないと逆に微生物の再成長が速く進行
され得る。
自体が迅速に除去されることができること。もしそうで
ない場合、殺菌剤自体が汚染物として作用し得る。殺菌
剤の除去効率性はまた経済的な面でも必須的で、殺菌剤
の除去は殺菌剤が処理された超純水で装置やパイプライ
ンなどを洗浄することからなり、残存する殺菌剤の濃度
のオンーライン(on-line)測定が可能であることが望
ましい。
が処理される全てのシステムの構成成分などに物理的及
び/又は化学的損傷を与えないということは当然なこと
である。
容易で、また、安定なものが望ましい。
足する化学的殺菌剤として一般的に過酸化水素(Hydrog
en Peroxide)が広く使用されている。
殺菌方法は本願発明の出願人である三星電子の半導体製
造工場、日本国三菱セミコンダクターオブアメリカイン
コーポレート(Mitsubishi Semiconductor of America
Inc.)など半導体製造工場で一般的に使用される微生物
殺菌方法として広く知られている。
ては殺菌後、残存する過酸化水素が水と酸素に分解され
るので過量の過酸化水素の使用時にも残存物による汚染
がなく、パイプラインの腐食のような副作用がないとい
うことである。過酸化水素処理時、処理温度と濃度が高
いほど殺菌効果は増大され得る。
傷を与える危険性が増大され、配管から有機又は無機物
などが溶出また、沈出されて出る可能性があるので一般
的には約25℃程度で殺菌が行われる。
増加を招来することは勿論、処理後の過酸化水素の除去
に多くの時間がかかり、過酸化水素と微生物をなす有機
物との反応時に生成されるガスなどの影響などを理由と
して主に1%程度の低濃度の過酸化水素を使用して殺菌が
行われる。
る殺菌方法は既に多くの半導体製造工場で使用されては
いるが、前述したように、パイプライン中の微生物の殺
菌のための過酸化水素の処理において、その処理濃度、
処理時間及び処理周期など一般的な半導体製造工程で要
求される一定の水準の殺菌のための管理において殺菌方
法の標準が全く無かった。
社内でも各製造ライン別に殺菌基準を異なるようにしな
ければならない実態であり、前記のような過酸化水素の
使用による通常の殺菌によっても微生物の完全滅菌が行
われなく殺菌処理後再増殖の要因として作用するなど一
次的な洗浄効果(殺菌効果)のみを現すことが確認され
た。
純水を供給する超純水製造装置として図3に概略的に示
した超純水製造装置及び超純水配管の、各部での殺菌効
果をAODC法(Acridine Orange Direct Count;アクリデ
ィンオレンジ染料を使用して微生物のコロニを染色した
後、光学顕微鏡を通じた肉眼で直接コロニの数を計数す
る方法)で測定して計数し、cfu(colony forming uni
t)の単位で次の表1に示した。
2は熱交換機、13は紫外線殺菌機、14は有機物ポリ
シャー、15は混成ポリシャー、16は限外濾過フィル
タである。
水素の処理のみでは完全な殺菌が行われないし、これは
微生物を含む生物膜の完全な破壊及びその内部の微生物
の殺菌が不十分であると考えられるし、殺菌初期にはあ
る程度殺菌効果を期待することができるが、殺菌処理後
3ヶ月以内に殺菌前に比べて微生物の数が増加すること
が確認できた。
に対する洗浄周期が短くなって頻繁な殺菌作業が行われ
なければならないという問題点があった。
去が難しいし、イオン交換樹脂の化学的特性上イオン交
換樹脂を含むポリシャー(Polisher)内に残存するバク
テリアを殺菌、除去できないという問題点があった。
内の微生物の殺菌はより困難であったし、特に環境悪化
によって生物膜の周囲には生物膜を保護する保護膜がも
っと形成されることができるし、このような保護膜の形
成はその内部の生物膜の除去は勿論その内部の微生物の
殺菌をより難しくする問題点があったし、このような理
由で単純な過酸化水素による完全な殺菌は殆ど不可能で
あるという短所があったし、それによって一定時間周期
で反復して殺菌処理をするという問題点があった。
このような高集積化された半導体装置の製造のための清
浄技術の重要性がさらに増大され、微生物による有機汚
染物の発生も一定の水準以上に厳しく管理する必要があ
るし、また、時間的損失を最少化しながら最適の効果が
得られる新しい殺菌方法の開発が要求されている。
純水の製造のための殺菌組成物を提供することにある。
の混合物でなされた殺菌組成物と熱水を利用した半導体
装置製造工程用超純水製造装置の殺菌方法を提供するこ
とにある。
の本発明による半導体装置製造工程用超純水の製造のた
めの殺菌組成物は、殺菌組成物が0.3ないし0.7重
量%の過酸化水素と0.03ないし0.07重量%の過
酢酸及び残量として脱イオン水を混合してなる。
酸化水素と0.05重量%の過酢酸及び残量としての脱イオ
ン水を混合してなる。
製造装置の殺菌方法は、純水供給タンク、熱交換機、紫
外線殺菌機、有機物ポリシャー、混成ポリシャー及び限
外濾過フィルタを含めてなる超純水製造装置中の、前記
有機物ポリシャーと混成ポリシャーに熱水を供給して、
当該有機物ポリシャーおよび混成ポリシャーを殺菌する
熱水殺菌段階と、前記超純水製造装置中の純水供給タン
ク、熱交換機、紫外線殺菌機及び限外濾過フィルタに殺
菌剤を含む純水を循環させて、当該純水供給タンク、熱
交換機、紫外線殺菌機及び限外濾過フィルタを殺菌する
殺菌剤殺菌段階とを備え、前記殺菌剤殺菌段階に使用さ
れる殺菌剤に、0.3ないし0.7重量%の過酸化水素
と0.03ないし0.07重量%の過酢酸及び残量とし
て脱イオン水を混合してなる殺菌組成物が使用される。
前記殺菌方法は60分以上進行することが望ましい。
された超純水配管にまで適用されることができる。
の過酸化水素と0.05重量%の過酢酸及び残量として
脱イオン水を混合してなる。
は26ないし40℃に加熱された純水が使用され得るし、望
ましくは28ないし34℃で加熱された純水が使用され得
る。
純水製造装置の殺菌方法は、前記熱水殺菌段階を、前記
殺菌剤殺菌段階に先行して行うことを特徴とする。
例を添付した図面を参照に詳しく説明する。まず本発明
を要約すると、本発明は過酸化水素と過酢酸の混合物か
らなる殺菌組成物とこの殺菌組成物と熱水を利用した半
導体装置製造工程用超純水製造装置を殺菌する方法及び
殺菌組成物と熱水によって殺菌される半導体装置製造工
程用超純水製造装置に関し、本発明は過酸化水素、過酢
酸及び脱イオン水を含む殺菌組成物と、殺菌剤殺菌段階
と熱水殺菌段階を備える殺菌方法と、純水供給タンク1
1、熱交換機12、紫外線殺菌機13、有機物ポリシャー1
4、混成ポリシャー15、限外濾過フィルタ16、前記有機
物ポリシャー14と混成ポリシャー15などを迂回するよう
に配管されたポリシャー迂回管22及び前記有機物ポリシ
ャー14と混成ポリシャー15に熱水を供給するポリシャー
用熱交換機21を備える超純水製造装置を提供するもので
ある。
成物の使用及びこのような殺菌組成物と熱水による超純
水製造装置及び超純水配管の殺菌で完全な殺菌効果を得
られるし、また最少6ヶ月以上、少なくとも10ヶ月以上
殺菌効果が維持され頻繁な殺菌処理の必要性を顕著に低
減させる効果を得ることができるものである。
の製造のための殺菌組成物は過酸化水素、過酢酸及び脱
イオン水を混合してなることを特徴とする。
解時に発生する発生期酸素による強い酸化性及び殺菌性
を示す物質として、有機物質を酸化することができる物
と知られているし、特に生物膜が形成された超純水製造
装置や超純粋配管に形成された生物膜の酸化時、酸化に
よる剥離作用で生物膜を除去する役割をする。
などの効果を有する。また、前記過酸化水素は金属イオ
ンを含まないし、簡単に洗浄され、分解によって生成さ
れる副産物が酸素と水であるので再汚染の問題を残さな
い。
(Peracetic Acid)は無水酢酸に過酸化水素及び硫黄を
加えて作るか酢酸コバルトの存在下に紫外線を照射しな
がらアセトアルデヒドと酸素から作られるし、強い殺菌
剤などから利用されるもので、特に分解生成物の中の一
つである酢酸(Acetic Acid)は生物膜を保護する保護
膜を構成する炭酸塩を除去する役割をするものと考慮さ
れている。
なる本発明による殺菌組成物は、それぞれ強力な殺菌力
を示す過酸化水素と過酢酸の混合によって殺菌力が増大
され、これらの分解によって放出される発生期酸素によ
る有機物、特に生物膜に分解及び脱着効果が優秀で、さ
らに過酢酸の分解生成物である酢酸が生物膜を保護する
保護膜を構成する炭酸塩を溶解させるので、特に生物膜
の内部に存在して容易に殺菌されない微生物までも完全
に殺菌できるという特徴を表すことになる。
過酸化水素と0.01ないし0.2重量%の過酢酸及び残量とし
て脱イオン水を混合してなり得る。ここで過酸化水素の
含量が0.3重量%未満になる場合には短時間内に十分な殺
菌効果を得ることができないかもしれないし、1.0重量%
を超える場合、殺菌後の過酸化水素の除去に多くの時間
が所要されるという問題点があり得るし、過酢酸の場合
にも類似な問題点がある場合がある。
酸化水素と0.05重量%の過酢酸及び残量として脱イオン
水を混合してなることも可能である。
製造装置の殺菌方法は、図1に示したように本発明の一
実施例による超純水製造装置を基準に純水供給タンク1
1、熱交換機12、紫外線殺菌機13、有機物ポリシャー1
4、混成ポリシャー15及び限外濾過フィルタ16などを含
めてなる超純水製造装置の中の有機物ポリシャー14と混
成ポリシャー15に熱水を供給してポリシャーなどを殺菌
する熱水殺菌段階と前記超純水製造装置中の純水供給タ
ンク11、熱交換機12、紫外線殺菌機13及び限外濾過フィ
ルタ16などに殺菌剤を含む純水を循環させ殺菌する殺菌
剤殺菌段階でなることを特徴とする。
成物を含む一般的な殺菌剤などの使用による殺菌を意味
することに理解され得るし、当該技術分野で通常の知識
を有するものには常用的に供給される殺菌剤などを容易
に購入して適切に殺菌するのに使用されることは当然に
理解されることである。
で使用される殺菌剤として本発明によって過酸化水素と
過酢酸を混合してなる殺菌組成物を使用することができ
る。前記殺菌方法は60分以上、望ましくは60ないし120
分間進行することが望ましい。
殺菌段階でポリシャーを迂回することは前記殺菌組成物
を構成する過酸化水素と過酢酸が前記ポリシャー内に充
填されたイオン交換樹脂を化学的に非活性化させイオン
交換能力を消滅させることを予防するためのものとして
理解されるし、これらのポリシャー内のイオン交換樹脂
などは通常一定時間使用後、引き出して再活性化させる
か又は新しいイオン交換樹脂などと交換され充填され
る。
ンク11、熱交換機12、紫外線殺菌機13、有機物ポリシャ
ー14、混成ポリシャー15及び限外濾過フィルタ16などを
含めてなる超純水製造装置の中の有機物ポリシャー14と
混成ポリシャー15に熱水を供給してポリシャーなどを殺
菌する熱水殺菌段階を先行して、続いて前記超純水製造
装置中、前記ポリシャーなどを迂回して純水供給タンク
11、熱交換機12、紫外線殺菌機13及び限外濾過フィルタ
16などに殺菌剤を含む純水を循環させ殺菌する殺菌剤殺
菌段階を行うものからなることを特徴とする。
の殺菌方法は前記超純水製造装置に連結された超純水配
管にまで適用され得るし、超純水配管に連結されるバル
ブ(図面の単純化のために図示しない)の開放によって
超純水製造装置とこれに連結された超純水配管にまで一
括的に殺菌処理できる。
は26ないし40℃に加熱された純水が使用され得るし、望
ましくは28ないし34℃に加熱された純水が使用され得
る。
合、熱水によるポリシャーの十分な殺菌が行われないと
いう問題点があり得るし、また34℃を超える場合、超純
水製造装置及び超純水配管を構成する連結用パイプでの
熱化及びポリシャー内部に充填されたイオン交換樹脂の
非活性化などの問題が起ることも可能である。
超純水製造装置は、図1に一実施形態例として示したよ
うに、純水供給タンク11、熱交換機12、紫外線殺菌機1
3、有機物ポリシャー14、混成ポリシャー15、限外濾過
フィルタ16、前記有機物ポリシャー14と混成ポリシャー
15などを迂回するように配管されたポリシャー迂回管2
2及び前記有機物ポリシャー14と混成ポリシャー15に
熱水を供給するポリシャー用熱交換機21を備えてなるこ
とを特徴とする。
タンク11、熱交換機12、紫外線殺菌機13、有機物ポリシ
ャー14、混成ポリシャー15、限外濾過フィルタ16などは
全て当該技術分野で熟練された者には容易に理解される
くらいに常用化され、また公知されたものである。
のイオン交換方式による吸着で有機物を主に除去するも
のと理解され得るし、混成ポリシャー15は2種以上のイ
オン交換ベッドを含むもので、主に水中の金属イオンな
どの無機イオンなどをやはりイオン交換方式による吸着
で除去するものであると理解され得るもので、これら有
機物ポリシャー14と混成ポリシャー15などもやはり当該
技術分野では公知されたもので、常用的に購入して使用
可能なものである。
装置に前記有機物ポリシャー14と混成ポリシャー15など
を迂回するように配管されたポリシャー迂回管22と前記
有機物ポリシャー14と混成ポリシャー15に熱水を供給す
るためのポリシャー用熱交換機21をさらに備えてなるこ
とを特徴とする。
に殺菌組成物をなす過酸化水素と過酢酸が前記ポリシャ
ー内部に充填されたイオン交換樹脂などを非活性化させ
ることを予防するためのポリシャーなどを迂回して流体
の流れを連続させる機能をするものと理解され得る。
などに熱水を供給して熱水によってこれらポリシャーな
どの内部に充填されたイオン交換樹脂などに固着された
微生物や生物膜などを熱的に非活性化させ殺菌する機能
をするものと理解され得る。
のイオン交換樹脂が充填されたポリシャーなどを洗浄し
て、続いて殺菌剤として過酸化水素0.5重量%、過酢酸0.
05重量%及び残量として純水を含む本発明による殺菌組
成物を使用して超純水製造装置中のイオン交換樹脂が充
填されたポリシャーなどを除外した部分などを洗浄する
ことをそれぞれ30分と60分間にわたって行われて殺菌し
た。
ルテウス(Micrococcus Luteus)とシュードモナス(Ps
eudomonas)属の細菌を使用して殺菌前後の超純水のサ
ンプル内でのこれらのコロニをAODC法(Acridine Orang
e Direct Count;アクリディンオレンジ染料を使用して
微生物のコロニを染色した後、光学顕微鏡を通じた肉眼
で直接コロニの数を計数する方法)で計数したし、cfu
(colony forming unit)の単位に表示したし、その結
果を表2に示した。
残量として純水を含む殺菌組成物を使用することを除外
しては実施例1と同一に行ったし、その結果を表2に示し
た。
及び残量として純水を含む殺菌組成物を使用することを
除外しては実施例1と同一に行ったし、その結果を表2に
示した。
び残量として純水を含む殺菌組成物を使用することを除
外しては実施例1と同一に行ったし、その結果を表2に示
した。
を含む殺菌組成物を使用することを除外しては実施例1
と同一に行ったし、その結果を表2に示した。
を含む殺菌組成物を使用することを除外しては実施例1
と同一に行ったし、その結果を表2に示した。
酸化水素に対して抵抗性を有することで確認(本出願人
により出願された大韓民国特許出願第97-5704号、発明
の名称「過酸化水素に抵抗性を有する新規微生物」に記
載された微生物)された微生物に対して殺菌剤として過
酸化水素のみを使用する従来の方法(比較例1及び比較
例2)で完全に除去されなかったものに比べ、前記実施
例(実施例1)に示したものとして代表される本発明に
よる殺菌組成物とそれを利用した殺菌方法によって60分
間の殺菌でも完全な殺菌が可能であることを確認するこ
とができた。
ヶ月以上、少なくとも10ヶ月以上の殺菌効果を維持する
ことができるので最大で3ヶ月未満の殺菌効果を維持す
る従来の方法に比べ超純水製造装置及び超純水配管など
に対する殺菌及び洗浄周期を顕著に減少させることと確
認された。
いてのみ詳細に説明されたが本発明の技術思想範囲内で
多様な変形及び修正が可能であることは当業者において
明白なことであり、このような変形及び修正が添付され
た特許請求の範囲に属することは当然なことである。
酢酸の混合によって収得される殺菌組成物の使用及びこ
のような殺菌組成物と熱水による超純水製造装置及び超
純水配管の殺菌で完全な殺菌効果を得る効果がある。ま
た、本発明によると、従来の過酸化水素処理による殺菌
効果が3ヶ月未満であることに比べ最少6ヶ月以上、少な
くとも10ヶ月以上殺菌効果が維持され頻繁な殺菌処理の
必要性を顕著に低減させる効果を得ることができる。
概略的に図示した構成図である。
して示したグラフである。
示した構成図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 殺菌組成物が0.3ないし0.7重量%
の過酸化水素と0.03ないし0.07重量%の過酢酸
及び残量として脱イオン水を混合してなることを特徴と
する半導体装置製造工程用超純水の製造のための殺菌組
成物。 - 【請求項2】 前記殺菌組成物は0.5重量%の過酸化
水素と0.05重量%の過酢酸及び残量として脱イオン
水を混合してなることを特徴とする請求項1に記載の半
導体装置製造工程用超純水の製造のための殺菌組成物。 - 【請求項3】 純水供給タンク、熱交換機、紫外線殺菌
機、有機物ポリシャー、混成ポリシャー及び限外濾過フ
ィルタを含めてなる超純水製造装置中の、前記有機物ポ
リシャーと混成ポリシャーに熱水を供給して、当該有機
物ポリシャーおよび混成ポリシャーを殺菌する熱水殺菌
段階と、前記超純水製造装置中の純水供給タンク、熱交
換機、紫外線殺菌機及び限外濾過フィルタに殺菌剤を含
む純水を循環させて、当該純水供給タンク、熱交換機、
紫外線殺菌機及び限外濾過フィルタを殺菌する殺菌剤殺
菌段階とを備え、 前記殺菌剤殺菌段階に使用される殺菌剤に、0.3ない
し0.7重量%の過酸化水素と0.03ないし0.07
重量%の過酢酸及び残量として脱イオン水を混合してな
る殺菌組成物が使用されることを特徴とする半導体装置
製造工程用超純水製造装置の殺菌方法。 - 【請求項4】 前記殺菌方法が60分以上進行されること
を特徴とする請求項3に記載の半導体装置製造工程用超
純水製造装置の殺菌方法。 - 【請求項5】 前記殺菌方法が前記超純水製造装置に連
結された超純水配管にまで適用されることを特徴とする
請求項3に記載の半導体装置製造工程用超純水製造装置
の殺菌方法。 - 【請求項6】 前記熱水殺菌段階に使用される熱水とし
ては26ないし40℃に加熱される純水が使用されることを
特徴とする請求項3に記載の半導体装置製造工程用超純
水製造装置の殺菌方法。 - 【請求項7】 前記熱水殺菌段階に使用される熱水とし
ては28ないし34℃に加熱された純水が使用されることを
特徴とする請求項6に記載の半導体装置製造工程用超純
水製造装置の殺菌方法。 - 【請求項8】 前記熱水殺菌段階を、前記殺菌剤殺菌段
階に先行して行うことを特徴とする請求項3に記載の半
導体装置製造工程用超純水製造装置の殺菌方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR97-14955 | 1997-04-22 | ||
KR1019970014955A KR100251649B1 (ko) | 1997-04-22 | 1997-04-22 | 반도체장치제조공정용초순수의제조를위한살균조성물 및 이를이용한초순수제조장치의살균방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10296273A JPH10296273A (ja) | 1998-11-10 |
JP3152897B2 true JP3152897B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=19503547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01846398A Expired - Fee Related JP3152897B2 (ja) | 1997-04-22 | 1998-01-30 | 半導体装置製造工程用超純水の製造のための殺菌組成物及びこれを利用した超純水製造装置の殺菌方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5972293A (ja) |
JP (1) | JP3152897B2 (ja) |
KR (1) | KR100251649B1 (ja) |
CN (2) | CN100384753C (ja) |
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- 1997-10-25 DE DE19747296A patent/DE19747296B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-12-26 TW TW086119757A patent/TW453977B/zh not_active IP Right Cessation
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1998
- 1998-01-22 CN CNB011358483A patent/CN100384753C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-01-22 CN CN98105655A patent/CN1088558C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-01-30 JP JP01846398A patent/JP3152897B2/ja not_active Expired - Fee Related
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DE19747296B4 (de) | 2006-11-16 |
GB2324524B (en) | 1999-09-01 |
JPH10296273A (ja) | 1998-11-10 |
GB2324524A (en) | 1998-10-28 |
DE19747296A1 (de) | 1998-10-29 |
CN1394814A (zh) | 2003-02-05 |
CN100384753C (zh) | 2008-04-30 |
CN1088558C (zh) | 2002-08-07 |
KR100251649B1 (ko) | 2000-04-15 |
GB9721244D0 (en) | 1997-12-03 |
KR19980077718A (ko) | 1998-11-16 |
CN1196884A (zh) | 1998-10-28 |
US5972293A (en) | 1999-10-26 |
TW453977B (en) | 2001-09-11 |
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