JP3105430U

JP3105430U - 垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード

Info

Publication number: JP3105430U
Application number: JP2004002893U
Authority: JP
Inventors: 穆人頼; 詳竣洪
Original assignee: 炬▲きん▼科技股▲ふん▼有限公司
Priority date: 2004-04-23
Filing date: 2004-05-24
Publication date: 2004-10-28
Anticipated expiration: 2010-05-24
Also published as: US20070018180A1; US20070018178A1; TWM255518U; US7453098B2; KR200370465Y1; US20050236632A1

Abstract

【課題】垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードの提供。
【解決手段】酸化物ウインドウ層により、垂直電極の窒化ガリウム系発光ダイオードのフレネル反射損失及び全反射により外部発光効率を高め、且つ金属反射層を有することで、入射角に対して無選択に反射し、ゆえに反射角周波数幅を増して発光層の発射した光を反射し、且つこの構造は放熱の効果を増し静電防止の能力を増すことができ、装置の作業寿命を増し高電流駆動の応用に適合し、更に垂直電極装置はダイ製作の単位面積を減らして伝統的なワイヤボンディングパッケージ後工程に有利である。
【選択図】図１０

Description

本考案は垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードに係り、特に、一種の窒化ガリウム系発光ダイオードの構造を指し、且つフレネル反射損失及び全反射を下げて外部発光効率を高めることができる構造の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードに関する。

青色発光ダイオードの開発目的は三つあり、即ち、フルカラーディスプレイへの応用、交通標識灯への応用、及び白光照明ランプへの応用である。現在各種の異なる色の発光ダイオードが市販され、それは赤光、緑光、及び橙光及び黄光がある。ただし青光と緑光の発光体は、ディスプレイに使用できる程度の高効率と高輝度を達成するには今だ研究開発段階にある。窒化インジウムガリウム／窒化ガリウム／アルミニウム窒化ガリウムを基礎材料として高輝度の青光及び緑光発光体を製造し、既に発展し成熟した赤光発光ダイオードと組み合わせれば、フルカラーディスプレイの開発目標を達成できる。このほか、従来より使用されている電球型交通標識は、電球装置が電力を消耗し、寿命が短く、且つ擬似点灯の状況（太陽が電球に直射する時）を発生して交通事故をまねきやすいことから、高輝度の赤青緑の発光ダイオードが伝統的な電球の代わりに採用されるようになり、大幅に交通標識の鮮明度を高めている。青色発光ダイオードの技術を僅かに改良すれば、青光半導体レーザーを開発でき、このような短波長青光半導体レーザーは現在ディスクドライブ装置に使用されている赤光半導体レーザー（光学読み書きヘッド）に較べて、ディスク記録容量を三倍以上に増すことができる。即ち、将来的には１２インチのディスク上に約３時間の動態画像を記録できるようになり、これは人々を興奮させる情報である。青光発光ダイオードチップにイットリウムアルミニウムガーネット黄光蛍光粉を加え、青光で黄色蛍光粉を励起し黄光を発生し、一部の青光を放射させ、青黄混合後の白光を形成することができる。白光発光ダイオードの長所は相当に多い。即ち、寿命が長く、節電でき、低電圧駆動で、安全で環境保護効果を有し、このため２１世紀の照明光源と見なされている。地下ガリウムも紫外光発光ダイオードを形成でき、それは短波長光源であり、短波長光源は高エネルギー光源に属し、このため医療、食品処理、温室栽培等の各種の新興の用途に応用されうる。

周知の技術中、サファイヤ基板を使用して製造された窒化ガリウム系発光ダイオードは、基板が絶縁性で導電不能であるため、横方向電極構造を形成する必要がある。図１に示されるように、それは、サファイヤ絶縁基板１００’の上に、バッファ層１１０’、ｎ型半導体層１２０’、発光層１３０’、ｐ型半導体層１４０’、第１電極１４２’、及び第２電極１２２’がエピタキシャル成長させられてなる。このほか、周知の技術中には炭化シリコン（ＳｉｌｉｃｏｎＣａｒｂｉｄｅ）を窒化ガリウム系発光ダイオードの基板としたものもある。炭化シリコン基板は導電特性を有し、垂直式電極を形成できるが、この基板は製造が容易でなく且つ製造コストが相当に高い。ゆえに現在は絶縁基板を使用して窒化ガリウム系発光ダイオードが製造されている。しかし、絶縁基板を使用すると、伝統的な垂直電極を形成できず、横方向電極構造を製作しなければならず、このため特殊なワイヤボンディング機構及びパッケージ技術が必要で、且つダイの製作面積が増加し、工程が複雑となり且つ単位装置に必要なコストも増加する。

図２から図４に示される特許文献１に記載の技術によると、第１導電型の下被覆層２１０’が第１基板２００’の上に形成され、第２導電型の上被覆層２２０’が該下被覆層２１０’に隣接して形成され、オームコンタクト層２３０’が上被覆層２２０’の上に形成され、反射層２４０’が該オームコンタクト層２３０’の上に形成され、第２基板２５０’が該反射層２４０’の上に結合されて第１基板２００’が取り除かれ、それぞれ上被覆層２２０’と下被覆層２１０’に導通する第１電極と第２電極が形成される。このような製造方法は絶縁基板を使用した発光ダイオード装置に適用されて垂直電極を具えた発光ダイオードを製造することができる。

台湾特許公告第４８０７４０号明細書

本考案の主要な目的は、一種の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードを提供することにあり、それは、酸化物ウインドウ層を利用し、該酸化物ウインドウ層はｎ型オームコンタクト層と良好なオームコンタクトを形成し且つ良好な導電性と透光性を具備し、且つその屈折係数が１．８５〜２．０の間であり、ゆえに効果的にフレネル反射損失と全反射を減らして外部発光効率を高められるものとする。

本考案の次の目的は、一種の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードを提供することにあり、それは、金属反射層を利用し、該金属反射層は入射角に対して無選択的に反射し、反射角周波数幅を増し、ゆえに効果的に発光層の発射した光を反射し、且つこの構造が放熱の効果と静電防止能力を増す効果を有するため、装置の作業寿命を増し並びに高電流駆動の応用に適合するものとする。

本考案の別の目的は、一種の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードを提供することにあり、その垂直電極の構造はダイ製作の単位面積を減らすことができ、並びに伝統的なワイヤボンディングパッケージ後工程に有利であるものとする。

請求項１の考案は、第１電極と、
該第１電極の上方に位置する導電基板と、
該導電基板の上方に位置する金属反射層と、
該金属反射層の上方に位置する窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置する酸化物ウインドウ層と、
該酸化物ウインドウ層の上方に位置する第２電極と、
を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項２の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層はｎ型透光導電層とされ、それは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウムモリブデン酸化物（ＩＭＯ）、酸化インジウム（ＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）、酸化錫（ＴｉｎＯｘｉｄｅ）、カドミウム錫酸化物（ＣａｄｍｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）、酸化ガリウム（ＧａｌｌｉｕｍＯｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧａｌｌｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、或いは酸化亜鉛（ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項３の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層がテクスチャ構造を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項４の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面と酸化物ウインドウ層がいずれもテクスチャ構造を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項５の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、電流隔離領域を窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項６の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、電流隔離層を窒化ガリウム系半導体スタック構造と酸化物ウインドウ層の間に具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項７の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面に金属テクスチャ層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項８の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層がテクスチャ構造を具え、窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に電流隔離領域が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項９の考案は、請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造がｐ型透光オーム金属層、ｐ型オームコンタクト層、発光層及びｎ型オームコンタクト層を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１０の考案は、第１電極と、
該第１電極の上方に位置する導電基板と、
該導電基板の上方に位置する金属反射層と、
該金属反射層の上方に位置する窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置し表面にテクスチャ構造を具えた窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置する酸化物ウインドウ層と、
該酸化物ウインドウ層の上方に位置する第２電極と、
を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１１の考案は、請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層はｎ型透光導電層とされ、それは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウムモリブデン酸化物（ＩＭＯ）、酸化インジウム（ＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）、酸化錫（ＴｉｎＯｘｉｄｅ）、カドミウム錫酸化物（ＣａｄｍｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）、酸化ガリウム（ＧａｌｌｉｕｍＯｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、ガリウム亜鉛酸化物（Ｇａｌｌｉｕｍ
ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、或いは酸化亜鉛（ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１２の考案は、請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面に金属テクスチャ層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１３の考案は、請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に電流隔離領域が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１４の考案は、請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造と酸化物ウインドウ層の間に電流隔離層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項１５の考案は、請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造がｐ型透光オーム金属層、ｐ型オームコンタクト層、発光層及びｎ型オームコンタクト層を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。

本考案によると、酸化物ウインドウ層により、垂直電極の窒化ガリウム系発光ダイオードのフレネル反射損失及び全反射により外部発光効率を高め、且つ金属反射層を有することで、入射角に対して無選択に反射し、ゆえに反射角周波数幅を増して発光層の発射した光を反射し、且つこの構造は放熱の効果を増し静電防止の能力を増すことができ、装置の作業寿命を増し高電流駆動の応用に適合し、更に垂直電極装置はダイ製作の単位面積を減らして伝統的なワイヤボンディングパッケージ後工程に有利である。

本考案の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードは、第１電極の上方に位置する導電基板と、該導電基板の上方に位置する金属反射層と、該金属反射層の上方に位置する窒化ガリウム系半導体スタック構造と、該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置する酸化物ウインドウ層と、該酸化物ウインドウ層の上方に位置する第２電極と、を具えている。該酸化物ウインドウ層は、垂直電気良くの窒化ガリウム系発光ダイオードのフレネル反射損失と全反射を減らし、外部発光効率を高め、また金属反射層は、入射角に対して無選択に反射し、ゆえに反射角周波数幅を増して発光層の発射した光を反射し、且つこの構造は放熱の効果を増し静電防止の能力を増すことができ、装置の作業寿命を増し高電流駆動の応用に適合する。更に本考案の垂直電極構造はダイ製作の単位面積を減らして伝統的なワイヤボンディングパッケージ後工程に有利である。

図５に示されるように、まず、サファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０及び金属反射層３６０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、これは図６に示されるとおりである。続いて、もう一つの導電基板３７０をボンディングの方法でこの金属反射層３６０と結合させ、これは図７に示されるとおりである。続いてレーザー剥離（ｌａｓｅｒｌｉｆｔｏｆｆ）或いは研磨（ｌａｐｐｉｎｇ）の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図８に示されるとおりである。続いてｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面上に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングの方法で除去してｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。続いて蒸着或いはスパッタの技術で、ｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上に形成し、これは図９に示されるとおりである。続いて、第１電極３８２及び第２電極３７２を形成し、これは図１０に示されるとおりである。完成後、周知の研磨ダイシング工程でダイを形成する。図１０は本実施例のダイ構造の表示図である。そのうち、ｎ型の透光金属酸化物層３８０（該透光金属酸化物層３８０は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウムモリブデン酸化物（ＩＭＯ）、酸化インジウム（ＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）、酸化錫（ＴｉｎＯｘｉｄｅ）、カドミウム錫酸化物（ＣａｄｍｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）、酸化ガリウム（ＧａｌｌｉｕｍＯｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧａｌｌｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、或いは酸化亜鉛（ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）とされうる）は、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０と良好なオームコンタクトを形成し且つ良好な導電性と透光性を具え、且つその屈折係数は１．８５〜２．０の間とされ、ゆえに有効にフレネル反射損失と全反射を減らして外部発光効率を高める。更に本実施例で使用する導電基板３７０及び金属反射層３６０を使用した垂直電極構造は、該金属反射層３６０が入射角に対して無選択反射を行ない、ゆえに反射角周波数幅を増すことができ、ゆえに効果的にＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０の発射する光を反射でき、且つこの構造は放熱の効果を増し静電防止の能力を増すことができ、ゆえに装置の作業寿命を延長し並びに高電流駆動の応用に適合する。上述の長所のほか、垂直電極の構造はダイ製作の単位面積を減らすことができ、並びに伝統的なワイヤボンディング後工程に有利である。

図５を参照されたい。本考案の別の実施例では、まずサファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０及び金属反射層３６０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、これは図６に示されるとおりである。続いて、もう一つの導電基板３７０をボンディングの方法でこの金属反射層３６０と結合させ、これは図７に示されるとおりである。続いてレーザー剥離（ｌａｓｅｒｌｉｆｔｏｆｆ）或いは研磨（ｌａｐｐｉｎｇ）の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図８に示されるとおりである。続いてｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面上に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングの方法で除去してｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。続いて蒸着或いはスパッタの技術で、ｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上に形成し、並びにこのｎ型の透光金属酸化物層３８０の表面をテクスチャ化（ｔｅｘｔｕｒｉｎｇ）してテクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層４００となし、これは図１１に示されるとおりである。続いて、第１電極３８２及び第２電極３７２を形成し、これは図１１に示されるとおりである。図１１は本実施例のダイ構造の表示図である。この構造は放熱の効果を増すだけでなく静電防止の能力（ＥＳＤ）を増すことができ、また装置の作業寿命を延長し並びに高電流駆動の応用に適合する。そのうち、テクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層４００の表面がテクスチャ化されたことで外部の発光効率を更に高めることができる。

図５を参照されたい。本考案の別の実施例では、まずサファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０及び金属反射層３６０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、これは図６に示されるとおりである。続いて、もう一つの導電基板３７０をボンディングの方法でこの金属反射層３６０と結合させ、これは図７に示されるとおりである。続いてレーザー剥離（ｌａｓｅｒｌｉｆｔｏｆｆ）或いは研磨（ｌａｐｐｉｎｇ）の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図８に示されるとおりである。続いてｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面上に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングの方法で除去してｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。並びにこのｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面をテクスチャ化してテクスチャ化したｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２２を形成し、これは図１２に示されるとおりである。続いて蒸着或いはスパッタの技術で、ｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２２の上に形成し、これは図１３に示されるとおりである。完成後、更に第１電極３８２及び第２電極３７２を図１３に示されるように形成する。図１３は本実施例のダイ構造の表示図である。この構造は放熱の効果を増すだけでなく静電防止の能力（ＥＳＤ）を増すことができ、また装置の作業寿命を延長し並びに高電流駆動の応用に適合する。そのうち、テクスチャ化したｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２２表面がテクスチャ化されたことで外部の発光効率を更に高めることができる。

図５を参照されたい。本考案の別の実施例では、まずサファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０及び金属反射層３６０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、これは図６に示されるとおりである。続いて、もう一つの導電基板３７０をボンディングの方法でこの金属反射層３６０と結合させ、これは図７に示されるとおりである。続いてレーザー剥離（ｌａｓｅｒｌｉｆｔｏｆｆ）或いは研磨（ｌａｐｐｉｎｇ）の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図８に示されるとおりである。続いてｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面上に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングの方法で除去してｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で、電流隔離層３２４をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上に形成し、これは図１４に示されるとおりである。続いて蒸着或いはスパッタの技術で、ｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０及び電流隔離層３２４の上に形成し、これは図１５に示されるとおりである。完成後、第１電極３８２及び第２電極３７２を形成し、これは図１６に示されるとおりである。図１６は本実施例の完成した構造を示す。この構造は放熱の効果を増すだけでなく静電防止の能力（ＥＳＤ）を増すことができ、また装置の作業寿命を延長し並びに高電流駆動の応用に適合する。そのうち、電流隔離層３２４が横方向電流拡散（ｃｕｒｒｅｎｔｓｐｒｅａｄｉｎｇ）の効率を増し、これにより外部の発光効率を更に高めることができる。

図５を参照されたい。本考案の別の実施例では、まずサファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、並びにマスクエッチングの方法を利用して一部の透光オームコンタクト金属層３５０を除去し、電流隔離領域３５２を形成し、これは図１７に示されるとおりである。続いて、金属反射層３６０をもう一つの導電基板３７０に形成し、並びにボンディングの方法でこの金属反射層３６０を具えた導電基板３７０を透光オームコンタクト金属層３５０と結合させ、これは図１８に示されるとおりである。続いてレーザー剥離（ｌａｓｅｒｌｉｆｔｏｆｆ）或いは研磨（ｌａｐｐｉｎｇ）の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図１９に示されるとおりである。続いてｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面上に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングの方法で除去してｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で、ｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上に形成し、これは図２０に示されるとおりである。完成後、更に第１電極３８２及び第２電極３７２を形成し、これは図２１に示されるとおりである。図２１は本実施例の完成した構造を示す。この構造は放熱の効果を増すだけでなく静電防止の能力（ＥＳＤ）を増すことができ、また装置の作業寿命を延長し並びに高電流駆動の応用に適合する。そのうち、電流隔離層３２４が横方向電流拡散（ｃｕｒｒｅｎｔｓｐｒｅａｄｉｎｇ）の効率を増し、これにより外部の発光効率を更に高めることができる。

本実施例では実施例２と実施例３を結合し、テクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層４００とテクスチャ化したｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２２の表面を具え、こあれは図２２に示されるとおりである。

本実施例では実施例２と実施例４を結合し、テクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層４００とｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上の電流隔離層３２４を具え、これは図２３に示されるとおりである。

本実施例では実施例２と実施例５を結合し、テクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層４００と透光オームコンタクト金属層３５０の上の電流隔離領域３５２を具え、これは図２４に示されるとおりである。

図５を参照されたい。本考案の別の実施例では、まずサファイヤ基板３００の上に順に低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０、ＡｌＩｎＧａＮ発光層３３０及びｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０をエピタキシャル成長させる。続いて、蒸着或いはスパッタの技術で透光オームコンタクト金属層３５０と金属反射層３６０をｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層３４０の上に形成し、これは図６に示されるとおりである。続いて、別の導電基板３７０にボンディングの方法で金属反射層３６０を結合させ、これは図７に示されるとおりである。更にレーザー剥離或いは研磨の技術でサファイヤ基板３００を除去し、これは図８に示されるとおりである。続いて、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の表面に残った低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層３１０をケミカルエッチングにより除去し、ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０を露出させる。更にｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０の上に金属テクスチャ層（Ｍｅｔａｌｔｅｘｔｕｒｉｎｇｌａｙｅｒ）３９０を形成し、これは図２５に示されるとおりである。続いて蒸着或いはスパッタの技術でｎ型の透光金属酸化物層３８０をｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層３２０と金属テクスチャ層（Ｍｅｔａｌｔｅｘｔｕｒｉｎｇ
ｌａｙｅｒ）３９０の上に形成し、完成後に第１電極３８２及び第２電極３７２を形成し、これは図２６に示されるとおりである。

周知の窒化ガリウム系発光ダイオードの構造表示図である。周知の垂直電極の発光ダイオードの構造表示図である。周知の垂直電極の発光ダイオードの構造表示図である。周知の垂直電極の発光ダイオードの構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第１実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第２実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの構造表示図である。本考案の第３実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第３実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第４実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第４実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第４実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第５実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第５実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第５実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第５実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第５実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第６実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの構造表示図である。本考案の第７実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの構造表示図である。本考案の第８実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの構造表示図である。本考案の第９実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。本考案の第９実施例の垂直電極式窒化ガリウム系発光ダイオードの製造フローにおける構造表示図である。

符号の説明

１００’ サファイヤ絶縁基板
１１０’ バッファ層
１２０’ ｎ型半導体層
１３０’ 発光層
１４０’ ｐ型半導体層
１４２’ 第１電極
１２２’ 第２電極
２００’ 第１基板
２１０’ 下被覆層
２２０’ 上被覆層
２３０’ オームコンタクト層
２４０’ 反射層
２５０’ 第２基板
３００サファイヤ基板
３１０低温窒化ガリウム（ＧａＮ）バッファ層
３２０ｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層
３３０ＡｌＩｎＧａＮ発光層
３４０ｐ型ＡｌＩｎＧａＮオームコンタクト層
３５０透光オームコンタクト金属層
３６０金属反射層
３７０導電基板
３８０ｎ型の透光金属酸化物層
３８２第１電極
３７２第２電極
３２４電流隔離層
３５２電流隔離領域
３９０金属テクスチャ層（Ｍｅｔａｌｔｅｘｔｕｒｉｎｇｌａｙｅｒ）
３２２テクスチャ化したｎ型窒化アルミニウムインジウムガリウム（ＡｌＩｎＧａＮ）オームコンタクト層
４００テクスチャ化したｎ型の透光金属酸化物層

Claims

第１電極と、
該第１電極の上方に位置する導電基板と、
該導電基板の上方に位置する金属反射層と、
該金属反射層の上方に位置する窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置する酸化物ウインドウ層と、
該酸化物ウインドウ層の上方に位置する第２電極と、
を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層はｎ型透光導電層とされ、それは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウムモリブデン酸化物（ＩＭＯ）、酸化インジウム（ＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）、酸化錫（ＴｉｎＯｘｉｄｅ）、カドミウム錫酸化物（ＣａｄｍｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）、酸化ガリウム（ＧａｌｌｉｕｍＯｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧａｌｌｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、或いは酸化亜鉛（ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層がテクスチャ構造を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面と酸化物ウインドウ層がいずれもテクスチャ構造を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、電流隔離領域を窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、電流隔離層を窒化ガリウム系半導体スタック構造と酸化物ウインドウ層の間に具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面に金属テクスチャ層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層がテクスチャ構造を具え、窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に電流隔離領域が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造がｐ型透光オーム金属層、ｐ型オームコンタクト層、発光層及びｎ型オームコンタクト層を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
第１電極と、
該第１電極の上方に位置する導電基板と、
該導電基板の上方に位置する金属反射層と、
該金属反射層の上方に位置する窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置し表面にテクスチャ構造を具えた窒化ガリウム系半導体スタック構造と、
該窒化ガリウム系半導体スタック構造の上方に位置する酸化物ウインドウ層と、
該酸化物ウインドウ層の上方に位置する第２電極と、
を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、酸化物ウインドウ層はｎ型透光導電層とされ、それは、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウムモリブデン酸化物（ＩＭＯ）、酸化インジウム（ＩｎｄｉｕｍＯｘｉｄｅ）、酸化錫（ＴｉｎＯｘｉｄｅ）、カドミウム錫酸化物（ＣａｄｍｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）、酸化ガリウム（ＧａｌｌｉｕｍＯｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ
ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧａｌｌｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、或いは酸化亜鉛（ＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）のいずれかで形成されたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造の表面に金属テクスチャ層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造と金属反射層の間に電流隔離領域が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造と酸化物ウインドウ層の間に電流隔離層が設けられたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。
請求項１０記載の垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、窒化ガリウム系半導体スタック構造がｐ型透光オーム金属層、ｐ型オームコンタクト層、発光層及びｎ型オームコンタクト層を具えたことを特徴とする、垂直電極構造の窒化ガリウム系発光ダイオード。