JP3128451B2 - 合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
合成石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JP3128451B2 JP3128451B2 JP06331233A JP33123394A JP3128451B2 JP 3128451 B2 JP3128451 B2 JP 3128451B2 JP 06331233 A JP06331233 A JP 06331233A JP 33123394 A JP33123394 A JP 33123394A JP 3128451 B2 JP3128451 B2 JP 3128451B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- synthetic quartz
- aluminum
- content
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1095—Thermal after-treatment of beads, e.g. tempering, crystallisation, annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/32—Doped silica-based glasses containing metals containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、合成石英ガラスの製造
方法に関し、さらに詳しくは、天然ガラスの電気溶融品
以上の高温粘性を有する合成石英ガラスの製造方法に関
する。
方法に関し、さらに詳しくは、天然ガラスの電気溶融品
以上の高温粘性を有する合成石英ガラスの製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来の合成石英ガラスの製造方法として
は、四塩化ケイ素等のケイ素化合物を水素火炎中で加水
分解させて得たシリカ微粒子を担体上に堆積させ、これ
を直接溶融して合成石英ガラスとする直接法によるもの
（特公平３−３１０１０号公報）、上記ケイ素化合物を
メチルトリメトキシシラン等のエステルシランとし、多
孔質ガラス母材を作り、これを溶融して合成石英ガラス
とする、いわゆるスート法によるもの（特公平４−２０
８５３号公報）、また、高周波プラズマ炎中で、ケイ素
化合物、酸素および塩化水素の混合ガスを反応させて二
酸化ケイ素を生成させ、これを担体上に堆積させる、い
わゆるプラズマ法によるもの（特公昭６３−３８３４３
号公報）、あるいはアルコキシシランを酸またはアンモ
ニア触媒の存在下で加水分解させ、シリカ微粒子を得、
得られたシリカ微粒子を焼結して合成石英ガラスとす
る、いわゆるゾルゲル法によるもの等がある。
は、四塩化ケイ素等のケイ素化合物を水素火炎中で加水
分解させて得たシリカ微粒子を担体上に堆積させ、これ
を直接溶融して合成石英ガラスとする直接法によるもの
（特公平３−３１０１０号公報）、上記ケイ素化合物を
メチルトリメトキシシラン等のエステルシランとし、多
孔質ガラス母材を作り、これを溶融して合成石英ガラス
とする、いわゆるスート法によるもの（特公平４−２０
８５３号公報）、また、高周波プラズマ炎中で、ケイ素
化合物、酸素および塩化水素の混合ガスを反応させて二
酸化ケイ素を生成させ、これを担体上に堆積させる、い
わゆるプラズマ法によるもの（特公昭６３−３８３４３
号公報）、あるいはアルコキシシランを酸またはアンモ
ニア触媒の存在下で加水分解させ、シリカ微粒子を得、
得られたシリカ微粒子を焼結して合成石英ガラスとす
る、いわゆるゾルゲル法によるもの等がある。
【０００３】一方、アルミニウムは、合成石英ガラス中
において、アルカリ金属（Ｎａ等）により分裂した網目
構造を修復するための中間酸化物、すなわち、それ自身
では連続的な網目構造を作れないが、ＳｉＯ4 の四面体
の間の空孔を埋め、ある条件のもとで連続的網目構造を
形成する酸化物として存在していると考えられ、このア
ルミニウムの存在により網目構造が強され、高温粘性が
向上すると考えられる。このアルミニウムの作用を利用
したアルミニウムドープ合成石英ガラスが、高温粘性を
得る目的等で従来から製造されている。
において、アルカリ金属（Ｎａ等）により分裂した網目
構造を修復するための中間酸化物、すなわち、それ自身
では連続的な網目構造を作れないが、ＳｉＯ4 の四面体
の間の空孔を埋め、ある条件のもとで連続的網目構造を
形成する酸化物として存在していると考えられ、このア
ルミニウムの存在により網目構造が強され、高温粘性が
向上すると考えられる。このアルミニウムの作用を利用
したアルミニウムドープ合成石英ガラスが、高温粘性を
得る目的等で従来から製造されている。
【０００４】従来のアルミニウムドープ合成石英ガラス
製造方法としては、例えば、アルキルシリケートを塩基
性試薬で加水分解して生成されたゾル溶液中に、アルミ
ニウム化合物を添加し、乾燥後、焼結して合成石英ガラ
スを得る方法（特開昭６３−１２３８２５号公報）、あ
るいはシリカ微粒子を主成分とするゾル溶液を回転ゲル
化することによって得られる管状シリカ多孔質体に、ア
ルミニウムアルコキシドを拡散させた後、乾燥、焼結
し、光ファイバ用母材とする方法（特開昭６２−１００
４４２）等のゾルゲル合成法が知られている。
製造方法としては、例えば、アルキルシリケートを塩基
性試薬で加水分解して生成されたゾル溶液中に、アルミ
ニウム化合物を添加し、乾燥後、焼結して合成石英ガラ
スを得る方法（特開昭６３−１２３８２５号公報）、あ
るいはシリカ微粒子を主成分とするゾル溶液を回転ゲル
化することによって得られる管状シリカ多孔質体に、ア
ルミニウムアルコキシドを拡散させた後、乾燥、焼結
し、光ファイバ用母材とする方法（特開昭６２−１００
４４２）等のゾルゲル合成法が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の合成石英ガラスの製造方法、および従来のア
ルミニウムドープ合成石英ガラスの製造方法にはそれぞ
れ問題点がある。
うな従来の合成石英ガラスの製造方法、および従来のア
ルミニウムドープ合成石英ガラスの製造方法にはそれぞ
れ問題点がある。
【０００６】例えば、従来の合成石英ガラスの製造方法
において、直接法により得られた合成石英ガラスは、Ｏ
Ｈ基の含有率が２００〜１，０００ｐｐｍ、Ｃｌ基の含
有率が最大１５０ｐｐｍ程度あり、高温粘性が低い。ま
た、スート法により得られた合成石英ガラスも、ＯＨ基
の含有率が最大３００ｐｐｍ程度、Ｃｌ基の含有率が最
大１００ｐｐｍ程度あり、塩素脱水しても塩素が残留す
るため、充分な高温粘性が得られない。
において、直接法により得られた合成石英ガラスは、Ｏ
Ｈ基の含有率が２００〜１，０００ｐｐｍ、Ｃｌ基の含
有率が最大１５０ｐｐｍ程度あり、高温粘性が低い。ま
た、スート法により得られた合成石英ガラスも、ＯＨ基
の含有率が最大３００ｐｐｍ程度、Ｃｌ基の含有率が最
大１００ｐｐｍ程度あり、塩素脱水しても塩素が残留す
るため、充分な高温粘性が得られない。
【０００７】プラズマ法により得られた合成石英ガラス
では、ＯＨ基の含有率はほぼ０であるが、Ｃｌ基の含有
率は最大１，０００ｐｐｍ程度もあり、さらに生産コス
トが高く、量産が難しい。また、ゾルゲル法により得ら
れた合成石英ガラスでは、Ｃｌ基の含有率はほぼ０であ
るが、ＯＨ基の含有率は最大８００ｐｐｍ程度もあり、
酸触媒を用いた場合はＯＨ基が残留し、また酸触媒を塩
酸とした場合には、Ｃｌ基が残留するため、充分な高温
粘性が得られない。
では、ＯＨ基の含有率はほぼ０であるが、Ｃｌ基の含有
率は最大１，０００ｐｐｍ程度もあり、さらに生産コス
トが高く、量産が難しい。また、ゾルゲル法により得ら
れた合成石英ガラスでは、Ｃｌ基の含有率はほぼ０であ
るが、ＯＨ基の含有率は最大８００ｐｐｍ程度もあり、
酸触媒を用いた場合はＯＨ基が残留し、また酸触媒を塩
酸とした場合には、Ｃｌ基が残留するため、充分な高温
粘性が得られない。
【０００８】一方、アルミニウムドープ合成石英ガラス
の製造方法においては、ゾルゲル法により得られた合成
石英ガラスでは、ＯＨ基を有しているため高温粘性が低
く、耐熱性合成石英ガラス部材への使用には適さない。
の製造方法においては、ゾルゲル法により得られた合成
石英ガラスでは、ＯＨ基を有しているため高温粘性が低
く、耐熱性合成石英ガラス部材への使用には適さない。
【０００９】本発明者らは、メチルシリケートをアンモ
ニアの存在下で加水分解し、アルミニウム含有球状シリ
カ粒子を得、これを脱水、脱炭、焼結させ、この時にア
ルミナをドープし、得られたガラス体を粉砕、篩別後精
製し、次いで酸水素炎で焼結し、透明化させて高粘度石
英ガラスを得る方法を提案したが（特公平５−４１５６
５号公報）、この方法ではアルミニウム含有率及び粘度
の均一性の点で十分ではない。
ニアの存在下で加水分解し、アルミニウム含有球状シリ
カ粒子を得、これを脱水、脱炭、焼結させ、この時にア
ルミナをドープし、得られたガラス体を粉砕、篩別後精
製し、次いで酸水素炎で焼結し、透明化させて高粘度石
英ガラスを得る方法を提案したが（特公平５−４１５６
５号公報）、この方法ではアルミニウム含有率及び粘度
の均一性の点で十分ではない。
【００１０】そこで本発明者らは、さらに、メチルシリ
ケートとアルミニウムアルコキシドを混合・攪拌した溶
液を、アンモニアの存在下で加水分解し、アルミニウム
含有の球状シリカ粒子を得、これを脱水、脱炭、焼結さ
せ、得られたガラス体を粉砕、篩別後精製し、次いで溶
融して合成石英ガラス部材とする方法も提案し、アルミ
ニウム含有率を０．１〜１，０００ｐｐｍ、得られた合
成石英ガラスの高温粘性の下限が天然ガラスと同等以上
という結果を得た（特願平６−１８２３５３号）。本発
明はこれをさらに発展させたものである。
ケートとアルミニウムアルコキシドを混合・攪拌した溶
液を、アンモニアの存在下で加水分解し、アルミニウム
含有の球状シリカ粒子を得、これを脱水、脱炭、焼結さ
せ、得られたガラス体を粉砕、篩別後精製し、次いで溶
融して合成石英ガラス部材とする方法も提案し、アルミ
ニウム含有率を０．１〜１，０００ｐｐｍ、得られた合
成石英ガラスの高温粘性の下限が天然ガラスと同等以上
という結果を得た（特願平６−１８２３５３号）。本発
明はこれをさらに発展させたものである。
【００１１】すなわち本発明は、従来の問題を解決する
もので、その目的は、均一にアルミニウムを含有し、か
つＯＨ基およびＣｌ基を殆ど含有しない高純度で高温粘
性を有する合成石英ガラスの製造方法を提供することに
ある。
もので、その目的は、均一にアルミニウムを含有し、か
つＯＨ基およびＣｌ基を殆ど含有しない高純度で高温粘
性を有する合成石英ガラスの製造方法を提供することに
ある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の請求項１記載の合成石英ガラスの製造方法
は、メチルシリケートとアルミニウムアルコキシドとを
混合・攪拌して得られた溶液を、アンモニアの存在下で
加水分解してアルミニウムを含有するシリカ粒子を得、
これを固液分離して脱水したシリカ粒子をさらに加熱し
て脱炭した後、焼結して合成石英ガラスインゴットを得
た後、このアルミニウムを含有する合成石英ガラスイン
ゴットを粉砕、篩別、磁選、精製して合成石英ガラス粉
とし、これを常圧、加圧又は真空下で溶融して合成石英
ガラスを製造する方法において、前記焼結工程におい
て、一旦α−クリストバライトに結晶転移させた後、真
空下又は減圧下で１，８００〜１，９５０℃にて溶融ガ
ラス化することを特徴とする。
め、本発明の請求項１記載の合成石英ガラスの製造方法
は、メチルシリケートとアルミニウムアルコキシドとを
混合・攪拌して得られた溶液を、アンモニアの存在下で
加水分解してアルミニウムを含有するシリカ粒子を得、
これを固液分離して脱水したシリカ粒子をさらに加熱し
て脱炭した後、焼結して合成石英ガラスインゴットを得
た後、このアルミニウムを含有する合成石英ガラスイン
ゴットを粉砕、篩別、磁選、精製して合成石英ガラス粉
とし、これを常圧、加圧又は真空下で溶融して合成石英
ガラスを製造する方法において、前記焼結工程におい
て、一旦α−クリストバライトに結晶転移させた後、真
空下又は減圧下で１，８００〜１，９５０℃にて溶融ガ
ラス化することを特徴とする。
【００１３】また本発明の請求項２記載の合成石英ガラ
スの製造方法は、請求項１記載の方法において、結晶型
に近い非結晶質であり、アルミニウム以外の金属元素含
有率が何れも１０ｐｐｂ以下で且つＯＨ基およびＣｌ基
の含有率が１ｐｐｍ以下で、さらに徐冷点が１，２５０
℃以上、歪み点が１，１４０℃以上である合成石英ガラ
スを得ることを特徴とする。
スの製造方法は、請求項１記載の方法において、結晶型
に近い非結晶質であり、アルミニウム以外の金属元素含
有率が何れも１０ｐｐｂ以下で且つＯＨ基およびＣｌ基
の含有率が１ｐｐｍ以下で、さらに徐冷点が１，２５０
℃以上、歪み点が１，１４０℃以上である合成石英ガラ
スを得ることを特徴とする。
【００１４】以下、本発明をさらに具体的に説明する。
【００１５】本発明で使用するアルミニウムアルコキシ
ドは、常温常圧において液体として存在し、加水分解温
度が比較的低く、またメチルシリケートの加水分解速度
に近いものが好ましく、具体的には、アルミニウムｓｅ
ｃ−ブチレート（Ａｌ（ｓｅｃ−Ｃ4Ｈ9Ｏ3））が最も
適している。そして、このアルミニウムアルコキシド
は、メチルシリケート中へ滴下され、攪拌機にて均一に
混合・攪拌される。
ドは、常温常圧において液体として存在し、加水分解温
度が比較的低く、またメチルシリケートの加水分解速度
に近いものが好ましく、具体的には、アルミニウムｓｅ
ｃ−ブチレート（Ａｌ（ｓｅｃ−Ｃ4Ｈ9Ｏ3））が最も
適している。そして、このアルミニウムアルコキシド
は、メチルシリケート中へ滴下され、攪拌機にて均一に
混合・攪拌される。
【００１６】この時、添加したアルミニウムアルコキシ
ド中のアルミニウムの固定率はガラス化後において、ほ
ぼ１００％であり、また、メチルシリケートへのアルミ
ニウムアルコキシドの添加量と合成石英ガラス中のアル
ミニウムの含有量には比例関係があり、したがって、計
算上、求めるＳｉＯ2 のＡｌ含有量に応じて、アルミニ
ウムアルコキシドを添加すれば良い。（得られるアルミ
ニウム含有量は、計算値に対し、その誤差は５％未満で
ある）なお、アルミニウムアルコキシドの計量は、密封
容器内にて乾燥雰囲気中で行うことが必要となる。
ド中のアルミニウムの固定率はガラス化後において、ほ
ぼ１００％であり、また、メチルシリケートへのアルミ
ニウムアルコキシドの添加量と合成石英ガラス中のアル
ミニウムの含有量には比例関係があり、したがって、計
算上、求めるＳｉＯ2 のＡｌ含有量に応じて、アルミニ
ウムアルコキシドを添加すれば良い。（得られるアルミ
ニウム含有量は、計算値に対し、その誤差は５％未満で
ある）なお、アルミニウムアルコキシドの計量は、密封
容器内にて乾燥雰囲気中で行うことが必要となる。
【００１７】ここで、始発原料中のメチルシリケートと
アルミニウムアルコキシドの重量比と、得られた合成石
英ガラス中のアルミニウム含有率を、アルミニウムアル
コキシドとしてアルミニウムｓｅｃ−ブチレートを用い
た場合を例示して表１に示す。
アルミニウムアルコキシドの重量比と、得られた合成石
英ガラス中のアルミニウム含有率を、アルミニウムアル
コキシドとしてアルミニウムｓｅｃ−ブチレートを用い
た場合を例示して表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】次に、本発明の方法の各工程を詳細に説明
する。
する。
【００２０】（加水分解反応）始発原料であるメチルシ
リケートおよびアルミニウムアルコキシドの加水分解反
応は、例えば、５リットルの反応器を用いて連続的に行
う。始発原料２１０cc／minに対し、２０wt％アンモニ
ア水を連続的（１５０cc／min）に反応器内に導入し、
攪拌機にて攪拌しながら加水分解させ、アルミニウム含
有率５００〜５、０００ｐｐｍのシリカ粒子を得る。以
下に、メチルシリケートおよびアルミニウムアルコキシ
ドの加水分解反応式を示す。 Ｓｉ（ＯＣＨ3）4＋２Ｈ2Ｏ→ＳｉＯ2＋４ＣＨ3ＯＨ ２Ａｌ（Ｃ4Ｈ9Ｏ）3＋３Ｈ2Ｏ→Ａｌ2Ｏ3＋６Ｃ4Ｈ9Ｏ
Ｈ
リケートおよびアルミニウムアルコキシドの加水分解反
応は、例えば、５リットルの反応器を用いて連続的に行
う。始発原料２１０cc／minに対し、２０wt％アンモニ
ア水を連続的（１５０cc／min）に反応器内に導入し、
攪拌機にて攪拌しながら加水分解させ、アルミニウム含
有率５００〜５、０００ｐｐｍのシリカ粒子を得る。以
下に、メチルシリケートおよびアルミニウムアルコキシ
ドの加水分解反応式を示す。 Ｓｉ（ＯＣＨ3）4＋２Ｈ2Ｏ→ＳｉＯ2＋４ＣＨ3ＯＨ ２Ａｌ（Ｃ4Ｈ9Ｏ）3＋３Ｈ2Ｏ→Ａｌ2Ｏ3＋６Ｃ4Ｈ9Ｏ
Ｈ
【００２１】（脱水）次に、得られたアルミニウム含有
のシリカ粒子を、遠心分離器あるいはプレス機等により
固液分離を行う。得られた脱水粉の含水率は、低ければ
低いほど次工程の脱炭時の加熱に対する負荷が少なくな
るため、できるだけ低い方が好ましい。なお、現状の含
水率は３０〜４０％程度である。
のシリカ粒子を、遠心分離器あるいはプレス機等により
固液分離を行う。得られた脱水粉の含水率は、低ければ
低いほど次工程の脱炭時の加熱に対する負荷が少なくな
るため、できるだけ低い方が好ましい。なお、現状の含
水率は３０〜４０％程度である。
【００２２】（脱炭）脱炭は、酸素を含む雰囲気におい
て８００〜１，２００℃に加熱して行う。さらに好まし
くは１，０００〜１，１００℃が良い。８００℃以下で
は酸化が起こり難く、一方１，２００℃以上ではシリカ
粒子粒子間の融着が始まるので好ましくない。また、雰
囲気については、シリカ粒子を酸化させるため、酸素を
含んだ雰囲気である必要がある。乾燥、酸化をより促進
させるためには、好ましくは、酸素を含んだガスを通気
させるのが良い。なお、使用する炉は特に限定されない
が、乾燥、酸化を促進させる点から言えば、ロータリー
キルンが好適である。
て８００〜１，２００℃に加熱して行う。さらに好まし
くは１，０００〜１，１００℃が良い。８００℃以下で
は酸化が起こり難く、一方１，２００℃以上ではシリカ
粒子粒子間の融着が始まるので好ましくない。また、雰
囲気については、シリカ粒子を酸化させるため、酸素を
含んだ雰囲気である必要がある。乾燥、酸化をより促進
させるためには、好ましくは、酸素を含んだガスを通気
させるのが良い。なお、使用する炉は特に限定されない
が、乾燥、酸化を促進させる点から言えば、ロータリー
キルンが好適である。
【００２３】（焼結）脱炭した後、１，７５０℃以下で
α−クリストバライトに結晶転移させ、一旦結晶化させ
る。その後、真空下あるいは減圧下で溶融ガラス化温度
１，８００℃以上にて溶融ガラス化させて焼結する。こ
のように一旦結晶化させた後に焼結することにより、結
晶型に近い非結晶質が得られる。
α−クリストバライトに結晶転移させ、一旦結晶化させ
る。その後、真空下あるいは減圧下で溶融ガラス化温度
１，８００℃以上にて溶融ガラス化させて焼結する。こ
のように一旦結晶化させた後に焼結することにより、結
晶型に近い非結晶質が得られる。
【００２４】α−クリストバライトへの結晶転移におい
ては、アルミニウムが結晶の核となり、温度が徐々に上
がるにつれて、核の形成ならびに結晶成長が順次進行す
る。この時、急激な昇温は結晶化に好ましくなく、核の
形成する温度域（１，３００〜１，６００℃）や、結晶
成長する温度域（１，６００〜１，８００℃）で、それ
ぞれ一旦温度を保持した方が望ましい。
ては、アルミニウムが結晶の核となり、温度が徐々に上
がるにつれて、核の形成ならびに結晶成長が順次進行す
る。この時、急激な昇温は結晶化に好ましくなく、核の
形成する温度域（１，３００〜１，６００℃）や、結晶
成長する温度域（１，６００〜１，８００℃）で、それ
ぞれ一旦温度を保持した方が望ましい。
【００２５】溶融ガラス化させる際の雰囲気及び温度条
件は、要求される合成石英ガラス部材のレベルによって
異なるが、温度条件については、１，８００℃以上であ
る必要がある。溶融ガラス化温度は、アルミニウム含有
率が増加するにしたがって上昇する傾向にあり、本発明
におけるアルミニウム含有率の範囲の場合、１，８００
℃未満では完全にはガラス化しない。特に含有泡のない
ものを得るには、１０−２ｔｏｒｒ以上の高真空下で、
１，８００〜１，９５０℃に加熱する必要がある。１，
９５０℃を越えると、昇華が激しくなる。
件は、要求される合成石英ガラス部材のレベルによって
異なるが、温度条件については、１，８００℃以上であ
る必要がある。溶融ガラス化温度は、アルミニウム含有
率が増加するにしたがって上昇する傾向にあり、本発明
におけるアルミニウム含有率の範囲の場合、１，８００
℃未満では完全にはガラス化しない。特に含有泡のない
ものを得るには、１０−２ｔｏｒｒ以上の高真空下で、
１，８００〜１，９５０℃に加熱する必要がある。１，
９５０℃を越えると、昇華が激しくなる。
【００２６】次に、得られた合成石英ガラスインゴット
から合成石英ガラスへの加工方法について述べる。
から合成石英ガラスへの加工方法について述べる。
【００２７】（粉砕）合成石英ガラスインゴットは、ジ
ョークラッシャー、ハンマーミル、ディスクミル、ボー
ルミル等を用いて粉砕される。
ョークラッシャー、ハンマーミル、ディスクミル、ボー
ルミル等を用いて粉砕される。
【００２８】（篩別）粉砕された粒子を、用途に応じた
粒度に篩別する。例えば、ルツボであれば２００〜３５
０μｍ程度が好ましい。
粒度に篩別する。例えば、ルツボであれば２００〜３５
０μｍ程度が好ましい。
【００２９】（精製）精製は、粉砕時等の汚染の除去を
目的として行われ、水洗、ＨＦ処理、塩酸処理、磁力選
鉱、浮遊選鉱等の中から選択される。なお、汚染の度合
いが少ない場合は精製を省略することもできる。
目的として行われ、水洗、ＨＦ処理、塩酸処理、磁力選
鉱、浮遊選鉱等の中から選択される。なお、汚染の度合
いが少ない場合は精製を省略することもできる。
【００３０】（溶融）得られた合成石英ガラス粉を、不
活性ガス（Ａｒ、Ｎ2等）雰囲気下で、常圧、減圧、加
圧、あるいは気流中にて、１，５００〜１，９５０℃の
温度で溶融する。溶融雰囲気は真空下でも可能である
が、作業上の制約を受ける場合もあるので、要求される
用途により使い分ける。溶融温度は、１，５００℃未満
では石英が溶融しない。また、１，９５０℃以上では石
英が昇華し、歩留まりが悪くなる。粒度によっては１，
７５０℃で溶融しないものもあるので、さらに好ましく
は、１，７５０〜１，９００℃が良い。
活性ガス（Ａｒ、Ｎ2等）雰囲気下で、常圧、減圧、加
圧、あるいは気流中にて、１，５００〜１，９５０℃の
温度で溶融する。溶融雰囲気は真空下でも可能である
が、作業上の制約を受ける場合もあるので、要求される
用途により使い分ける。溶融温度は、１，５００℃未満
では石英が溶融しない。また、１，９５０℃以上では石
英が昇華し、歩留まりが悪くなる。粒度によっては１，
７５０℃で溶融しないものもあるので、さらに好ましく
は、１，７５０〜１，９００℃が良い。
【００３１】このようにして得られる合成石英ガラス
は、結晶型に近い非結晶質である。また、アルミニウム
を均一に含有しており、そのアルミニウムの含有率は５
００〜５，０００ｐｐｍの範囲である。さらに、ＯＨ基
およびＣｌ基の含有率は１ｐｐｍ未満であり、高温粘性
の指標となる徐冷点は１，２５０℃を越え、歪み点も
１，１４０℃を越える値であり、天然石英ガラスの電気
溶融品と同等以上の特性を有する。
は、結晶型に近い非結晶質である。また、アルミニウム
を均一に含有しており、そのアルミニウムの含有率は５
００〜５，０００ｐｐｍの範囲である。さらに、ＯＨ基
およびＣｌ基の含有率は１ｐｐｍ未満であり、高温粘性
の指標となる徐冷点は１，２５０℃を越え、歪み点も
１，１４０℃を越える値であり、天然石英ガラスの電気
溶融品と同等以上の特性を有する。
【００３２】
【作用】本発明の合成石英ガラスの製造方法によれば、
溶融ガラス化工程において、一旦Ｔα−クリストバライ
トに結晶転移させた後、溶融ガラス化して非結晶質とす
るため、得られた合成石英ガラスは結晶型に近い非結晶
質を有する。さらに、アルミニウムの含有率を容易に制
御でき、含有率５００〜５、０００ｐｐｍのアルミニウ
ムが均一に分布され、かつ実質上、ＯＨ基およびＣｌ基
を含有しない。その結果、従来の天然石英ガラスの電気
溶融品以上の高温粘性を有する高純度の高温粘性合成石
英ガラスが得られる。
溶融ガラス化工程において、一旦Ｔα−クリストバライ
トに結晶転移させた後、溶融ガラス化して非結晶質とす
るため、得られた合成石英ガラスは結晶型に近い非結晶
質を有する。さらに、アルミニウムの含有率を容易に制
御でき、含有率５００〜５、０００ｐｐｍのアルミニウ
ムが均一に分布され、かつ実質上、ＯＨ基およびＣｌ基
を含有しない。その結果、従来の天然石英ガラスの電気
溶融品以上の高温粘性を有する高純度の高温粘性合成石
英ガラスが得られる。
【００３３】
【実施例】以下、合成石英ガラス製のルツボの作製を例
に挙げ、本発明の合成石英ガラス製造方法を好適な実施
例および比較例に基づき、さらに詳述するが、本発明は
これら実施例に何ら限定されるものではない。
に挙げ、本発明の合成石英ガラス製造方法を好適な実施
例および比較例に基づき、さらに詳述するが、本発明は
これら実施例に何ら限定されるものではない。
【００３４】（実施例１）メチルシリケート１００ｋｇ
に対し、アルミニウムｓｅｃ−ブチレート１８０ｇを滴
下し、５分間攪拌・混合した。これを反応の始発原料と
した。そして、５リットルの反応器に２０ｗｔ％アンモ
ニアを３リットルを入れた中へ、この始発原料を２００
cc/minの滴下速度で連続的に滴下し、４０〜５０℃で加
水分解させ、連続的に反応液を得た。
に対し、アルミニウムｓｅｃ−ブチレート１８０ｇを滴
下し、５分間攪拌・混合した。これを反応の始発原料と
した。そして、５リットルの反応器に２０ｗｔ％アンモ
ニアを３リットルを入れた中へ、この始発原料を２００
cc/minの滴下速度で連続的に滴下し、４０〜５０℃で加
水分解させ、連続的に反応液を得た。
【００３５】この反応液をフィルタープレスしたとこ
ろ、粒径が２００〜７００ｎｍの球状シリカ粒子４０ｋ
ｇ（含水率３５％）を得た。
ろ、粒径が２００〜７００ｎｍの球状シリカ粒子４０ｋ
ｇ（含水率３５％）を得た。
【００３６】次いで、得られた球状シリカ粒子を石英製
容器に入れ、清浄な空気の存在下で１、０００℃まで１
０時間かけて昇温した後、１時間保持し、脱水および脱
炭をしたところ、重量は３４ｋｇとなった。
容器に入れ、清浄な空気の存在下で１、０００℃まで１
０時間かけて昇温した後、１時間保持し、脱水および脱
炭をしたところ、重量は３４ｋｇとなった。
【００３７】これを内容積０．１ｍ3（５０ｃｍ×５０
ｃｍ×４０ｃｍ）のカーボンケースに詰めて１０-2torr
の真空下で加熱し、１，２００℃で１時間、１，５００
℃で１時間、１，８００℃で１時間保持し、焼結を行っ
た。この結果、外観上透明で、約５０ｃｍ角で高さ６ｃ
ｍの合成石英ガラスインゴット３２ｋｇが得られた。
ｃｍ×４０ｃｍ）のカーボンケースに詰めて１０-2torr
の真空下で加熱し、１，２００℃で１時間、１，５００
℃で１時間、１，８００℃で１時間保持し、焼結を行っ
た。この結果、外観上透明で、約５０ｃｍ角で高さ６ｃ
ｍの合成石英ガラスインゴット３２ｋｇが得られた。
【００３８】次に、この合成石英ガラスインゴットをコ
ニカルボールミル（鉄製）で粉砕し、さらに４５〜６０
＃に篩別し、次いで磁力選鉱処理を行った。さらに、２
０ｗｔ％塩酸に５時間浸漬した後、１０ｗｔ％ＨＦに１
０分間浸漬させ、水洗して精製処理し、合成石英ガラス
粉を得た。
ニカルボールミル（鉄製）で粉砕し、さらに４５〜６０
＃に篩別し、次いで磁力選鉱処理を行った。さらに、２
０ｗｔ％塩酸に５時間浸漬した後、１０ｗｔ％ＨＦに１
０分間浸漬させ、水洗して精製処理し、合成石英ガラス
粉を得た。
【００３９】得られた合成石英ガラス粉を使用し、アー
ク回転法により、合成石英ガラス粉を加熱して溶融し、
１８″合成石英ガラス製ルツボを得た。得られたルツボ
片について、純度、粘度、ＯＨ基およびＣｌ基の含有
率、および高温粘性（歪み点、徐冷点）を測定したとこ
ろ、表２に示した結果が得られた。
ク回転法により、合成石英ガラス粉を加熱して溶融し、
１８″合成石英ガラス製ルツボを得た。得られたルツボ
片について、純度、粘度、ＯＨ基およびＣｌ基の含有
率、および高温粘性（歪み点、徐冷点）を測定したとこ
ろ、表２に示した結果が得られた。
【００４０】（実施例２）始発原料中のアルミニウムse
c−ブチレートを３５９．７ｇとした以外は、実施例１
と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボを
得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基
およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
c−ブチレートを３５９．７ｇとした以外は、実施例１
と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボを
得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基
およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
【００４１】（実施例３）始発原料中のアルミニウムse
c−ブチレートを１７９８．５ｇとした以外は、実施例
１と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボ
を得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ
基およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐
冷点）を測定したところ、表２に示した結果が得られ
た。
c−ブチレートを１７９８．５ｇとした以外は、実施例
１と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボ
を得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ
基およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐
冷点）を測定したところ、表２に示した結果が得られ
た。
【００４２】（比較例１）始発原料中のアルミニウムse
c−ブチレートを１８．０ｇとした以外は、実施例１と
同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボを得
た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基お
よびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
c−ブチレートを１８．０ｇとした以外は、実施例１と
同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボを得
た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基お
よびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
【００４３】（比較例２）メチルシリケート１００ｋｇ
にアルミニウムsec−ブチレートを添加しない以外は実
施例１と同じ混合物を始発原料とし、それ以外は実施例
１と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボ
を得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ
基およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐
冷点）を測定したところ、表２に示した結果が得られ
た。
にアルミニウムsec−ブチレートを添加しない以外は実
施例１と同じ混合物を始発原料とし、それ以外は実施例
１と同様の処理を行い、１８″合成石英ガラス製ルツボ
を得た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ
基およびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐
冷点）を測定したところ、表２に示した結果が得られ
た。
【００４４】（比較例３）従来の電気溶融天然石英ガラ
ス粉を用い、アーク溶融法により、合成石英ガラス粉を
加熱して溶融し、１８″合成石英ガラス製ルツボを得
た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基お
よびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
ス粉を用い、アーク溶融法により、合成石英ガラス粉を
加熱して溶融し、１８″合成石英ガラス製ルツボを得
た。得られたルツボ片について、純度、粘度、ＯＨ基お
よびＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪み点、徐冷
点）を測定したところ、表２に示した結果が得られた。
【００４５】
【表２】
【００４６】なお、表２中の合成石英ガラス製ルツボ片
の純度、ＯＨ基とＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪
み点、徐冷点）の測定は、以下の方法によるものであ
る。
の純度、ＯＨ基とＣｌ基の含有率、および高温粘性（歪
み点、徐冷点）の測定は、以下の方法によるものであ
る。
【００４７】［純度］ＭＩＰ−ＭＳ元素分析装置（日立
製作所社製 P-7000型)を用い、微量元素の定量を行っ
た。
製作所社製 P-7000型)を用い、微量元素の定量を行っ
た。
【００４８】［ＯＨ基の含有率］ＩＲ（赤外線）測定器
（IR-Spectrophotometer、日本分光社製 Type A-3)を用
いて、ＯＨ基吸収波長である２．７μｍのピーク高によ
り概算した。
（IR-Spectrophotometer、日本分光社製 Type A-3)を用
いて、ＯＨ基吸収波長である２．７μｍのピーク高によ
り概算した。
【００４９】［Ｃｌ基の含有率］原子炉ＩＲＩＧＡ−II
型（立教大学設置）にて、中性子を試料に衝突させて核
反応を起こさせ、高純度Ｇｅ検出器、マルチチャンネル
波高分析器にてγ線を検出し、Ｃｌ基の含有量を求め
た。
型（立教大学設置）にて、中性子を試料に衝突させて核
反応を起こさせ、高純度Ｇｅ検出器、マルチチャンネル
波高分析器にてγ線を検出し、Ｃｌ基の含有量を求め
た。
【００５０】［高温粘性（歪み点、徐冷点）］歪み点、
徐冷点は、熱特性の代表的なものであり、高温粘性の指
標となる物性である（朝倉書店「ガラスハンドブック」
６３７頁参照）。歪み点は、粘度が４×１０14ポイズ
（log η＝１４．５）のときの温度で示し、徐冷点は、
粘度が４×１０13ポイズ（log η＝１３．０）のときの
温度で示す。狭い温度範囲では、log ηの絶対温度の逆
数に対するプロットは直線関係にあるので、１，１００
℃、１，１５０℃、１，２００℃、１，２５０℃、１，
３００℃において、伸び量ΔＬを測定し（以下に示すFi
ber−elongation法による）、各ηを求め、図中に縦
軸：log η、横軸：絶対温度の逆数をプロットし、直線
を得た。得られた直線により、log η＝１４．５に相当
する温度を歪み点、log η＝１３．０に相当する温度を
徐冷点として求めた。
徐冷点は、熱特性の代表的なものであり、高温粘性の指
標となる物性である（朝倉書店「ガラスハンドブック」
６３７頁参照）。歪み点は、粘度が４×１０14ポイズ
（log η＝１４．５）のときの温度で示し、徐冷点は、
粘度が４×１０13ポイズ（log η＝１３．０）のときの
温度で示す。狭い温度範囲では、log ηの絶対温度の逆
数に対するプロットは直線関係にあるので、１，１００
℃、１，１５０℃、１，２００℃、１，２５０℃、１，
３００℃において、伸び量ΔＬを測定し（以下に示すFi
ber−elongation法による）、各ηを求め、図中に縦
軸：log η、横軸：絶対温度の逆数をプロットし、直線
を得た。得られた直線により、log η＝１４．５に相当
する温度を歪み点、log η＝１３．０に相当する温度を
徐冷点として求めた。
【００５１】［Fiber−elongation法］４ｍｍ×２ｍｍ
×４０ｍｍの試料を加熱し、Δｔ＝１２０〜３，０００
秒における試料のΔＬ（ｃｍ）を求め、以下の式を用い
て粘性を求めた。 ここで、Ｗ＝５００、Ａ＝０．４、Ｂ＝０．２、Ｌ＝
４．０ ΔＬ＝伸び量、Δｔ＝測定時間
×４０ｍｍの試料を加熱し、Δｔ＝１２０〜３，０００
秒における試料のΔＬ（ｃｍ）を求め、以下の式を用い
て粘性を求めた。 ここで、Ｗ＝５００、Ａ＝０．４、Ｂ＝０．２、Ｌ＝
４．０ ΔＬ＝伸び量、Δｔ＝測定時間
【００５２】
【発明の効果】本発明の合成石英ガラスの製造方法によ
れば、溶融ガラス化工程において、一旦、α−クリスト
バライトに結晶転移させた後、溶融ガラス化し非結晶質
とするため、得られた合成石英ガラスは、結晶型に近い
非結晶質を有する。さらに、アルミニウムの含有率を容
易に制御でき、含有率５００〜５、０００ｐｐｍのアル
ミニウムが均一に分布され、かつ、実質上、ＯＨ基およ
びＣｌ基を含有しない。その結果、従来の天然石英ガラ
スの電気溶融品以上の高温粘性を有する高純度の合成石
英ガラスが得られる。また、本発明によれば、このよう
な高温粘性を有する高純度の合成石英ガラスが既存の設
備により容易に得られ、耐熱性治具の素材、高純度半導
体治具の素材、あるいは半導体用ルツボとして好適に利
用できるものである。
れば、溶融ガラス化工程において、一旦、α−クリスト
バライトに結晶転移させた後、溶融ガラス化し非結晶質
とするため、得られた合成石英ガラスは、結晶型に近い
非結晶質を有する。さらに、アルミニウムの含有率を容
易に制御でき、含有率５００〜５、０００ｐｐｍのアル
ミニウムが均一に分布され、かつ、実質上、ＯＨ基およ
びＣｌ基を含有しない。その結果、従来の天然石英ガラ
スの電気溶融品以上の高温粘性を有する高純度の合成石
英ガラスが得られる。また、本発明によれば、このよう
な高温粘性を有する高純度の合成石英ガラスが既存の設
備により容易に得られ、耐熱性治具の素材、高純度半導
体治具の素材、あるいは半導体用ルツボとして好適に利
用できるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 雅之 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (56)参考文献 特開 平２−22135（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−195133（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−320232（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−14840（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−180723（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−80329（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−40737（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−22134（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−9783（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−215728（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−119664（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−329424（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−176243（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 8/02 C03B 20/00
Claims (2)
- 【請求項１】 メチルシリケートとアルミニウムアルコ
キシドとを混合・攪拌して得られた溶液を、アンモニア
の存在下で加水分解してアルミニウムを含有するシリカ
粒子を得、これを固液分離して脱水したシリカ粒子をさ
らに加熱して脱炭した後、焼結して合成石英ガラスイン
ゴットを得た後、このアルミニウムを含有する合成石英
ガラスインゴットを粉砕、篩別、磁選、精製して合成石
英ガラス粉とし、これを常圧、加圧又は真空下で溶融し
て合成石英ガラスを製造する方法において、前記焼結工
程において、一旦α−クリストバライトに結晶転移させ
た後、真空下又は減圧下で１，８００〜１，９５０℃に
て溶融ガラス化することを特徴とする合成石英ガラスの
製造方法。 - 【請求項２】 結晶型に近い非結晶質であり、アルミニ
ウム以外の金属元素含有率が何れも１０ｐｐｂ以下で且
つＯＨ基およびＣｌ基の含有率が１ｐｐｍ以下で、さら
に徐冷点が１，２５０℃以上、歪み点が１，１４０℃以
上である合成石英ガラスを得ることを特徴とする請求項
１記載の合成石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06331233A JP3128451B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06331233A JP3128451B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165131A JPH08165131A (ja) | 1996-06-25 |
| JP3128451B2 true JP3128451B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=18241395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06331233A Expired - Lifetime JP3128451B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3128451B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4022678B2 (ja) * | 1998-01-23 | 2007-12-19 | 東ソー株式会社 | 高純度透明シリカガラスの製造方法 |
| JPH11310423A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-11-09 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 合成石英ガラスおよびその製造方法 |
| US6887576B2 (en) * | 2000-08-23 | 2005-05-03 | Herseus Quarzglas GmbH & Co. KG | Quartz glass body having improved resistance against plasma corrosion, and method for production thereof |
| JP4744003B2 (ja) * | 2001-06-01 | 2011-08-10 | 東ソー株式会社 | ジルコニウムの均一な分散性を有する石英ガラス、その製造方法、これを用いた部材及び装置 |
| JP3498182B2 (ja) | 2001-12-05 | 2004-02-16 | 東芝セラミックス株式会社 | 半導体用シリカガラス部材とその製造方法 |
| KR101378748B1 (ko) * | 2006-09-11 | 2014-03-27 | 토소 에스지엠 가부시키가이샤 | 용융 석영 유리 및 그 제조 방법 |
| TWI808933B (zh) | 2015-12-18 | 2023-07-21 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃體、二氧化矽顆粒、光導、施照體、及成型體及其製備方法 |
| WO2017103121A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines opaken quarzglaskörpers |
| KR20180095879A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-28 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 | 상승된 온도에서 탄소-도핑된 실리카 과립을 처리하여 실리카 과립의 알칼리 토금속 함량의 감소 |
| JP2019502633A (ja) | 2015-12-18 | 2019-01-31 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 均質な石英ガラス製のガラス繊維および母材 |
| US10618833B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a synthetic quartz glass grain |
| TWI812586B (zh) | 2015-12-18 | 2023-08-21 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃體、其製備方法與應用、及用於控制烘箱出口處之露點 |
| TW201736291A (zh) | 2015-12-18 | 2017-10-16 | 何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃製備中矽含量之提升 |
| JP6940236B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-09-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 溶融炉内での露点監視による石英ガラス体の調製 |
| US10730780B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-08-04 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| JP6981710B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-12-17 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 二酸化ケイ素造粒体からの石英ガラス体の調製 |
| CN114044520A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-02-15 | 苏州西丽卡电子材料有限公司 | 一种高铝超纯合成石英砂的制备方法 |
-
1994
- 1994-12-08 JP JP06331233A patent/JP3128451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08165131A (ja) | 1996-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3128451B2 (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
| JP3040315B2 (ja) | 高粘度合成石英ガラス部材およびその製造方法 | |
| EP0360659B1 (en) | Synthetic fused silica glass and method for the preparation thereof | |
| US4680046A (en) | Method of preparing preforms for optical fibers | |
| EP1411032A1 (en) | HIGH PURITY QUARTZ POWDER AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, AND FORMED GLASS ARTICLE FROM THE POWDER | |
| CN108658451A (zh) | 用于石英玻璃应用的高纯度二氧化硅颗粒及制备所述颗粒的方法 | |
| AU684167B2 (en) | Synthetic silica glass powder | |
| JP3152410B2 (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法 | |
| JP3092675B2 (ja) | オキシナイトライドガラス及びその製造方法 | |
| JP4181226B2 (ja) | 高純度、高耐熱性石英ガラスの製造方法 | |
| JP2001220126A (ja) | 結晶質合成シリカ粉体及びこれを用いたガラス成形体 | |
| JP3672592B2 (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法 | |
| JPH0280329A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
| JPS63166730A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0840735A (ja) | 合成石英ガラスルツボの製造方法 | |
| JP2000016820A (ja) | シリカガラス粉粒体及びその製造法 | |
| JP3121733B2 (ja) | 高純度合成クリストバライト粉、その製造方法及びシリカガラス | |
| JPH01176243A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0264027A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JP2824883B2 (ja) | 石英ガラスルツボの製造方法 | |
| JPH0563416B2 (ja) | ||
| JPH0567575B2 (ja) | ||
| CA2154845A1 (en) | Synthetic silica glass powder | |
| JPH07277723A (ja) | クリストバライト粒子の製造方法 | |
| JPH10316415A (ja) | 合成石英ガラス粉末の製造方法及び石英ガラス成形体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131110 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |