JP3089539B2 - オフセット印刷方法 - Google Patents
オフセット印刷方法Info
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- JP3089539B2 JP3089539B2 JP08135332A JP13533296A JP3089539B2 JP 3089539 B2 JP3089539 B2 JP 3089539B2 JP 08135332 A JP08135332 A JP 08135332A JP 13533296 A JP13533296 A JP 13533296A JP 3089539 B2 JP3089539 B2 JP 3089539B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷に
用いられるゴム状物質からなるロール転写体において、
一定量の低分子環状シロキサンを含有および維持したロ
ール転写体を使用することにより、より精度の高い印刷
を行うオフセット印刷方法に関するものである。
用いられるゴム状物質からなるロール転写体において、
一定量の低分子環状シロキサンを含有および維持したロ
ール転写体を使用することにより、より精度の高い印刷
を行うオフセット印刷方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の印刷方法を示す図であり、
図４(1)は版31上でインキ33が所望の印刷パターン32を
形成した状態を示し、図４(2)はロール転写体35上に所
望の印刷パターン32を受理した状態を示している。即
ち、100％転写オフセット印刷は、版31のインキ33をシ
リコーンゴムからなる転写シート34に受理した後、この
転写シート34面上のインキを図４(3)に示すように被印
刷体36に転移させることにより行われる。
図４(1)は版31上でインキ33が所望の印刷パターン32を
形成した状態を示し、図４(2)はロール転写体35上に所
望の印刷パターン32を受理した状態を示している。即
ち、100％転写オフセット印刷は、版31のインキ33をシ
リコーンゴムからなる転写シート34に受理した後、この
転写シート34面上のインキを図４(3)に示すように被印
刷体36に転移させることにより行われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示す従来の印刷方法に基づくこれらのプロセスを通じ
て、転写シート34の性能は変化し、印刷性は変動する。
例えば、転写シート34のインキ33に対する接触角が変化
して、転写シート表面でのインキ濡れ性が変わり、転写
ができずに印刷パターン不良が発生したり、線幅等形成
寸法精度が低下したりするなど、印刷品位が低下する場
合がある。これは、転写シート34から被印刷体36への転
移時に、接着に寄与するインキのエネルギーが被印刷体
36に対するよりも転写シート34に対するものの方が大き
いことによると考えられる。
示す従来の印刷方法に基づくこれらのプロセスを通じ
て、転写シート34の性能は変化し、印刷性は変動する。
例えば、転写シート34のインキ33に対する接触角が変化
して、転写シート表面でのインキ濡れ性が変わり、転写
ができずに印刷パターン不良が発生したり、線幅等形成
寸法精度が低下したりするなど、印刷品位が低下する場
合がある。これは、転写シート34から被印刷体36への転
移時に、接着に寄与するインキのエネルギーが被印刷体
36に対するよりも転写シート34に対するものの方が大き
いことによると考えられる。
【０００４】本発明は、オフセット印刷に用いられるゴ
ム状物質からなるロール転写体において、一定量の低分
子環状シロキサンを含有および維持したロール転写体を
使用することにより、被印刷体に接着するインキのエネ
ルギーが、転写シートに接着するインキのエネルギーよ
りも大きくして、転移不良によるパターン欠け等の印刷
不良のない、より精度の高い印刷を行ない、これにより
転写シートから被印刷体への転移が充分行われるように
して、無転移や印刷パターン欠け等の印刷不良が発生し
ないオフセット印刷方法の提供を目的とするものであ
る。
ム状物質からなるロール転写体において、一定量の低分
子環状シロキサンを含有および維持したロール転写体を
使用することにより、被印刷体に接着するインキのエネ
ルギーが、転写シートに接着するインキのエネルギーよ
りも大きくして、転移不良によるパターン欠け等の印刷
不良のない、より精度の高い印刷を行ない、これにより
転写シートから被印刷体への転移が充分行われるように
して、無転移や印刷パターン欠け等の印刷不良が発生し
ないオフセット印刷方法の提供を目的とするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、版面のインキを金属ロール上に設置したロー
ル転写体面に転写したのち、ロール転写体面上のインキ
を被印刷体に転移させるオフセット印刷方法において、
シリコーンゴムを主成分とする転写シート中に含有され
る低分子環状シロキサンのうち、シロキサン分子鎖ｎ＝
６以下の量が40％から60％で、ｎ＝７以上が残りの量で
あり、また前記低分子環状シロキサンの全体量がシリコ
ーンゴム全体量の８重量％以下であるロール転写体を用
いて、印刷を繰り返すことを特徴とする。
するため、版面のインキを金属ロール上に設置したロー
ル転写体面に転写したのち、ロール転写体面上のインキ
を被印刷体に転移させるオフセット印刷方法において、
シリコーンゴムを主成分とする転写シート中に含有され
る低分子環状シロキサンのうち、シロキサン分子鎖ｎ＝
６以下の量が40％から60％で、ｎ＝７以上が残りの量で
あり、また前記低分子環状シロキサンの全体量がシリコ
ーンゴム全体量の８重量％以下であるロール転写体を用
いて、印刷を繰り返すことを特徴とする。
【０００６】また、低分子環状シロキサンの維持，供給
方法については、ロール転写体に接触して低分子環状シ
ロキサンを供給する低分子環状シロキサン供給ロールの
ロール転写体への接触が直接的であるものや、ロール転
写体に接触する仲介ロールに、低分子環状シロキサンを
含んだ低分子環状シロキサン供給ロールを接触させるな
ど間接的であるものにおいて、より精度の高い印刷を繰
り返して行う方法である。
方法については、ロール転写体に接触して低分子環状シ
ロキサンを供給する低分子環状シロキサン供給ロールの
ロール転写体への接触が直接的であるものや、ロール転
写体に接触する仲介ロールに、低分子環状シロキサンを
含んだ低分子環状シロキサン供給ロールを接触させるな
ど間接的であるものにおいて、より精度の高い印刷を繰
り返して行う方法である。
【０００７】本発明によれば、オフセット印刷に用いら
れるゴム状物質からなるロール転写体において、一定量
の低分子環状シロキサンを含有および維持したロール転
写体を使用することにより、より精度の高い印刷を行う
ことができる。
れるゴム状物質からなるロール転写体において、一定量
の低分子環状シロキサンを含有および維持したロール転
写体を使用することにより、より精度の高い印刷を行う
ことができる。
【０００８】これは、被印刷体に接着するインキのエネ
ルギーが、転写シートに接着するインキのエネルギーよ
りも大きくして、転移不良によるパターン欠け等の印刷
不良のない、より精度の高い印刷を行うことにより、転
写シートから被印刷体への転移が充分行われるようにな
り、無転移や印刷パターン欠け等の印刷不良は発生しな
くなる。このように、転写シート表面のインキ濡れ性や
寸法精度が初期の状態のまま保たれるから、転写シート
から被印刷体への転移が充分行われて、無転移や印刷パ
ターン欠け等の印刷不良が発生しなくなる。
ルギーが、転写シートに接着するインキのエネルギーよ
りも大きくして、転移不良によるパターン欠け等の印刷
不良のない、より精度の高い印刷を行うことにより、転
写シートから被印刷体への転移が充分行われるようにな
り、無転移や印刷パターン欠け等の印刷不良は発生しな
くなる。このように、転写シート表面のインキ濡れ性や
寸法精度が初期の状態のまま保たれるから、転写シート
から被印刷体への転移が充分行われて、無転移や印刷パ
ターン欠け等の印刷不良が発生しなくなる。
【０００９】また、トータルピッチ等、距離寸法精度は
維持される。ロール転写体の弾性等の性能も変わらない
から、印刷性の変動もない。表面のインキに対する接触
角を変えることもなく、転写シート表面に対するインキ
濡れ性の変動がないので、線幅等形成寸法精度の低下
や、転写不良による印刷パターン不良の発生など、印刷
品位が低下することもない。
維持される。ロール転写体の弾性等の性能も変わらない
から、印刷性の変動もない。表面のインキに対する接触
角を変えることもなく、転写シート表面に対するインキ
濡れ性の変動がないので、線幅等形成寸法精度の低下
や、転写不良による印刷パターン不良の発生など、印刷
品位が低下することもない。
【００１０】また添加の場合も、同種の成分であり構造
体への負荷が小さく転写シートそのものの性質すなわ
ち、弾性や濡れ性、膨潤性の変化や熱劣化などもない。
体への負荷が小さく転写シートそのものの性質すなわ
ち、弾性や濡れ性、膨潤性の変化や熱劣化などもない。
【００１１】このように、精度の高い印刷を頻度高く再
現できるほか、設備が簡単な機構ですむため設備費が低
い、生産工数が少ない等、工業的にも、コスト的にも有
利である。
現できるほか、設備が簡単な機構ですむため設備費が低
い、生産工数が少ない等、工業的にも、コスト的にも有
利である。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の各実施の形態を図１から
図３を用いて説明する。
図３を用いて説明する。
【００１３】(実施の形態１)図１は本発明の実施の形態
１におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態における印刷は以下の方法で進められ
る。
１におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態における印刷は以下の方法で進められ
る。
【００１４】先ず、図１(1)に示すように、所望の印刷
パターン２を形成した版１上にインキ３を配置し、イン
キ３による所望の印刷パターン２を作成する。次いで図
１(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート４より構成されるロール転写体５を版１に接触
させて、所望の印刷パターン２をもったインキ３を、ロ
ール転写体５上に受理させる。
パターン２を形成した版１上にインキ３を配置し、イン
キ３による所望の印刷パターン２を作成する。次いで図
１(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート４より構成されるロール転写体５を版１に接触
させて、所望の印刷パターン２をもったインキ３を、ロ
ール転写体５上に受理させる。
【００１５】次いで図１(3)に示すように、転写シート
４より構成されるロール転写体５を被印刷体６に接触さ
せて、転写シート４上からインキ３による所望の印刷パ
ターン２を被印刷体６上に転写する。
４より構成されるロール転写体５を被印刷体６に接触さ
せて、転写シート４上からインキ３による所望の印刷パ
ターン２を被印刷体６上に転写する。
【００１６】本実施の形態の転写シート４は、シリコー
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
【００１７】なお、このほか、転写シート４中の低分子
環状シロキサンのシロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量を3
5，40，60，70％、ｎ＝７以上が65，60，40，30％と
し、低分子環状シロキサンの全体量をシリコーンゴム全
体量の10，８，５，４重量％として確認を行い、シロキ
サン分子鎖ｎ＝６以下の量が40％から60％で、ｎ＝７以
上が残りの量であり、また低分子環状シロキサンの全体
量がシリコーンゴム全体量の８重量％以下であるとき、
良好な結果が得られることが判った。
環状シロキサンのシロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量を3
5，40，60，70％、ｎ＝７以上が65，60，40，30％と
し、低分子環状シロキサンの全体量をシリコーンゴム全
体量の10，８，５，４重量％として確認を行い、シロキ
サン分子鎖ｎ＝６以下の量が40％から60％で、ｎ＝７以
上が残りの量であり、また低分子環状シロキサンの全体
量がシリコーンゴム全体量の８重量％以下であるとき、
良好な結果が得られることが判った。
【００１８】低分子環状シロキサン分子鎖ｎ＝６以下、
ｎ＝７以上の比率と印刷結果を(表１)に、シリコーンゴ
ム全体量中の低分子環状シロキサンの全体量比率と印刷
結果を(表２)に示す。
ｎ＝７以上の比率と印刷結果を(表１)に、シリコーンゴ
ム全体量中の低分子環状シロキサンの全体量比率と印刷
結果を(表２)に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】インキ３は、機能性含有物と展色剤からな
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。
【００２２】また被印刷体６には、厚さ0.5ミリで縦，
横100×100ミリのセラミック基板を用いた。
横100×100ミリのセラミック基板を用いた。
【００２３】(実施の形態２)図２は本発明の実施の形態
２におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態における印刷は以下の方法で進められ
る。
２におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態における印刷は以下の方法で進められ
る。
【００２４】先ず、図２(1)に示すように、所望の印刷
パターン12を形成した版11上にインキ13を配置し、イン
キ13による所望の印刷パターン12を作成する。次いで図
２(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート14より構成されるロール転写体15を版11に接触
させて、所望の印刷パターン12をもったインキ13を、ロ
ール転写体15上に受理させる。
パターン12を形成した版11上にインキ13を配置し、イン
キ13による所望の印刷パターン12を作成する。次いで図
２(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート14より構成されるロール転写体15を版11に接触
させて、所望の印刷パターン12をもったインキ13を、ロ
ール転写体15上に受理させる。
【００２５】次いで、図２(3)に示すように、転写シー
ト14より構成されるロール転写体15を被印刷体16に接触
させて、転写シート14上からインキ13による所望の印刷
パターン12を被印刷体16上に転写する。
ト14より構成されるロール転写体15を被印刷体16に接触
させて、転写シート14上からインキ13による所望の印刷
パターン12を被印刷体16上に転写する。
【００２６】この後、図２(4)に示すように所定の構成
成分と量の低分子環状シロキサンを含有した、低分子環
状シロキサン供給ローラー17をロール転写体15を構成す
る転写シート14に接触させ、低分子環状シロキサン供給
ローラー17に含有される低分子環状シロキサンを転写シ
ート14に転移する。
成分と量の低分子環状シロキサンを含有した、低分子環
状シロキサン供給ローラー17をロール転写体15を構成す
る転写シート14に接触させ、低分子環状シロキサン供給
ローラー17に含有される低分子環状シロキサンを転写シ
ート14に転移する。
【００２７】本実施の形態の転写シート14は、シリコー
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
【００２８】また低分子環状シロキサン供給ローラー17
は、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ＝７
以上が50％である、低分子環状シロキサンを含有してい
る。
は、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ＝７
以上が50％である、低分子環状シロキサンを含有してい
る。
【００２９】インキ13は、機能性含有物と展色剤からな
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。
【００３０】また被印刷体16には、厚さ0.5ミリで縦，
横100×100ミリのセラミック基板を用いた。
横100×100ミリのセラミック基板を用いた。
【００３１】(実施の形態３)図３は本発明の実施の形態
３におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態の印刷は以下の方法で進められる。
３におけるオフセット印刷方法の各状態を示す図であ
る。本実施の形態の印刷は以下の方法で進められる。
【００３２】先ず、図３(1)に示すように、所望の印刷
パターン22を形成した版21上にインキ23を配置し、イン
キ23による所望の印刷パターン22を作成する。次いで図
３(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート24より構成されるロール転写体25を版21に接触
させて、所望の印刷パターン22をもったインキ23を、ロ
ール転写体25上に受理させる。
パターン22を形成した版21上にインキ23を配置し、イン
キ23による所望の印刷パターン22を作成する。次いで図
３(2)に示すように、シリコーンゴムを主成分とする転
写シート24より構成されるロール転写体25を版21に接触
させて、所望の印刷パターン22をもったインキ23を、ロ
ール転写体25上に受理させる。
【００３３】次いで図３(3)に示すように、転写シート2
4より構成されるロール転写体25を被印刷体26に接触さ
せて、転写シート24上からインキ23による所望の印刷パ
ターン22を被印刷体26上に転写する。
4より構成されるロール転写体25を被印刷体26に接触さ
せて、転写シート24上からインキ23による所望の印刷パ
ターン22を被印刷体26上に転写する。
【００３４】この後、図３(4)に示すように所定の構成
成分と量の低分子環状シロキサンを含有した、低分子環
状シロキサン供給ローラー27を仲介ローラー28に接触さ
せ、この仲介ローラー28にロール転写体25を構成する転
写シート24を接触させて、低分子環状シロキサン供給ロ
ーラー27に含有される低分子環状シロキサンを、仲介ロ
ーラー28を介して転写シート24に転移する。
成分と量の低分子環状シロキサンを含有した、低分子環
状シロキサン供給ローラー27を仲介ローラー28に接触さ
せ、この仲介ローラー28にロール転写体25を構成する転
写シート24を接触させて、低分子環状シロキサン供給ロ
ーラー27に含有される低分子環状シロキサンを、仲介ロ
ーラー28を介して転写シート24に転移する。
【００３５】本実施の形態の転写シート24は、シリコー
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
ンゴムを主成分とし、含有される低分子環状シロキサン
のうち、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ
＝７以上が50％であり、また低分子環状シロキサンの全
体量がシリコーンゴム全体量の６重量％以下であった。
【００３６】仲介ローラー28は、シリコーンゴムを主成
分としたゴム体より構成されている。
分としたゴム体より構成されている。
【００３７】また低分子環状シロキサン供給ローラー27
は、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ＝７
以上が50％である、低分子環状シロキサンを含有してい
る。
は、シロキサン分子鎖ｎ＝６以下の量が50％で、ｎ＝７
以上が50％である、低分子環状シロキサンを含有してい
る。
【００３８】インキ23は、機能性含有物と展色剤からな
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。また
被印刷体26には、厚さ0.5ミリで縦，横100×100ミリの
セラミック基板を用いた。
り、展色剤には樹脂構造材、有機溶媒が含まれ、樹脂構
造材としてはアクリル樹脂、有機溶媒には主成分ＥＣＡ
を用いた。機能性含有物としては導電剤を用いた。また
被印刷体26には、厚さ0.5ミリで縦，横100×100ミリの
セラミック基板を用いた。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように本発明のオフセット
印刷方法は、オフセット印刷に用いられるゴム状物質か
らなるロール転写体において、一定量の低分子環状シロ
キサンを含有および維持したロール転写体を使用するこ
とにより、転写シート表面のインキ濡れ性や寸法精度が
初期の状態のまま保たれる。このため、転写シートから
被印刷体への転移が充分行われるので、無転移や印刷パ
ターン欠け等の印刷不良が発生しなくなる。これらの処
置によってトータルピッチ等、距離寸法精度は維持され
る。また、ロール転写体の弾性等の性能も変わらないこ
とにより、印刷性の変動もない。表面のインキに対する
接触角を変えることもなく、転写シート表面に対するイ
ンキ濡れ性の変動がないので、線幅等形成寸法精度の低
下や、転写不良による印刷パターン不良の発生など、印
刷品位が低下することもない。
印刷方法は、オフセット印刷に用いられるゴム状物質か
らなるロール転写体において、一定量の低分子環状シロ
キサンを含有および維持したロール転写体を使用するこ
とにより、転写シート表面のインキ濡れ性や寸法精度が
初期の状態のまま保たれる。このため、転写シートから
被印刷体への転移が充分行われるので、無転移や印刷パ
ターン欠け等の印刷不良が発生しなくなる。これらの処
置によってトータルピッチ等、距離寸法精度は維持され
る。また、ロール転写体の弾性等の性能も変わらないこ
とにより、印刷性の変動もない。表面のインキに対する
接触角を変えることもなく、転写シート表面に対するイ
ンキ濡れ性の変動がないので、線幅等形成寸法精度の低
下や、転写不良による印刷パターン不良の発生など、印
刷品位が低下することもない。
【００４０】また、低分子環状シロキサンを供給する場
合も、供給する対象である転写シート構造体の主成分
が、環状シロキサンと成分が同種であることにより、構
造体への負荷は小さく、転写シートの性質すなわち弾性
や濡れ性、膨潤性の変化や熱劣化なども小さい。
合も、供給する対象である転写シート構造体の主成分
が、環状シロキサンと成分が同種であることにより、構
造体への負荷は小さく、転写シートの性質すなわち弾性
や濡れ性、膨潤性の変化や熱劣化なども小さい。
【００４１】このように、構造体の寸法変化は小さく、
トータルピッチ等、寸法精度は維持される。また、構造
体のもつ弾性等の性能の変化も小さいから、印刷性の変
動もほとんどない。また、トータルピッチ等、寸法精度
は維持されて、精度の高い印刷を頻度高く再現できる。
また、追加装置を付加して装置構造を複雑にしたり、装
置価格を高くすることなくこれらを実現できる効果があ
る。
トータルピッチ等、寸法精度は維持される。また、構造
体のもつ弾性等の性能の変化も小さいから、印刷性の変
動もほとんどない。また、トータルピッチ等、寸法精度
は維持されて、精度の高い印刷を頻度高く再現できる。
また、追加装置を付加して装置構造を複雑にしたり、装
置価格を高くすることなくこれらを実現できる効果があ
る。
【００４２】以上のとおり、精度の高い印刷を頻度高く
再現できるほか、設備を特に必要とせず、また生産工数
が少ない等、工業的にも、コスト的にも有利である。ま
た、本発明のオフセット印刷方法によれば印刷品位が高
く、作成が容易であり、生産性が高くコストへの反映が
期待できるなど、総合的に優れた特長をもったオフセッ
ト印刷方法が実現する。
再現できるほか、設備を特に必要とせず、また生産工数
が少ない等、工業的にも、コスト的にも有利である。ま
た、本発明のオフセット印刷方法によれば印刷品位が高
く、作成が容易であり、生産性が高くコストへの反映が
期待できるなど、総合的に優れた特長をもったオフセッ
ト印刷方法が実現する。
【図１】本発明の実施の形態１におけるオフセット印刷
方法の各状態を示す図である。
方法の各状態を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態２におけるオフセット印刷
方法の各状態を示す図である。
方法の各状態を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態３におけるオフセット印刷
方法の各状態を示す図である。
方法の各状態を示す図である。
【図４】従来の印刷方法を示す図である。
１，11，21…版、 ２，12，22…印刷パターン、 ３，
13，23…インキ、 ４，14，24…転写シート、 ５，1
5，25…ロール転写体、 ６，16，26…被印刷体、17，2
7…低分子環状シロキサン供給ローラー、 28…仲介ロ
ーラー。
13，23…インキ、 ４，14，24…転写シート、 ５，1
5，25…ロール転写体、 ６，16，26…被印刷体、17，2
7…低分子環状シロキサン供給ローラー、 28…仲介ロ
ーラー。
Claims (3)
- 【請求項１】 版面のインキを金属ロール上に設置した
ロール転写体面に転写したのち、ロール転写体面上のイ
ンキを被印刷体に転移させるオフセット印刷方法におい
て、シリコーンゴムを主成分とする転写シート中に含有
される低分子環状シロキサンのうち、シロキサン分子鎖
ｎ＝６以下の量が40％から60％で、ｎ＝７以上が残りの
量であり、また前記低分子環状シロキサンの全体量がシ
リコーンゴム全体量の８重量％以下であるロール転写体
を用いて、印刷を繰り返すことを特徴とするオフセット
印刷方法。 - 【請求項２】 ロール転写体に接触して低分子環状シロ
キサンを供給する、低分子環状シロキサン供給ロール
を、前記ロール転写体へ接触させて、印刷を繰り返すこ
とを特徴とする請求項１記載のオフセット印刷方法。 - 【請求項３】 ロール転写体に接触する仲介ロールに、
低分子環状シロキサンを含んだ低分子環状シロキサン供
給ロールを接触させて、印刷を繰り返すことを特徴とす
る請求項１記載のオフセット印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08135332A JP3089539B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | オフセット印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08135332A JP3089539B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | オフセット印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09315028A JPH09315028A (ja) | 1997-12-09 |
| JP3089539B2 true JP3089539B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=15149297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08135332A Expired - Fee Related JP3089539B2 (ja) | 1996-05-29 | 1996-05-29 | オフセット印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3089539B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101024376B1 (ko) * | 2008-06-09 | 2011-03-23 | 한국기계연구원 | 미세 패턴 형성 방법 |
| JP5742337B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-07-01 | 大日本印刷株式会社 | オフセット印刷方法及び加飾成形品の製造方法 |
-
1996
- 1996-05-29 JP JP08135332A patent/JP3089539B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09315028A (ja) | 1997-12-09 |
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