JPH0851093A - 洗浄槽 - Google Patents
洗浄槽Info
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- JPH0851093A JPH0851093A JP18558694A JP18558694A JPH0851093A JP H0851093 A JPH0851093 A JP H0851093A JP 18558694 A JP18558694 A JP 18558694A JP 18558694 A JP18558694 A JP 18558694A JP H0851093 A JPH0851093 A JP H0851093A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 短時間で効率よく洗浄でき、しかも保守管理
がしやすい洗浄槽を得る。 【構成】 ２重槽の間隙を塞ぐ多孔板６と支持台７を有
する内槽１を、外槽２内に一定間隙で保持し、外槽２の
底中央から注入した洗浄液４を内槽１の排出口８から接
続手段１４を介して槽外に排出する。
がしやすい洗浄槽を得る。 【構成】 ２重槽の間隙を塞ぐ多孔板６と支持台７を有
する内槽１を、外槽２内に一定間隙で保持し、外槽２の
底中央から注入した洗浄液４を内槽１の排出口８から接
続手段１４を介して槽外に排出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造に際
し、ウェハ等の洗浄を行う洗浄槽に関するものである。
し、ウェハ等の洗浄を行う洗浄槽に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造でウェハ等の洗浄に用
いる洗浄槽は通常オーバーフロー槽が用いられ、洗浄槽
の底部に設けた洗浄液注入口から注入した洗浄液が、保
持棚上の洗浄物中または洗浄物の周囲を上昇して流れ、
上記洗浄液の自由表面から洗浄槽の上端外周に設けた溝
にオーバーフローさせ、排出口から槽外に排出する。上
記洗浄物は一般に合成樹脂製のカセットに多数個併置し
たウェハであり、自動搬送装置の吊具で上記カセットを
係止して搬送し、上記洗浄槽の直上で洗浄液中に浸漬さ
れる。また、上記排出口から排出された汚染洗浄液は、
洗浄槽外においてフィルタを透過し清浄化されたのち、
再び上記洗浄槽に循環して供給される。上記従来技術で
は、流入した洗浄液は洗浄槽内に拡がって上昇するが、
洗浄物を通過する際の抵抗が大きく洗浄物の外側を上昇
する洗浄液よりも流速が遅くなり、十分な洗浄効果を得
にくく、またオーバーフローしきれない汚染洗浄液の一
部が洗浄槽内壁に沿って下降し、洗浄槽内で還流を生じ
るため、洗浄物から遊離した微粒子の一部が滞留するこ
とになり、洗浄を繰り返すと次第に洗浄液中の汚染粒子
が蓄積して著しく洗浄効果が低下する。これらの問題を
解決するために発明者らは、図４に示すように洗浄物５
を搬出入できるだけの間隙と高さを有する筒状の囲壁１
６を洗浄槽１５の底部に固着し、上記囲壁１６中に設置
した洗浄物５が十分浸漬される囲壁中間の位置に、所定
細孔を所要数設けた洗浄物５の支持棚７を設置し、洗浄
槽下部の囲壁外側の注入口３から注入した洗浄液４を吸
引排出する排出口８を、上記支持棚７下方の洗浄槽底部
に設けた洗浄槽を提案した（特願平５−２６０５０６
号）。
いる洗浄槽は通常オーバーフロー槽が用いられ、洗浄槽
の底部に設けた洗浄液注入口から注入した洗浄液が、保
持棚上の洗浄物中または洗浄物の周囲を上昇して流れ、
上記洗浄液の自由表面から洗浄槽の上端外周に設けた溝
にオーバーフローさせ、排出口から槽外に排出する。上
記洗浄物は一般に合成樹脂製のカセットに多数個併置し
たウェハであり、自動搬送装置の吊具で上記カセットを
係止して搬送し、上記洗浄槽の直上で洗浄液中に浸漬さ
れる。また、上記排出口から排出された汚染洗浄液は、
洗浄槽外においてフィルタを透過し清浄化されたのち、
再び上記洗浄槽に循環して供給される。上記従来技術で
は、流入した洗浄液は洗浄槽内に拡がって上昇するが、
洗浄物を通過する際の抵抗が大きく洗浄物の外側を上昇
する洗浄液よりも流速が遅くなり、十分な洗浄効果を得
にくく、またオーバーフローしきれない汚染洗浄液の一
部が洗浄槽内壁に沿って下降し、洗浄槽内で還流を生じ
るため、洗浄物から遊離した微粒子の一部が滞留するこ
とになり、洗浄を繰り返すと次第に洗浄液中の汚染粒子
が蓄積して著しく洗浄効果が低下する。これらの問題を
解決するために発明者らは、図４に示すように洗浄物５
を搬出入できるだけの間隙と高さを有する筒状の囲壁１
６を洗浄槽１５の底部に固着し、上記囲壁１６中に設置
した洗浄物５が十分浸漬される囲壁中間の位置に、所定
細孔を所要数設けた洗浄物５の支持棚７を設置し、洗浄
槽下部の囲壁外側の注入口３から注入した洗浄液４を吸
引排出する排出口８を、上記支持棚７下方の洗浄槽底部
に設けた洗浄槽を提案した（特願平５−２６０５０６
号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記提案によってオー
バーフロー型洗浄槽の問題点は大幅に改善されたが、上
記改良された洗浄槽が比較的狭い囲壁内に洗浄液を流し
て被洗浄物を洗浄するのに対し、短時間により効果的な
洗浄を行うために多量の洗浄液を円滑に流すことが期待
されるとともに、洗浄槽そのものの洗浄を容易に行うこ
とができ、常に洗浄槽内から汚染微粒子を容易に除去で
きる、保守管理がしやすい洗浄槽が求められていた。
バーフロー型洗浄槽の問題点は大幅に改善されたが、上
記改良された洗浄槽が比較的狭い囲壁内に洗浄液を流し
て被洗浄物を洗浄するのに対し、短時間により効果的な
洗浄を行うために多量の洗浄液を円滑に流すことが期待
されるとともに、洗浄槽そのものの洗浄を容易に行うこ
とができ、常に洗浄槽内から汚染微粒子を容易に除去で
きる、保守管理がしやすい洗浄槽が求められていた。
【０００４】本発明は、短時間に効率よく洗浄でき、し
かも保守管理がしやすい洗浄槽を得ることを目的とす
る。
かも保守管理がしやすい洗浄槽を得ることを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、内槽と外槽
との２重槽からなる洗浄槽を用い、上記内槽の外周上部
に上記外槽との間隙をほぼ塞ぐように底面と平行に多孔
板を設けるとともに、被洗浄物が洗浄液に十分浸漬でき
る内槽内の位置に、上記被洗浄物を載架する多孔板を支
持台として設けた内槽を、該内槽の上縁が上記外槽の上
縁より十分低く、かつ周囲にほぼ等しい間隙を保って外
槽内部に着脱自在に設置できる構成とし、上記外槽底部
中央の注入口から注入し、外槽と内槽の間隙を上昇して
内槽上縁から被洗浄物に注ぐ洗浄液の排出口を、接続手
段を介し槽外の排出管に接続することにより達成され
る。
との２重槽からなる洗浄槽を用い、上記内槽の外周上部
に上記外槽との間隙をほぼ塞ぐように底面と平行に多孔
板を設けるとともに、被洗浄物が洗浄液に十分浸漬でき
る内槽内の位置に、上記被洗浄物を載架する多孔板を支
持台として設けた内槽を、該内槽の上縁が上記外槽の上
縁より十分低く、かつ周囲にほぼ等しい間隙を保って外
槽内部に着脱自在に設置できる構成とし、上記外槽底部
中央の注入口から注入し、外槽と内槽の間隙を上昇して
内槽上縁から被洗浄物に注ぐ洗浄液の排出口を、接続手
段を介し槽外の排出管に接続することにより達成され
る。
【０００６】また、上記内槽に設けた排出口を、ポール
ジョイントを介して外槽に設置した排出管に接続される
ことにより達成され、あるいは上記内槽に設けた排出口
を、Ｏリングシールの継手を介して排出管に接続するこ
とにより達成できる。
ジョイントを介して外槽に設置した排出管に接続される
ことにより達成され、あるいは上記内槽に設けた排出口
を、Ｏリングシールの継手を介して排出管に接続するこ
とにより達成できる。
【０００７】
【作用】本発明による洗浄槽は、内槽と外槽とからなる
２重槽構造の洗浄槽であって、外槽内壁に対しほぼ等間
隔であり、内槽の上縁が外槽の上縁より十分低くなるよ
うに、着脱自在に設置できる内槽の外周上部には、外槽
との間隙をほぼ塞ぐように底面と平行に設けた多孔板を
有し、被洗浄物が洗浄液に十分浸漬できる内槽内の位置
に、上記被洗浄物を支持する多孔板の支持台を設けてい
る。上記外槽の底部中央から注入した洗浄液をほぼ均等
な流速で上記内槽の上縁に運び、内槽内の被洗浄物に多
量の洗浄液を一様に注ぎ、上記被洗浄物から遊離した汚
染微粒子を含む汚染洗浄液を内槽底部に設けた排出口か
ら排出するが、上記内槽を外槽に対して容易に着脱でき
る構成にするために、上記内槽底部の排出口は上記外槽
外に設けた排出管に、着脱自在でしかも気密に接続する
必要があるため、中間に接続手段を介して接続してい
る。そのため、上記内槽を外槽の定位置に装着すると、
上記内槽の外周に設けた多孔板は外槽内壁との空間をほ
ぼ塞ぎ、外槽底部中央より注入され平均に内槽の外壁に
沿って上昇する洗浄液が上記多孔板を通過することによ
り整流され、上記内槽の上縁から一様に内槽内の被洗浄
物に注がれる。上記被洗浄物を通過し汚染微粒子を遊離
した汚染洗浄液は、そのまま内槽底部の排出口に吸入さ
れるが、上記排出口は外槽底部に設けた排出管に気密に
接続されているため、外槽内に汚染洗浄液が混入するこ
となく、内槽と外槽との間の空間を通過して洗浄槽の外
部に排出される。なお、排出された汚染洗浄液は、ポン
プで吸引されフィルタを通して清浄化されたのち、再び
外槽のほぼ中央部に設けた注入口から洗浄槽内に注入さ
れ、循環使用することができる。
２重槽構造の洗浄槽であって、外槽内壁に対しほぼ等間
隔であり、内槽の上縁が外槽の上縁より十分低くなるよ
うに、着脱自在に設置できる内槽の外周上部には、外槽
との間隙をほぼ塞ぐように底面と平行に設けた多孔板を
有し、被洗浄物が洗浄液に十分浸漬できる内槽内の位置
に、上記被洗浄物を支持する多孔板の支持台を設けてい
る。上記外槽の底部中央から注入した洗浄液をほぼ均等
な流速で上記内槽の上縁に運び、内槽内の被洗浄物に多
量の洗浄液を一様に注ぎ、上記被洗浄物から遊離した汚
染微粒子を含む汚染洗浄液を内槽底部に設けた排出口か
ら排出するが、上記内槽を外槽に対して容易に着脱でき
る構成にするために、上記内槽底部の排出口は上記外槽
外に設けた排出管に、着脱自在でしかも気密に接続する
必要があるため、中間に接続手段を介して接続してい
る。そのため、上記内槽を外槽の定位置に装着すると、
上記内槽の外周に設けた多孔板は外槽内壁との空間をほ
ぼ塞ぎ、外槽底部中央より注入され平均に内槽の外壁に
沿って上昇する洗浄液が上記多孔板を通過することによ
り整流され、上記内槽の上縁から一様に内槽内の被洗浄
物に注がれる。上記被洗浄物を通過し汚染微粒子を遊離
した汚染洗浄液は、そのまま内槽底部の排出口に吸入さ
れるが、上記排出口は外槽底部に設けた排出管に気密に
接続されているため、外槽内に汚染洗浄液が混入するこ
となく、内槽と外槽との間の空間を通過して洗浄槽の外
部に排出される。なお、排出された汚染洗浄液は、ポン
プで吸引されフィルタを通して清浄化されたのち、再び
外槽のほぼ中央部に設けた注入口から洗浄槽内に注入さ
れ、循環使用することができる。
【０００８】
【実施例】つぎに本発明の実施例を図面とともに説明す
る。図１は本発明による洗浄槽の一実施例を示す断面
図、図２は上記実施例における内槽排出口と排出管との
接続を示す図、図３は上記実施例における洗浄液の循環
ろ過を行う場合と、純水リンスを行う場合の配管系をそ
れぞれ示す図である。
る。図１は本発明による洗浄槽の一実施例を示す断面
図、図２は上記実施例における内槽排出口と排出管との
接続を示す図、図３は上記実施例における洗浄液の循環
ろ過を行う場合と、純水リンスを行う場合の配管系をそ
れぞれ示す図である。
【０００９】図１に示す本発明の洗浄槽は、内槽１と外
槽２とからなる２重槽で構成され、上記内槽１は上記外
槽２の内壁から底面も含めてほぼ等間隔を保ち、かつ内
槽１の上縁が外槽２の上縁より十分低くなるように設け
られ、上記外槽２の底部中央に設けた注入口３から洗浄
槽内に注入された洗浄液４が、上記内槽１と外槽２との
間隙を上昇して内槽１の上縁を越えて、内槽１内の被洗
浄物５に注ぐ。上記内槽１の外周上部には外槽２との間
隙をほぼ塞ぐように小さな孔を多数設けた多孔板６を底
面と平行に固着し、内槽１の内部には被洗浄物５が洗浄
液４に十分浸漬される位置に多板孔を設け上記被洗浄物
５の支持台７にしている。上記内槽１と外槽２との間の
間隙は、注入口３より注入する洗浄液４の流れをできる
だけ均一にするために少なくとも２０ｍｍ以上にする
が、上記間隙が大きくなると洗浄槽全体が大形化するの
で、４０ｍｍ程度にとどめるのが望ましく、また、内槽
１の外周に固着した多孔板６は、直径数ｍｍ程度の孔を
多数一様な間隔で設け、内槽１の上縁から内部の被洗浄
物５に一様な流速で洗浄液４を注ぐように整流するため
に、内槽１と外槽２との間隙の適当な位置に設けなけれ
ばならないが、加工の容易さから内槽１の外壁で上縁か
ら数１０ｍｍ以上低い位置に外槽２と１〜２ｍｍ距てて
設けるとよい。また、上記支持台７は数ｍｍ径の孔をほ
ぼ均一な間隔で全面に設け、汚染微粒子を遊離して含む
汚染洗浄液を均一な流速で速やかに流下させるため、支
持台７の設置位置は内槽底面の少なくとも２０ｍｍ程度
上に設けるようにする。
槽２とからなる２重槽で構成され、上記内槽１は上記外
槽２の内壁から底面も含めてほぼ等間隔を保ち、かつ内
槽１の上縁が外槽２の上縁より十分低くなるように設け
られ、上記外槽２の底部中央に設けた注入口３から洗浄
槽内に注入された洗浄液４が、上記内槽１と外槽２との
間隙を上昇して内槽１の上縁を越えて、内槽１内の被洗
浄物５に注ぐ。上記内槽１の外周上部には外槽２との間
隙をほぼ塞ぐように小さな孔を多数設けた多孔板６を底
面と平行に固着し、内槽１の内部には被洗浄物５が洗浄
液４に十分浸漬される位置に多板孔を設け上記被洗浄物
５の支持台７にしている。上記内槽１と外槽２との間の
間隙は、注入口３より注入する洗浄液４の流れをできる
だけ均一にするために少なくとも２０ｍｍ以上にする
が、上記間隙が大きくなると洗浄槽全体が大形化するの
で、４０ｍｍ程度にとどめるのが望ましく、また、内槽
１の外周に固着した多孔板６は、直径数ｍｍ程度の孔を
多数一様な間隔で設け、内槽１の上縁から内部の被洗浄
物５に一様な流速で洗浄液４を注ぐように整流するため
に、内槽１と外槽２との間隙の適当な位置に設けなけれ
ばならないが、加工の容易さから内槽１の外壁で上縁か
ら数１０ｍｍ以上低い位置に外槽２と１〜２ｍｍ距てて
設けるとよい。また、上記支持台７は数ｍｍ径の孔をほ
ぼ均一な間隔で全面に設け、汚染微粒子を遊離して含む
汚染洗浄液を均一な流速で速やかに流下させるため、支
持台７の設置位置は内槽底面の少なくとも２０ｍｍ程度
上に設けるようにする。
【００１０】被洗浄物５として、例えばカセットに併置
した多数のウェハをを上記支持台７に載架した場合に
は、上記カセットやウェハの間を通過する洗浄液が汚染
微粒子を遊離する。これらの汚染微粒子を含む汚染洗浄
液は上記支持台７の細孔を通り内槽１の底面に設けた排
出口８から洗浄槽外に排除される。しかしながら、上記
内槽１は外槽２に対し着脱自在に装着するために、上記
排出口８から排出する汚染洗浄液を外槽２内の清浄洗浄
液に影響を与えないようにして、外槽２の外に設けた排
出管に導く必要があり、そのために、上記内槽１の排出
口８と外槽２に取り付けた排出管との接続手段が重要で
ある。
した多数のウェハをを上記支持台７に載架した場合に
は、上記カセットやウェハの間を通過する洗浄液が汚染
微粒子を遊離する。これらの汚染微粒子を含む汚染洗浄
液は上記支持台７の細孔を通り内槽１の底面に設けた排
出口８から洗浄槽外に排除される。しかしながら、上記
内槽１は外槽２に対し着脱自在に装着するために、上記
排出口８から排出する汚染洗浄液を外槽２内の清浄洗浄
液に影響を与えないようにして、外槽２の外に設けた排
出管に導く必要があり、そのために、上記内槽１の排出
口８と外槽２に取り付けた排出管との接続手段が重要で
ある。
【００１１】上記排出管に対する内槽１の排出口８を接
続する手段の一例は、図２（ａ）に示すようにボールジ
ョイントを使用する方法である。内槽１の底面中央近く
に設けた排出口８の突出した先端を球面状に形成し、一
方外槽２の底面中央近くに固着貫通するように設けた排
出管１０の外槽２内の先端を、上記排出管８の突出先端
の球面に対応する凹面状に形成する。上記内槽１を外槽
２内の定位置に設置すると、上記球面状排出口８は上記
凹面状排出管１０の先端に気密に嵌合し、上記球面状排
出口８と同様に内槽１の底面外方に突出して設けた少な
くとも２本の突出支柱（図示せず）とともに、上記内槽
１を外槽２内に一定の間隙を保って安定に保持すること
ができる。
続する手段の一例は、図２（ａ）に示すようにボールジ
ョイントを使用する方法である。内槽１の底面中央近く
に設けた排出口８の突出した先端を球面状に形成し、一
方外槽２の底面中央近くに固着貫通するように設けた排
出管１０の外槽２内の先端を、上記排出管８の突出先端
の球面に対応する凹面状に形成する。上記内槽１を外槽
２内の定位置に設置すると、上記球面状排出口８は上記
凹面状排出管１０の先端に気密に嵌合し、上記球面状排
出口８と同様に内槽１の底面外方に突出して設けた少な
くとも２本の突出支柱（図示せず）とともに、上記内槽
１を外槽２内に一定の間隙を保って安定に保持すること
ができる。
【００１２】また、図２（ｂ）に示す接続手段は、Ｏリ
ングシール継手を用いた方法であって、図示のように内
槽１の中央底面に設けた排出口８は、内槽１の外側に向
けて管状に突出して形成されている。外槽２の底部中心
には、上記管状に突出した排出口８が十分な間隙を周囲
に設けて容易に挿通できるように、大きく外方向に突出
した注入口３を設け、上記管状に突出した排出口８と上
記突出注入口３との接合部に、Ｏリングシール１１を介
してＯリングシール継手１２を嵌入している。上記Ｏリ
ングシール継手１２は、排出管接続口１０と注入管接続
口１３を有している。なお、上記内槽１の底面には、内
槽１と外槽２との間隔を一定に保持するための複数本の
支柱が設けられている（図示せず）。上記Ｏリングシー
ル継手によって内槽１の排出口８と外槽２外の排出管と
を接続するときは、洗浄液の注入口３も汚染洗浄液の排
出口８も、それぞれ外槽２および内槽１の底面中央に位
置するため、槽内を流動する洗浄液の流れが整流され、
そのため効率がよい均一な洗浄を行うことができる。
ングシール継手を用いた方法であって、図示のように内
槽１の中央底面に設けた排出口８は、内槽１の外側に向
けて管状に突出して形成されている。外槽２の底部中心
には、上記管状に突出した排出口８が十分な間隙を周囲
に設けて容易に挿通できるように、大きく外方向に突出
した注入口３を設け、上記管状に突出した排出口８と上
記突出注入口３との接合部に、Ｏリングシール１１を介
してＯリングシール継手１２を嵌入している。上記Ｏリ
ングシール継手１２は、排出管接続口１０と注入管接続
口１３を有している。なお、上記内槽１の底面には、内
槽１と外槽２との間隔を一定に保持するための複数本の
支柱が設けられている（図示せず）。上記Ｏリングシー
ル継手によって内槽１の排出口８と外槽２外の排出管と
を接続するときは、洗浄液の注入口３も汚染洗浄液の排
出口８も、それぞれ外槽２および内槽１の底面中央に位
置するため、槽内を流動する洗浄液の流れが整流され、
そのため効率がよい均一な洗浄を行うことができる。
【００１３】本発明の洗浄槽において洗浄液を循環ろ過
するには、図３（ａ）に示すような構成にする。すなわ
ち、内槽１の排出口８から排出された汚染洗浄液は、ポ
ンプおよび流量計を経てフィルタに至り、洗浄液中の汚
染微粒子が上記フィルタで除かれ、再び清浄にされたの
ち注入口３を経て外槽２内に導かれるが、このような循
環ろ過を特に高温度薬液に対して行う場合には、上記排
出口８と外槽２の外に設けられた排出管との接続に、ボ
ールジョイントによる方法を用いるのが適している。
するには、図３（ａ）に示すような構成にする。すなわ
ち、内槽１の排出口８から排出された汚染洗浄液は、ポ
ンプおよび流量計を経てフィルタに至り、洗浄液中の汚
染微粒子が上記フィルタで除かれ、再び清浄にされたの
ち注入口３を経て外槽２内に導かれるが、このような循
環ろ過を特に高温度薬液に対して行う場合には、上記排
出口８と外槽２の外に設けられた排出管との接続に、ボ
ールジョイントによる方法を用いるのが適している。
【００１４】つぎに、洗浄を行ったのちに純水によるリ
ンスを行う場合の配管系構成を図３（ｂ）に示す。注入
口３には所要純度の純水配管をフィルタを介して接続し
純水を外槽２内に注入するが、一方、内槽１において支
持台７を通過した汚染された純水は、ポンプ、流量計を
経て排水ドレンに接続されるが、この場合の排出管の接
続にはＯリングシール継手による方法が適している。
ンスを行う場合の配管系構成を図３（ｂ）に示す。注入
口３には所要純度の純水配管をフィルタを介して接続し
純水を外槽２内に注入するが、一方、内槽１において支
持台７を通過した汚染された純水は、ポンプ、流量計を
経て排水ドレンに接続されるが、この場合の排出管の接
続にはＯリングシール継手による方法が適している。
【００１５】上記のように本発明の洗浄槽は、外槽に着
脱自在に装着し、内槽・外槽間隙を十分確保した２槽構
造で、上記間隙に多孔板を設けて整流作用を行わせてい
るので、外槽底面の中央から注入した洗浄液は一様な流
速で内槽上縁から被洗浄物に注ぎ、被洗浄物から遊離し
た汚染粒子などの汚れは洗浄槽内に広く拡散することな
く流下し、短時間に洗浄できるとともに、上記内槽の排
出口に接続手段を介して槽外の排出管と接続するため、
製作が容易になるだけでなく、上記２槽を取り外してそ
れぞれ必要時に洗浄することができ保守管理が容易なた
め、槽底の沈降粒子による洗浄液の汚染を防ぎ効率がよ
い洗浄を行うことができる。
脱自在に装着し、内槽・外槽間隙を十分確保した２槽構
造で、上記間隙に多孔板を設けて整流作用を行わせてい
るので、外槽底面の中央から注入した洗浄液は一様な流
速で内槽上縁から被洗浄物に注ぎ、被洗浄物から遊離し
た汚染粒子などの汚れは洗浄槽内に広く拡散することな
く流下し、短時間に洗浄できるとともに、上記内槽の排
出口に接続手段を介して槽外の排出管と接続するため、
製作が容易になるだけでなく、上記２槽を取り外してそ
れぞれ必要時に洗浄することができ保守管理が容易なた
め、槽底の沈降粒子による洗浄液の汚染を防ぎ効率がよ
い洗浄を行うことができる。
【００１６】
【発明の効果】上記のように本発明による洗浄槽は、内
槽と外槽との２重槽からなる洗浄槽を用い、上記内槽の
外周上部に上記外槽との間隙をほぼ塞ぐように底面と平
行に多孔板を設けるとともに、被洗浄物が洗浄液に十分
浸漬できる内槽内の位置に、上記被洗浄物を載架する多
孔板を支持台として設けた内槽を、該内槽の上縁が上記
外槽の上縁より十分低く、かつ周囲にほぼ等しい間隙を
保って外槽内部に着脱自在に設置できる構成とし、上記
外槽底部中央の注入口から注入し、外槽と内槽の間隙を
上昇して内槽上縁から被洗浄物に注ぐ洗浄液の排出口
を、接続手段を介して槽外の排出管に接続することによ
り、外槽中央より注入された洗浄液が一様に分布して内
槽との十分な間隙を上昇し、多孔板で整流されて内槽上
縁より被洗浄物に注ぎ、汚染微粒子を遊離した汚染洗浄
液を、支持台の多孔板を通し内槽底面中央近くに設けた
排出口により槽外に排出させるため、短時間で良好な洗
浄を行うことができ、かつ、内槽の排出口を接続手段を
介して槽外の排出管に接続するため、上記汚染洗浄液が
外槽内に漏出することなく、上記内槽を外槽から容易に
取り外すことができ、洗浄槽の清浄化や保守管理が簡単
で効率がよい洗浄を常に行うことができる。
槽と外槽との２重槽からなる洗浄槽を用い、上記内槽の
外周上部に上記外槽との間隙をほぼ塞ぐように底面と平
行に多孔板を設けるとともに、被洗浄物が洗浄液に十分
浸漬できる内槽内の位置に、上記被洗浄物を載架する多
孔板を支持台として設けた内槽を、該内槽の上縁が上記
外槽の上縁より十分低く、かつ周囲にほぼ等しい間隙を
保って外槽内部に着脱自在に設置できる構成とし、上記
外槽底部中央の注入口から注入し、外槽と内槽の間隙を
上昇して内槽上縁から被洗浄物に注ぐ洗浄液の排出口
を、接続手段を介して槽外の排出管に接続することによ
り、外槽中央より注入された洗浄液が一様に分布して内
槽との十分な間隙を上昇し、多孔板で整流されて内槽上
縁より被洗浄物に注ぎ、汚染微粒子を遊離した汚染洗浄
液を、支持台の多孔板を通し内槽底面中央近くに設けた
排出口により槽外に排出させるため、短時間で良好な洗
浄を行うことができ、かつ、内槽の排出口を接続手段を
介して槽外の排出管に接続するため、上記汚染洗浄液が
外槽内に漏出することなく、上記内槽を外槽から容易に
取り外すことができ、洗浄槽の清浄化や保守管理が簡単
で効率がよい洗浄を常に行うことができる。
【図１】本発明による洗浄槽の一実施例を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】上記実施例における内槽排出口と排出管の接続
を示す図で、（ａ）はボールジョイントによる方法を示
す図、（ｂ）はＯリングシール継手を用いる方法を示す
図である。
を示す図で、（ａ）はボールジョイントによる方法を示
す図、（ｂ）はＯリングシール継手を用いる方法を示す
図である。
【図３】上記実施例の洗浄液循環ろ過と純水リンスを行
う配管系を示す図で、（ａ）は洗浄液の循環ろ過の場合
を示す図、（ｂ）は純水リンスの場合を示す図である。
う配管系を示す図で、（ａ）は洗浄液の循環ろ過の場合
を示す図、（ｂ）は純水リンスの場合を示す図である。
【図４】従来の洗浄槽の一例を示す図である。
１ 内槽 ２ 外槽 ３ 注入口 ４ 洗浄液 ５ 被洗浄物 ６ 多孔板 ７ 支持台 ８ 排出口 ９ ボールジョイント １０ 排出管 １２ Ｏリング １４ 接続手段
Claims (3)
- 【請求項１】内槽と外槽との２重槽からなる洗浄槽を用
い、上記内槽の外周上部に上記外槽との間隙をほぼ塞ぐ
ように底面と平行に多孔板を設けるとともに、被洗浄物
が洗浄液に十分浸漬できる内槽内の位置に、上記被洗浄
物を載架する多孔板を支持台として設けた内槽を、該内
槽の上縁が上記外槽の上縁より十分低く、かつ周囲にほ
ぼ等しい間隙を保って外槽内部に着脱自在に設置できる
構成とし、上記外槽底部中央の注入口から注入し、外槽
と内槽の間隙を上昇して内槽上縁から被洗浄物に注ぐ洗
浄液の排出口を、接続手段を介して槽外の排出管に接続
した洗浄槽。 - 【請求項２】上記排出口の接続手段は、ボールジョイン
トを介して外槽に設置した排出管に接続することを特徴
とする請求項１記載の洗浄槽。 - 【請求項３】上記排出口の接続手段は、Ｏリングシール
継手を介して外槽外に設けた排出管に接続することを特
徴とする請求項１記載の洗浄槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18558694A JP3386892B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 洗浄槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18558694A JP3386892B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 洗浄槽 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0851093A true JPH0851093A (ja) | 1996-02-20 |
| JP3386892B2 JP3386892B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=16173401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18558694A Expired - Fee Related JP3386892B2 (ja) | 1994-08-08 | 1994-08-08 | 洗浄槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3386892B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001009393A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Takeshi Awatani | 洗浄装置 |
| KR101257482B1 (ko) * | 2011-10-05 | 2013-04-24 | 주식회사 싸이노스 | 반도체 제조공정에 사용하는 샤워헤드의 세정장치 |
| CN109396102A (zh) * | 2017-08-18 | 2019-03-01 | 爱思开矽得荣株式会社 | 晶片清洗设备和使用该设备的清洗方法 |
| CN113416997A (zh) * | 2021-05-25 | 2021-09-21 | 苏州普雷特电子科技有限公司 | 一种便于槽液更换的电镀槽系统 |
| CN117358674A (zh) * | 2023-11-07 | 2024-01-09 | 湖北美辰环保股份有限公司 | 一种磷石膏复合酸洗设备及工艺 |
-
1994
- 1994-08-08 JP JP18558694A patent/JP3386892B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US11152228B2 (en) | 2017-08-18 | 2021-10-19 | Sk Siltron Co., Ltd. | Wafer cleaning apparatus and cleaning method using the same |
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| CN117358674A (zh) * | 2023-11-07 | 2024-01-09 | 湖北美辰环保股份有限公司 | 一种磷石膏复合酸洗设备及工艺 |
| CN117358674B (zh) * | 2023-11-07 | 2024-04-19 | 湖北美辰环保股份有限公司 | 一种磷石膏复合酸洗设备及工艺 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3386892B2 (ja) | 2003-03-17 |
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