JP3148310B2 - ステンレス鋼の耐食性および耐摩耗性改善方法 - Google Patents
ステンレス鋼の耐食性および耐摩耗性改善方法Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ステンレス鋼の耐摩耗
性及び耐食性を改善するための新規な方法に関し、本発
明の方法により被覆処理されたステンレス鋼は特に耐摩
耗性が必要とされる食品用機器の素材として好ましく利
用できるものである。
性及び耐食性を改善するための新規な方法に関し、本発
明の方法により被覆処理されたステンレス鋼は特に耐摩
耗性が必要とされる食品用機器の素材として好ましく利
用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】ＳＵＳ３０４鋼としてＪＩＳ Ｇ４３０
３に規格されたステンレス鋼は、表１に示した化学成分
を有し、耐食性材料として幅広い用途がある。このた
め、イオンプレーティング法によるＴｉＮ被覆処理用素
地金属としても汎用されている。
３に規格されたステンレス鋼は、表１に示した化学成分
を有し、耐食性材料として幅広い用途がある。このた
め、イオンプレーティング法によるＴｉＮ被覆処理用素
地金属としても汎用されている。
【０００３】
【表１】
【０００４】イオンプレーティング法は、周知のように
金属表面に適宜の金属、金属酸化物等を所望の厚さに被
覆することができる方法であり、このため、素地金属を
苛酷な環境から遮断して保護することが可能となり、長
期間に渡って良好な状態で使用できるので各種用途の機
器に用いる素材の開発に盛んに利用されている。
金属表面に適宜の金属、金属酸化物等を所望の厚さに被
覆することができる方法であり、このため、素地金属を
苛酷な環境から遮断して保護することが可能となり、長
期間に渡って良好な状態で使用できるので各種用途の機
器に用いる素材の開発に盛んに利用されている。
【０００５】しかし、上記イオンプレーティング法によ
るＴｉＮ皮膜はそれ自体高い硬度を有し、耐摩耗性に優
れているが、膜厚が薄い場合ＴｉＮ被覆後のこれらの物
理的性質は素地金属の影響を顕著に受ける。又、鋼中に
非金属介在物（主として硫化物系介在物）が多い場合に
は、これら介在物に起因する欠陥が生じてしまうなどの
欠点がある。
るＴｉＮ皮膜はそれ自体高い硬度を有し、耐摩耗性に優
れているが、膜厚が薄い場合ＴｉＮ被覆後のこれらの物
理的性質は素地金属の影響を顕著に受ける。又、鋼中に
非金属介在物（主として硫化物系介在物）が多い場合に
は、これら介在物に起因する欠陥が生じてしまうなどの
欠点がある。
【０００６】以上のような理由により、食品用機器など
のように湿式環境下で使用され且つ耐摩耗性が要求され
るような用途には未だ実用化されるには至っていない。
のように湿式環境下で使用され且つ耐摩耗性が要求され
るような用途には未だ実用化されるには至っていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】耐食用鋼として汎用さ
れているＳＵＳ３０４ステンレス鋼をベースに組成を調
整し、窒化法によりその表面に窒化層を生成させ、これ
を素地金属として用いその表面に優れた環境遮断効果を
持つとされるＴｉＮ皮膜をイオンプレーティング法によ
り均一に被覆して、食品用機器などのように湿式環境下
で使用され且つ耐摩耗性が要求されるような用途に用い
ることのできる耐摩耗性及び耐食性に優れたＴｉＮ被覆
ステンレス鋼の実用化を図ろうとするものである。
れているＳＵＳ３０４ステンレス鋼をベースに組成を調
整し、窒化法によりその表面に窒化層を生成させ、これ
を素地金属として用いその表面に優れた環境遮断効果を
持つとされるＴｉＮ皮膜をイオンプレーティング法によ
り均一に被覆して、食品用機器などのように湿式環境下
で使用され且つ耐摩耗性が要求されるような用途に用い
ることのできる耐摩耗性及び耐食性に優れたＴｉＮ被覆
ステンレス鋼の実用化を図ろうとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来技術の
課題を解決するためになされたもので、Ｃ：０．０８ｗ
ｔ％以下、Ｓｉ：１．０ｗｔ％以下、Ｍｎ：０．７ｗｔ
％以下、Ｐ：０．０４ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ
％以下、Ｎｉ：８．０〜１２．０ｗｔ％、Ｃｒ：１７．
０〜２０．０ｗｔ％、Ｍｏ：０．４０〜０．８０ｗｔ
％、Ｃｕ：０．３０〜０．５０ｗｔ％及び残部がＦｅで
あるステンレス鋼、又はＣ：０．０８ｗｔ％以下、Ｓ
ｉ：１．０ｗｔ％以下、Ｍｎ：０．７ｗｔ％以下、Ｐ：
０．０４ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｎ
ｉ：８．０〜１２．０ｗｔ％、Ｃｒ：１７．０〜２０．
０ｗｔ％、Ｍｏ：０．４０〜０．８０ｗｔ％、Ｃｕ：
０．１０〜０．３０ｗｔ％、Ｂｉ：０．０３〜０．１２
ｗｔ％及び残部がＦｅであるステンレス鋼表面に窒化法
を用いて窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成された後、こ
の上にイオンプレーティング法によりＴｉを下地処理と
して被覆し、更にその上にＴｉＮを直接又はＴｉＣを介
してイオンプレーティング法による全皮膜厚さが１μｍ
〜３μｍとなるように被覆することを特徴とするステン
レス鋼の耐摩耗性及び耐食性改善方法である。
課題を解決するためになされたもので、Ｃ：０．０８ｗ
ｔ％以下、Ｓｉ：１．０ｗｔ％以下、Ｍｎ：０．７ｗｔ
％以下、Ｐ：０．０４ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ
％以下、Ｎｉ：８．０〜１２．０ｗｔ％、Ｃｒ：１７．
０〜２０．０ｗｔ％、Ｍｏ：０．４０〜０．８０ｗｔ
％、Ｃｕ：０．３０〜０．５０ｗｔ％及び残部がＦｅで
あるステンレス鋼、又はＣ：０．０８ｗｔ％以下、Ｓ
ｉ：１．０ｗｔ％以下、Ｍｎ：０．７ｗｔ％以下、Ｐ：
０．０４ｗｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｎ
ｉ：８．０〜１２．０ｗｔ％、Ｃｒ：１７．０〜２０．
０ｗｔ％、Ｍｏ：０．４０〜０．８０ｗｔ％、Ｃｕ：
０．１０〜０．３０ｗｔ％、Ｂｉ：０．０３〜０．１２
ｗｔ％及び残部がＦｅであるステンレス鋼表面に窒化法
を用いて窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成された後、こ
の上にイオンプレーティング法によりＴｉを下地処理と
して被覆し、更にその上にＴｉＮを直接又はＴｉＣを介
してイオンプレーティング法による全皮膜厚さが１μｍ
〜３μｍとなるように被覆することを特徴とするステン
レス鋼の耐摩耗性及び耐食性改善方法である。
【０００９】
【作用】Ｍｎ及びＳは耐食性に有害な元素であり、これ
らは極力低減（ＭｎＳ量を低減）させることが望ましい
が、ＭｎＳ量が減少すると切削性が低下するという問題
が一方で生じる。従って、Ｍｎを０．７ｗｔ％以下、Ｓ
を０．００５ｗｔ％以下に調整し、特に切削性が要求さ
れる場合にはＢｉの添加により切削性の低下を補う。
らは極力低減（ＭｎＳ量を低減）させることが望ましい
が、ＭｎＳ量が減少すると切削性が低下するという問題
が一方で生じる。従って、Ｍｎを０．７ｗｔ％以下、Ｓ
を０．００５ｗｔ％以下に調整し、特に切削性が要求さ
れる場合にはＢｉの添加により切削性の低下を補う。
【００１０】Ｂｉは０．０３ｗｔ％未満の添加では切削
性を改善する効果が少なく、０．１２ｗｔ％を越えて添
加すると鍛造性を害することになるので、０．０３〜
０．１２ｗｔ％の範囲で添加する。
性を改善する効果が少なく、０．１２ｗｔ％を越えて添
加すると鍛造性を害することになるので、０．０３〜
０．１２ｗｔ％の範囲で添加する。
【００１１】Ｎｉはオーステナイト（γ）系ステンレス
鋼の基本元素であり、γ相を安定にする目的で添加す
る。耐食性に関しては、特に活性態域での腐食を抑制す
る効果がある。又、中性塩化物溶液や非酸化性酸による
腐食に対しても顕著な改善効果があり、不動態を強化す
る作用もある。このような目的でＮｉは、８．０〜１
２．０ｗｔ％の範囲で添加する。
鋼の基本元素であり、γ相を安定にする目的で添加す
る。耐食性に関しては、特に活性態域での腐食を抑制す
る効果がある。又、中性塩化物溶液や非酸化性酸による
腐食に対しても顕著な改善効果があり、不動態を強化す
る作用もある。このような目的でＮｉは、８．０〜１
２．０ｗｔ％の範囲で添加する。
【００１２】Ｃｒはステンレス鋼にとって必須の元素で
あり、本発明においては１７．０〜２０．０ｗｔ％の範
囲で添加する。
あり、本発明においては１７．０〜２０．０ｗｔ％の範
囲で添加する。
【００１３】Ｍｏは不動態域を拡げ、耐食性を増す元素
である。しかし、０．４０ｗｔ％未満の添加では耐食性
が改善されない場合があり、０．８０ｗｔ％を越えての
添加は改善する効果が添加量の割りには期待できなくな
り、結果的にコスト高を招くため本発明における０．４
０〜０．８０ｗｔ％の範囲が工業的には最適の範囲であ
る。
である。しかし、０．４０ｗｔ％未満の添加では耐食性
が改善されない場合があり、０．８０ｗｔ％を越えての
添加は改善する効果が添加量の割りには期待できなくな
り、結果的にコスト高を招くため本発明における０．４
０〜０．８０ｗｔ％の範囲が工業的には最適の範囲であ
る。
【００１４】Ｃｕの添加は、非酸化性酸に対する耐食性
を増す作用がある。この作用はＭｏとの共存で顕著に発
揮される。しかし、過剰な添加は耐有機酸腐食性を低下
させることがあるので、添加範囲を０．３０〜０．５０
ｗｔ％とすることにより各種環境下での耐食性の向上を
図ることができる。しかし、Ｂｉを上記のように添加し
た場合には熱間圧延性を損なうことがないように、Ｃｕ
は０．１０〜０．３０ｗｔ％の範囲で添加する。
を増す作用がある。この作用はＭｏとの共存で顕著に発
揮される。しかし、過剰な添加は耐有機酸腐食性を低下
させることがあるので、添加範囲を０．３０〜０．５０
ｗｔ％とすることにより各種環境下での耐食性の向上を
図ることができる。しかし、Ｂｉを上記のように添加し
た場合には熱間圧延性を損なうことがないように、Ｃｕ
は０．１０〜０．３０ｗｔ％の範囲で添加する。
【００１５】なお、上記以外のＣ，Ｓｉ及びＰについて
はＪＩＳにおいて定められたＳＵＳ３０４鋼の成分範囲
とする。
はＪＩＳにおいて定められたＳＵＳ３０４鋼の成分範囲
とする。
【００１６】上記のように成分調整したステンレス鋼表
面に窒化法を用い窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成さ
せ、これを素地金属として用いこの上にイオンプレーテ
ィング法によりＴｉを下地処理として被覆し、更にその
上にＴｉＮを直接又はＴｉＣを介してイオンプレーティ
ング法による全皮膜厚さが１μｍ〜３μｍとなるように
被覆することにより、特に耐摩耗性が必要とされる食品
用機器の素材として好ましく利用できるものとなる。
面に窒化法を用い窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成さ
せ、これを素地金属として用いこの上にイオンプレーテ
ィング法によりＴｉを下地処理として被覆し、更にその
上にＴｉＮを直接又はＴｉＣを介してイオンプレーティ
ング法による全皮膜厚さが１μｍ〜３μｍとなるように
被覆することにより、特に耐摩耗性が必要とされる食品
用機器の素材として好ましく利用できるものとなる。
【００１７】
【実施例】次に本発明のステンレス鋼の耐摩耗性及び耐
食性改善方法を詳細に説明するが、本発明の主旨を逸脱
しない限り実施例に限定されるものではない。比較例及
び実施例として用いた鋼の化学成分を表２に示す。又こ
れらに施した窒化処理及びイオンプレーティング処理に
よって形成した膜厚を表３にそれぞれ示す。
食性改善方法を詳細に説明するが、本発明の主旨を逸脱
しない限り実施例に限定されるものではない。比較例及
び実施例として用いた鋼の化学成分を表２に示す。又こ
れらに施した窒化処理及びイオンプレーティング処理に
よって形成した膜厚を表３にそれぞれ示す。
【００１８】
【表２】
【００１９】
【表３】
【００２０】窒化処理は、イオン窒化法を用い目的の膜
厚になるように行った。上記窒化処理を施した試料表面
に処理温度３００℃、バイアス印加電圧−６０Ｖの条件
でイオンプレーティング処理を行った。イオンプレーテ
ィングは先ず、下地処理としてＴｉを被覆形成し、次に
この上にＴｉＣを形成し更にこの上にＴｉＮを被覆形成
して３層構成の皮膜とした。
厚になるように行った。上記窒化処理を施した試料表面
に処理温度３００℃、バイアス印加電圧−６０Ｖの条件
でイオンプレーティング処理を行った。イオンプレーテ
ィングは先ず、下地処理としてＴｉを被覆形成し、次に
この上にＴｉＣを形成し更にこの上にＴｉＮを被覆形成
して３層構成の皮膜とした。
【００２１】なお、実施例２のみはＴｉＣを形成せず、
Ｔｉの上にＴｉＮを直接形成して、２層構成の皮膜を形
成した。
Ｔｉの上にＴｉＮを直接形成して、２層構成の皮膜を形
成した。
【００２２】〔耐摩耗性試験〕図１に比較例１，２，
３，４及び５、実施例１及び２の各条件で窒化処理並び
にイオンプレーティング処理を施した金属材料の耐摩耗
性試験結果を示す。試験には摩耗試験機を用い、評価は
摩耗による各試料の重量減少量を比較することにより行
った。
３，４及び５、実施例１及び２の各条件で窒化処理並び
にイオンプレーティング処理を施した金属材料の耐摩耗
性試験結果を示す。試験には摩耗試験機を用い、評価は
摩耗による各試料の重量減少量を比較することにより行
った。
【００２３】この図１から、実施例１及び２は他のいず
れの比較例よりも重量減少量が小さいので、表面に形成
された皮膜が十分な耐摩耗性を有していることがわか
る。窒化処理は施してあるがイオンプレーティング処理
を行っていない比較例２、逆に窒化処理を行わずにイオ
ンプレーティング処理のみ施した比較例３の重量減少量
は、実施例１，２に比して多くなっている。このことか
ら、耐摩耗性の改善には窒化処理、イオンプレーティン
グ処理の双方が必要であることがわかる。
れの比較例よりも重量減少量が小さいので、表面に形成
された皮膜が十分な耐摩耗性を有していることがわか
る。窒化処理は施してあるがイオンプレーティング処理
を行っていない比較例２、逆に窒化処理を行わずにイオ
ンプレーティング処理のみ施した比較例３の重量減少量
は、実施例１，２に比して多くなっている。このことか
ら、耐摩耗性の改善には窒化処理、イオンプレーティン
グ処理の双方が必要であることがわかる。
【００２４】又、窒化処理、イオンプレーティング処理
ともに行っているが、窒化処理により形成した膜厚が１
０μｍと薄い比較例４、７０μｍと厚い比較例５の値も
多いことがわかる。このことから、窒化処理による膜厚
は２０μｍ〜６０μｍが最適である。素地金属に市販の
ＳＵＳ３０４を用い、窒化処理、イオンプレーティング
処理ともに実施例１と同条件で行った比較例１では、実
施例１及び２の重量減少量と比して若干多くなってい
る。このことから、鋼種による違いも認められ、本実施
例における鋼種の方が若干ではあるが耐摩耗性は改善さ
れる。
ともに行っているが、窒化処理により形成した膜厚が１
０μｍと薄い比較例４、７０μｍと厚い比較例５の値も
多いことがわかる。このことから、窒化処理による膜厚
は２０μｍ〜６０μｍが最適である。素地金属に市販の
ＳＵＳ３０４を用い、窒化処理、イオンプレーティング
処理ともに実施例１と同条件で行った比較例１では、実
施例１及び２の重量減少量と比して若干多くなってい
る。このことから、鋼種による違いも認められ、本実施
例における鋼種の方が若干ではあるが耐摩耗性は改善さ
れる。
【００２５】〔耐全面腐食性〕図２に比較例１，２，
３，４及び５、実施例１及び２の各条件で窒化処理並び
にイオンプレーティング処理を施した金属材料の希硫酸
水溶液（沸騰、５％Ｈ2ＳＯ4 ）中での腐食速度を示
す。この図２から、実施例１及び２は他のいずれの比較
例よりも腐食速度が小さいので、表面に形成された皮膜
が十分な環境遮断効果を有し、耐食性が改善されること
がわかる。
３，４及び５、実施例１及び２の各条件で窒化処理並び
にイオンプレーティング処理を施した金属材料の希硫酸
水溶液（沸騰、５％Ｈ2ＳＯ4 ）中での腐食速度を示
す。この図２から、実施例１及び２は他のいずれの比較
例よりも腐食速度が小さいので、表面に形成された皮膜
が十分な環境遮断効果を有し、耐食性が改善されること
がわかる。
【００２６】図３に比較例１及び５、実施例１の各条件
で窒化処理並びにイオンプレーティング処理を施した金
属材料の希硫酸水溶液（３０℃、５％Ｈ2ＳＯ4 ）中で
の自然電位の経時変化を示す。比較例１及び５では浸漬
後間もなく電位が活性態にまで落ち込んでしまったが、
本発明の実施例１では電位の落ち込みは全く認められな
かった。
で窒化処理並びにイオンプレーティング処理を施した金
属材料の希硫酸水溶液（３０℃、５％Ｈ2ＳＯ4 ）中で
の自然電位の経時変化を示す。比較例１及び５では浸漬
後間もなく電位が活性態にまで落ち込んでしまったが、
本発明の実施例１では電位の落ち込みは全く認められな
かった。
【００２７】これらの比較試験の結果から、本実施例は
硫酸水溶液中における耐全面腐食性に優れているといえ
る。
硫酸水溶液中における耐全面腐食性に優れているといえ
る。
【００２８】〔耐孔食性〕図４に比較例１，４及び５、
実施例１及び２の各条件で窒化処理並びにイオンプレー
ティング処理を施した金属材料の食塩水（３０℃、３％
ＮａＣｌ）中におけるアノード分極曲線を示す。比較例
１及び５では明瞭な活性態溶解域が見られ、比較的卑な
電位から電流の増大すなわち孔食の発生が始まる。一
方、実施例１及び２では活性態溶解域は全く見られず、
電流の増大もはるかに貴な電位まで抑制されている。比
較例４もこれに似た傾向を示したが、実施例１及び２よ
りは劣っている。以上のことから、本実施例は耐孔食性
に優れているといえる。
実施例１及び２の各条件で窒化処理並びにイオンプレー
ティング処理を施した金属材料の食塩水（３０℃、３％
ＮａＣｌ）中におけるアノード分極曲線を示す。比較例
１及び５では明瞭な活性態溶解域が見られ、比較的卑な
電位から電流の増大すなわち孔食の発生が始まる。一
方、実施例１及び２では活性態溶解域は全く見られず、
電流の増大もはるかに貴な電位まで抑制されている。比
較例４もこれに似た傾向を示したが、実施例１及び２よ
りは劣っている。以上のことから、本実施例は耐孔食性
に優れているといえる。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明からわかるように、ＳＵＳ３
０４ステンレス鋼をベースに成分調整を施した鋼表面に
窒化法を用いて窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成させた
後、この上にイオンプレーティング法によりＴｉを下地
処理として被覆し、更にその上にＴｉＮを直接又はＴｉ
Ｃを介してイオンプレーティング法による全皮膜厚さが
１μｍ〜３μｍとなるように被覆させた本発明によるス
テンレス鋼は、優れた耐摩耗性及び耐食性を有しており
食品用機器などのように湿式環境下で使用され且つ耐摩
耗性が要求されるような用途に好ましく利用できるもの
である。
０４ステンレス鋼をベースに成分調整を施した鋼表面に
窒化法を用いて窒化層を２０μｍ〜６０μｍ生成させた
後、この上にイオンプレーティング法によりＴｉを下地
処理として被覆し、更にその上にＴｉＮを直接又はＴｉ
Ｃを介してイオンプレーティング法による全皮膜厚さが
１μｍ〜３μｍとなるように被覆させた本発明によるス
テンレス鋼は、優れた耐摩耗性及び耐食性を有しており
食品用機器などのように湿式環境下で使用され且つ耐摩
耗性が要求されるような用途に好ましく利用できるもの
である。
【図１】 摩耗試験後の重量減少量を示す図である。
【図２】 希硫酸水溶液（沸騰、５％Ｈ2 ＳＯ4 ）中に
おける腐食速度を示す図である。
おける腐食速度を示す図である。
【図３】 希硫酸水溶液（３０℃、５％Ｈ2 ＳＯ4 ）中
における自然電位の経時変化を示す図である。
における自然電位の経時変化を示す図である。
【図４】 食塩水（３％ＮａＣｌ）中におけるアノード
分極曲線である。
分極曲線である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ２２Ｃ 38/44 Ｃ２２Ｃ 38/44 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 8/26 C22C 38/00 302
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｃ：０．０８ｗｔ％以下、Ｓｉ：１．０
ｗｔ％以下、Ｍｎ：０．７ｗｔ％以下、Ｐ：０．０４ｗ
ｔ％以下、Ｓ：０．００５ｗｔ％以下、Ｎｉ：８．０〜
１２．０ｗｔ％、Ｃｒ：１７．０〜２０．０ｗｔ％、Ｍ
ｏ：０．４０〜０．８０ｗｔ％、Ｃｕ：０．３０〜０．
５０ｗｔ％及び残部がＦｅであるステンレス鋼、又は
Ｃ：０．０８ｗｔ％以下、Ｓｉ：１．０ｗｔ％以下、Ｍ
ｎ：０．７ｗｔ％以下、Ｐ：０．０４ｗｔ％以下、Ｓ：
０．００５ｗｔ％以下、Ｎｉ：８．０〜１２．０ｗｔ
％、Ｃｒ：１７．０〜２０．０ｗｔ％、Ｍｏ：０．４０
〜０．８０ｗｔ％、Ｃｕ：０．１０〜０．３０ｗｔ％、
Ｂｉ：０．０３〜０．１２ｗｔ％及び残部がＦｅである
ステンレス鋼表面に窒化法を用いて窒化層を２０μｍ〜
６０μｍ生成させた後、この上にイオンプレーティング
法によりＴｉを下地処理として被覆し、更にその上にＴ
ｉＮを直接又はＴｉＣを介してイオンプレーティング法
による全皮膜厚さが１μｍ〜３μｍとなるように被覆す
ることを特徴とするステンレス鋼の耐摩耗性及び耐食性
改善方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30938991A JP3148310B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | ステンレス鋼の耐食性および耐摩耗性改善方法 |
| KR1019920022019A KR950007668B1 (ko) | 1991-11-25 | 1992-11-23 | 스테인레스강의 내부식성 및 내마모성 개선방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30938991A JP3148310B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | ステンレス鋼の耐食性および耐摩耗性改善方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05148616A JPH05148616A (ja) | 1993-06-15 |
| JP3148310B2 true JP3148310B2 (ja) | 2001-03-19 |
Family
ID=17992425
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