JP3061339B2

JP3061339B2 - 洗浄装置

Info

Publication number: JP3061339B2
Application number: JP15615393A
Authority: JP
Inventors: 裕二上川; 栄一向井
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1993-06-01
Filing date: 1993-06-01
Publication date: 2000-07-10
Anticipated expiration: 2015-07-10
Also published as: JPH06342779A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程では半導体装置の機能を
損なわないように半導体ウエハへのパーティクル等の汚
染物質の付着を最大限防止することが重要であり、従来
から半導体ウエハの各処理工程で種々の汚染防止対策が
講じられている。特に洗浄装置は被処理体（例えば半導
体ウエハ）表面のパーティクル、有機汚染物、あるいは
金属不純物などのコンタミネーションを除去する目的で
半導体装置の製造工程において随所で反復して用いられ
ている。特にウェット洗浄装置はパーティクルを効果的
に除去できると共にバッチ処理ができるため重要な洗浄
手段として現在広く普及している。

【０００３】このような洗浄装置は、通常、所定枚数の
半導体ウエハをカセット単位でロードするロード機構
と、このロード機構によってロードされたカセットから
半導体ウエハを所定枚数ずつ搬送するウエハ搬送機構及
び空のカセットを搬送するカセット搬送機構と、上記ウ
エハ搬送機構によって搬送された複数の半導体ウエハを
それぞれアルカリ処理、水洗処理及び酸処理などにより
一括して洗浄するように順次配列された複数種の洗浄処
理槽と、各洗浄処理槽によって洗浄された半導体ウエハ
をアンロードするアンロード機構とを備えて構成されて
いる。

【０００４】また、洗浄装置には半導体ウエハ及びカセ
ットを搬送するために種々の駆動機構が設けられてい
る。これらの駆動機構にはパーティクルの発生を抑制す
る対策が講じられているものの、これらの駆動機構から
のパーティクルの発生は皆無とは言えず、そのため、洗
浄装置内の空間には要所要所で清浄な空気を流して半導
体ウエハ及びカセットにパーティクル等の汚染物質が付
着しないようにしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
洗浄装置の場合には、空のカセットを搬送するカセット
搬送機構などに駆動機構が用いられているため、その駆
動機構から発生したパーティクル等の塵埃がカセットの
搬送路内に進入して浮遊し、搬送路の内部を移動するカ
セットに浮遊した塵埃が付着し、このカセットに洗浄後
の半導体ウエハを収納すると、カセットに付着した塵埃
で洗浄後の半導体ウエハを汚染するという課題があっ
た。

【０００６】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、洗浄処理と並行して搬送する筐体へのパー
ティクル等の塵埃の付着を防止する洗浄装置を提供する
ことを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
の洗浄装置は、被処理体を洗浄する際に、被処理体を筐
体から取り出して洗浄機構で洗浄すると共に、被処理体
の取り出された筐体を被処理体の洗浄と並行して筐体搬
送機構により搬送する洗浄装置において、上記筐体搬送
機構は、上記筐体を支承する支承体と、この支承体を搬
送路に沿って往復移動させる搬送駆動機構と、この搬送
駆動機構と上記搬送路を区画し且つこれら両者を包囲し
て上記搬送駆動機構の収納室及び上記搬送路に即した搬
送室をそれぞれ形成する包囲体とを備え、上記搬送室に
洗浄装置の外側から上記搬送室の内部に空気を吸引する
吸引口を設けると共に上記収納室と上記搬送室を区画す
る第１隔壁に第１通気孔を設け、更に上記収納室に第２
隔壁を介して排気ダクトを並設すると共にこの第２隔壁
に第２通気孔を設け、洗浄装置の外側から上記搬送室内
に吸引された空気を第１通気孔、上記収納室及び第２通
気孔を通過させて上記排気ダクトから洗浄装置の外側へ
排出するように構成されたものである。

【０００８】また、本発明の請求項２に記載の洗浄装置
は、請求項１に記載の発明において、上記搬送室内で上
記筐体に帯電した静電気を除去する除電手段を上記搬送
室内に設けて構成されたものである。

【０００９】また、本発明の請求項３に記載の洗浄装置
は、請求項１または請求項２に記載の発明において、上
記搬送室内で上記筐体に帯電した静電気を測定する静電
気測定手段を上記搬送室に設けて構成されたものでる。

【００１０】また、本発明の請求項４に記載の洗浄装置
は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明に
おいて、上記搬送駆動機構は、上記搬送路の上流端側に
配設されたモータと、このモータとその下方でチェーン
により連結されたスプロケットと、このスプロケットと
上記搬送路の下流端側に配設されたスプロケットに掛け
渡されたチェーンと、このチェーン及びこのチェーンで
連結された両端側のスプロケットを収納する上記収納室
と、この収納室と上記搬送室間の第１隔壁に沿って形成
された上記第１通気孔を介して上記支承体と上記チェー
ンを連結する連結部材とを備えて構成されたものであ
る。

【００１１】また、本発明の請求項５に記載の洗浄装置
は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発明に
おいて、上記吸引口を上記搬送室の上面に設けて構成さ
れたものである。

【００１２】また、本発明の請求項６に記載の洗浄装置
は、請求項４または請求項５に記載の発明において、上
記第２隔壁に沿って第２通気孔を設けて構成されたもの
である。

【００１３】

【作用】本発明の請求項１に記載の発明によれば、被処
理体の洗浄と並行して筐体搬送機構で筐体を搬送する
際、包囲体により搬送路に即して形成された搬送室の吸
引口から搬送室内へ洗浄装置の外側の空気を吸引し、こ
の空気を第１通気孔、搬送駆動機構の収納室及び第２通
気孔を通過させて排気ダクトから洗浄装置の外側へ排気
することによって搬送室内に空気流を形成し、この空気
流により仮に搬送室内にパーティクル等の塵埃が進入す
ることがあってもその塵埃を排気ダクトから洗浄装置の
外側へ排出することができ、しかも筐体に塵埃が付着し
てもこの空気流によってその塵埃を吹き飛ばし、塵埃の
筐体への付着を防止することができる。

【００１４】また、本発明の請求項２に記載の発明によ
れば、請求項１に記載の発明において、包囲体により搬
送路に即して形成された搬送室に従って筐体を搬送する
間に、筐体と空気流との摩擦により筐体に静電気が帯電
しても、除電手段により筐体の静電気を除き、静電気に
よる筐体への塵埃の吸着を防止することができる。

【００１５】また、本発明の請求項３に記載の発明によ
れば、請求項１または請求項２に記載の発明において、
包囲体により形成された搬送室に従って筐体を搬送する
間に、筐体と空気流との摩擦により筐体に静電気が帯電
すると、筐体で帯電した静電気量を静電気測定手段によ
って測定することができる。

【００１６】また、本発明の請求項４に記載の発明によ
れば、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明
において、上記搬送駆動機構のモータが駆動し、チェー
ンを介して下方で搬送室の上流端側のスプロケットが収
納室内で回転し、更にこのスプロケットと搬送路の下流
端側のスプロケットと連結するチェーンが収納室内で回
転すると、連結部材を介して支承体が搬送路に沿って移
動し、回転時に駆動部で発生する塵埃を収納室内に封じ
込めることができる。

【００１７】また、本発明の請求項５に記載の発明によ
れば、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発明
において、上記搬送室上面の吸引口から洗浄装置の外側
の空気を吸引し、搬送室内で下降流の空気流を作ること
ができる。

【００１８】また、本発明の請求項６に記載の発明によ
れば、請求項４または請求項５に記載の発明において、
上記チェーンの収納室で発生した塵埃を第２隔壁の第２
通気孔から排気ダクトを通過させて洗浄装置の外側へ排
出することができる。

【００１９】

【実施例】以下、図１〜図４に示す実施例に基づいて本
発明を説明する。本実施例の洗浄装置は、図１に示すよ
うに、被処理体（例えば半導体ウエハ）を筐体（例えば
カセットＣ）に収納した状態で搬入する搬入機構１０
と、この搬入機構１０から半導体ウエハＷを取り出して
洗浄処理する洗浄機構２０と、この洗浄機構２０に沿っ
てその上方に配設され且つ空になったカセットＣを搬送
するカセット搬送機構３０と、このカセット搬送機構３
０から搬送されて来たカセットＣに上記洗浄機構２０か
らの半導体ウエハを収納して外部へ搬出する搬出機構４
０とを備えて構成されている。

【００２０】上記搬入機構１０は、搬入口１１から搬入
された半導体ウエハを後述するカセットリフタ１２によ
りカセット単位で受け取った後、ローダ１３でカセット
Ｃから半導体ウエハを取り出す一方、空のカセットＣを
カセットローダ１４により上記カセット搬送機構３０へ
引き渡すように構成されている。また、上記洗浄機構２
０は、例えば、薬液処理により半導体ウエハ表面の有機
汚染物、金属不純物あるいはパーティクル等の不要物質
を除去した後、水洗処理し、更に乾燥処理して上記搬出
機構４０へ半導体ウエハを引き渡すように構成されてい
る。また、上記搬出機構４０は、搬送されて来たカセッ
トＣをカセット搬送機構３０からカセットローダ４１で
受け取り、カセットリフタ４２により下方のアンローダ
４３へ搬送し、このアンローダ４１により洗浄機構２０
の半導体ウエハをカセットＣ内に収納した後、カセット
リフタ４２によりカセット単位で半導体ウエハを一時的
に保管室４４へ保管し、その後搬出口４５から半導体ウ
エハをカセット単位で適宜を搬出するように構成されて
いる。

【００２１】そして、上記カセット搬送機構３０は、カ
セットＣを例えば２個ずつ載せた状態で搬送し、その間
に上面から清浄な空気を吸引してカセットＣに吹付けて
塵埃のカセットＣへの付着を防止すると共に帯電した静
電気を除去して塵埃のカセットＣへの付着を防止するよ
うに構成されている。即ち、このカセット搬送機構３０
は、図２に示すように、上記搬入機構１０から受け取っ
たカセットＣを支承する支承体としての第１カセット台
３１と、この第１カセット台３１を搬送路３２に沿って
往復移動させる搬送駆動機構３３と、これらを搬送路３
２を包囲して搬送室を形成する包囲体としてのカバー３
４とを備えて構成されている。以下の説明では搬送路３
２を搬送室３２として説明する。上記第１カセット台３
１は、図１、図２に示すように、細長い矩形状のプレー
ト３１Ａ、３１Ａによって構成されている。これらのプ
レート３１Ａ、３１Ａ間には隙間が形成され、この隙間
に後述する上記カセットローダ１４の第２カセット台１
４Ａが後述のように進入してカセットＣを２個ずつ第１
カセット台３１Ａ、３１Ａへ引き渡すように構成されて
いる。

【００２２】そして、上記搬送駆動機構３３は、例えば
図２に示すように、上記搬送室３２の上流側に配設され
たモータ３３Ａと、このモータ３３Ａとその下方でチェ
ーンにより連結されたスプロケット３３Ｂと、このスプ
ロケット３３Ｂと上記搬送室３２の下流側に配設された
スプロケット（図示せず）に掛け渡されたチェーン３３
Ｃとを備えて構成されている。また、図３に示すように
上記搬送室３２の両側の下方には、この搬送室３２に沿
って上記チェーン３３Ｃを収納するチェーン収納室３
５、３５がそれぞれカバー３４によって形成されてい
る。そして、これらのチェーン収納室３５の内側面には
その上流から下流に亘ってスリット３５Ａが第１通気孔
として形成され、このスリット３５Ａを介して上記第１
カセット台３１と上記チェーン３３Ｃが連結板３３Ｄに
よって連結されている（図３参照）。

【００２３】また、図１、図２に示すように上記カバー
３４で形成される搬送室３２の上流側及び下流側の双方
には吸引口３４Ａがそれぞれ形成され、これらの吸引口
３４Ａからクリーンルームの清浄な空気を吸引するよう
に構成されている。一方、上記チェーン収納室３５、３
５のうち、背面側（図２では奥側）のチェーン収納室３
５の外側面に上記スリット３５Ａと同様のスリット３５
Ｂが第２通気孔として上記スリット３５Ａに対向して図
３に示すように形成されている。また、図３に示すよう
に上記チェーン収納室３５の外側には排気ダクト３６が
並設され、排気ダクト３６に配設された吸引手段により
クリーンルームの空気を吸引口３４Ａから搬送室３２内
へ吸引し、この空気をスリット３５Ａ、チェーン収納室
３５、スリット３５Ｂ及び排気ダクト３６を通過させて
洗浄装置の外部へ排気するように構成されている。従っ
て、このカセット搬送機構３０では、２個のカセットＣ
を第１カセット台３１を介して搬送室３２内を搬送する
間に、カバー３４の吸引口３４Ａから清浄な空気をクリ
ーンルームから搬送室３２内へ吸引し、この清浄な空気
をスリット３５Ａ、チェーン収納室３５、スリット３５
Ｂ及び排気ダクト３６を通過させて洗浄装置の外部へ排
気する空気流を作ることにより、搬送室３２内の空気を
更新するようになっている。即ち、このカセット搬送機
構３０は搬送室３２から排気ダクト３６に至る空気流に
よってチェーン収納室３６内でチェーン３３Ｃなどの摩
擦により発生したパーティクル等の塵埃を搬送室３２内
へ持ち込むことなく、スリット３５Ｂ及び排気ダクト３
６を介して洗浄装置の外部へ排出するように構成されて
いる。尚、上記吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５
Ｂは除塵フィルターを備えたものであっても良い。

【００２４】また、上記搬送室３２の下流側近傍には搬
送室３２内を搬送されて来るカセットＣでの静電気の帯
電量を計測する測定装置（本実施例では静電気測定プレ
ート）３７が配設され、この静電気測定プレート３７に
よって搬送室を通過する間に内部の空気流との摩擦によ
りカセットＣに帯電した静電気量を測定するように構成
されている。更に、この静電気測定プレート３７の下流
側の上方には除電装置３８が配設され、その下方を通過
するカセットＣに除電装置３８によってイオンシャワー
を吹付けて除電するように構成されている。従って、カ
セット搬送機構３０では、その搬送室３２内をカセット
Ｃが通過する間に空気流との摩擦により帯電して空気流
中の塵埃を吸着することがあっても、静電気測定プレー
ト３７によってその帯電量を計測し、この計測値に応じ
て除電装置３８からイオンシャワーを吹付けてカセット
Ｃの静電気を除電し、更に空気流によってカセットＣ表
面の塵埃を吹き飛ばすように構成されている。

【００２５】また、上記搬送室３２下流端の第１カセッ
ト台３１の停止位置には第１、第２、第３フォトセンサ
３９Ａ、３９Ｂ、３９Ｃが上流側から下流側へ順次配設
されている。そして、第１フォトセンサ３９Ａによるカ
セットＣの検出信号によりモータ３３Ａの回転速度を低
下させて第１カセット台３１の移動速度をスローダウン
させ、第２フォトセンサ３９ＢによるカセットＣの検出
信号によりモータ３３Ａの回転を停止させるように構成
され、また、仮に第２フォトセンサ３９Ｂの検出でモー
タ３３Ａが停止せずカセットＣがオーバーランした場合
でも、第３フォトセンサ３９ＣによるカセットＣの検出
信号に基づいてモータ３３Ａを確実に停止させ、カセッ
トローダ４１に対してカセットＣを引き渡せるように構
成されている。

【００２６】一方、上記搬入機構１０を構成するカセッ
トリフタ１２は、図４（ａ）に示すように、２個のカセ
ットＣを吊持するアーム１２Ａ、１２Ａと、これら両者
１２Ａ、１２ＡをＦ方向で拡縮駆動するアーム駆動機構
１２Ｂと、このアーム駆動機構１２Ｂを上下方向（Ｚ方
向）で駆動するボールネジなどから構成された昇降機構
１２Ｃと、この昇降機構１２Ｃを左右方向（Ｘ方向）で
駆動するように連結したボールネジなどから構成された
水平駆動機構１２Ｄとを備えて構成されている。また、
上記昇降機構１２Ｃの背面には昇降機構１２Ｃの左右の
駆動に追随する排気ダクト１２Ｅが連結され、この排気
ダクト１２Ｅを介して図示しない排気装置により常時内
部で発生するパーティクル等の塵埃を除去するように構
成されている。また、上記水平駆動機構１２Ｄにも排気
ダクト１２Ｆが連結され、この排気ダクト１２Ｆを介し
て図示しない排気装置により常時内部で発生するパーテ
ィクル等の塵埃を除去するように構成されている。上記
排気ダクト１２Ｅは、図４（ｂ）に示すようにガイド部
材１２Ｇ内に収納され、水平駆動機構１２ＤによってＸ
方向へ移動する昇降機構１２Ｃに追随するように構成さ
れている。尚、上記搬出機構４０にも同様の図示しない
カセットリフタが配設されている。

【００２７】また、上記カセットリフタ１２と上記カセ
ット搬送機構３０の上流端との間にはカセットローダ１
４が配設され、このカセットローダ１４を介して上記カ
セットリフタ１２のカセットＣをカセット搬送機構３０
へ引き渡すように構成されている。このカセットローダ
１４は上記搬出機構４０を構成するカセットローダ４１
と同様に構成されている。このカセットローダ１４は、
図２に示すように、２個のカセットＣを支承する、細長
で矩形状の第２カセット台１４Ａと、このカセット台１
４Ａを下流端に位置する上記第１カセット台３１の隙間
に対して進退動させ且つこの隙間で第２カセット台１４
Ａを下降させて第１カセット台３１に２個のカセットＣ
を同時に引き渡す図示しない駆動機構とを備えて構成さ
れている。また、これらのカセット台１４Ａ、３１上の
カセットＣは、第４フォトセンサ１５Ａ及び第５フォト
センサ１５Ｂによって光学的に検出されるように構成さ
れている。そして、上記カセットローダ１４及び上記カ
セット搬送機構３０の駆動機構はこれらのフォトセン
サ１５Ａ、１５ＢによるカセットＣの検出にしたがって
駆動するように構成されている。

【００２８】次に、本実施例の洗浄装置の動作について
説明する。例えば２５枚単位でカセットＣに収納された
半導体ウエハＷを搬入口１１から搬入機構１０内へ搬入
すると、カセットリフタ１２が駆動して搬入されたカセ
ットＣを２個単位でローダ１３へ移載する。ローダ１３
では２個のカセットＣが供給されると、ローダ１３で２
個のカセットＣ内の半導体ウエハのオリエンテーション
フラットを一方向に揃えて５０枚の半導体ウエハＷを位
置決めした後、洗浄機構２０へ半導体ウエハを引き渡
し、この洗浄機構２０により上述した所定の洗浄処理を
行なう。

【００２９】一方、カセットリフタ１２は、そのアーム
１２Ａ、１２ＡがＦ方向で拡縮して空になった２個のカ
セットＣを掴み、昇降機構１２Ｃが駆動してカセットＣ
を持ち上げた後、水平移動機構１２Ｄによりアーム１２
Ａ、１２Ａをカセットローダ１４上へ水平移動させてカ
セットＣをその第２カセット台１４Ａに引き渡す。この
カセットＣを第４フォトセンサ１５Ａにより確認する
と、カセットローダ１４の駆動機構が駆動して搬送室３
２で待機する第１カセット台３１の隙間に第２カセット
台１４Ａを進入させると共に第１カセット台３１から下
降させ、カセットＣを第１カセット台３１へ引き渡し、
次いでその位置から元の位置へ第２カセット台１４Ａを
復帰させ、次のカセットＣを待機する。

【００３０】上記カセット搬送機構３０では、第１カセ
ット台３１上のカセットＣを第５フォトセンサ１５Ｂで
確認すると、その搬送駆動機構３３のモータ３３Ａが駆
動し、スプロケット３３Ｂ、チェーン３３Ｃを介して第
１カセット台３１が搬送室３２に沿って下流側へ所定の
速度で移動する。この間搬送室３２ではカバー３４の吸
引口３４Ａからクリーンルームの清浄な空気を搬送室３
２の内部へ吸引すると、その空気がスリット３５Ａ、チ
ェーン収納室３５及びスリット３５Ｂを通過して排気ダ
クト３６へ達し、排気ダクト３６から外部へ排気される
ため、搬送室３２内では常に清浄な空気流が形成されて
いる。この空気流との関係から、カセットＣは、好まし
くは５０〜５００mm／秒の速度で搬送させる。この速度
が５０mm／秒未満ではカセット搬送が洗浄処理の律速段
階になって洗浄処理速度を制約することになって好まし
くなく、また、５００mm／秒を超えると搬送室３２内で
周囲からパーティクル等の塵埃を巻き上げる虞があって
好ましくない。従って、カセットＣを上述の速度範囲で
搬送すれば、搬送駆動機構３３のチェーン３３Ｃなどの
駆動部から塵埃が発生しても、搬送室３２からチェーン
収納室３５を通過して排気ダクト３６へ流れる空気流に
よって塵埃を洗浄装置の外部へ排出し、搬送室３２内へ
の塵埃の進入を防止し、仮にスリット３５Ａから塵埃が
混入することがあっても、この空気流によって再びスリ
ット３５Ａ、チェーン収納室３５及びスリット３５Ｂを
通過して排気ダクト３６から外部へ排出し、搬送室３２
内では極力清浄な雰囲気を形成して塵埃のカセットＣへ
の付着を軽減することができる。

【００３１】また、このような雰囲気下ではカセットＣ
と空気流との摩擦によりカセットＣの表面に静電気が帯
電し、この静電気により僅に浮遊する塵埃をカセットＣ
表面に吸着する。この状態で搬送室３２を移動してカセ
ットＣが下流端近傍に達すると、このカセットＣの静電
気を静電気測定プレート３７によって計測し、その計測
値に応じて除電装置３８からイオンシャワーを吹付け、
その下方を通過する間にカセットＣの静電気を除去し、
またこの時空気流の作用と相俟ってカセットＣに付着し
た僅かな塵埃を吹き飛ばす。除電されたカセットＣを第
１フォトセンサ３９Ａで検出すると、この検出信号によ
りモータ３３Ａが減速回転するとカセットＣの移動速度
がスローダウンする。次いで第２フォトセンサ３９Ｂで
カセットＣを検出すると、その検出信号によりモータ３
３Ａが停止して所定の位置で第１カセット台３１を停止
させる。この時、仮に第１カセット台３１がオーバーラ
ンすることがあっても、第３フォトセンサ３９Ｃでカセ
ットＣを検出し、その検出信号に基づいて第１カセット
台３１が確実に停止する。

【００３２】次いで、搬出機構４０のカセットローダ４
１が駆動してその第３カセット台４１Ａを第２カセット
台１４Ａとは逆の動作で第１カセット台３１から２個の
カセットＣを受け取る。その後、カセットリフタ４２が
駆動してカセットローダ４１からカセットＣを受け取っ
てアンローダ４３へ移載すると、アンローダ４３では洗
浄後の半導体ウエハを洗浄機構２０から２個のカセット
Ｃ内へ収納する。その後、再びカセットリフタ４２のア
ームで２個のカセットＣを掴み、アームを移動させて半
導体ウエハをカセットＣに収納した状態で保管室４４で
一時的に保管する。そして、必要に応じて搬出口４５か
ら半導体ウエハを搬出して後工程へ搬送する。

【００３３】以上説明したように本実施例によれば、半
導体ウエハの洗浄と並行してカセット搬送機構３０によ
りカセットＣを搬送する際、カバー３４の吸引口３４Ａ
から搬送室３２内へ清浄な空気を吸引し、この空気がス
リット３５Ａ、チェーン収納室３５及びスリット３５Ｂ
を通過して排気ダクト３６に達し、排気ダクト３６から
洗浄装置の外部へ排気され、搬送室３２内で常に空気流
が形成され、搬送室３２内の空気を常に更新するように
しているため、搬送駆動機構３３などの駆動部から発生
するパーティクル等の塵埃が搬送室３２内へ進入する虞
がなく、仮に塵埃が搬送室３２内に混入することがあっ
ても、その塵埃を上述の空気流によって既にカセットＣ
に付着した塵埃と共に外部へ除去することができ、延い
ては、洗浄後の半導体ウエハをカセットＣに収納しても
半導体ウエハに対して塵埃が付着することがなく、洗浄
された清浄な状態のままで半導体ウエハを後工程へ引き
渡すことができる。

【００３４】また、本実施例によれば、搬送室３２の下
流端部で除電装置３８によりカセットＣに帯電した静電
気を除去するようにしてあるため、搬送室３２からカセ
ットＣを排出する直前に除電して静電気により付着した
塵埃を空気流によって吹き飛ばし、塵埃のカセットＣへ
の付着をより確実に防止することができる。

【００３５】また、本実施例によれば、搬送室３２内で
カセットＣに帯電した静電気を測定する静電気測定プレ
ート３７を設けたため、搬送室３２においてカセットＣ
に帯電した静電気を静電気測定プレート３７よって測定
し、カセットＣの除電タイミングを知ることができる。

【００３６】また、本実施例によれば、上記搬送駆動機
構３３は、搬送室３２の上流端側に配設されたモータ３
３Ａと、このモータ３３Ａとその下方でチェーンにより
連結されたスプロケット３３Ｂと、このスプロケット３
３Ｂと搬送室３２の下流端側に配設されたスプロケット
に掛け渡されたチェーン３３Ｃと、このチェーン３３Ｃ
及びこのチェーン３３Ｃで連結された両端側のスプロケ
ットを収納するチェーン収納室３５と、この収納室３５
に沿って形成されたスリット３５Ａを介して第１カセッ
ト台３１とチェーン３３をＣ連結する連結板３３Ｄとを
備えているため、カセットＣを第１カセット台３１で搬
送する時に搬送駆動機構３３が駆動して塵埃が発生して
も、この塵埃をチェーン３３Ｃ等の収納室３５に封じ込
め、カセットＣ側へ達する虞がない。

【００３７】また、本実施例によれば、吸引口３４Ａを
カバー３４の上面部に設けたため、カバー３４上面の吸
引口３４Ａからクリーンルームの清浄な空気を吸引し、
カバー３４内で下降流の空気流を作り、カセットＣへの
塵埃の付着を防止することができる。

【００３８】また、本実施例によれば、上記チェーンの
収納室３５に沿ってスリット３５Ａを設けたため、チェ
ーンの収納室３５で発生した塵埃をスリット３５Ａから
外部へ排出することができる。

【００３９】尚、上記実施例ではカセット搬送機構３０
を洗浄機構２０の上部に配設したものについて説明した
が、カセット搬送機構３０の場所は上記実施例に制限さ
れるものでなく、必要に応じて適宜設置場所を変更する
ことができる。また、搬送室３２のカバー３４に形成す
る吸引口３４Ａ及びスリット３５Ａ、３５Ｂ並びに排気
ダクト３６の形態も上記実施例に制限されるものではな
い。また、本発明のおける除電手段は必要に応じて公知
のものの中から適宜選択することができる。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項１に
記載の発明によれば、筐体の搬送室内の空気を吸引口、
第１通気孔、収納室、第２通気孔及び排気ダクトを介し
て清浄な空気に更新するようにしたため、洗浄処理と並
行して搬送する筐体へのパーティクル等の塵埃の付着を
確実に防止する洗浄装置を提供することができる。

【００４１】また、本発明の請求項２に記載に発明によ
れば、請求項１に記載の発明において、搬送室内で筐体
に帯電した静電気を除去するようにしたため、静電気に
よる筐体へのパーティクル等の塵埃の付着を防止する洗
浄装置を提供することができる。

【００４２】また、本発明の請求項３に記載の発明によ
れば、請求項１または請求項２に記載の発明において、
上記搬送室内で上記筐体に帯電した静電気を測定する静
電気測定手段を設けたため、搬送室において筐体に帯電
した静電気を静電気測定手段によって測定する洗浄装置
を提供することができる。

【００４３】また、本発明の請求項４に記載の発明によ
れば、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の発明
において、上記搬送駆動機構は、上記搬送室の上流端側
に配設されたモータと、このモータとその下方でチェー
ンにより連結されたスプロケットと、このスプロケット
と上記搬送室の下流端側に配設されたスプロケットに掛
け渡されたチェーンと、このチェーン及びこのチェーン
で連結された両端側のスプロケットを収納する収納室
と、この収納室と搬送室間の第１隔壁に沿って形成され
た第１通気孔を介して上記支承体と上記チェーンを連結
する連結部材とを備えているため、筐体を支承体で搬送
する時に搬送駆動機構が駆動して塵埃が発生しても、こ
の塵埃をチェーン等の収納室に封じ込める洗浄装置を提
供することができる。

【００４４】また、本発明の請求項５に記載の発明によ
れば、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発明
において、上記吸引口を上記搬送室の上面に設けたた
め、上記搬送室上面の吸引口から洗浄装置の外側の空気
を吸引し、搬送室内で下降流の空気流を作り、筐体への
塵埃の付着を防止できる洗浄装置を提供することができ
る。

【００４５】また、本発明の請求項６に記載の発明によ
れば、請求項４または請求項５に記載の発明において、
上記チェーンの収納室に沿って第２通気孔を設けたた
め、上記チェーンの収納室で発生した塵埃を第２通気孔
を通過させて排気ダクトから洗浄装置の外側へ排出する
洗浄装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置の一実施例の全体を示す外観
図である。

【図２】図１に示す洗浄装置のカセット搬送機構を中心
に破断して示す要部斜視図である。

【図３】図１に示すカセット搬送機構の排気路の一部を
拡大して要部斜視図である。

【図４】図２に示すカセットリフタを取り出して示す斜
視図である。

【符号の説明】

２０洗浄機構３０カセット搬送機構３１第１カセット台３２搬送路３３搬送駆動機構３４カバー（包囲体）３５Ａスリット（排気口）３５Ｂスリット（排気口）３６排気ダクト（排気路）３８除電装置（除電手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/02,21/68,21/304

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を洗浄する際に、被処理体を筐
体から取り出して洗浄機構で洗浄すると共に、被処理体
の取り出された筐体を被処理体の洗浄と並行して筐体搬
送機構により搬送する洗浄装置において、上記筐体搬送
機構は、上記筐体を支承する支承体と、この支承体を搬
送路に沿って往復移動させる搬送駆動機構と、この搬送
駆動機構と上記搬送路を区画し且つこれら両者を包囲し
て上記搬送駆動機構の収納室及び上記搬送路に即した搬
送室をそれぞれ形成する包囲体とを備え、上記搬送室に
洗浄装置の外側から上記搬送室の内部に空気を吸引する
吸引口を設けると共に上記収納室と上記搬送室を区画す
る第１隔壁に第１通気孔を設け、更に上記収納室に第２
隔壁を介して排気ダクトを並設すると共にこの第２隔壁
に第２通気孔を設け、洗浄装置の外側から上記搬送室内
に吸引された空気を第１通気孔、上記収納室及び第２通
気孔を通過させて上記排気ダクトから洗浄装置の外側へ
排出することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】上記搬送室内で上記筐体に帯電した静電
気を除去する除電手段を上記搬送室内に設けたことを特
徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】上記搬送室内で上記筐体に帯電した静電
気を測定する静電気測定手段を上記搬送室に設けたこと
を特徴とする請求項１または請求項２に記載の洗浄装
置。
【請求項４】上記搬送駆動機構は、上記搬送路の上流
端側に配設されたモータと、このモータとその下方でチ
ェーンにより連結されたスプロケットと、このスプロケ
ットと上記搬送路の下流端側に配設されたスプロケット
に掛け渡されたチェーンと、このチェーン及びこのチェ
ーンで連結された両端側のスプロケットを収納する上記
収納室と、この収納室と上記搬送室間の第１隔壁に沿っ
て形成された上記第１通気孔を介して上記支承体と上記
チェーンを連結する連結部材とを備えたことを特徴とす
る請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の洗浄装
置。
【請求項５】上記吸引口を上記搬送室の上面に設けた
ことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に
記載の洗浄装置。
【請求項６】上記第２隔壁に沿って第２通気孔を設け
たことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の洗
浄装置。