CN100405570C - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，可缩短基板处理装置的全长，并可降低装置的制造成本。本发明的基板处理装置中，基板运送机器人(411)的基部(4113)及中间台(4112)，使手部(4111)在运送室(41a)和与其邻接设置的边缘冲洗部(34)之间进退动作，从而进行边缘冲洗部(34)和运送室(41a)之间的基板运送。这样，在邻接运送室(41a)的边缘冲洗部(34)和运送室(41a)之间，通过运送室(41a)的基板运送机器人(411)的手部(4111)，就可以不必经过传送机构等其他机构而将基板G直接从边缘冲洗部(34)移动到运送室(41a)。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种对半导体基板或液晶玻璃基板等的薄板状基板(以下称为“基板”)进行预先确定的一连串处理(如抗蚀剂涂敷处理、显影处理等)的基板处理装置。

背景技术

以往的基板处理装置，众所周知是经过多个处理单元对基板进行抗蚀剂涂敷处理、曝光处理、显影处理等的预先确定的一连串的处理。作为此类基板处理装置，例如在专利文献1中有所记载。此类基板处理装置，如该专利文献1所示，作为所述处理单元之一，具有由运入部31、旋转涂敷部32、水准测量处理部33、边缘冲洗部34、及传送室(运出部)35构成的抗蚀剂涂敷单元30。而从运入部31到传送室35，通过把基板按顺序运送到邻接的处理部的滑动部5a-5d运送基板。

上述这样的基板处理装置的情况下，如图11所示，通过滑动部5d把基板G从边缘冲洗部34运送到传送室35的机构，与边缘冲洗部34邻接而设置传送室35，通过滑动部5d，在图11中从由实线所示的位置到双点划线所示的位置，将基板G从边缘冲洗部34被运送到该传送室35，从传送室35进一步利用传送机构39把基板G运送到预烘单元40。另外，通过相邻的机器人42进入到预烘单元40内的双点划线所示的位置，经由机器人42的手部，将被运送到预烘单元40的基板G运送到预烘单元40上部的处理室。

专利文献1：日本专利申请特开平11-274265号公报。

由上述结构构成的以往的基板处理装置，由于在从边缘冲洗部34到传送室35的基板运送中，必需要用传送机构39及滑动部5d，这样就增加了装置的制造成本。另外，由于传送室35及传送机构39的存在，加长了从边缘冲洗部34到预烘单元40的基板运送路径，因而作为结果是加长了基板处理装置的全长。

发明内容

本发明是为解决上述问题而完成的，其目的在于提供一种基板处理装置，可缩短基板处理装置的整个长度，并能降低装置的制造成本。

本发明所述的基板处理装置，其中包括：第1处理部，其对基板进行预先确定的处理；第2处理部，其包括：多个处理室，这些处理室层叠配置，对基板进行预先确定的处理；运送室，该运送室相对于所述多个处理室而层叠配置，且与所述第1处理部邻接配置；第1运送装置，其具有：装载基板的手部；以及主体部，所述主体部设置在与所述第1处理部相邻的所述第2处理部的运送室内，使所述手部在该第1运送装置与所述第1处理部之间进退动作。

在此结构中，设置在运送室内的第1运送装置的主体部，通过让手部在运送室和与其邻接配置的第1处理部之间进退动作，从而进行该第1处理部与运送室之间的基板的运送。由此，通过第1运送装置的手部，可直接使基板在运送室和与其邻接的第1处理部之间移动。

在此构成中，第2运送装置，把由第1运送装置的手部运送到运送室的基板运送到所述第1处理室，或者从第1处理室运送到运送室内的手部。

而且，本发明所述的基板处理装置，其中所述第2运送装置在与处在位于所述运送室内的状态的所述第1运送装置的手部之间进行基板的交接。

根据此构成，由于第2运送装置在与处在位于运送室内的状态的第1运送装置的手部之间进行基板的交接，因此能够直接而迅速地在第1运送装置及第2运送装置之间进行基板运送，而能对提高基板处理的生产能力做出贡献。

此外，本发明所述的基板处理装置，其中所述第1运送装置的主体部具有使所述手部旋转的机构，使所述手部相对于与所述运送室邻接配置的多个第1处理部进退动作。

在此构成中，由于第1运送装置的主体部使手部旋转，通过使手部相对于邻接运送室配置的多个第1处理部进退动作，在与邻接运送室配置的任一第1处理部之间都能进行基板的运送，因而基板运送方向并不限定于一个方向。

另外，本发明所述的基板处理装置，其中所述第1运送装置设置有多个，各第1运送装置所具有的各个主体部，使所述手部相对于所述邻接配置的多个第1处理部中针对各第1运送装置被预先确定的第1处理部进退动作。

根据此构成，由于多个第1运送装置所具有的各个主体部，使所述手部相对于所述邻接配置的多个第1处理部中针对各第1运送装置被预先确定的第1处理部进退动作，因此可以在与邻接运送室而配置的多个第1处理部之间进行基板运送，而基板运送方向并不限定于一个方向。

此外，本发明所述的基板处理装置，其中所述第1运送装置的主体部具有：中间台，其使所述手部相对于所述邻接配置的所述第1处理部进退动作；基部，其使所述中间台沿着与通过该中间台而使所述手部进退的方向相同的方向进退动作，这些手部、中间台以及基部是在上下方向上层叠设置。

在此结构中，由于主体部是使手部、中间台及基部沿上下方向层叠设置，通过由基部使中间台进退动作、和由中间台使手部进退动作的两方的动作，可使手部在所述第1处理部和运送室之间进退动作。

另外，本发明所述的基板处理装置，其中在所述第1运送装置的中间台上设置有检测出在所述手部上是否装载有基板的基板检出传感器。

在此构成中，由于在第1运送装置的中间台上设置有检测出在手部上是否装载有基板的基板检出传感器，因此不需要从中间台到手部设置使基板检出传感器工作用的配线等。

此外，本发明所述的基板处理装置，其中在所述第1运送装置的手部，在其基板装载面上设置有限制基板向侧面移动的多个突出部，基板被装载在由这些多个突出部形成的范围内。

在此构成中，通过在手部的基板装载面上设有多个突起部，可限制基板向侧方移动，使基板在稳定的状态下装载在基板装载面上进行运送。

根据本发明，在运送室和邻接运送室的处理部之间，通过设置在运送室内的第1运送装置的手部，可在运送室和处理部相互之间直接移动基板，而在运送室和处理室之间没有必要另外单独设置例如传送室或传送机构等，所以，就由此而缩短了基板运送路径，缩短了基板处理装置的全长，从而能够降低装置的制造成本。

根据本发明，通过第2运送装置，可将运送室内的基板运送到所述处理室，或者从处理室把基板运送到运送室。

根据本发明，由于第2运送装置是在与处在位于运送室内的状态的第1运送装置的手部之间进行基板的交接，因此能直接而迅速地进行第1运送装置和第2运送装置之间的基板运送。

根据本发明，由于第1运送装置的主体部使手部旋转，使手部相对于与运送室邻接配置的多个处理部进退动作，所以在与邻接于运送室而配置的任一处理部之间都能进行基板的运送，基板运送方向并不限定于一个方向。

根据本发明，由于多个第1运送装置所具有的各个主体部，使所述手部相对于邻接配置的多个处理部中针对各第1运送装置被预先确定的处理部进退动作，因此可以在与邻接运送室而配置的多个处理部之间进行基板运送，而基板运送方向并不限定于一个方向。

根据本发明，由于手部、中间台及基部是沿上下方向层叠设置，通过由基部使中间台进退动作、及由中间台使手部进退动作的两者的动作，可以使手部在所述处理部和运送部之间进退动作，从而能够在使手部从处理部退开的状态的第1运送装置的尺寸较小的同时，确保当手部进出处理部时使手部的动作范围较大。

而且，根据本发明，由于从中间台到手部无需设置使基板检出传感器工作用的配线等，这就使进入到处理部交接基板的手部的构造简单化，因而也就减少了在和处理部进行基板交接时发生障碍的可能性。

而且，根据本发明，通过在手部的基板装载面上设置的多个突起部，使基板在稳定的状态下装载在基板装载面上进行运送。这样，在手部上即使不设置基板吸附机构等，也能在手部上稳定地装载基板，因此在需要设置基板吸附机构的情况下所必需的配管等可以不必设置在手部等，可以降低手部进入处理部时对处理部的粒子侵入。

附图说明

图1是表示本发明一实施方式的基板处理装置的一例的图。

图2是表示边缘冲洗部、预烘单元及机器人的简略构成的俯视图。

图3是表示边缘冲洗部及预烘单元的简略构成的侧视图。

图4是表示处于被容纳在运送室内的状态的基板运送机器人的俯视图。

图5是表示处于装载基板之前的状态的基板运送机器人的俯视图。

图6是表示在装载基板时的基板运送机器人的状态的俯视图。

图7是放大表示基板运送机器人手部的前端部的侧视图。

图8是表示设置在中间台上的基板检出传感器部分的侧视图。

图9是表示预烘单元、及邻接预烘单元的多个处理部的简略构成的侧视图。

图10是表示预烘单元、邻接预烘单元的多个处理部及机器人的简略构成的俯视图。

图11是表示以往的基板处理装置的边缘冲洗部、预烘单元及机器人的简略构成的俯视图。

具体实施方式

以下参照附图说明本发明的实施方式。图1是表示本发明一实施方式的基板处理装置的一例的图。基板处理装置1主要包括有分度器部(indexer)2、清洗单元10、脱水烘干单元20、抗蚀剂涂敷单元30、预烘单元(pre-bakeunit)40、显影单元80、后烘单元(post-bake unit)90、以及设置于预烘单元40和曝光单元60之间的缓冲部(buffer)50，相对于分度器部2，其他的处理部成为连接成U字形的排列结构，从而按照从分度器部2供给的规定的运送顺序，在将基板运送到各个单位处理部并在各个单位处理部处理后，再次返回到所述分度器部2。

基板处理装置1是将多个处理单元连接、并可连续处理的涂敷(coater)/显影(developer)装置，与曝光单元60连接而实施光刻法(photo-realismgraphic process)工序的一部分，所以能够从抗蚀剂涂敷前的清洗到抗蚀剂涂敷、曝光、显影而连续进行。

在所述分度器部2，设置有装载容纳了基板的盒体4的盒式装载部和基板运送机器人3，通过基板运送机器人3，从装载在所述盒式装载部的盒体4里取出基板并交给清洗单元10，并且从后烘单元90接收处理后的基板并放回到原来的盒体4里收存。

所述清洗单元10包括有运入部11、紫外线臭氧清洗部12、水洗部13、液珠除去部14、及运出部15，例如，由所述分度器部2提供的基板，在以水平姿势运送的同时，进行清洗处理。

所述脱水烘干单元20包括有运入部21、加热部22、贴紧强化处理部23及冷却部24，对于完成了清洗处理的基板，首先在加热部22进行加热处理以除去水分，再到可以提高抗蚀剂液贴紧性的贴紧强化处理部23涂敷HMDS(Hexamethyldisilazane)。然后在冷却部24对基板施行冷却处理。

所述抗蚀剂涂敷单元30包括有运入部31、旋转涂敷部32、减压干燥部33、及边缘冲洗部(是权利要求中的处理部的一例)34，首先，在旋转涂敷部32中，在基板的表面均匀地形成抗蚀剂膜，在减压干燥部33将其进行减压后，再在边缘冲洗部34中除去基板周围的不需要的抗蚀剂膜。在边缘冲洗部34的侧方设置有预烘单元40。

所述预烘单元40包括有将加热部和冷却部多级设置的处理室41b，通过机器人42，将基板取出或放回该处理室41b，而对基板施行加热及冷却处理。另外，预烘单元40包括有该处理室41b和设置在此处理室41b下部的运送室41a(图2)。

所述缓冲部50包括有可以收存多块基板的两个收存部51、和设置于这些收存部51之间的机器人52，通过机器人52，将曝光前的基板及曝光后的基板收存于各收存部51，使基板暂时待命。

所述曝光单元60包括有例如缩小投影曝光机等的曝光机、和进行在曝光单元的曝光图形的洗印用的定位的定位(alignment)机构，使预烘后的基板曝光。

所述显影单元80包括有运入部81、显影部82、水洗干燥部83及运出部84。例如在显影部82，对基板边进行显影液的喷雾，边施行显影处理。

所述后烘单元90包括有运入部91、加热部92、冷却部93及运出部94，首先，对显影处理后的基板施行加热处理，以蒸发除去基板上残留的显影液或清洗液，然后再施行冷却处理。

此外，在图1中，附图标记8是基板的装载台，在预烘单元40和缓冲部50之间进行基板交接时，暂时装载基板。而且，附图标记70是把曝光处理后的基板运送到显影单元80的传送带。

这里，对所述抗蚀剂涂敷单元30的边缘冲洗部34、预烘单元40及机器人42之间的基板运送给予说明。图2是表示边缘冲洗部34、预烘单元40及机器人42的简略构成的俯视图，图3是表示边缘冲洗部34及预烘单元40的简略构成的侧视图。在边缘冲洗部34内设有基板上下移动机构341，在通过8个支杆341a支撑基板G的下部的状态下，使基板G上下移动。

预烘单元40包括有运送室41a、和层叠配置于此运送室41a的上部的多个处理室41b。在运送室41a内设置有基板运送机器人411(第1运送装置)。基板运送机器人411将基板G从边缘冲洗部34运送到运送室41a。此基板运送机器人411包括有装载基板的手部4111、和使手部4111朝边缘冲洗部34侧(基板上下移动机构341侧)移动的中间台4112、及使中间台4112朝边缘冲洗部34侧移动的基部4113。基板运送机器人411，其手部4111通过基部4113及中间台4112而被移动到边缘冲洗部34的内部，该手部4111从基板上下移动机构341接收基板G，在手部4111装载着基板G的状态下，通过基部4113及中间台4112而再次被移动到运送室41a，这样，就实现了将基板G从边缘冲洗部34运送到运送室41a的运送。

装载在手部4111并被移动到运送室41a内的基板G，从手部4111被交付给设置于运送室41a的侧方的机器人42(第2运送装置)。机器人42将收到的该基板G运送到在运送室41a的上部层叠配置的多个处理室41b的任意一个。然后，被运送到处理室41b其中之一的基板G，通过机器人42而从预烘单元40(处理室41b)被取出，被移送到下一个工序的单元中。

这里，就基板运送机器人411的结构给以说明。图4是表示处在被收存于运送室内状态的基板运送机器人的俯视图，图5是表示处在装载基板G之前状态的基板运送机器人411的俯视图，图6是表示装载基板G时的基板运送机器人411的状态的俯视图，图7是放大表示基板运送机器人411的手部4111的前端部的侧视图，图8是表示设置在中间台4112上的基板检出传感器部分的侧视图。

基板运送机器人411如上所述，包括有手部4111、中间台4112及基部4113。基部4113被设置在运送部41a的底面，在基部4113的上面4113a上设置有用来驱动中间台4112的空气汽缸4113b、和引导被此空气汽缸4113b驱动的中间台4112的移动的直动引导机构4113c。该直动引导机构4113c为了使中间台4112向边缘冲洗部34侧移动，被设置成可向边缘冲洗部34侧方向延伸。另外，空气汽缸4113b被装配在直动引导机构4113c的安装位置以及不影响中间台4112的移动的位置上。

中间台4112的下部，以可滑动的形式被安装在直动引导机构4113c上。在中间台4112的上面4112a上设置有用来驱动手部4111的空气汽缸4112b、和引导被此空气汽缸4112b驱动的手部4111的移动的直动引导机构4112c。直动引导机构4112c为了使手部4111向边缘冲洗部34侧移动而被设置成可向边缘冲洗部34侧方向延伸。另外，空气汽缸4112b被装配在直动引导机构4112c的安装位置以及不影响手部4111的移动的位置上。

手部4111的下部，以可滑动的形式被安装在中间台4112上的直动引导机构4112c上。手部4111包括有用以装载基板G的2根长条状部件4111a及2根长条状部件4111b。长条状部件4111a被设置为可朝边缘冲洗部34侧方向延伸，而长条状部件4111b则被设置为可向与长条状部件4111a垂直的方向延伸。

在各长条状部件4111a的上面，例如装设4个基板支撑销(pin)4111c。而且从俯视面看，在手部4111的中央部附近，也设置有4个基板支撑销4111c。基板G就装载在这12个基板支撑销4111c上。此外，在2根长条状部件4111a的边缘冲洗部34侧的前端部(手部4111的前进方向的前端部)，设有基板引导销4111d(突出部)。还有，在2根长条状部件4111b上分别设有2个基板引导销(突出部)4111e、4111f。基板引导销4111d的高度如图7所示，被设定为高于基板支撑销4111c，基板引导销4111e及4111f也同样如此。

基板G被装载在手部4111的基板支撑销4111c上时，基板引导销4111d、4111e的安装位置被设定成：设置在长条状部件4111a上的所述基板引导销4111d与手部4111前进方向的基板G的前端部相接，设置在长条状部件4111b上的所述基板引导销4111e与手部4111前进方向的基板G的后端部相接。而且，设置在长条状部件4111b上的所述基板引导销4111e被安装在与手部4111前进方向的基板G的侧面相接的位置。这样，基板引导销4111d、4111e可限制装载在基板支撑销4111c上的状态的基板G的沿手部4111前进方向的移动，而基板引导销4111f则限制该基板G的与手部4111前进方向相垂直的方向的移动。

另外，如图6所示，在中间台4112的上面的手部4111前进方向的前端部，当手部4111朝边缘冲洗部34侧最大限度移动时，在其上方手部4111不存在的位置上设置有基板检出传感器4114。此基板检出传感器4114如图8所示，包括有朝向上方发光的发光部4114a、和接受从发光部4114a发出的光的经基板G反射的反射光的受光部411b。受光部4114b，在手部4111上装载有基板G的情况下，接受到从发光部4111a发出的光的经基板G反射的反射光，而在手部4111上没有装载基板G的情况下，就不接受从发光部4114a发出的光的经基板G反射的反射光。因此，可根据受光部4111b是否接受到经基板G的反射光，检测出在手部4111上是否装载有基板G。

根据以上结构，通过将基板检出传感器4114不是设置在手部4111上，而是设置在中间台4112上，这样，就没有必要从中间台4112到手部4111设置用于驱动控制基板检出传感器的配线等，因此，手部4111的结构变得简单，在交接基板G时，手部4111进入边缘冲洗部34时就不容易发生故障。

有关通过基板运送机器人411从边缘冲洗部34运送基板G的内容，参照图2至图6给以说明。基板运送机器人411，在没有进行基板G的运送时，如图2至图4所示，基部4113、中间台4112及手部4111呈互相重叠状态而在运送室41a内待命。当基板运送机器人411去边缘冲洗部34取基板G时，基部4113的空气汽缸4113b被驱动，中间台4112在基部4113上沿着直动引导机构4113c朝边缘冲洗部34侧移动。

接着或与此同时，中间台4112上的空气汽缸4112b被驱动，手部4111在中间台4112上沿着直动引导机构4112c朝边缘冲洗部34侧移动(参照图5)。此外，图5所示的状态中，基板运送机器人411的手部4111处于与穿梭运送机构不相干涉的安全位置，该穿梭运送机构将基板从边缘冲洗部34的上游侧运入边缘冲洗部34。

当中间台4112及手部4111以从图5所示的状态到图6所示状态的形式进一步向边缘冲洗部34侧移动时，手部4111就进入到被基板上下移动机构341支撑着的状态的基板G的下方，即由支杆341a形成的基板G和上面部341b之间的间隙部分。

当手部4111进入到基板G和基板上下移动机构341的上面部341b之间时，如图7所示，当两根长条状部件4111a上的基板引导销4111d、和两根长条状部件4111b的基板引导销4111e、4111f等处在位于基板G的前端部、后端部及侧部的位置的状态时，边缘冲洗部34的基板上下移动机构341便使基板G下降，直到基板G的下部接触到手部4111的基板支撑销4111c为止。

通过所述基板上下移动机构341下降基板G，基板G被载置于手部4111的基板支撑销411c上。当该基板G被基板引导销4111d、4111e、及4111f包围而处于朝侧方的移动被限制的状态时，基板运送机器人411的基部4113的空气汽缸4113b被驱动，中间台4112移动到运送室41a侧，接着或与此同时，中间台4112上的空气汽缸4112b被驱动，手部4111移动到运送室41a侧。基于此基板运送机器人411的动作，手部4111及中间台4112返回到图2至图4所示的待命位置。

在手部4111装载了基板G的状态下，当手部4111及中间台4112返回到上述图2至图4所示的待命位置时，机器人42进入到运送室41a内，使其手部42a进入到由基板支撑销4111c形成的基板G和长条状部件4111a、4111b之间的间隙，直至图4中双点划线所表示的位置为止。

之后，手部42a上升而成为装载基板G的状态。当像这样手部42a装载了基板G时，机器人42的手部42a朝离开运送室41a的方向移动，然后，手部42a上升到成为基板G的收存目的地的处理室41b的高度为止，接着，手部42a再朝着处理室41b沿水平方向移动，进入到处理室41b内，将基板G收存在处理室41b内。

本发明不仅仅局限于所述实施方式的构成，还可以有各种各样的变化。例如，在上述实施方式中，虽然说明了设置在运送室41a的基板运送机器人411将基板G从边缘冲洗部34运送到运送室41a侧的情况，但本发明的基板处理装置1并不局限于此构成，如以下的图9及图10所示，也可以设置成由基板运送机器人411将基板G运送到邻接于预烘单元40而设置的多个处理部。图9是表示预烘单元40、及邻接于预烘单元40的多个处理部的简略构成的侧视图，图10是表示预烘单元40、邻接于预烘单元40的多个处理部及机器人42的简略构成的俯视图。

例如，如图9所示，也可以在预烘单元40的运送室41a，在不同的高度处配置2个基板运送机器人411，通过使其中一个基板运送机器人411的手部4111沿如图所示的箭头方向移动，从而可以将基板G从邻接于预烘单元40的处理部500运送到运送室41a，而通过使另一个基板运送机器人411的手部4111沿如图所示的箭头方向移动，可以将基板G从邻接于预烘单元40的另一个处理部501运送到运送室41a。在这种情况下，能够同时进行往处理部500及处理部501两个地方的基板运送。

此外，如图10所示，也可以是将运送室41a内的基板运送机器人411设置成可沿水平方向(如图所示的箭头方向)旋转动作的结构，根据与邻接于预烘单元40而设置的处理部500、501中的哪一个交接基板G，能够改变手部4111的朝向。在这种情况下，由于只需在运送室41a设置1台基板运送机器人411就足够了，因此可以使能够向所述两个方向运送基板G的构成变得比较简单。

另外，上述基板处理装置1在预烘单元40和与其邻接的处理部之间的基板运送机构的构成，只不过是其中的1例，并不是只限于上述构成。还有，在预烘单元40和与其邻接的处理部之间的基板运送方向，也不只限于从所述边缘冲洗部34朝向预烘单元40的方向，也可以采用将基板G沿着与其不同的方向(例如反方向)运送的构成。

Claims (7)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

第1处理部，其对基板进行预先确定的处理；

第2处理部，其包括：

多个处理室，这些处理室层叠配置，对基板进行预先确定的处理；

运送室，该运送室相对于所述多个处理室而层叠配置，且与所述第1处理部邻接配置；

第1运送装置，其具有：装载基板的手部；以及主体部，所述主体部设置在与所述第1处理部邻接的所述第2处理部的运送室内，使所述手部在该第1运送装置与所述第1处理部之间进退动作；

第2运送装置，其在所述运送室与所述多个处理室之间进行基板运送。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第2运送装置在与处在位于所述运送室内的状态的所述第1运送装置的手部之间进行基板的交接。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1运送装置的主体部具有使所述手部旋转的机构，使所述手部相对于与所述运送室邻接配置的多个第1处理部进退动作。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1运送装置设置有多个，各第1运送装置所具有的各个主体部，使所述手部相对于所述邻接配置的多个第1处理部中针对各第1运送装置被预先确定的第1处理部进退动作。

5.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1运送装置的主体部具有：中间台，其使所述手部相对于所述邻接配置的所述第1处理部进退动作；基部，其使所述中间台沿着与通过该中间台而使所述手部进退的方向相同的方向进退动作，这些手部、中间台以及基部是在上下方向上层叠设置。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，在所述第1运送装置的中间台上设置有检测出在所述手部上是否装载有基板的基板检出传感器。

7.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，在所述第1运送装置的手部，在其基板装载面上设置有限制基板向侧面移动的多个突出部，基板被装载在由这些多个突出部形成的范围内。

Images