JP3115236B2 - マスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材 - Google Patents
マスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフォトリソグラフィ
ーに用いられるマスク部材のパターン面を保護するため
のマスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマ
スク部材に関し、特に投光露光用のマスク部材にマスク
保護部材を装着するためのマスク保護部材の装着方法及
びマスク保護部材付きマスク部材に関する。
ーに用いられるマスク部材のパターン面を保護するため
のマスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマ
スク部材に関し、特に投光露光用のマスク部材にマスク
保護部材を装着するためのマスク保護部材の装着方法及
びマスク保護部材付きマスク部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、投光露光を行うには、マスク部材
のパターン面に、一般にペリクルと呼ばれる防塵用のマ
スク保護部材が装着される。
のパターン面に、一般にペリクルと呼ばれる防塵用のマ
スク保護部材が装着される。
【０００３】図４はマスク保護部材を使用した投光露光
処理の概念図である。マスク部材８１のパターン面８１
ａには、パターン８１ｂが形成されている。パターン面
８１ａには、マスク保護部材８２が接着されている。マ
スク保護部材８２は、フレーム８２ａおよび薄膜８２ｂ
とから構成されている。薄膜８２ｂは、透明の膜であ
り、フレーム８２ａの厚み分（数ｍｍ程度）だけパター
ン８１ｂから離れて位置し、パターン面８１ａを保護す
る。
処理の概念図である。マスク部材８１のパターン面８１
ａには、パターン８１ｂが形成されている。パターン面
８１ａには、マスク保護部材８２が接着されている。マ
スク保護部材８２は、フレーム８２ａおよび薄膜８２ｂ
とから構成されている。薄膜８２ｂは、透明の膜であ
り、フレーム８２ａの厚み分（数ｍｍ程度）だけパター
ン８１ｂから離れて位置し、パターン面８１ａを保護す
る。
【０００４】このようにマスク保護部材８２がマスク部
材８１に装着されると、マスク部材８１の上方から光Ｌ
10を照射して露光を行う。このとき、パターン面８１ａ
上のパターン８１ｂは、光線Ｌ11で示すようにレンズ８
３で集光され、ウェーハ８４の面上に転写される。ま
た、薄膜８２ｂの表面にゴミ８５が付着している場合、
ゴミ８５はレンズ８３の焦点とずれているため、光線Ｌ
12で示すようにウェーハ８４の面上ではピントが合わ
ず、転写されない。すなわち、マスク保護部材８２を装
着することにより、パターン８１ｂのみを転写すること
ができる。
材８１に装着されると、マスク部材８１の上方から光Ｌ
10を照射して露光を行う。このとき、パターン面８１ａ
上のパターン８１ｂは、光線Ｌ11で示すようにレンズ８
３で集光され、ウェーハ８４の面上に転写される。ま
た、薄膜８２ｂの表面にゴミ８５が付着している場合、
ゴミ８５はレンズ８３の焦点とずれているため、光線Ｌ
12で示すようにウェーハ８４の面上ではピントが合わ
ず、転写されない。すなわち、マスク保護部材８２を装
着することにより、パターン８１ｂのみを転写すること
ができる。
【０００５】このようにマスク保護部材８２を使用する
と、その薄膜８２ｂの外側にゴミが付着しても精密な投
光露光が行える。ところが、このマスク保護部材８２を
パターン面８１ａに装着するときに、マスク保護部材８
２とパターン面８１ａとの間にゴミが入ってしまうこと
がある。このゴミに気づかずに投光露光を行うと、転写
ミスが生じてしまう。とくに、パターン上に付着したゴ
ミは、確実に転写されてしまう。
と、その薄膜８２ｂの外側にゴミが付着しても精密な投
光露光が行える。ところが、このマスク保護部材８２を
パターン面８１ａに装着するときに、マスク保護部材８
２とパターン面８１ａとの間にゴミが入ってしまうこと
がある。このゴミに気づかずに投光露光を行うと、転写
ミスが生じてしまう。とくに、パターン上に付着したゴ
ミは、確実に転写されてしまう。
【０００６】そこで、従来は、マスク保護部材８２が装
着された状態のマスク部材８１を特別な検査装置にかけ
て、マスク保護部材８２とパターン面８１ａとの間のゴ
ミの付着を検査するようにしている。
着された状態のマスク部材８１を特別な検査装置にかけ
て、マスク保護部材８２とパターン面８１ａとの間のゴ
ミの付着を検査するようにしている。
【０００７】図５はレーザ光走査型の検査装置によるパ
ターン面の検査方法を示す図であり、（Ａ）は中心付近
の検査状態を示す図、（Ｂ）はマスク保護部材８２のフ
レーム８２ａ付近の検査状態を示す図である。このレー
ザ光走査型の検査装置では、図（Ａ）に示すように、レ
ーザ光発振部８６と受光部８７とが設けられている。レ
ーザ光発振部８６から発射されたレーザ光Ｌ20は、薄膜
８２ｂを介してマスク部材８１のパターン面８１ａに所
定の角度で照射される。レーザ光発振部８６とマスク部
材８１の相対的な動きにより、レーザ光Ｌ20は、パター
ン面８１ａ上を全面に亘って走査する。
ターン面の検査方法を示す図であり、（Ａ）は中心付近
の検査状態を示す図、（Ｂ）はマスク保護部材８２のフ
レーム８２ａ付近の検査状態を示す図である。このレー
ザ光走査型の検査装置では、図（Ａ）に示すように、レ
ーザ光発振部８６と受光部８７とが設けられている。レ
ーザ光発振部８６から発射されたレーザ光Ｌ20は、薄膜
８２ｂを介してマスク部材８１のパターン面８１ａに所
定の角度で照射される。レーザ光発振部８６とマスク部
材８１の相対的な動きにより、レーザ光Ｌ20は、パター
ン面８１ａ上を全面に亘って走査する。
【０００８】いま、パターン面８１ａの点Ｐ01に照射さ
れたレーザ光Ｌ20は、この点Ｐ01にゴミ等の異物がなけ
れば、入射角と同じ角度で反射して反射光Ｌ21として外
部に放出される。一方、点Ｐ01に異物があると、レーザ
光Ｌ20は散乱する。この散乱したレーザ光Ｌ20の一部分
の光Ｌ22は、受光部８７で検出される。検査装置側で
は、ある程度以上の強度の光が受光部８７で検出される
と、レーザ光Ｌ20の照射されている部分に異物があると
判断する。
れたレーザ光Ｌ20は、この点Ｐ01にゴミ等の異物がなけ
れば、入射角と同じ角度で反射して反射光Ｌ21として外
部に放出される。一方、点Ｐ01に異物があると、レーザ
光Ｌ20は散乱する。この散乱したレーザ光Ｌ20の一部分
の光Ｌ22は、受光部８７で検出される。検査装置側で
は、ある程度以上の強度の光が受光部８７で検出される
と、レーザ光Ｌ20の照射されている部分に異物があると
判断する。
【０００９】しかし、このような検査方法では、図
（Ｂ）に示すように、マスク保護部材８２のフレーム８
２ａに近接している点Ｐ02にレーザ光Ｌ20を照射する
と、パターン面８１ａで反射したレーザ光Ｌ23がフレー
ム８２ａの内側面に反射することになる。そして、点Ｐ
02よりもさらに内側になると、フレーム８２ａの内側面
に反射する光量が増大して、受光部８７で受光され、検
査装置側では異物があると判断してしまう。
（Ｂ）に示すように、マスク保護部材８２のフレーム８
２ａに近接している点Ｐ02にレーザ光Ｌ20を照射する
と、パターン面８１ａで反射したレーザ光Ｌ23がフレー
ム８２ａの内側面に反射することになる。そして、点Ｐ
02よりもさらに内側になると、フレーム８２ａの内側面
に反射する光量が増大して、受光部８７で受光され、検
査装置側では異物があると判断してしまう。
【００１０】このため、従来は、フレーム８２ａの内側
面から一定距離の範囲は検査対象外領域として、レーザ
光Ｌ20を照射しないようにしていた。図６は集光型の検
査装置によるパターン面の検査方法を示す図であり、
（Ａ）は中心付近の検査状態を示す図、（Ｂ）はマスク
保護部材８２のフレーム８２ａ付近の検査状態を示す図
である。この検査装置では、レンズ８８を有する光源部
によって検査光Ｌ30を集光し、マスク部材８１のパター
ン面８１ａ上に焦点を合わせて照射する。例えばレンズ
８８の上方には、図示されていない受光部が設けられ、
パターン面８１ａで反射した検査光Ｌ30の光量を検出す
る。あるいは、この受光部が、マスク部材８１を挟んで
レンズ８８と反対側に設けられ、マスク部材８１を透過
した光を受光部で検出する構成の検査装置もある。
面から一定距離の範囲は検査対象外領域として、レーザ
光Ｌ20を照射しないようにしていた。図６は集光型の検
査装置によるパターン面の検査方法を示す図であり、
（Ａ）は中心付近の検査状態を示す図、（Ｂ）はマスク
保護部材８２のフレーム８２ａ付近の検査状態を示す図
である。この検査装置では、レンズ８８を有する光源部
によって検査光Ｌ30を集光し、マスク部材８１のパター
ン面８１ａ上に焦点を合わせて照射する。例えばレンズ
８８の上方には、図示されていない受光部が設けられ、
パターン面８１ａで反射した検査光Ｌ30の光量を検出す
る。あるいは、この受光部が、マスク部材８１を挟んで
レンズ８８と反対側に設けられ、マスク部材８１を透過
した光を受光部で検出する構成の検査装置もある。
【００１１】この検査装置では、例えばパターン面８１
ａ上の点Ｐ03にゴミ等の異物があれば、検査光Ｌ30は散
乱するので、受光部で受光する光量が減少する。これに
よって、検査装置側では、パターン面８１ａ上に異物が
あると判断する。
ａ上の点Ｐ03にゴミ等の異物があれば、検査光Ｌ30は散
乱するので、受光部で受光する光量が減少する。これに
よって、検査装置側では、パターン面８１ａ上に異物が
あると判断する。
【００１２】しかし、このような検査方法では、マスク
保護部材８２のフレーム８２ａに近接している点Ｐ04に
検査光Ｌ30を照射すると、図（Ｂ）に示すように、検査
光Ｌ30の一部がフレーム８２ａにより遮られてしまい、
点Ｐ04への投光量が減少し、正確な検査が不能となって
しまう。このため、従来は、図５の例と同様に、フレー
ム８２ａの内側面から一定距離の範囲は検査対象外領域
として、検査光Ｌ30を照射しないようにしていた。
保護部材８２のフレーム８２ａに近接している点Ｐ04に
検査光Ｌ30を照射すると、図（Ｂ）に示すように、検査
光Ｌ30の一部がフレーム８２ａにより遮られてしまい、
点Ｐ04への投光量が減少し、正確な検査が不能となって
しまう。このため、従来は、図５の例と同様に、フレー
ム８２ａの内側面から一定距離の範囲は検査対象外領域
として、検査光Ｌ30を照射しないようにしていた。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】このように、図５およ
び図６における従来の検査方法では、フレーム８２ａの
内側面から一定距離の範囲にある検査対象外領域では、
パターン面８１ａの欠陥や異物の存在は検出されないこ
とになる。ただし、パターン面８１ａ上において実際に
パターンが形成されている部分は、フレーム８２ａより
も十分中心寄りなので、検査の行われない範囲に異物等
があったとしても、投光露光では現実的に問題はない。
しかし、ゴミ等の異物は、マスク部材８１の運搬中に移
動する場合があるので、検査対象外領域にあったゴミ
が、検査後の運搬中にパターン上に移動してしまうと、
マスク部材８１が不良品となってしまうおそれがあっ
た。
び図６における従来の検査方法では、フレーム８２ａの
内側面から一定距離の範囲にある検査対象外領域では、
パターン面８１ａの欠陥や異物の存在は検出されないこ
とになる。ただし、パターン面８１ａ上において実際に
パターンが形成されている部分は、フレーム８２ａより
も十分中心寄りなので、検査の行われない範囲に異物等
があったとしても、投光露光では現実的に問題はない。
しかし、ゴミ等の異物は、マスク部材８１の運搬中に移
動する場合があるので、検査対象外領域にあったゴミ
が、検査後の運搬中にパターン上に移動してしまうと、
マスク部材８１が不良品となってしまうおそれがあっ
た。
【００１４】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、検査装置による検査の後で、検査対象外領域
の異物がパターン上に移動することを阻止できるマスク
保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材
を提供することを目的とする。
のであり、検査装置による検査の後で、検査対象外領域
の異物がパターン上に移動することを阻止できるマスク
保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材
を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、枠状のフレームと、前記フレームに張着
された透明薄膜とを有するマスク保護部材をフォトリソ
グラフィーに用いられるマスク部材のパターン面を保護
するために装着するマスク保護部材の装着方法におい
て、前記マスク部材のパターン面上の異物の検査対象外
領域に、粘着層を形成することを特徴とするマスク保護
部材の装着方法が提供される。
決するために、枠状のフレームと、前記フレームに張着
された透明薄膜とを有するマスク保護部材をフォトリソ
グラフィーに用いられるマスク部材のパターン面を保護
するために装着するマスク保護部材の装着方法におい
て、前記マスク部材のパターン面上の異物の検査対象外
領域に、粘着層を形成することを特徴とするマスク保護
部材の装着方法が提供される。
【００１６】このような構成により、検査対象外領域に
異物があったとしても、粘着層によって異物を捕獲でき
るため、検査後のマスク部材の運搬中に異物がパターン
部分に移動することが阻止される。
異物があったとしても、粘着層によって異物を捕獲でき
るため、検査後のマスク部材の運搬中に異物がパターン
部分に移動することが阻止される。
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一形態を図面を参
照して説明する。図２は本形態のマスク保護部材の装着
されたマスク部材を検査するための検査装置の概略構成
を示す斜視図である。ここでは、検査装置１０として、
レーザ光走査型の検査装置について説明する。検査装置
１０は、主に、レーザ走査部１１、検出部１２、および
検出部１３から構成されている。レーザ走査部１１は、
レーザ発振器１１１から発振されたレーザ光をシリンド
リカルレンズ１１２で集束光にし、ガルバノミラー１１
３で反射してｆ−θレンズ１１４を介して検査用のレー
ザ光Ｌ1 を被検査物１４に照射する。ガルバノミラー１
１３は、軸芯を中心に回動制御され、これによりレーザ
光Ｌ1 がＸ軸方向に走査される。
照して説明する。図２は本形態のマスク保護部材の装着
されたマスク部材を検査するための検査装置の概略構成
を示す斜視図である。ここでは、検査装置１０として、
レーザ光走査型の検査装置について説明する。検査装置
１０は、主に、レーザ走査部１１、検出部１２、および
検出部１３から構成されている。レーザ走査部１１は、
レーザ発振器１１１から発振されたレーザ光をシリンド
リカルレンズ１１２で集束光にし、ガルバノミラー１１
３で反射してｆ−θレンズ１１４を介して検査用のレー
ザ光Ｌ1 を被検査物１４に照射する。ガルバノミラー１
１３は、軸芯を中心に回動制御され、これによりレーザ
光Ｌ1 がＸ軸方向に走査される。
【００２０】被検査物１４は、マスク部材１５のパター
ン面１５ａ上にマスク保護部材１６が装着されたもので
ある。この被検査物１４は、Ｘ軸方向に走査されるレー
ザ光Ｌ1 に対して、Ｙ軸方向に移動制御される。
ン面１５ａ上にマスク保護部材１６が装着されたもので
ある。この被検査物１４は、Ｘ軸方向に走査されるレー
ザ光Ｌ1 に対して、Ｙ軸方向に移動制御される。
【００２１】検出部１２および検出部１３は、レーザ光
Ｌ1 の走査線上の異物が存在した場合、その散乱光を検
出する。検出部１２は、パターン面１５ａ上の右側半分
の範囲内で生じた散乱光を、集光レンズ１２１で受光す
る。集光レンズ１２１は、検光子の機能も有しており、
受光した光のうち特定の偏向面の光のみを透過、集光す
る。集光レンズ１２１を透過した光は、スリット１２２
およびレンズ１２３を介して光検出器１２４に入射され
る。検査装置１０側では、この光検出器１２４に入射し
た光の強度が一定値以上のときに、現在レーザ光Ｌ1 を
照射している部分に異物が存在するものと判断する。
Ｌ1 の走査線上の異物が存在した場合、その散乱光を検
出する。検出部１２は、パターン面１５ａ上の右側半分
の範囲内で生じた散乱光を、集光レンズ１２１で受光す
る。集光レンズ１２１は、検光子の機能も有しており、
受光した光のうち特定の偏向面の光のみを透過、集光す
る。集光レンズ１２１を透過した光は、スリット１２２
およびレンズ１２３を介して光検出器１２４に入射され
る。検査装置１０側では、この光検出器１２４に入射し
た光の強度が一定値以上のときに、現在レーザ光Ｌ1 を
照射している部分に異物が存在するものと判断する。
【００２２】一方、検出部１３は、パターン面１５ａ上
の左側半分の範囲内で生じた散乱光を、集光レンズ１３
１で受光する。検出部１３は、検出部１２と同様に、集
光レンズ１３１、スリット１３２、レーザ１３３、およ
び光検出器１３４を有しており、光検出器１３４に入射
された光の強度によって、異物の検出が行われる。
の左側半分の範囲内で生じた散乱光を、集光レンズ１３
１で受光する。検出部１３は、検出部１２と同様に、集
光レンズ１３１、スリット１３２、レーザ１３３、およ
び光検出器１３４を有しており、光検出器１３４に入射
された光の強度によって、異物の検出が行われる。
【００２３】次に、このような検査装置１０で検査を受
ける被検査物１４の構成について説明する。図１は被検
査物１４におけるマスク保護部材１６の装着構造の第１
の形態を示す断面図である。マスク保護部材１６は、フ
レーム１６１と透明の薄膜１６２とから構成されてい
る。マスク保護部材１６は、そのフレーム１６１の装着
側の端面に両面テープ１６３が貼り付けられており、こ
の両面テープ１６３を介してマスク部材１５のパターン
面１５ａに接着されている。このとき、両面テープ１６
３は、フレーム１６１の幅よりもＤ1 だけ余分に幅がと
られている。また、両面テープ１６３は、図面上側の粘
着面１６３ａがマスク保護部材１６内で露出するように
設けられている。尚、両面テープは基材の両面に粘着剤
（アクリル系等）が付いているものや、粘着剤（アクリ
ル系等）のみの一体型の何れでも良い。
ける被検査物１４の構成について説明する。図１は被検
査物１４におけるマスク保護部材１６の装着構造の第１
の形態を示す断面図である。マスク保護部材１６は、フ
レーム１６１と透明の薄膜１６２とから構成されてい
る。マスク保護部材１６は、そのフレーム１６１の装着
側の端面に両面テープ１６３が貼り付けられており、こ
の両面テープ１６３を介してマスク部材１５のパターン
面１５ａに接着されている。このとき、両面テープ１６
３は、フレーム１６１の幅よりもＤ1 だけ余分に幅がと
られている。また、両面テープ１６３は、図面上側の粘
着面１６３ａがマスク保護部材１６内で露出するように
設けられている。尚、両面テープは基材の両面に粘着剤
（アクリル系等）が付いているものや、粘着剤（アクリ
ル系等）のみの一体型の何れでも良い。
【００２４】ここで、幅Ｄ1 は、レーザ光Ｌ1 による異
物検査の検査対象外領域の幅とほぼ同じに設定されてい
る。このように、両面テープ１６３の粘着面１６３ａ
を、幅Ｄ1 だけ余分にフレーム内側に設けることによ
り、検査対象外領域にゴミ等の異物が存在しても、その
粘着力によって捕獲することができる。よって、検査後
に被検査物１４を運搬するときに、この異物１７がパタ
ーン上に移動することが防止される。
物検査の検査対象外領域の幅とほぼ同じに設定されてい
る。このように、両面テープ１６３の粘着面１６３ａ
を、幅Ｄ1 だけ余分にフレーム内側に設けることによ
り、検査対象外領域にゴミ等の異物が存在しても、その
粘着力によって捕獲することができる。よって、検査後
に被検査物１４を運搬するときに、この異物１７がパタ
ーン上に移動することが防止される。
【００２５】このような構造の被検査物１４では、図６
で説明した集光型の検査装置にも適用できる。ただし、
幅Ｄ1の値は、その検査装置の検査対象外領域の幅に応
じて変更する必要がある。ただし、予め、各検査装置で
共有できる最大幅に設定しておけば、変更しなくても良
い。
で説明した集光型の検査装置にも適用できる。ただし、
幅Ｄ1の値は、その検査装置の検査対象外領域の幅に応
じて変更する必要がある。ただし、予め、各検査装置で
共有できる最大幅に設定しておけば、変更しなくても良
い。
【００２６】図３は被検査物１４におけるマスク保護部
材１６の装着構造の第２の形態を示す断面図である。こ
こでは、両面テープ１６３は、従来通りフレーム１６１
の幅とほぼ同じ幅に設けられている。そして、パターン
面１５ａには、フレーム１６１の接着領域および検査対
象外領域（幅Ｄ2 の領域）に、アクリル系物質等を材料
とする粘着剤１６４が塗布されている。これにより、マ
スク保護部材１６側の構造は従来通りでよく、マスク保
護部材１６の装着後は、残りの幅Ｄ2 の部分で異物を捕
獲することができる。
材１６の装着構造の第２の形態を示す断面図である。こ
こでは、両面テープ１６３は、従来通りフレーム１６１
の幅とほぼ同じ幅に設けられている。そして、パターン
面１５ａには、フレーム１６１の接着領域および検査対
象外領域（幅Ｄ2 の領域）に、アクリル系物質等を材料
とする粘着剤１６４が塗布されている。これにより、マ
スク保護部材１６側の構造は従来通りでよく、マスク保
護部材１６の装着後は、残りの幅Ｄ2 の部分で異物を捕
獲することができる。
【００２７】ただし、マスク保護部材１６のフレーム１
６には、すでに両面テープ１６３が接着されているの
で、フレーム高さの変更を最小限に抑えるため粘着剤１
６４はできるだけ薄く、例えば０．１ｍｍ程度に塗布す
ることが望ましい。
６には、すでに両面テープ１６３が接着されているの
で、フレーム高さの変更を最小限に抑えるため粘着剤１
６４はできるだけ薄く、例えば０．１ｍｍ程度に塗布す
ることが望ましい。
【００２８】
【００２９】
【００３０】
【００３１】
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、マスク
部材のパターン面上で、異物の検査対象外領域に粘着層
を形成するようにしたので、検査対象外領域に異物があ
ったとしても、粘着層によって異物を捕獲できるため、
検査後のマスク部材の運搬中に異物がパターン部分に移
動することが阻止される。
部材のパターン面上で、異物の検査対象外領域に粘着層
を形成するようにしたので、検査対象外領域に異物があ
ったとしても、粘着層によって異物を捕獲できるため、
検査後のマスク部材の運搬中に異物がパターン部分に移
動することが阻止される。
【００３３】
【図１】被検査物におけるマスク保護部材の装着構造の
第１の形態を示す断面図である。
第１の形態を示す断面図である。
【図２】本形態のマスク保護部材の装着されたマスク部
材を検査するための検査装置の概略構成を示す斜視図で
ある。
材を検査するための検査装置の概略構成を示す斜視図で
ある。
【図３】被検査物におけるマスク保護部材の装着構造の
第２の形態を示す断面図である。
第２の形態を示す断面図である。
【図４】マスク保護部材を使用した投光露光処理の概念
図である。
図である。
【図５】レーザ光走査型の検査装置によるパターン面の
検査方法を示す図であり、（Ａ）は中心付近の検査状態
を示す図、（Ｂ）はマスク保護部材のフレーム付近の検
査状態を示す図である。
検査方法を示す図であり、（Ａ）は中心付近の検査状態
を示す図、（Ｂ）はマスク保護部材のフレーム付近の検
査状態を示す図である。
【図６】集光型の検査装置によるパターン面の検査方法
を示す図であり、（Ａ）は中心付近の検査状態を示す
図、（Ｂ）はマスク保護部材のフレーム付近の検査状態
を示す図である。
を示す図であり、（Ａ）は中心付近の検査状態を示す
図、（Ｂ）はマスク保護部材のフレーム付近の検査状態
を示す図である。
１０ 検査装置 １１ レーザ走査部 １２，１３ 検出部 １４ 被検査物 １５ マスク部材 １５ａ パターン面 １６ マスク保護部材 １７ 異物 １６１ フレーム １６２ 薄膜 １６３ 両面テープ １６４ 粘着剤
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−15250（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−174846（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−237055（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−135345（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−246746（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−2263（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−137948（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/14
Claims (4)
- 【請求項１】 枠状のフレームと、前記フレームに張着
された透明薄膜とを有するマスク保護部材をフォトリソ
グラフィーに用いられるマスク部材のパターン面を保護
するために装着するマスク保護部材の装着方法におい
て、 前記マスク部材のパターン面上の異物の検査対象外領域
に、粘着層を形成することを特徴とするマスク保護部材
の装着方法。 - 【請求項２】 前記粘着層は、前記フレームを前記パタ
ーン面に接着させるための両面テープを前記検査対象外
領域まで広げることにより形成されることを特徴とする
請求項１記載のマスク保護部材の装着方法。 - 【請求項３】 前記粘着層は、接着剤を塗布することに
より形成されることを特徴とする請求項１記載のマスク
保護部材の装着方法。 - 【請求項４】 枠状のフレームと、前記フレームに張着
された透明薄膜とを有するマスク保護部材がフォトリソ
グラフィーに用いられるマスク部材のパターン面を保護
するために装着されたマスク保護部材付きマスク部材に
おいて、 前記マスク保護部材で保護された前記パターン面上の異
物の検査対象外領域に、粘着層が形成されていることを
特徴とするマスク保護部材付きマスク部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23179696A JP3115236B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | マスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23179696A JP3115236B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | マスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1074683A JPH1074683A (ja) | 1998-03-17 |
| JP3115236B2 true JP3115236B2 (ja) | 2000-12-04 |
Family
ID=16929162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23179696A Expired - Lifetime JP3115236B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | マスク保護部材の装着方法及びマスク保護部材付きマスク部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3115236B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4889510B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2012-03-07 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム内面への粘着剤の塗布方法 |
-
1996
- 1996-09-02 JP JP23179696A patent/JP3115236B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1074683A (ja) | 1998-03-17 |
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