JP3131751B2 - 被処理体検出装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、板状の被処理体を光学
的に検出する被処理体検出装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の被処理体検出装置は、たとえば
半導体製造工場において多数枚の半導体ウエハを一度に
洗浄する装置で用いられている。

【０００３】半導体ウエハ洗浄装置においては、洗浄処
理能率を上げるために、多数枚たとえば２５枚の半導体
ウエハを板面（ウエハ面）にほぼ垂直な方向に一列にほ
ぼ等間隔で配列した状態でウエハチャック等の搬送手段
で把持しつつ一括して（１組として）洗浄処理液に浸漬
するが、洗浄中に一部のウエハがウエハチャックから脱
落することがあるので、洗浄処理の前後で１組中の各ウ
エハの有無、配列状態ないしウエハ全部の枚数等をチェ
ックするために、ウエハ枚数カウント装置あるいはウエ
ハ枚葉カウンタ等と称されるウエハ検出装置が用いられ
ている。

【０００４】図１０および図１１に、従来の典型的なウ
エハ検出装置の構成を示す。このウエハ検出装置は、図
１０に示すように、細長い直方体状の本体１００の上面
に１組分のウエハＷ1 〜Ｗ25に対応した枚数のウエハ検
出板Ｋ0 〜Ｋ25をほぼ一定の間隔で立設してなるもので
ある。ウエハチャック（図示せず）は、それに把時され
ている１組分のウエハＷ1 〜Ｗ25（図示せず）の下端部
がそれぞれ対応するウエハ検出板Ｋ0 〜Ｋ25の間隙（ウ
エハ検出位置）に入るように、本ウエハ検出装置の上に
位置決めされる。図１１に示すように、各ウエハ検出板
Ｋi の両面には受光素子Ｑi と発光素子Ｐi がそれぞれ
貼付され、各ウエハ検出板Ｋi の受光素子Ｑi はそれと
対向する前隣のウエハ検出板Ｋi-1 の発光素子Ｐi-1 か
らの光を受光するようになっている。相隣接するウエハ
検出板Ｋi-1 ，Ｋi の間にウエハＷｉが存在するとき
は、発光素子Ｑi-1 からの光がウエハＷｉで遮光される
ため受光素子Ｑi より例えば“Ｈ”レベルの出力信号が
得られ、ウエハＷｉが両ウエハ検出板Ｋi-1 ，Ｋi の間
に存在しないときは、発光素子Ｑi-1 からの光が各受光
素子Ｑi に入射するため受光素子Ｑi より“Ｌ”レベル
の出力信号が得られるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記したような従来の
ウエハ検出装置は、洗浄処理の行われる処理槽とウエハ
の移載が行われるウエハ搬入出口との間に設置される。
そして、ウエハチャックが処理槽からウエハ搬入出口へ
移動する途中、またはウエハ搬入出口から処理槽へ移動
する途中で、ウエハ有無検査、枚数検査等を行うため
に、上記のように１組分のウエハＷ1 〜Ｗ25の下端部が
それぞれ対応するウエハ検出板Ｋ0 〜Ｋ25の間隙（ウエ
ハ検出位置）に入るように、ウエハ検出装置上に静止し
た状態で位置決めされるようになっていた。このウエハ
チャックの位置決めは相当の精度を要するため、ウエハ
チャックの駆動および位置制御に高精度で高価な装置を
使用しなければならなかった。また、ウエハ搬送中のウ
エハチャックをウエハ検出装置に立ち寄らせて検査を行
うために、洗浄処理のスループットが低下するという不
具合もあった。

【０００６】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、特別な位置決め機構を必要とすることなく被処
理体の有無検査や枚数検査等を随時行える被処理体検出
装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第１の被処理体検出装置は、複数の板状
の被処理体を所定の間隔を置いて配列した状態で一対の
アームで把持して搬送する搬送手段と、前記搬送手段の
一方のアームに取付され、前記複数の被処理体を光学的
に検出するための発光素子を有する発光部と、前記搬送
手段の他方のアームに取付され、前記複数の被処理体を
光学的に検出するための受光素子を有する受光部とを具
備し、前記発光素子より発光された光を所定の方向に偏
光するための偏光フィルタを前記発光素子の近傍に設け
る構成とした。 また、本発明の第２の被処理体検出装置
は、複数の板状の被処理体を所定の間隔を置いて配列し
た状態で一対のアームで把持して搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の一方のアームに取付され、前記複数の被
処理体を光学的に検出するための発光素子を有する発光
部と、前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記複
数の被処理体を光学的に検出するための受光素子を有す
る受光部とを具備し、前記受光素子に入射する光を所定
の方向に偏光するための偏光フィルタを前記受光素子の
近傍に設ける構成とした。

【０００８】本発明の第３の被処理体検出装置は、複数
の板状の被処理体を所定の間隔を置いて配列した状態で
一対のアームで把持しながら所定の処理液に浸漬し、適
当な時間経過後に前記複数の被処理体を前記処理液から
引き上げる搬送手段と、前記搬送手段の一方のアームに
取付され、前記複数の被処理体を光学的に検出するため
の発光素子を気密な第１のケーシングに収容してなる発
光部と、前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記
複数の被処理体を光学的に検出するための受光素子を気
密な第２のケーシングに収容してなる受光部とを具備す
る構成とした。

【０００９】本発明の第４の被処理体検出装置は、複数
の板状の被処理体を所定の間隔を置いて配列した状態で
一対のアームで把持しながら所定の処理液に浸漬し、適
当な時間経過後に前記複数の被処理体を前記処理液から
引き上げる搬送手段と、前記搬送手段の一方のアームに
取付され、前記複数の被処理体を光学的に検出するため
の発光素子を気密な第１のケーシングに収容してなる発
光部と、前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記
複数の被処理体を光学的に検出するための受光素子を気
密な第２のケーシングに収容してなる受光部とを具備
し、前記第１のケーシング内の発光素子と前記第２のケ
ーシング内の受光素子とを前記処理液に浸漬する位置に
設けるとともに、前記第１および第２のケーシングの気
密をそれぞれ保持するためのシール部を処理液の液面よ
りも上方に位置するように設ける構成とした。

【００１０】

【作用】本発明の第１または第２の被処理体検出装置で
は、一方のアームに発光部が取付されるとともに他方の
アームに受光部が取付され、両アームが被処理体を把持
したときには被処理体が光学的に検出可能となるように
発光部と受光部とが被処理体を挟んで相対向する。これ
により、両アームが被処理体を把持している間は何時で
も何処でも被処理体検出を行うことができる。そして、
第１の被処理体検出装置においては、発光素子の近傍に
設けられる偏光フィルタにより、被処理体と平行な方向
に直線偏光された光のみを受光部側へ出射することがで
きる。また、第２の被処理体検出装置においては、受光
素子の近傍に設けられる偏光フィルタにより、被処理体
での反射により部分偏光された不所望な光を遮断して、
誤動作を防止できる。 第３の被処理体検出装置では、発
光部および受光部のケーシングが気密に構成されている
ため、それらが被処理体と一緒に処理液に浸漬された
り、処理液付近の雰囲気に晒されても、ケーシング内に
処理液が侵入するおそれはない。第４の被処理体検出装
置では、発光部および受光部のケーシングを気密に保持
するためのシール部が処理液に浸かることがないため、
シーリング機構を簡易化できる。

【００１１】

【実施例】以下、図１〜図９を参照して本発明の実施例
を説明する。図１〜図５は第１の実施例によるウエハ検
出装置の構成を示す図であり、図１はこのウエハ検出装
置を適用したウエハ洗浄装置の構成を示す斜視図、図２
はこのウエハ検出装置の構成を示す側面図、図３および
図４はこのウエハ検出装置の要部の構成をそれぞれ示す
縦断面図および横断面図、図５はこのウエハ検出装置に
おけるウエハ検出方法を示す略平面図である。

【００１２】この実施例のウエハ洗浄装置において、処
理槽１０には被処理体である半導体ウエハＷを洗浄処理
するための処理液１２が入っている。搬送ロボット１４
は、矢印Ｙの方向に自走して、処理槽１０とウエハ搬入
出口（図示せず）との間で行き来するように構成されて
いる。搬送ロボット１４には矢印Ｚの方向（垂直方向）
に昇降可能なチャック駆動部１６が搭載され、このチャ
ック駆動部１６にウエハチャック１８が取り付けられて
いる。

【００１３】ウエハチヤック１８は、チャック駆動部１
６に矢印Ｘ方向に伸縮自在かつ回転自在に取付された一
対の水平支持杆２０Ａ，２０Ｂと、これらの水平支持杆
２０Ａ，２０Ｂに固着された水平支持板２２Ａ，２２Ｂ
と、これらの水平支持板２２Ａ，２２Ｂの基端部および
先端部にそれぞれ固着された垂直フレーム杆２４Ａ，２
６Ａ，２４Ｂ，２６Ｂと、垂直フレーム杆２４Ａ，２６
Ａの間および２４Ｂ，２６Ｂの間にそれぞれほぼ水平に
横架された２本のウエハ支持杆２８Ａ，３０Ａおよび２
８Ｂ，３０Ｂとから構成されている。

【００１４】水平支持杆２０Ａ、水平支持板２２Ａ、垂
直フレーム杆２４Ａ，２６Ａおよびウエハ支持杆２８
Ａ，３０Ａは、それぞれ石英からなり、一体となって一
方のウエハ把持アーム３２Ａを構成する。水平支持杆２
０Ｂ、水平支持板２２Ｂ、垂直フレーム杆２４Ｂ，２６
Ｂおよびウエハ支持杆２８Ｂ，３０Ｂも、それぞれ石英
からなり、一体となって他方のウエハ把持アーム３２Ｂ
を構成している。チャック駆動部１６の回転駆動によっ
て水平支持杆２０Ａ，２０Ｂが回転すると、両ウエハ把
持アーム３２Ａ，３２Ｂは図２の矢印ＣA,ＣB 方向に開
閉して、１組分のウエハＷ1 〜Ｗ25を一括して着脱可能
に把持するようになっている。各ウエハ支持杆２８Ａ，
３０Ａ，２８Ｂ，３０Ｂの内側にはウエハＷ1 〜Ｗ25を
板面に垂直な方向に一列に配列した状態で保持するため
の溝Ｇ1 〜Ｇ25がほぼ一定の間隔で形成されている。

【００１５】この実施例では、一方のウエハ把持アーム
３２Ａ側の垂直フレーム杆２４Ａ，２６Ａ間に発光部３
４Ａがほぼ水平に取付され、他方のウエハ把持アーム３
２Ａ側の垂直フレーム杆２４Ｂ，２６Ｂ間に受光部３４
Ｂがほぼ水平に取付されている。

【００１６】図３および図４に示すように、発光部３４
Ａは、垂直フレーム杆２４Ａ，２６Ａの相対向する内側
面に両端をシールして挿着または溶着された円筒状の石
英管３６Ａをケーシングとし、この石英管３６Ａの中に
所定数の発光素子３８Ａを所定の間隔を置いて配設して
なるものである。石英管３６Ａ内には、各発光素子３８
Ａを所定方向に向けて保持するための保持部４０と、各
発光素子３８Ａを発光回路４２Ａに電気的に接続するた
めのプリント配線板４４とが長手方向に設けられてい
る。保持部４０は、遮光性の部材からなり、各発光素子
３８Ａより発光される光を受光部３４Ｂの対応する受光
素子へ向けるための透孔４０ａを有している。この透孔
４０ａの前面部には偏光フィルタ４６が取付されてい
る。この偏光フィルタ４６によって、ウエハチャック１
８に把持されている各ウエハＷi のウエハ面と平行な方
向に直線偏光された光のみが受光部３４Ｂ側へ出射され
るようになっている。

【００１７】石英管３６Ａは、気密になっているだけで
なく、次のようなパージング機構によって管内をパージ
されるようになっている。図１に示すように、パージン
グガス供給管４８Ａが、チャック駆動部１６から水平支
持板２２Ａおよび垂直フレーム杆２６Ａの上部に沿って
垂直フレーム杆２６Ａの幅広な中間部の突起上面２６ａ
まで延長し、垂直フレーム杆２６Ａの中間部内に設けら
れた連通孔２６ｂを介して石英管３６Ａの一端に接続さ
れている。一方、パージングガス排気管５０Ａが、チャ
ック駆動部１６から水平支持板２２Ａおよび垂直フレー
ム杆２４Ａの上部に沿って垂直フレーム杆２４Ａの幅広
な中間部の突起上面２４ａまで延長し、垂直フレーム杆
２４Ａの中間部内に設けられた連通孔２４ｂを介して石
英管３６Ａの他端に接続されている。パージングガス供
給管４８Ａ，５０Ａは、垂直フレーム杆２６Ａ，２４Ａ
の幅広な中間部の突起上面２６ａ，２４ａにシールされ
て挿着または溶着されている。

【００１８】かかる構成によれば、ガス供給源（図示せ
ず）よりパージングガス供給管４８Ａおよび通気孔２６
ｂを通って石英管３６Ａの一端より管内に導入されたパ
ージングガスは、管内を長手方向に流れて石英管３６Ａ
の他端より連通孔２４ａを通って排気管５０Ａへ抜け排
気装置（図示せず）へ送られる。このように石英管３６
Ａ内をパージングガスが流れることによって、管内で発
生した塵芥が排出されるだけでなく、管内の温度が安定
に維持されるようになっている。なお、排気管５０Ａお
よび連通孔２４ｂ内には石英管３６Ａ内のプリント配線
板４４を外部の電気回路と接続するための電気ケーブル
４９が挿通されており、排気管５０Ａおよび連通孔２４
ｂは配線に関するシーリングをも兼ねている。

【００１９】受光部３４Ｂは、垂直フレーム杆２４Ｂ，
２６Ｂの相対向する内側面に両端をシールして挿着また
は溶着された円筒状の石英管３６Ｂをケーシングとし、
この石英管３６Ｂの中に所定数の受光素子３８Ｂを所定
の間隔を置いて配設してなるものであり、発光素子３８
Ａが受光素子３８Ｂに置き代わり、発光回路４２Ａが受
光回路４２Ｂに置き代わる等の点を除いては、上記した
受光部３４Ａとほぼ同じ構成になっている。この受光部
３４Ｂに対しても、石英管３６Ｂ内をパージングするた
めのパーシングガス供給管４８Ｂおよびパージングガス
排気管５０Ｂ等がウエハ把持アーム３２Ｂ側に設けられ
ている。

【００２０】図１では、洗浄処理の前後の状態、つまり
ウエハＷ1 〜Ｗ25を処理槽１０の中に入れる直前、また
は処理槽１０から出した直後の状態が示されている。洗
浄処理を行うときは、チャック駆動部１６の下降移動に
よってウエハチヤック１８が処理槽１０の中へ降下し、
ウエハＷ1 〜Ｗ25を処理液１２に漬ける。その際、発光
部３４Ａおよび受光部３４Ｂも処理液１２に浸漬される
が、これらの石英管３６Ａ，３６Ｂは気密に構成されて
いるため、処理液１２が管内に入り込むおそれはない。
また、石英は耐薬品性が高いため、石英管３６Ａ，３６
Ｂが処理液１２によって腐食するおそれもない。また、
上記のように、石英管３６Ａ，３６Ｂ内にはパージング
ガスが供給されるため、処理液１２の温度が高い場合で
も、管内の温度上昇は抑制され、各発光素子３８Ａ，各
受光素子３８Ｂの動作が安定に維持される。

【００２１】次に、図５につき本ウエハ検出装置におけ
るウエハ検出方法を説明する。ウエハチャック１８の両
ウエハ把持アーム３２Ａ，３２Ｂが１組分のウエハＷ1
〜Ｗ25を把持している状態の下では、図５に示すよう
に、発光部３４Ａの各発光素子３８Ａと受光部３４Ｂの
各受光素子３８Ｂとが所定の対応関係で斜向かいに対向
する。すなわち、各隣接するウエハＷi,Ｗi+1 の間隙に
発光素子３８Ａもしくは受光素子３８Ｂが交互に臨むよ
うな千鳥状の配置になっている。

【００２２】ウエハ有無検査や枚数検査等を行うとき、
発光回路４２ＡはＣＰＵ５６の制御の下で、先ず偶数番
目の発光素子３８Ａ(P2),(P4),…をオフにしたまま奇数
番目の発光素子３８Ａ(P1),(P3),…だけを発光駆動す
る。そうすると、たとえばウエハＷ1 が存在していれば
発光素子３８Ａ(P1)からの光Ｌ1 はウエハＷ1 によって
遮光され、受光素子３８Ｂ(Q1)に入射しないため、受光
素子３８Ｂ(Q1)の出力信号は“Ｌ”レベルのままになっ
ている。しかし、ウエハＷ1 が存在していないときは、
発光素子３８Ａ(P1)からの光Ｌ1 は受光素子３８Ｂ(Q1)
に入射し、受光素子３８Ｂ(Q1)より“Ｌ”レベルの出力
信号が得られる。受光素子３８Ｂ(Q1)の出力信号は受光
回路４２Ｂを介してＣＰＵ５６に取り込まれる。このよ
うにして、ウエハＷ1,Ｗ4,Ｗ5,…の有無が同時に検査さ
れる。

【００２３】次に、発光回路４２Ａは、ＣＰＵ５６の制
御の下で、奇数番目の発光素子３８Ａ(P1),(P3),…をオ
フにし、偶数番目の発光素子３８Ａ(P2),(P4),…だけを
発光駆動する。これにより、今度は偶数番目の各発光素
子３８Ａ(P2),(P4),…と各受光素子３８Ｂ(Q1),(Q2),…
とにより、ウエハＷ2,Ｗ3,Ｗ6,Ｗ7,…の有無が同時に検
査される。ＣＰＵ５６は、受光回路４２Ｂからの各受光
素子３８Ｂ(Q1),(Q2),…の出力信号に基づいて、各ウエ
ハＷ1,Ｗ2,…の有無や位置ずれ等を判定し、ウエハ枚数
等を演算し、演算結果やアラーム等を出力する。

【００２４】上記したようなウエハ検出動作は、ウエハ
チャック１８がウエハＷ1 〜Ｗ25を把持している状態で
あれば何時でも何処でも、つまり洗浄処理の前後に限ら
ず、ウエハ搬入出時でも、あるいは洗浄処理中等でも行
うことが可能である。したがって、ウエハ有無検査、枚
数検査等を行うために、ウエハチヤック１８を所定の場
所に位置決めする必要はないので、特別な位置決め機構
を用いる必要がない。また、ウエハ有無検査、枚数検査
等を行うために、特別な検査時間を設ける必要がないの
で、全体的な処理時間が短縮され、処理のスループット
も改善される。

【００２５】本実施例では、両端の発光素子３８Ａ(P
1),(Pn) を除いては各発光素子３８Ａ(Pi)および各受光
素子３８Ｂ(Qi)が２つのウエハＷi,Ｗi+1 の検出に用い
られるため、発光素子３８Ａ、受光素子３８Ｂの使用個
数がウエハの枚数のほぼ半分で済んでいる。また、本実
施例では、各発光素子３８Ａおよび各受光素子３８Ｂの
手前に偏光フィルタ４６を配置し、ウエハ面と平行に直
線偏光された光がウエハＷ1 〜Ｗ25の列を横断するよう
になっている。そうすると、各ウエハＷi で反射された
光はウエハ面に垂直に部分偏光された光となるため、そ
の反射光は各受光素子３８Ｂの偏光フィルタ４６によっ
て遮断される。したがって、ウエハ面からの反射光によ
って各受光素子３８Ｂが誤動作するおそれはない。

【００２６】図６〜図８は、第２の実施例によるウエハ
検出装置の構成を示す図であり、図６はこのウエハ検出
装置を適用したウエハ洗浄装置の構成を示す斜視図、図
７はこのウエハ検出装置における発光部および受光部の
外観構成を示す側面図および正面図、図８はこのウエハ
検出装置における発光部および受光部の内部構成を示す
縦断面図である。これらの図６〜図８において、上記し
た第１実施例のものと同様の構成・機能を有する部分に
は同一の符号を付している。

【００２７】この第２の実施例によるウエハ検出装置に
おいて、発光部５８Ａおよび受光部５８Ｂは、それぞれ
直方体状の密閉な石英管６０Ａ，６０Ｂをケーシングと
している。

【００２８】図７および図８に示すように、発光部５８
Ａの石英管６０Ａは、ウエハチャック基端側の側面上部
に筒状の開口部６０ａを有している。この筒状開口部６
０ａには継手６２Ａを介して配管６４Ａが接続されてい
る。配管６４Ａには、石英管６０Ａ内のプリント基板
（図示せず）に接続する電気ケーブル６６だけでなく、
管内にパージングガスを供給するためのガス供給管６８
も挿通されている。このガス供給管６８の先端口６８ａ
は石英管６０Ａの先端部まで延長している。ガス供給管
６８の先端口６８ａより管内に導入されたパージングガ
スは、管内を先端部から基端部側に流れ、開口部６０ａ
より継手６２Ａ内の貫通孔６２ａおよび配管６４Ａ内の
隙間を通って排気装置（図示せず）へ送出される。

【００２９】石英管６０Ａ内において、発光素子３８Ａ
および発光素子保持部４０は底部に配設されている。石
英管６０Ａは、一方のウエハ把持アーム３２Ａのフレー
ム杆２４Ｂ，２６Ｂの側面に所定の高さで、つまり石英
管６０Ａの上半部がウエハチャック１８に把持されてい
るウエハＷ1 〜Ｗ25の上端縁よりも上に位置するような
高さで、取付される。これにより、洗浄処理時は、図７
の点線ＬＱで示す高さより低い石英管６０Ａの下半部が
処理液１２に沈み、石英管６０Ａの開口部６０ａないし
継手６２は処理液１２に浸かることがない。このよう
に、この第２の実施例では、発光部の５８のシーリング
部が処理液１２に浸からないようになっている。したが
って、開口部６０ａのシーリングを簡易にすることがで
きる。

【００３０】受光部５８Ｂの石英管６０Ｂも上記発光部
５８Ａの石英管６０Ｂと同様に構成されており、石英管
６０Ｂの内部も発光素子３８Ａが受光素子３８Ｂに置き
代わり、発光回路４２Ａが受光回路４２Ｂに置き代わる
等の点を除いては、上記発光部５８Ａの石英管６０Ｂの
内部と同様に構成されている。

【００３１】この第２の実施例でも、ウエハチャック１
８がウエハＷ1 〜Ｗ25を把持している時であれば、何時
でもウエハ有無検査や枚数検査等を行うことができる。

【００３２】図９は、上記した第１または第２の実施例
によるウエハ検出装置の適用可能な半導体ウエハ洗浄シ
ステムの一構成例を示す。この洗浄システムは、インプ
ットバッファ機構７０と洗浄装置本体７２とアウトプッ
トバッファ機構７３とで構成されている。洗浄装置本体
７２の両端部にはローダ部（ウエハ搬入部）７４および
アンローダ部（ウエハ搬出部）７６がそれぞれ設けら
れ、中間部には一列に複数台たとえば９台の処理槽７８
ａ〜７８ｉが配置されている。たとえば、第１の処理槽
７８ｉはウエハチャック洗浄乾燥用であり、第２の処理
槽７８ｂはウエハ薬液洗浄用であり、第３および第４の
処理槽７８ｃ，７８ｄはそれぞれウエハ水洗用であり、
第５の処理槽７８ｅはウエハ薬液洗浄用であり、第６お
よび第７の処理槽７８ｆ，７８ｇはウエハ水洗用であ
り、第８の処理槽７８ｈはウエハチャック洗浄乾燥用で
あり、第９の処理槽７８ｉはウエハ乾燥用である。

【００３３】これらの処理槽７８ａ〜７８ｉの手前に
は、ウエハチャック８０ａ，８０ｂ，８０ｃをそれぞれ
備えた複数台たとえば３台の搬送ロボットまたは搬送装
置８２ａ〜８２ｃが矢印Ｙ方向に移動可能に配置されて
いる。これらの搬送装置８２ａ〜８２ｃはＹ方向におい
て移動または搬送範囲が制限され、それぞれ割り当てら
れた処理槽７８にのみアクセスするようになっている。
これらのウエハチャック８０ａ，８０ｂ，８０ｃは、上
記実施例におけるウエハチャック１８と同様の構成を有
し、上記実施例における発光部３４Ａ（または５８Ａ）
と受光部３４Ｂ（または５８Ｂ）と同様の発光部、受光
部を取付している。

【００３４】インプットバッファ機構７０およびアウト
プットバッファ機構７３には、ウエハキャリア８４を搬
送するためのキャリア搬送アーム８６、ウエハキャリア
８４を一時的に保管するためのキャリア収納部８８、シ
ステム外部とウエハキャリア８４の受け渡しを行うため
のキャリア載置台９０、空のウエハキャリア８４を上昇
または下降させるためのキャリア昇降機９２等が設けら
れている。洗浄装置本体７２においては、ローダ部７４
の上部から搬送装置８２ａ〜８２ｃの上方を通ってアン
ローダ部７６に至るキャリア搬送機構９４が設けられて
いる。インプットバッファ機構７０で空になったウエハ
キャリア８４は、キャリア昇降機９２によってキャリア
搬送機構９４に渡され、アウトプットバッファ機構７３
まで搬送される。その搬送の途中で、ウエハキャリア８
４は、シャワー装置等の洗浄装置で洗浄され、洗浄後に
乾燥エアー吹付機等の乾燥装置によって乾かされるよう
になっている。したがって、アウトプットバッファ機構
７３においては、洗浄・乾燥された清浄なウエハキャリ
ア８４に洗浄処理済のウエハが移載収容されるようにな
っている。

【００３５】以上、本発明の好適な実施例を幾つか説明
したが、本発明はそれらの実施例に限定されるものでは
なく、その技術的思想の範囲内で種々の変形・変更が可
能である。たとえば、ウエハチャックにおける発光部、
受光部の取付箇所または位置は任意に選択することが可
能であり、ケーシングも石英以外の材質で構成すること
が可能である。また、発光部、受光素子における発光素
子、受光素子の個数も任意である。また、ウエハ検出方
式も上記実施例のものに限るものではなく、たとえば一
対の発光素子と受光素子をウエハ配列方向と平行に移動
させてウエハ検査を行うような走査型の構成とすること
も可能である。また、本発明の被処理体検出装置は、洗
浄装置以外の処理装置にも適用可能であり、被処理体と
しては半導体ウエハに限らず、たとえばＬＣＤ基板等で
もよい。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の被処理体
検出装置によれば、搬送手段の一対のアームが被処理体
を把持しているときは何時でも何処でも被処理体の有無
検査や枚数検査等を誤動作なく正確に行うことができ
る。また、発光部および受光部を気密なケーシングに収
容する構成により、洗浄処理等のような処理液を使用す
る処理の最中でも被処理体検出を安全に行うことができ
る。さらには、該ケーシングのシール部が処理液の液面
より上方に位置させた状態での被処理体検出も可能であ
り、ケーシングのシーリング機構を簡易化することもで
きる。したがって、本発明によれば、被処理体検出のた
めに特別な位置決め機構や検出時間を設ける必要はな
く、搬送機構の簡易化、処理時間の短縮化、処理スルー
プットの向上等をはかることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例によるウエハ検出装置を
適用したウエハ洗浄装置の構成を示す斜視図である。

【図２】第１の実施例によるウエハ検出装置の構成を示
す側面図である。

【図３】第１の実施例によるウエハ検出装置の要部の構
成を示す縦断面図である。

【図４】第１の実施例によるウエハ検出装置の要部の構
成を示す横断面図である。

【図５】実施例のウエハ検出装置におけるウエハ検出方
法を示す略平面図である。

【図６】本発明の第２の実施例によるウエハ検出装置を
適用したウエハ洗浄装置の構成を示す斜視図である。

【図７】第２の実施例によるウエハ検出装置における発
光部および受光部の外観構成を示す図である。

【図８】第２の実施例によるウエハ検出装置における発
光部および受光部の内部構成を示す縦断面図である。

【図９】第１または第２の実施例によるウエハ検出装置
の適用可能な半導体ウエハ洗浄システムの一構成例を示
す斜視図である。

【図１０】従来のウエハ検出装置の構成を示す斜視図で
ある。

【図１１】従来のウエハ検出装置の要部の構成を示す部
分拡大正面図である。

【符号の説明】

１４ 搬送ロボット １６ チャック駆動部 １８ ウエハチャック ３２Ａ，３２Ｂ ウエハ把持アーム ３４Ａ 発光部 ３４Ｂ 受光部 ３６Ａ，３６Ｂ 石英管 ３８Ａ 発光素子 ３８Ｂ 受光素子 ５８Ａ 発光部 ５８Ｂ 受光部 ６０Ａ，６０Ｂ 石英管

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−294535（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−239344（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−315309（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−106830（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−112640（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 648 B08B 3/04 G01V 8/20 H01L 21/68

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の板状の被処理体を所定の間隔を置
   いて配列した状態で一対のアームで把持して搬送する搬
   送手段と、 前記搬送手段の一方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための発光素子を有する発光
   部と、 前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための受光素子を有する受光
   部とを具備し、 前記発光素子より発光された光を所定の方向に偏光する
   ための偏光フィルタを前記発光素子の近傍に設けたこと
   を特徴とする 被処理体検出装置。
2. 【請求項２】 複数の板状の被処理体を所定の間隔を置
   いて配列した状態で一対のアームで把持して搬送する搬
   送手段と、 前記搬送手段の一方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための発光素子を有する発光
   部と、 前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための受光素子を有する受光
   部とを具備し、 前記受光素子に入射する光を所定の方向に偏光するため
   の偏光フィルタを前記受光素子の近傍に設けたことを特
   徴とする 被処理体検出装置。
3. 【請求項３】 複数の板状の被処理体を所定の間隔を置
   いて配列した状態で一対のアームで把持しながら所定の
   処理液に浸漬し、適当な時間経過後に前記複数の被処理
   体を前記処理液から引き上げる搬送手段と、 前記搬送手段の一方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための発光素子を気密な第１
   のケーシングに収容してなる発光部と、 前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための受光素子を気密な第２
   のケーシングに収容してなる受光部とを具備したことを
   特徴とする 被処理体検出装置。
4. 【請求項４】 複数の板状の被処理体を所定の間隔を置
   いて配列した状態で一対のアームで把持しながら所定の
   処理液に浸漬し、適当な時間経過後に前記複数の被処理
   体を前記処理液から引き上げる搬送手段と、 前記搬送手段の一方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出 するための発光素子を気密な第１
   のケーシングに収容してなる発光部と、 前記搬送手段の他方のアームに取付され、前記複数の被
   処理体を光学的に検出するための受光素子を気密な第２
   のケーシングに収容してなる受光部とを具備し、 前記第１のケーシング内の発光素子と前記第２のケーシ
   ング内の受光素子とを前記処理液に浸漬する位置に設け
   るとともに、前記第１および第２のケーシングの気密を
   それぞれ保持するためのシール部を処理液の液面よりも
   上方に位置するように設けたことを特徴とする 被処理体
   検出装置。
5. 【請求項５】 前記第１および第２のケーシング内にパ
   ージング用のガスを供給するためのガス供給手段を有す
   ることを特徴とする請求項３または４に記載の被処理体
   検出装置。