JP3138688B2 - 不揮発性半導体記憶装置及びプログラムベリファイ方法 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置及びプログラムベリファイ方法

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JP3138688B2
JP3138688B2 JP20909498A JP20909498A JP3138688B2 JP 3138688 B2 JP3138688 B2 JP 3138688B2 JP 20909498 A JP20909498 A JP 20909498A JP 20909498 A JP20909498 A JP 20909498A JP 3138688 B2 JP3138688 B2 JP 3138688B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電気的書込み及び消
去が可能な不揮発性半導体記憶装置及びプログラムベリ
ファイ方法に関し、特にプログラムベリファイを効率的
に行うことが可能な不揮発性半導体記憶装置及びプログ
ラムベリファイ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】E2PROM、フラッシュメモリなどの
電気的書込み及び消去が可能な不揮発性半導体記憶装置
では、データの書込み及び消去後、実際にデータの書込
み及び消去が行われたかを確認する必要がある。この確
認作業をベリファイと称し、データの書込み時に行うベ
リファイをプログラムベリファイ、データの消去時に行
うベリファイをイレーザブルベリファイと称する。
【0003】次に図12を参照して、従来の不揮発性半
導体記憶装置について説明する。
【0004】図12において、1はメモリセルがアレイ
状に配列されているメモリセルアレイ、2は外部から与
えられるアドレス信号をラッチし、ロウデコーダ3とカ
ラムデコーダ4に対してアドレス信号を駆動するアドレ
スバッファ、3は外部から与えられるアドレス信号のう
ちロウアドレス信号をデコードしワード線の選択を行う
ロウデコーダ、4は外部から与えられるアドレス信号の
うちカラムアドレス信号をデコードしデータ線の選択を
行うカラムデコーダである。
【0005】また5は、メモリセルアレイ1からデータ
線を介して読み出されたデータを増幅するセンスアン
プ、6はデータバスとの間で入出力を行う入出力バッフ
ァ、7はメモリセルアレイ1に格納されているデータを
センスアンプ5で増幅した信号と、データバスから送ら
れたデータを入出力バッファで増幅した信号との比較を
行う比較回路ブロック、8は比較回路ブロック7におい
てセンスアンプ5から出力された信号と入出力バッファ
6からの出力信号が不一致の場合、メモリセルアレイ1
にデータを書き込むための書込回路ブロック、9はセン
スアンプ5、入出力バッファ6、比較回路ブロック7、
書込回路ブロック8などを制御するための制御回路であ
る。
【0006】次に、図12に示す不揮発性半導体記憶装
置のプログラムベリファイについて、図13に示すフロ
ーチャートを参照して説明する。
【0007】はじめに、ステップS0で、書込みを開始
する。次に、ステップS1で、書込み回路ブロック8を
構成する書込み回路が、メモリセルアレイ1を構成する
メモリセルに対して既に書き込んだ書込み回数をカウン
トする。
【0008】例えば、内部バス及びデータ長が16ビッ
トの場合、書込み回路ブロック8を構成する書込み回路
は16回路存在し、これらの書込み回路は16個のメモ
リセルに対して各々書込みを行い、制御回路9は各々の
書込み回路の書込み回数をカウントする。
【0009】次にステップS2で、ステップS1でカウ
ントした書込み回数があらかじめ設定した最大値に達し
たか否かを判定し、最大値に達した場合はステップS4
で異常終了とする。すなわち、書込み動作は不揮発性半
導体記憶装置を構成するフローティングゲートにホット
エレクトロンを注入し、メモリセルを構成するトランジ
スタのしきい値を変えることにより行うが、所定回数だ
けフローティングゲートにホットエレクトロンを注入し
ても、トランジスタのしきい値が所定値に達しない場合
は異常であるため、不良として処理する。
【0010】次に、ステップS2で書込み回数が最大値
に達していないと判断された場合、ステップS3でプロ
グラムベリファイを行う。すなわち、比較回路ブロック
7は、メモリセルアレイ1からセンスアンプ5を介して
読み出した信号と、期待値であるメモリセルに書込んだ
データとを比較し、一致した場合は書込みが正常に完了
したと判断し、ステップS5で書込み完了とする。
【0011】また一致しない場合、ステップS6で、期
待値であるデータを書込み回路ブロック8を構成する書
込み回路を用いてメモリセルアレイ1に書込む。このと
き、書込み回路ブロック8を構成する書込み回路は16
回路存在するが、書込み回路の電源が高電圧であり、書
込み時の電流が大きいため、書込み電流による雑音や熱
の発生や、内部電源の電流駆動能力の制約のため、16
回路の書込み回路が同時にメモリセルに書込むことはで
きない。このため実際的には、4ビットずつ4回に分け
て書込みを行っている。
【0012】次に、ステップS1の書込み回数のカウン
トを行い、ステップS2以下の処理を同様に繰り返す。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の不揮発
性半導体記憶装置及びプログラムベリファイ方法は、図
14に示すように図13のステップS3でフェイルとな
るのが16ビットのうちで4ビットしか無い場合、内部
電源の駆動能力の制限や書込み電流が流れる際の雑音発
生による誤動作などを考慮しても、4ビットを1度の書
込みで行うことが本来できるにもかかわらず、4回に分
けて書込みを行わなければならなかった。
【0014】このため、無駄な書込みサイクルが発生
し、書込み処理時間が長くなるという問題がある。
【0015】本発明の目的は、無駄な書込みサイクルを
無くし、書込み時間を短縮した不揮発性半導体記憶装置
及びプログラムベリファイ方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明による
不揮発性半導体記憶装置は、複数の不揮発性メモリセル
を含むメモリセルアレイと、プログラムベリファイ動作
時に前記メモリセルアレイから読み出された複数ビット
からなる読み出しデータと期待値データとを比較し、パ
ス又はフェイルの比較データを出力する比較手段と、前
記読み出しデータと前記期待値データとの間に不一致の
ビットが存在する場合、この不一致のビットに対応する
前記メモリセルに期待値データを書き込む書込み回路が
前記読み出しデータを構成するビットの順にグループ化
された書込みユニットを複数備えた書き込み手段と、前
記比較データから前記読み出しデータ中の前記フェイル
又はパスのビットの分布を表すフラグを生成し、このフ
ラグに基づき前記書込みユニットを活性化するととも
に、活性化するタイミングを決定する制御信号を前記書
込手段に出力する分割書込み制御回路とを備えている。
【0017】また、本発明によるプログラムベリファイ
方法は、複数の不揮発性メモリセルを含むメモリセルア
レイと、プログラムベリファイ動作時に前記メモリセル
アレイから読み出された複数ビットからなる読み出しデ
ータと、期待値データとを比較しパス又はフェイルの比
較データを出力する比較手段と、前記読み出しデータと
前記期待値データとの間に不一致のビットが存在する場
合、この不一致のビットに対応する前記メモリセルに期
待値データを書き込む書込み回路が前記読み出しデータ
を構成するビットの順にグループ化された書込みユニッ
トを複数備えた書き込み手段とを備えた不揮発性半導体
記憶装置のプログラムベリファイ方法において、前記比
較データから前記読み出しデータ中の前記フェイル又は
パスのビットの分布を表すフラグを生成するステップ
と、このフラグに基づき前記書込みユニットを単独又は
複数個まとめて活性化するとともに、活性化するタイミ
ングを決定して前記書込みユニットに前記期待値データ
を書込む分割書込みステップとを有している。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
【0019】最初に、図1を用いて本実施の形態の不揮
発性半導体記憶装置で用いる16ビットのデータ長を有
するビット構成について説明する。
【0020】図1に示すように、ビット構成は最下位ビ
ットD0から最上位ビットD15までの16ビットから
なり、さらに4ビットずつのユニットデータ(a)〜
(d)に分けられる。さらに、全16ビットは、D0〜
D7までの下位8ビットとD8〜D15までの上位8ビ
ットに分けられる。
【0021】次に、後に詳細に説明する各フラグの意味
について図2を用いて説明する。
【0022】F0は、全16ビットの中でフェイルが5
ビット以上存在するとハイレベルとなるフラグであり、
16ビット全体に渡るフェイルの割合を表す。
【0023】またF1は、上位8ビット中でフェイルが
5ビット以上存在するとハイレベルとなるフラグであ
り、F2は、下位8ビット中でフェイルが5ビット以上
存在するとハイレベルとなるフラグであり、それぞれ上
位8ビット及び下位8ビットのファイルの割合を表す。
【0024】さらに、BFUBは、上位8ビット中でフ
ェイルが存在しない場合ハイレベルとなるフラグであ
り、BFLBは、下位8ビット中でフェイルが存在しな
い場合ハイレベルとなるフラグである。従って、BFU
Bがハイレベルの場合、上位8ビットに対しては書込む
必要が無く、同様にBFLBがハイレベルの場合、下位
8ビットに対しては書込む必要が無いことがわかる。
【0025】次に、図3に示す種々の場合について、上
述した各フラグの値がどうなるかを説明する。
【0026】(A)は、フェイル数が非常に多い場合を
表し、ユニットデータ(a)〜(d)の各フェイル数は
それぞれ2,4,4,2である。従って、全16ビット
中でフェイル数は12であり、上位8ビット中でのフェ
イル数は6、下位8ビット中でのフェイル数は同様に6
である。これより、フラグF0,F1,F2はいずれも
ハイレベルであり、フラグBFUB,BFLBはいずれ
もロウレベルとなることがわかる。
【0027】(B)は、上位8ビット中にフェイルが存
在せず、BFUB=“H”となる。また、ユニットデー
タ(a),(b)のフェイル数はそれぞれ3であるの
で、F0=“H”、F1=“L”、F2=“H”、BF
LB=“L”である。
【0028】(C)は(B)の場合と逆に下位8ビット
中にフェイルが存在せず、BFLB=“H”となる。ま
た、ユニットデータ(c),(d)のフェイル数はそれ
ぞれ3であるので、F0=“H”、F1=“H”、F2
=“L”、BFUB=“L”である。
【0029】(D)は、ユニットデータ(a)とユニッ
トデータ(b)を合わせた(ab)にフェイルが4個存
在し、同様にユニットデータ(c)とユニットデータ
(d)を合わせた(cd)にフェイルが4個存在する場
合である。従って、F0=“H”、F1=“L”、F2
=“L”、BFUB=“L”、BFLB=“L”であ
る。この場合、2回の書込み回数で書込みを行うことが
できる。
【0030】(E)は、全16ビット中(abcd)で
フェイル数が4の場合であり、1回の書込み回数で書込
みを行うことができる。
【0031】次に、図3に示すフェイル分布とフラグの
関係を表す説明図、図4に示すフローチャート、図5に
示すフラグの状態と書込み手順及び分割書込み回数を示
す表、及び図6に示す書込みタイミングチャートを参照
して本発明のベリファイ方法について説明する。
【0032】ステップS0からステップS5までは、図
13に示す各ステップと同様であるので説明を省略す
る。
【0033】ステップS3のプログラムベリファイで判
定がフェイルとなった場合、ステップS7において図2
を用いて説明した各フラグの判定を行う。
【0034】図3の(A)のようにF0,F1,F2が
いずれも“H”の場合、ステップS8でフラグはFL1
(H,H,H)となり、図5(A)に示すように書込み
手順は、ユニットデータ順に(a)→(b)→(c)→
(d)の4分割書込みとなる。すなわち、図6の(A)
に示すように、a,b,c,dの順に正のパルス信号で
ある制御信号が発生し、4回の分割書込みを行う。
【0035】次に、図3(B)のようにF0,F1,F
2が“H”,“L”,“H”又は、図3(C)のよう
に、“H”,“H”,“L”の場合、ステップS12で
BFUB又はBFLBが“H”であるか否かが判定され
る。少なくとも一方が“H”であるときは、ステップS
15の2分割書込みを行い、BFUB、BFLBのいず
れも“L”の場合は、ステップS14の3分割書込みを
行う。
【0036】上述した手順をより具体的に説明すると、
図5(B1)の場合、BFUB,BFLBの両方とも
“L”であるため、書込手順は(a)→(b)→(c
d)のようになり、ステップS14での3分割書込とな
る。すなわち、F1が“L”であるため、上位8ビット
中でのフェイル数は4ビット以下である。このため、ユ
ニットデータ(c),(d)はまとめて(cd)のよう
に1回の書込みで完了する。図6の(B1)にこのとき
の制御信号を示すが、a,bの順に正のパルス信号を発
生し、次にユニットデータ(c)とユニットデータ
(d)に対して同時に正のパルス信号を発生する。
【0037】次に図5(B2)の場合は図3(B)のよ
うに、BFUBが“H”であるため、上位8ビット中に
はフェイルが存在しない。従って、書込み手順は下位8
ビットに対してのみとなり、ステップS15で(a)→
(b)の2分割書込みとなる。
【0038】同様に、図5(C2)の場合は図3(C)
のように、BFLBが“H”であるため、下位8ビット
中にはフェイルが存在しない。従って、書込み手順は上
位8ビットに対してのみとなり、ステップS15で
(c)→(d)の2分割書込みとなる。
【0039】次に図3(D)のようにF0,F1,F2
がそれぞれ“H”,“L”,“L”の場合、ステップS
10でフラグはFL3(H,L,L)となり、上位8ビ
ット、下位8ビットの両方ともフェイル数は4以下であ
るため、図5(D)に示すように書込み手順は(ab)
→(cd)の2分割書込みとなる。すなわち、図6の
(D)に示すように、ユニットデータ(a),(b)に
対して同時に正のパルス信号を発生し,次にユニットデ
ータ(c),(d)に対して正のパルス信号を同時に発
生し、計2回の分割書込みを行う。
【0040】次に図3の(E)のようにF0,F1,F
2がいずれも“L”の場合、ステップS11でフラグは
FL4(L,L,L)となり、図5(E)に示すように
書込み手順は(abcd)の1分割書込みとなる。すな
わち、図6の(E)に示すように、a,b,c,dに同
時に正のパルス信号を発生し、1回の分割書込みを行
う。
【0041】次にステップS13〜S16を実行した
後、ステップS1の書込み回数のカウントを行い、ステ
ップS2以下の処理を同様に繰り返す。
【0042】上述したように、1回の書込みで同時に駆
動できる書込み回路は4回路という制限があるため、各
フラグによりフェイルの全ビット中における分布状況を
判定し、書込みをユニットデータ(a),(b),
(c),(d)から、これらのユニットデータをまとめ
た(ab),(abcd)などに変更し、かつフェイル
が存在しないユニットデータの書込みサイクルを削除す
ることにより、より少ない書込み回数でプログラムベリ
ファイを行うことができる。
【0043】すなわち本発明による不揮発性半導体記憶
装置及びプログラムベリファイ方法は、無駄な書込みサ
イクルを無くし、書込み時間を短縮することが可能であ
る。
【0044】次に図7及び図8を参照して、本発明の不
揮発性半導体記憶装置について説明する。
【0045】図7において、1のメモリセルアレイから
6の入出力バッファまでは、図12に示す従来の不揮発
性半導体記憶装置と同様な回路動作を行う。
【0046】70は、メモリセルアレイ1に格納されて
いるデータをセンスアンプ5で増幅した信号と、データ
バスから送られたデータを入出力バッファで増幅した信
号との比較を行う比較回路ブロック、80は、比較回路
ブロック70においてセンスアンプ5から出力された信
号と入出力バッファ6からの出力信号が不一致の場合、
メモリセルアレイ1にデータを書き込むための書込回路
ブロック、90はセンスアンプ5、入出力バッファ6、
比較回路ブロック70、書込回路ブロック80などを制
御するための制御回路である。
【0047】また10は、比較回路ブロック70の比較
データa0〜a15を受けフラグF0〜F2,BFU
B,BFLBを生成し、さらに書込み回路ブロック80
に図6に示すような制御信号a〜dを出力する分割書込
み制御回路である。
【0048】図8は、比較回路ブロック70、書込み回
路ブロック80、分割書込み制御回路10のより詳細な
回路ブロック図であり、分割書込み制御回路10は、フ
ラグ生成回路10A及び書込みパルス制御回路10Bよ
り構成される。
【0049】図8を参照して、比較回路ブロック70、
フラグ生成回路10A、書込みパルス制御回路10B、
書込み回路ブロック80について説明する。
【0050】比較回路ブロック70は、16個の比較回
路700〜715により構成され、各比較回路700〜
715は、入出力バッファを介して入力する期待値信号
Dr0〜Dr15と、センスアンプ5を介してメモリセ
ルアレイ1から読み出された信号とを比較し、比較デー
タa0〜a15を出力する。
【0051】フラグ生成回路10Aは、図2に示すよう
なフラグを生成する回路であり、フラグ生成回路10A
の処理手順を図9に示す。
【0052】図9において、ステップS91〜S94で
4ビット毎の比較データa0〜a3,a4〜a7,a8
〜a11,a12〜a15のフェイル数をそれぞれカウ
ントする。
【0053】次に、ステップS95,ステップS96
で、比較データa0〜a7,a8〜a15のフェイル数
をそれぞれカウントする。このフェイル数は、0〜8ま
でのいずれかの数値に対応し4ビットのデータとして表
される。
【0054】次にステップS97において、ステップS
95,S96でそれぞれ求めたカウント値を加算し、フ
ェイル数を算出する。このフェイル数は、0〜15まで
のいずれかの数値に対応して5ビットのカウント値とし
て表される。続いてステップS912でこのカウント値
が5以上か否かを判定し、5以上であればフラグF0を
“H”とし、4以下であればフラグF0を“L”とす
る。
【0055】次にステップS98において、ステップS
95で求めたカウント値が0か否かを判定し、0であれ
ばフラグBFLBを“H”とする。また、0で無い場
合、ステップS99でカウント値が5以上か否かを判定
し、5以上であればフラグF2を“H”とし、4以下で
あればフラグF2を“L”とする。
【0056】次にステップS910において、ステップ
S96で求めたカウント値が0か否かを判定し、0であ
ればフラグBFUBを“H”とする。また、0で無い場
合、ステップS911でカウント値が5以上か否かを判
定し、5以上であればフラグF1を“H”とし、4以下
であればフラグF1を“L”とする。
【0057】上記の手順により、図2に示すフラグが生
成される。図10に、図9のフローに基づいて作成した
フラグ生成回路10Aの一実施例を示す。この回路は、
左端に判定信号a0〜a15が入力し、インバータ、N
ANDゲート、NORゲート、ExORゲート、ExN
ORゲートからなる組合せ回路を信号が右に伝播し、フ
ラグF0〜F2,BFUB,BFLBを出力する。
【0058】次に図8に戻って、書込みパルス制御回路
10Bについて説明する。書込みパルス制御回路10B
は、フラグF0〜F2,BFUB,BFLBを入力し、
図5及び図6に示すパルス信号を書込み回路ブロック8
0に出力する。図11に、書込みパルス制御回路10B
の一実施例を示す。この回路は、左端にフラグF0〜F
2,BFUB,BFLB及びクロック信号CK、反転リ
セット信号Resetバーが入力し、インバータ、NA
NDゲート、ORゲート、NORゲート、ExNORゲ
ート、フリップフロップからなる順序回路を信号が右に
伝播し、制御信号a,b,c,dを出力する。
【0059】図8に示すように、書込み回路ブロック8
0は、4回路毎の書込み回路800〜803,804〜
807,808〜811,812〜815から構成さ
れ、書込み回路800〜803には、書込みパルス制御
回路10bから出力される制御信号aが印加され、同様
に、書込み回路804〜807,808〜811,81
2〜815には制御信号b,c,dがそれぞれ印加され
る。
【0060】また書込み回路800〜803には、それ
ぞれ比較回路700〜703からの比較データa0〜a
3が入力し、期待値信号Dr0〜Dr15とメモリセル
アレイ1から読み出された信号とが比較した書込回路8
00〜803については、出力がハイインピーダンスと
なり、不一致の書込回路800〜803については、再
度期待値信号が増幅され、図6に示すタイミングに従っ
て信号WR0〜WR3がメモリセルアレイ1に対して駆
動される。
【0061】同様に、書込み回路804〜807,80
8〜811,812〜815には、それぞれ比較回路7
04〜707,708〜711,712〜715からの
比較データa4〜a7,a8〜a11,a12〜a15
がそれぞれ入力し、期待値信号Dr4〜Dr7,Dr8
〜Dr11,Dr12〜Dr15と、メモリセルアレイ
1から読み出された信号とが比較した書込回路804,
〜807,808〜811,812〜815について
は、出力がハイインピーダンスとなり、不一致の書込回
路804,〜807,808〜811,812〜815
については、再度期待値信号が増幅され、図6に示すタ
イミングに従って信号WR4〜WR7,WR8〜WR1
1,WR12〜WR15がメモリセルアレイ1に対して
駆動される。
【0062】上述したように、本発明による不揮発性半
導体記憶装置は、フラグ生成回路10Aと書込みパルス
制御回路10Bから構成される分割書込み制御回路10
を内蔵して、全ビットに含まれるフェイルの分布により
フラグF0〜F2,BFUB,BFLBを生成し、さら
にこれらのフラグF0〜F2,BFUB,BFLBから
制御信号a〜dを生成し、比較信号a0〜a15と制御
信号a〜dにより書込み回路800〜815を制御する
ことにより、フェイルの分布状況に応じて書込み単位を
(a),(ab),(abcd)などのように変更し、
分割書込み回数を低減することにより、無駄な書込みサ
イクルを無くし、より少ない書込み回数でプログラムベ
リファイを行うことができる。
【0063】例えば、図14の従来例では4回の書込み
が必要であったが、本発明では1回の書込み回数で書込
みサイクルを完了することができる。
【0064】なお、上述した実施の形態においては、1
6ビット長のデータの場合について説明したが、16ビ
ット長に限らず他のビット長を有するデータについても
同様に適用し得る。例えば、4ビットをユニットデータ
とする全24ビットの場合、8ビットを単位とする上位
ビット、中位ビット、下位ビットに分類したフラグを生
成する。
【0065】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による不揮
発性半導体記憶装置及びプログラムベリファイ方法は、
全ビットに含まれるフェイルの分布によりフラグと制御
信号を生成し、書込み単位のビット構成を変えることに
より、無駄な書き込みサイクルを削除し、書込み時間を
短縮することができる。
【0066】本発明による不揮発性半導体記憶装置及び
プログラムベリファイ方法は、フェイルの数が少ないほ
ど、また全ビット中でフェイルの分布が偏っているほど
効果が大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の不揮発性半導体記憶装置及びプログラ
ムベリファイ方法の実施の形態を説明するための、16
ビット長を有するデータのビット構成を示す説明図であ
る。
【図2】本発明の不揮発性半導体記憶装置及びプログラ
ムベリファイ方法の実施の形態に用いるフラグを定義す
る説明図である。
【図3】本発明の不揮発性半導体記憶装置及びプログラ
ムベリファイ方法の実施の形態において、フェイルの分
布とこれに対応するフラグを表すための説明図である。
【図4】本発明のプログラムベリファイ方法の実施の形
態を表すフローチャートである。
【図5】本発明の不揮発性半導体記憶装置及びプログラ
ムベリファイ方法の実施の形態において、フラグの状態
と書込み手順及び分割書込み回数の関係を説明するため
の説明図である。
【図6】本発明の不揮発性半導体記憶装置及びプログラ
ムベリファイ方法の実施の形態による制御信号のタイミ
ングを表すタイミングチャートである。
【図7】本発明の不揮発性半導体記憶装置の実施の形態
を示すブロック図である。
【図8】本発明の不揮発性半導体記憶装置の実施の形態
を構成する比較回路ブロック、分割書込み制御回路、書
込み回路ブロックをより詳細に説明するためのブロック
図である。
【図9】本発明の不揮発性半導体記憶装置の実施の形態
を構成するフラグ生成回路の動作を説明するためのフロ
ーチャートである。
【図10】本発明の不揮発性半導体記憶装置を構成する
フラグ生成回路の一実施例を示す回路図である。
【図11】本発明の不揮発性半導体記憶装置を構成する
書込みパルス制御回路の一実施例を示す回路図である。
【図12】従来の不揮発性半導体記憶装置を示すブロッ
ク図である。
【図13】従来のプログラムベリファイ方法を表すフロ
ーチャートである。
【図14】従来のプログラムベリファイ方法による分割
書込み方法を説明するための説明図である。
【符号の説明】
1 メモリセルアレイ 2 アドレスバッファ 3 ロウデコーダ 4 カラムデコーダ 5 センスアンプ 6 入出力バッファ 7,70 比較回路ブロック 8,80 書込み回路ブロック 9,90 制御回路 10 分割書込み制御回路 10A フラグ生成回路 10B 書込みパルス制御回路 700〜715 比較回路 800〜815 書込み回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/00 - 16/34

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の不揮発性メモリセルを含むメモリ
    セルアレイと、 プログラムベリファイ動作時に前記メモリセルアレイか
    ら読み出された複数ビットからなる読み出しデータと期
    待値データとを比較し、パス又はフェイルの比較データ
    を出力する比較手段と、 前記読み出しデータと前記期待値データとの間に不一致
    のビットが存在する場合、この不一致のビットに対応す
    る前記メモリセルに期待値データを書き込む書込み回路
    が前記読み出しデータを構成するビットの順にグループ
    化された書込みユニットを複数備えた書き込み手段と、 前記比較データから前記読み出しデータ中の前記フェイ
    ル又はパスのビットの分布を表すフラグを生成し、この
    フラグに基づき前記書込みユニットを単独又は複数個ま
    とめて活性化するとともに、活性化するタイミングを決
    定する制御信号を前記書込手段に出力する分割書込み制
    御回路とを備えた不揮発性半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記制御信号により、同時に駆動可能な
    書込み回路数以下になるように同時に活性化する前記書
    込みユニットを制御する請求項1記載の不揮発性半導体
    記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記分割書込み制御回路は、前記読み出
    しデータを構成する全ビット中で、フェイルが同時に駆
    動可能な書込み回路数を越えた場合ハイレベル(ロウレ
    ベル)となる第1のフラグと、 前記全ビットのうちの上位ビット中で、フェイルが同時
    に駆動可能な書込み回路数を越えた場合ハイレベル(ロ
    ウレベル)となる第2のフラグと、 前記全ビットのうちの下位ビット中で、フェイルが同時
    に駆動可能な書込み回路数を越えた場合ハイレベル(ロ
    ウレベル)となる第3のフラグと、 前記上位ビット中でフェイルが存在しない場合ハイレベ
    ル(ロウレベル)となる第4のフラグと、 前記下位ビット中でフェイルが存在しない場合ハイレベ
    ル(ロウレベル)となる第5のフラグとを生成するフラ
    グ生成回路を設けた請求項1又は2記載の不揮発性半導
    体記憶装置。
  4. 【請求項4】前記制御信号は、前記第1乃至第3のフラ
    グが共にハイレベル(ロウレベル)のとき、前記書込み
    ユニット毎に順次活性化し、 前記第1乃至第3のフラグが共にロウレベル(ハイレベ
    ル)のとき、前記書込みユニットを同時に活性化し、 前記第4のフラグがハイレベル(ロウレベル)のとき、
    上位ビットに対しての書込みサイクルを削除し、 前記第5のフラグがハイレベル(ロウレベル)のとき、
    下位ビットに対しての書込みサイクルを削除する請求項
    1乃至3記載の不揮発性半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 複数の不揮発性メモリセルを含むメモリ
    セルアレイと、プログラムベリファイ動作時に前記メモ
    リセルアレイから読み出された複数ビットからなる読み
    出しデータと、期待値データとを比較しパス又はフェイ
    ルの比較データを出力する比較手段と、前記読み出しデ
    ータと前記期待値データとの間に不一致のビットが存在
    する場合、この不一致のビットに対応する前記メモリセ
    ルに期待値データを書き込む書込み回路が前記読み出し
    データを構成するビットの順にグループ化された書込み
    ユニットを複数備えた書き込み手段とを備えた不揮発性
    半導体記憶装置のプログラムベリファイ方法において、 前記比較データから前記読み出しデータ中の前記フェイ
    ル又はパスのビットの分布を表すフラグを生成するステ
    ップと、 このフラグに基づき前記書込みユニットを単独又は複数
    個まとめて活性化するとともに、活性化するタイミング
    を決定して前記書込みユニットに前記期待値データを書
    込む分割書込みステップと、を有するプログラムベリフ
    ァイ方法。
  6. 【請求項6】 前記書込みデータを構成する複数のビッ
    トからなるユニットデータ中のフェイル数を各々カウン
    トし、第1のカウント値を求めるステップと、 この第1のカウント値を加算して上位ビット及び下位ビ
    ット中に各々含まれるフェイル数を算出し、第2及び第
    3のカウント値を求めるステップと、 この第2及び第3のカウント値を加算して全ビット中に
    含まれるフェイル数を算出し、第4のカウント値を求め
    るステップと、 前記第4のカウント値が規定値を越えたとき、ハイレベ
    ル(ロウレベル)となる第1のフラグを生成するステッ
    プと、 前記第2のカウント値が0のとき、ハイレベル(ロウレ
    ベル)となる第2のフラグを生成するステップと、 前記第2のカウント値が規定値を越えたとき、ハイレベ
    ル(ロウレベル)となる第3のフラグを生成するステッ
    プと、 前記第3のカウント値が0のとき、ハイレベル(ロウレ
    ベル)となる第4のフラグを生成するステップと、 前記第3のカウント値が規定値を越えたとき、ハイレベ
    ル(ロウレベル)となる第5のフラグを生成するステッ
    プと、を有する請求項5記載のプログラムベリファイ方
    法。
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