JP3088466B2 - 容器中での基材の湿式処理法及び装置 - Google Patents
容器中での基材の湿式処理法及び装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本願発明は、少なくとも１種の液体、今後流体とも呼
ぶ、が供給され、かつ溢流装置を介してこの液体が除去
される容器中で、基材を湿式処理するための方法に関す
る。更に、本願発明は、少なくとも流体供給装置及び流
体を排出するための開口部を有する流体溢流装置を備え
る容器中で、基材を湿式処理するための装置に関する。
ぶ、が供給され、かつ溢流装置を介してこの液体が除去
される容器中で、基材を湿式処理するための方法に関す
る。更に、本願発明は、少なくとも流体供給装置及び流
体を排出するための開口部を有する流体溢流装置を備え
る容器中で、基材を湿式処理するための装置に関する。
前記種類の方法及び装置は例えばUS−Ａ−4722752及
びEP−Ａ−0385536から公知であり、並びに本願出願人
による、従前に開示されていないDE−Ａ−4413077及びD
E−Ａ−19546990に記載されている。流体及び基材を包
含する容器の上部には溢流装置が設けられており、この
際流体は下から供給され、基材に沿って上方へ流れ、容
器の溢流開口部又は溢流縁を介して、容器の上部で容器
から流出する。湿式処理の後、例えば噴霧工程の後、こ
の基材をある程度複雑な機械装置で基材キァリヤーと共
に又は直接流体もしくは容器から取り出すが、この際溢
流排出は、流体表面の粒状物及びその他の不純物を流れ
により、外方向に溢流装置中に搬出し、流体から基材を
取り出す際に、これが基材に付着保持されないようにす
る。
びEP−Ａ−0385536から公知であり、並びに本願出願人
による、従前に開示されていないDE−Ａ−4413077及びD
E−Ａ−19546990に記載されている。流体及び基材を包
含する容器の上部には溢流装置が設けられており、この
際流体は下から供給され、基材に沿って上方へ流れ、容
器の溢流開口部又は溢流縁を介して、容器の上部で容器
から流出する。湿式処理の後、例えば噴霧工程の後、こ
の基材をある程度複雑な機械装置で基材キァリヤーと共
に又は直接流体もしくは容器から取り出すが、この際溢
流排出は、流体表面の粒状物及びその他の不純物を流れ
により、外方向に溢流装置中に搬出し、流体から基材を
取り出す際に、これが基材に付着保持されないようにす
る。
流体から、もしくは容器から基材を安全にかつ均質に
取り出すための機械的装置は非常に費用がかかり、かつ
復雑である。
取り出すための機械的装置は非常に費用がかかり、かつ
復雑である。
更に、容器中でのリフト機構は、これが基材キャリヤ
ーの下もしくは基材の下を掴み、かつこれを持ち上げな
ければならないので、比較的大きな場所を必要とする。
容器の寸法が比較的大きくなければならないということ
以外にも、寸法が大きいということにより、流体を交換
又は補充しなければならない場合、比較的多量の流体使
用とも結びつく。
ーの下もしくは基材の下を掴み、かつこれを持ち上げな
ければならないので、比較的大きな場所を必要とする。
容器の寸法が比較的大きくなければならないということ
以外にも、寸法が大きいということにより、流体を交換
又は補充しなければならない場合、比較的多量の流体使
用とも結びつく。
容器からウェハーを取り出す際の特別な欠点は、限定
された条件において、容器から取り出す際に、ウェハー
を安全にかつ確実に保持するために、ウェハーのための
リフト機構及び容器上に設けられたフード中に、ウェハ
ーのために非常に厳密に加工した案内を構成しなければ
ならない、という点にある。このような案内のための完
成費用は、必要とされる正確な加工により非常に高くな
り、この際更に従来の装置においては容器から取り出す
際に基材の損傷又は破断は付加的な高い調整費用によっ
てのみ回避される。
された条件において、容器から取り出す際に、ウェハー
を安全にかつ確実に保持するために、ウェハーのための
リフト機構及び容器上に設けられたフード中に、ウェハ
ーのために非常に厳密に加工した案内を構成しなければ
ならない、という点にある。このような案内のための完
成費用は、必要とされる正確な加工により非常に高くな
り、この際更に従来の装置においては容器から取り出す
際に基材の損傷又は破断は付加的な高い調整費用によっ
てのみ回避される。
AT208307からは、周期的に供給される容器に化学薬品
を相関させて導入する配量装置が公知である。この配量
装置は液体容器の上方に設けられた、外に向かって密閉
された化学薬品容器を包含する。液体容器には空気排除
ロックが設けられており、このロックは液体容器中に下
に向かって開口しており、かつこのロックは最高位で連
結管を介して気密の化学薬品容器と連結している。この
密閉された化学薬品容器の内部に導管を備える浮きが存
在し、この導管のフリーの開口部は浮きの下縁に達す
る。液体容器が完全に又は部分的に満たされる際に、相
当する量の空気が気密の化学薬品容器中に圧入し、こう
してこの密閉した容器中に過圧が生じ、この圧力が化学
薬品溶液を浮きの下側末端で、開口部を介して圧し、こ
うして相当する量の化学薬品が、化学薬品の導入を配量
するためのホースを介して液体容器中に流入する。この
種の配量装置は空気の圧入により、液体容器中に後充填
する液体量に比例する液体の配量を可能にするのであ
り、こうしてこの公知装置は基本的に全く異なる目的に
使用され、更にこの目的のために容器は過圧を生じさせ
るために気密でなくてはならない。
を相関させて導入する配量装置が公知である。この配量
装置は液体容器の上方に設けられた、外に向かって密閉
された化学薬品容器を包含する。液体容器には空気排除
ロックが設けられており、このロックは液体容器中に下
に向かって開口しており、かつこのロックは最高位で連
結管を介して気密の化学薬品容器と連結している。この
密閉された化学薬品容器の内部に導管を備える浮きが存
在し、この導管のフリーの開口部は浮きの下縁に達す
る。液体容器が完全に又は部分的に満たされる際に、相
当する量の空気が気密の化学薬品容器中に圧入し、こう
してこの密閉した容器中に過圧が生じ、この圧力が化学
薬品溶液を浮きの下側末端で、開口部を介して圧し、こ
うして相当する量の化学薬品が、化学薬品の導入を配量
するためのホースを介して液体容器中に流入する。この
種の配量装置は空気の圧入により、液体容器中に後充填
する液体量に比例する液体の配量を可能にするのであ
り、こうしてこの公知装置は基本的に全く異なる目的に
使用され、更にこの目的のために容器は過圧を生じさせ
るために気密でなくてはならない。
EP−Ａ−0455465からは溢流槽を有する洗濯又は洗浄
装置が公知であり、この装置においては洗濯液又は洗浄
液体を下から導入し、かつ槽の上端部から溢流する。液
体が溢流により流入する領域には泡抑制装置が浮き弁の
形で設けられており、この浮き弁は溢流溝中で液体位置
により上昇又は降下し、こうしてこれにより下方向に向
いた洗浄液の排水は調節される。
装置が公知であり、この装置においては洗濯液又は洗浄
液体を下から導入し、かつ槽の上端部から溢流する。液
体が溢流により流入する領域には泡抑制装置が浮き弁の
形で設けられており、この浮き弁は溢流溝中で液体位置
により上昇又は降下し、こうしてこれにより下方向に向
いた洗浄液の排水は調節される。
本願発明の課題は、冒頭に記載した種類の方法及び装
置を提供もしくは達成することであり、この方法及び装
置は実施法においても、製造上に費やす労力においても
著しく簡単であり、更に基材の安全でかつ確実な処理を
達成することである。
置を提供もしくは達成することであり、この方法及び装
置は実施法においても、製造上に費やす労力においても
著しく簡単であり、更に基材の安全でかつ確実な処理を
達成することである。
このような課題は本発明において請求項１による方法
により解決した。
により解決した。
従来の方法とは異なり、基材を流体から持ち上げず、
容器中の基材の位置を変更することなく流体を降下させ
る。本願発明による溢流装置は流体上に浮いており、流
体表面と一緒に下がるので、流体表面に浮遊する粒状物
及び不純物は流体表面の降下の際に溢流装置への流れに
より一緒に取り除かれ、かつ基材上に付着しない。本発
明による、流体上に浮かぶ溢流装置を使用しない場合、
流体表面の降下の際に、粒状物及び不純物が基材表面に
付着し、かつ基材は本来の処理工程又は洗浄工程により
更に汚染される。
容器中の基材の位置を変更することなく流体を降下させ
る。本願発明による溢流装置は流体上に浮いており、流
体表面と一緒に下がるので、流体表面に浮遊する粒状物
及び不純物は流体表面の降下の際に溢流装置への流れに
より一緒に取り除かれ、かつ基材上に付着しない。本発
明による、流体上に浮かぶ溢流装置を使用しない場合、
流体表面の降下の際に、粒状物及び不純物が基材表面に
付着し、かつ基材は本来の処理工程又は洗浄工程により
更に汚染される。
本発明による方法もしくは装置は従来の方法における
ようにようなリフト装置を必要とせず、そのためにこの
方法に必要な装置は著しく簡単でかつ完成するために安
価である。更に、容器の寸法は小さく、必要な流体容量
は同様に少量に保持することができ、このことはこの種
の湿式処理装置の操作の際に、著しい倹約に導く。この
基材を容器から取り出す必要がないので、容器の上方、
例えばフード中にも案内が必要ではなく、このことによ
り本発明による方法は非常に簡単な装置で実施可能であ
る。ここではフードも作業室をカバーするため及びガス
混合物を供給するためにのみ必要である。処理、例えば
容器自体中での基材の乾燥は、従って著しく安全であ
り、基材の損傷の危険性はない。
ようにようなリフト装置を必要とせず、そのためにこの
方法に必要な装置は著しく簡単でかつ完成するために安
価である。更に、容器の寸法は小さく、必要な流体容量
は同様に少量に保持することができ、このことはこの種
の湿式処理装置の操作の際に、著しい倹約に導く。この
基材を容器から取り出す必要がないので、容器の上方、
例えばフード中にも案内が必要ではなく、このことによ
り本発明による方法は非常に簡単な装置で実施可能であ
る。ここではフードも作業室をカバーするため及びガス
混合物を供給するためにのみ必要である。処理、例えば
容器自体中での基材の乾燥は、従って著しく安全であ
り、基材の損傷の危険性はない。
本発明の有利な実施形によれば、流体は溢流装置の溢
流開口部を介して、かつそこから溢流開口部と結合した
導管少なくとも１つを介して、容器から流出する。流体
が容器から流出した後、基材が容器中に残り、その後簡
単な方法で例えば基材キャリヤーと一緒に一体として取
り出し、かつ更に処理することができる。
流開口部を介して、かつそこから溢流開口部と結合した
導管少なくとも１つを介して、容器から流出する。流体
が容器から流出した後、基材が容器中に残り、その後簡
単な方法で例えば基材キャリヤーと一緒に一体として取
り出し、かつ更に処理することができる。
この設定された課題は本発明により１つの装置により
解決するが、この装置においては、溢流装置が浮くこと
が可能であり、かつ流体表面上に設けられており、容器
中の基材が解放もしくは浸漬される際にこの溢流装置が
流体表面と共に降下及び／又は上昇する。本発明による
方法との関連においてすでに詳細に記載した本発明の利
点は、本発明による装置に関しても該当する。
解決するが、この装置においては、溢流装置が浮くこと
が可能であり、かつ流体表面上に設けられており、容器
中の基材が解放もしくは浸漬される際にこの溢流装置が
流体表面と共に降下及び／又は上昇する。本発明による
方法との関連においてすでに詳細に記載した本発明の利
点は、本発明による装置に関しても該当する。
溢流装置は流体流出管を有し、これは流体の排出のた
めに少なくとも１つの容器開口部と連結している。有利
に少なくとも１つの容器開口部を容器の底部に備え、こ
うして流体は付加的なポンプを使用することなく流出す
ることができる。
めに少なくとも１つの容器開口部と連結している。有利
に少なくとも１つの容器開口部を容器の底部に備え、こ
うして流体は付加的なポンプを使用することなく流出す
ることができる。
流体表面に浮く溢流装置は流体と共に降下しかつ／又
は上昇するので、流体流出管はこの移動に従うことがで
きなければならない。従って、有利には流体流出管は弾
性を有する管、梁状の管及び／又は入れ子式の引き込み
及び行き出し可能な管である。本発明の選択的実施態様
によれば、この流体流出管は主に容器の底部に構成され
た容器開口部を介して密に引き込み及び引き出し可能で
ある。
は上昇するので、流体流出管はこの移動に従うことがで
きなければならない。従って、有利には流体流出管は弾
性を有する管、梁状の管及び／又は入れ子式の引き込み
及び行き出し可能な管である。本発明の選択的実施態様
によれば、この流体流出管は主に容器の底部に構成され
た容器開口部を介して密に引き込み及び引き出し可能で
ある。
溢流装置は有利に基材を取り囲み、こうして流体表面
が降下した際も、常に外への均一な流体流が達せられ、
この流体流が粒状物及び不純物を溢流装置の内側に配置
された基材から除去する。従って、溢流装置は有利に基
材を取り囲み、浮くことの可能なリングである。しかし
ながら、溢流装置をその周囲の形状が、主に容器内部空
間の横断面に相応するように構成することも可能であ
る。容器内部空間が例えば正四角形である場合、本発明
のこの実施形により溢流装置は正四角形にした管であ
る。溢流装置を、これがリング状又は容器内部空間の横
断面の形状に相応して構成されているならば、有利にそ
の降下及び／又は上昇の間、容器中で移動し、こうして
限定された位置を確実にする。
が降下した際も、常に外への均一な流体流が達せられ、
この流体流が粒状物及び不純物を溢流装置の内側に配置
された基材から除去する。従って、溢流装置は有利に基
材を取り囲み、浮くことの可能なリングである。しかし
ながら、溢流装置をその周囲の形状が、主に容器内部空
間の横断面に相応するように構成することも可能であ
る。容器内部空間が例えば正四角形である場合、本発明
のこの実施形により溢流装置は正四角形にした管であ
る。溢流装置を、これがリング状又は容器内部空間の横
断面の形状に相応して構成されているならば、有利にそ
の降下及び／又は上昇の間、容器中で移動し、こうして
限定された位置を確実にする。
内側から外側及び基材から外側への流体表面のできる
限り均一な流れを確実にするために、溢流開口部を溢流
装置の周囲全体にわたって均質に分布して設けること、
例えばリング中又は管中に孔形又はスリット形に設ける
のが有利である。
限り均一な流れを確実にするために、溢流開口部を溢流
装置の周囲全体にわたって均質に分布して設けること、
例えばリング中又は管中に孔形又はスリット形に設ける
のが有利である。
本発明による装置の更なる構成によれば、容器上に取
り外しの可能なフードを設ける、このフードは乾燥工程
を実施することができるように、ガス供給装置を有する
のが有利であり、これはEP0385536Aとの関連で記載され
ている。ガス供給装置を介して供給したガスは有利に溢
流装置の溢流開口部を介して流出する処理流体と共に導
出される。
り外しの可能なフードを設ける、このフードは乾燥工程
を実施することができるように、ガス供給装置を有する
のが有利であり、これはEP0385536Aとの関連で記載され
ている。ガス供給装置を介して供給したガスは有利に溢
流装置の溢流開口部を介して流出する処理流体と共に導
出される。
本発明を唯一の、図示した横断面図に関連させて実施
例につき詳細に説明する。
例につき詳細に説明する。
容器１、例えば流体処理槽又は洗浄槽中には、容器底
部に設けられた、基材３、例えばウェハーのための収容
装置２が平行に隣接して設けられている。流体表面４上
には溢流装置５が浮いており、これは例えばリング状に
構成されており、基材３を取り囲み、流体の降下の際
に、従って流体表面４上に浮く溢流装置５の降下の際
に、この溢流装置は基材３と接触することはない。溢流
装置５中には開口部６が存在し、この開口部により流体
は入り子管７中に流れ、この管はその末端部で容器１中
の開口部８と結合している。この液体はこの開口部によ
り容器１から閉鎖機構９で閉鎖可能な排出管10中に流出
し、かつ供給管11を介して容器中に相応する同量の液体
容量が供給されない限り、溢流装置５は液体と共に降下
し、基材３の下方にまで達する。溢流装置５の降下の
間、入り子管７は引き込まれ、短くなる。
部に設けられた、基材３、例えばウェハーのための収容
装置２が平行に隣接して設けられている。流体表面４上
には溢流装置５が浮いており、これは例えばリング状に
構成されており、基材３を取り囲み、流体の降下の際
に、従って流体表面４上に浮く溢流装置５の降下の際
に、この溢流装置は基材３と接触することはない。溢流
装置５中には開口部６が存在し、この開口部により流体
は入り子管７中に流れ、この管はその末端部で容器１中
の開口部８と結合している。この液体はこの開口部によ
り容器１から閉鎖機構９で閉鎖可能な排出管10中に流出
し、かつ供給管11を介して容器中に相応する同量の液体
容量が供給されない限り、溢流装置５は液体と共に降下
し、基材３の下方にまで達する。溢流装置５の降下の
間、入り子管７は引き込まれ、短くなる。
基材３の下端の下方まで溢流装置５が降下した後、こ
の基材は開放され、これを容器１から収容装置２と共
に、又は収容装置２上に設けられたキャリヤーと共に、
又は個別に常用の方法で、上方から容器から取り出し、
かつ更に処理することができる。
の基材は開放され、これを容器１から収容装置２と共
に、又は収容装置２上に設けられたキャリヤーと共に、
又は個別に常用の方法で、上方から容器から取り出し、
かつ更に処理することができる。
溢流装置５中での溢流開口部の均一な分布により、内
側から外側への、すなわち基材３から外側への一定の流
れが達成され、流体表面４上に浮遊する粒状物及び不純
物は基材３から溢流装置５中に共に流れ去られる。従っ
て、基材３は容器１から流体が除去される際にも、粒状
物及び不純物を有しない。
側から外側への、すなわち基材３から外側への一定の流
れが達成され、流体表面４上に浮遊する粒状物及び不純
物は基材３から溢流装置５中に共に流れ去られる。従っ
て、基材３は容器１から流体が除去される際にも、粒状
物及び不純物を有しない。
本発明はすでに有利な実施例に関して詳細に説明し
た。しかしながら、本発明の思想を離れることなく多数
の変更及び改良も専門家にとっては可能である。例え
ば、溢流装置５は種々の方法で、例えば管の形で構成さ
れていてよく、前記条件に相応して構成された開口部６
が外側周囲面に構成されていてよい。入れ子管の代わり
に、溢流装置５の降下において襞がよる、梁状の管を使
用することも可能である。
た。しかしながら、本発明の思想を離れることなく多数
の変更及び改良も専門家にとっては可能である。例え
ば、溢流装置５は種々の方法で、例えば管の形で構成さ
れていてよく、前記条件に相応して構成された開口部６
が外側周囲面に構成されていてよい。入れ子管の代わり
に、溢流装置５の降下において襞がよる、梁状の管を使
用することも可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヘルムート ハルムス−ヤンセン ドイツ連邦共和国 Ｄ−75038 オーバ ーデアディンゲン アム ゲンスベルク 32 (56)参考文献 特開 平４−271882（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−43638（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 642 B08B 3/04
Claims (17)
- 【請求項１】少なくとも１種の液体が供給され、かつ溢
流装置を介してこの液体を除去する容器中で、基材を湿
式処理する方法において、溢流装置が容器中の液体上に
浮いており、容器中に存在する基材を解放又は浸漬する
際に、この溢流装置が液体表面と共に基材の下まで降下
し又はそこから上昇することを特徴とする、 容器中で基材を湿式処理する方法。 - 【請求項２】液体が、溢流装置の溢流開口部を介して、
並びに溢流装置開口部と結合する少なくとも１つの導管
を介して容器から流出する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】少なくとも１つの液体供給口（11）及び液
体を排出するための開口部（６）を有する液体溢流装置
（５）を備える容器（１）内で基材（３）を湿式処理す
るための装置において、この溢流装置（５）が浮くこと
が可能であり、容器（１）中の液体表面（４）上に設け
られており、かつ容器（１）中に存在する基材（３）の
解放又は浸漬の際に液体表面と共に基材（３）の下まで
降下又はそこから上昇可能であることを特徴とする、容
器中の基材の湿式処理装置。 - 【請求項４】溢流装置（５）が液体溢流開口部（６）を
有する請求項３記載の装置。 - 【請求項５】溢流装置（５）が液体流出装置（７）を備
える請求項３又は４記載の装置。 - 【請求項６】少なくとも１つの液体流出管（７）が溢流
装置（５）及び少なくとも１つの容器開口部（８）の間
に設けられている請求項３から５までのいずれか１項記
載の装置。 - 【請求項７】容器開口部（８）が容器（１）の底部に設
けられている請求項６記載の装置。 - 【請求項８】液体流出管（７）が弾性を有する管である
請求項６又は７記載の装置。 - 【請求項９】液体流出管（７）が入れ子管である請求項
６又は７記載の装置。 - 【請求項１０】液体流出管（７）が容器開口部（８）を
介して密に引き込み及び引き出し可能な管である請求項
６又は７記載の装置。 - 【請求項１１】溢流装置（５）が基材を取り囲む、浮く
ことの可能なリングである請求項４から10までのいずれ
か１項記載の装置。 - 【請求項１２】溢流装置（５）の周囲の形状が容器内部
空間の横断面に相応する請求項４から11までのいずれか
１項記載の装置。 - 【請求項１３】溢流装置（５）を、その降下もしくは上
昇の際に、容器（１）中で移動する請求項４から12まで
のいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１４】溢流開口部（６）が溢流装置（５）の周
囲全体にわたって均一に分布して設けられている請求項
４から13項までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１５】開放及び閉鎖するためのフードが容器
（１）上に設けられている請求項４から14までのいずれ
か１項記載の装置。 - 【請求項１６】フードがガス供給装置を有する請求項15
記載の装置。 - 【請求項１７】溢流装置（５）の溢流開口部（６）がガ
ス排出装置でもある請求項16記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19517573A DE19517573C2 (de) | 1995-05-12 | 1995-05-12 | Verfahren und Vorrichtung zur Naßbehandlung von Substraten in einem Behälter |
| DE19517573.5 | 1995-05-12 | ||
| PCT/EP1996/001813 WO1996036068A1 (de) | 1995-05-12 | 1996-05-02 | Verfahren und vorrichtung zur nassbehandlung von substraten in einem behälter |
Publications (2)
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