JPH10510101A - 容器中での基材の湿式処理法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 流体が供給され、かつ溢流装置を介して排出される容器中で基材を湿式処理する方法において、溢流装置が流体上に浮き、かつ流体表面とともに降下及び／又は上昇する時、簡単な手段を用いて、特に簡単な方法が達せられる。基材を流体から引き上げたり引き出したりするための機械的装置は必要ではない。該方法を実施するために基材を湿式処理するための装置が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】 容器中での基材の湿式処理法及び装置 本願発明は、少なくとも１種の液体、今後流体とも呼ぶ、が供給され、かつ溢 流装置を介してこの液体が除去される容器中で、基材を湿式処理するための方法 に関する。更に、本願発明は、少なくとも流体供給装置及び流体を排出するため の開口部を有する流体溢流装置を備える容器中で、基材を湿式処理するための装 置に関する。 前記種類の方法及び装置は例えばＵＳ−Ａ−４７２２７５２及びＥＰ−Ａ−０ ３８５５３６から公知であり、並びに本願出願人による、従前に開示されていな いＤＥ−Ａ−４４１３０７７及びＤＥ−Ａ−１９５４６９９０に記載されている 。流体及び基材を包含する容器の上部には溢流装置が設けられており、この際流 体は下から供給され、基材に沿って上方に流れ、容器の溢流開口部又は溢流縁を 介して、容器の上部で容器から流出する。湿式処理の後、例えば噴霧工程の後、 この基材をある程度複雑な機械装置で基材キャリヤーと共に又は直接流体もしく は容器から取り出すが、この際溢流排出は、流体表面の粒状物及びその他の不純 物を流れにより、外方向に溢流装置中に搬出し、流体から基材を取り出す際に、 これが基材に付着保持され ないようにする。 流体から、もしくは容器から基材を安全にかつ均質に取り出すための機械的装 置は非常に費用がかかり、かつ複雑である。 更に、容器中でのリフト機構は、これが基材キャリヤーの下もしくは基材の下 を掴み、かつこれを持ち上げなければならないので、比較的大きな場所を必要と する。容器の寸法が比較的大きくなければならないということ以外にも、寸法が 大きいということにより、流体を交換又は補充しなければならない場合、比較的 多量の流体使用とも結びつく。 容器からウェハーを取り出す際の特別な欠点は、限定された条件において、容 器から取り出す際に、ウェハーを安全にかつ確実に保持するために、ウェハーの ためのリフト機構及び容器上に設けられたフード中に、ウェハーのために非常に 厳密に加工した案内を構成しなければならない、という点にある。このような案 内のための完成費用は、必要とされる正確な加工により非常に高くなり、この際 更に従来の装置においては容器から取り出す際に基材の損傷又は破断は付加的な 高い調整費用によってのみ回避される。 ＡＴ２０８３０７からは、周期的に供給される容器中に化学薬品を相関させて 導入する配量装置が公知である。この配量装置は液体容器の上方に設けられた、 外に向かって密閉された化学薬品容器を包含する。液 体容器には空気排除ロックが設けられており、このロックは液体容器中に下に向 かって開口しており、かつこのロックは最高位で連結管を介して気密の化学薬品 容器と連結している。この密閉された化学薬品容器の内部に導管を備える浮きが 存在し、この導管のフリーの開口部は浮きの下縁に達する。液体容器が完全に又 は部分的に満たされる際に、相当する量の空気が気密の化学薬品容器中に圧入し 、こうしてこの密閉した容器中に過圧が生じ、この圧力が化学薬品溶液を浮きの 下側末端で、開口部を介して圧し、こうして相当する量の化学薬品が、化学薬品 の導入を配量するためのホースを介して液体容器中に流入する。この種の配量装 置は空気の圧入により、液体容器中に後充填する液体量に比例する液体の配量を 可能にするのであり、こうしてこの公知装置は基本的に全く異なる目的に使用さ れ、更にこの目的のために容器は過圧を生じさせるために気密でなくてはならな い。 ＥＰ−Ａ−０４５５４６５からは溢流槽を有する洗濯又は洗浄装置が公知であ り、この装置においては洗濯液又は洗浄液を下から導入し、かつ槽の上端部から 溢流する。液体が溢流により流入する領域には泡抑制装置が浮き弁の形で設けら れており、この浮き弁は溢流溝中で液体位置により上昇又は降下し、こうしてこ れにより下方向に向いた洗浄液の排水は調節される。 本願発明の課題は、冒頭に記載した種類の方法及び 装置を提供もしくは達成することであり、この方法及び装置は実施法においても 、製造上に費やす労力においても著しく簡単であり、更に基材の安全でかつ確実 な処理を達成することである。 このような課題は本発明において請求項１による方法により解決した。 従来の方法とは異なり、基材を流体から持ち上げず、容器中の基材の位置を変 更することなく流体を降下させる。本願発明による溢流装置は流体上に浮いてお り、流体表面と一緒に下がるので、流体表面に浮遊する粒状物及び不純物は流体 表面の降下の際に溢流装置への流れにより一緒に取り除かれ、かつ基材上に付着 しない。本発明による、流体上に浮かぶ溢流装置を使用しない場合、流体表面の 降下の際に、粒状物及び不純物が基材表面に付着し、かつ基材は本来の処理工程 又は洗浄工程により更に汚染される。 本発明による方法もしくは装置は従来の方法におけるようにようなリフト装置 を必要とせず、そのためにこの方法に必要な装置は著しく簡単でかつ完成するた めに安価である。更に、容器の寸法は小さく、必要な流体容量は同様に少量に保 持することができ、このことはこの種の湿式処理装置の操作の際に、著しい倹約 に導く。この基材を容器から取り出す必要がないので、容器の上方、例えばフー ド中にも案内が必要ではなく、このことにより本発明による方法は非常に簡単な 装置で実施可能である。ここではフードも作業室をカバーするため及びガス混合 物を供給するためにのみ必要である。処理、例えば容器自体中での基材の乾燥は 、従って著しく安全であり、基材の損傷の危険性はない。 本発明の有利な実施形によれば、流体は溢流装置の溢流開口部を介して、かつ そこから溢流開口部と結合した導管少なくとも１つを介して、容器から流出する 。流体が容器から流出した後、基材が容器中に残り、その後簡単な方法で例えば 基材キャリヤーと一緒に一体として取り出し、かつ更に処理することができる。 この設定された課題は本発明により１つの装置により解決するが、この装置に おいては、溢流装置が浮くことが可能であり、かつ流体表面上に設けられており 、容器中の基材が解放もしくは浸漬される際にこの溢流装置が流体表面と共に降 下及び／又は上昇する。本発明による方法との関連においてすでに詳細に記載し た本発明の利点は、本発明による装置に関しても該当する。 溢流装置は流体流出管を有し、これは流体の排出のために少なくとも１つの容 器開口部と連結している。有利に少なくとも１つの容器開口部を容器の底部に備 え、こうして流体は付加的なポンプを使用することなく流出することができる。 流体表面に浮く溢流装置は流体と共に降下しかつ／ 又は上昇するので、流体流出管はこの移動に従うことができなければならない。 従って、有利には流体流出管は弾性を有する管、梁状の管及び／又は入れ子式の 引き込み及び引き出し可能な管である。本発明の選択的実施態様によれば、この 流体流出管は主に容器の底部に構成された容器開口部を介して密に引き込み及び 引き出し可能である。 溢流装置は有利に基材を取り囲み、こうして流体表面が降下した際も、常に外 への均一な流体流が達せられ、この流体流が粒状物及び不純物を溢流装置の内側 に配置された基材から除去する。従って、溢流装置は有利に基材を取り囲み、浮 くことの可能なリングである。しかしながら、溢流装置をその周囲の形状が、主 に容器内部空間の横断面に相応するように構成することも可能である。容器内部 空間が例えば正四角形である場合、本発明のこの実施形により溢流装置は正四角 形にした管である。溢流装置を、これがリング状又は容器内部空間の横断面の形 状に相応して構成されているならば、有利にその降下及び／又は上昇の間、容器 中で移動し、こうして限定された位置を確実にする。 内側から外側及び基材から外側への流体表面のできる限り均一な流れを確実に するために、溢流開口部を溢流装置の周囲全体にわたって均質に分布して設ける こと、例えばリング中又は管中に孔形又はスリット形に設けるのが有利である。 本発明による装置の更なる構成によれば、容器上に取り外しの可能なフードを 設ける、このフードは乾燥工程を実施することができるように、ガス供給装置を 有するのが有利であり、これはＥＰ０３８５５３６Ａとの関連で記載されている 。ガス供給装置を介して供給したガスは有利に溢流装置の溢流開口部を介して流 出する処理流体と共に導出される。 本発明を唯一の、図示した横断面図に関連させて実施例につき詳細に説明する 。 容器１、例えば流体処理槽又は洗浄漕中には、容器底部に設けられた、基材３ 、例えばウェハーのための収容装置２が平行に隣接して設けられている。流体表 面４上には溢流装置５が浮いており、これは例えばリング状に構成されており、 基材３を取り囲み、流体の降下の際に、従って流体表面４上に浮く溢流装置５の 降下の際に、この溢流装置は基材３と接触することはない。溢流装置５中には開 口部６が存在し、この開口部により流体は入り子管７中に流れ、この管はその末 端部で容器１中の開口部８と結合している。この液体はこの開口部により容器１ から閉鎖機構９で閉鎖可能な排出管１０中に流出し、かつ供給管１１を介して容 器中に相応する同量の液体容量が供給されない限り、溢流装置５は液体と共に降 下し、基材３の下方にまで達する。溢流装置５の降下の間、入り子管７は引き込 まれ、短くなる。 基材３の下端の下方まで溢流装置５が降下した後、この基材は開放され、これ を容器１から収容装置２と共に、又は収容装置２上に設けられたキャリヤーと共 に、又は個別に常用の方法で、上方から容器から取り出し、かつ更に処理するこ とができる。 溢流装置５中での溢流開口部の均一な分布により、内側から外側への、すなわ ち基材３から外側への一定の流れが達成され、流体表面４上に浮遊する粒状物及 び不純物は基材３から溢流装置５中に共に連れ去られる。従って、基材３は容器 １から流体が除去される際にも、粒状物及び不純物を有しない。 本発明はすでに有利な実施例に関して詳細に説明した。しかしながら、本発明 の思想を離れることなく多数の変更及び改良も専門家にとっては可能である。例 えば、溢流装置５は種々の方法で、例えば管の形で構成されていてよく、前記条 件に相応して構成された開口部６が外側周囲面に構成されていてよい。入れ子管 の代わりに、溢流装置５の降下において襞がよる、梁状の管を使用することも可 能である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．少なくとも１種の液体が供給され、かつ溢流装置を介してこの液体を除去す る容器中で、基材を湿式処理する方法において、溢流装置が容器中の液体上に浮 いており、容器中に存在する基材を解放又は浸漬する際に、この溢流装置が液体 表面と共に基材の下まで降下し又はそこから上昇することを特徴とする、容器中 で基材を湿式処理する方法。 ２．液体が、溢流装置の溢流開口部を介して、並びに溢流装置開口部と結合する 少なくとも１つの導管を介して容器から流出する請求項１記載の方法。 ３．少なくとも１つの液体供給口（１１）及び液体を排出するための開口部（６ ）を有する液体溢流装置（５）を備える容器（１）中で基材（３）を湿式処理す るための装置において、この溢流装置（５）が浮くことが可能であり、容器（１ ）中の液体表面（４）上に設けられており、かつ容器（１）中に存在する基材（ ３）の解放又は浸漬の際に液体表面と共に基材（３）の下まで降下又はそこから 上昇可能であることを特徴とする、容器中の基材の湿式処理装置。 ４．溢流装置（５）が液体溢流開口部（６）を有する請求項３記載の装置。 ５．溢流装置（５）が液体流出装置（７）を備える請 求項３又は４記載の装置。 ６．少なくとも１つの液体流出管（７）が溢流装置（５）及び少なくとも１つの 容器開口部（８）の間に設けられている請求項３から５までのいずれか１項記載 の装置。 ７．容器開口部（８）が容器（１）の底部に設けられている請求項６記載の装置 。 ８．液体流出管（７）が弾性を有する管である請求項６又は７記載の装置。 ９．液体流出管（７）が梁状の管である請求項６又は７記載の装置。 10．液体流出管（７）が入れ子管である請求項６又は７記載の装置。 11．液体流出管（７）が容器開口部（８）を介して密に引き込み及び引き出し可 能である請求項６又は７記載の装置。 12．溢流装置（５）が基材を取り囲む、浮くことの可能なリングである請求項４ から１１までのいずれか１項記載の装置。 13．溢流装置（５）の周囲の形状が容器内部空間の横断面に相応する請求項４か ら１２までのいずれか１項記載の装置。 14．溢流装置（５）を、その降下もしくは上昇の際に、容器（１）中で移動する 請求項４から１３までのいずれか１項記載の装置。 15．溢流開口部（６）が溢流装置（５）の周囲全体にわたって均一に分布して設 けられている請求項４から１４項までのいずれか１項記載の装置。 16．開放及び閉鎖するためのフードが容器（１）上に設けられている請求項４か ら１５までのいずれか１項記載の装置。 17．ガス供給装置を特徴とする請求項４から１６までのいずれか１項記載の装置 。 18．溢流装置（５）の溢流開口部（６）がガス排出装置でもある請求項１７記載 の装置。