JP3074649B1 - 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 - Google Patents
無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法Info
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 67
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 16
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 14
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 10
- -1 Cu-Z n Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 229910017980 Ag—Sn Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910002708 Au–Cu Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910015367 Au—Sb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910016334 Bi—In Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017755 Cu-Sn Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017821 Cu—Ge Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017888 Cu—P Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017932 Cu—Sb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017927 Cu—Sn Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910017910 Sb—Zn Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N silver zinc Chemical compound [Zn].[Ag] BSWGGJHLVUUXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 229910017489 Cu I Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910002528 Cu-Pd Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910018100 Ni-Sn Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910018532 Ni—Sn Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910002677 Pd–Sn Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 23
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015363 Au—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017518 Cu Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017752 Cu-Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017885 Cu—Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017943 Cu—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010027439 Metal poisoning Diseases 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002846 Pt–Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009689 gas atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 208000008127 lead poisoning Diseases 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001174 tin-lead alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/02—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
- B23K35/0222—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
- B23K35/0244—Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/02—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
- B23K35/0222—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
- B23K35/0244—Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
- B23K35/025—Pastes, creams, slurries
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/26—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/30—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 1550 degrees C
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
- H05K3/3485—Applying solder paste, slurry or powder
Abstract
末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法を提供
する。 【解決手段】 金属間化合物を形成し得る2種以上の金
属の組み合わせを含み、金属間化合物を形成する前の未
反応層および非晶質相を含むような無鉛半田粉末を調製
する。このような半田粉末は、機械的粉砕により得られ
る。さらにこの半田粉末にフラックスを混合して無鉛半
田ペーストを調製する。
Description
鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法に関する。よ
り詳しくは、濡れ性がよく、融点が低く抑えられた優れ
た無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製
造方法に関する。
り、半田付けの作業時に半田の溶融により発生する有毒
ガスが作業者に与える影響が懸念されていた。さらに近
年、マイクロエレクトロニクス部品の半田付けが増加し
ており、それに伴って、廃棄されたICチップやプリン
ト配線基板等からの鉛の溶出により地下水が汚染され、
鉛中毒等の環境問題が生じてきた。この為、無鉛半田の
要望が高まっている。
が、いずれも濡れ性が悪い上、融点が、錫と鉛の合金半
田よりも高いなどの短所を持つ為、実用化が困難という
問題がある。
のガスアトマイズによる噴霧法の他に、所定の組成に調
合した原料粉末を、小径のボールと共に不活性ガスで密
封したポットを回転しミリングする方法が提案されてい
る(特開平3ー169500)。この方法は主に、Sn
−Pb系合金に、耐熱性および冷熱耐久性を付与する為
に高融点金属間化合物を添加して半田粉末を製造するの
に用いられ、半田粉末の結晶粒の粗大化を防止し、原料
を溶解する為の加熱源を不要とする点で優れている。
を前提とすれば、低融点の鉛系合金の使用は避けられ
ず、前述の鉛による弊害は免れ得ない。
濡れ性が良く、かつ融点が低い無鉛半田を提供すること
を目的とし、鋭意研究を行った結果、本発明を完成する
に至った。
が低い優れた無鉛半田粉末を提供することにある。
粉末を含む無鉛半田ペーストを提供することにある。
た無鉛半田粉末の製造方法を提供することにある。
は、金属間化合物を形成し得る2種以上の金属の組み合
わせを含み、金属間化合物を形成する前の未反応相およ
び非晶質相を含む金属粉末である。
田粉末に、半田フラックスを混合してなる。
種以上の原料金属粉を小径の金属ボールと共に密閉容器
内に入れ、この密閉容器に物理的な力を加え、金属ボー
ルにより該原料金属粉を微細化して無鉛半田粉末を得
る。
て詳細に説明する。
形成する前の未反応相および非晶質相を含む金属粉末で
あって、金属間化合物を形成し得る2種以上の金属の組
み合わせを含む金属粉末である。
は、2種以上の原料金属粉を小径の金属ボールと共に、
不活性ガスで密封した容器にいれ、この密閉容器に物理
的な力を与え、金属ボールにより原料金属粉を微細化す
る方法が好ましい。
物を形成し得る2種以上の金属の単体の組み合わせが選
択され得る。金属間化合物を形成し得る2種以上の金属
の単体の組み合わせは当業者に公知であり、このような
金属であればいずれの金属でも選択することができる
が、特には、錫(Sn)、銀(Ag)、銅(Cu)、ビ
スマス(Bi)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、
金(Au)、ニッケル(Ni)、アンチモン(Sb)、
パラジウム(Pd)、白金(Pt)、およびゲルマニウ
ム(Ge)からなる群より選択される金属を2種以上組
み合わせることが好ましく、例としては、Cu−Sn、
Ag−Sn、Au−Sn、Au−Cu、Au−Bi、A
u−Zn、Au−In、Au−Sb、Au−Pt、Ni
−Sn、Cu−In、Ni−In、Ag−In、Ag−
Sb、Ag−Pt、Ag−Zn、Bi−In、Ni−B
i、Cu−Zn、Cu−Sb、Cu−Ge、Cu−P
d、Cu−Pt、Ge−Ni、In−Pd、In−S
b、Ni−Zn、Ni−Sb、Ni−Pt、Pd−S
n、Pt−Sn、Pt−Sb、またはSb−Znの組み
合わせが挙げられる。さらにこれらの組み合わせに別の
金属を組み合わせて、3元系以上の組み合わせとするこ
とも好ましい。
n)、銀(Ag)、銅(Cu)、ビスマス(Bi)、亜
鉛(Zn)、インジウム(In)、金(Au)、ニッケ
ル(Ni)、アンチモン(Sb)、パラジウム(P
d)、白金(Pt)、およびゲルマニウム(Ge)から
なる群より選択される少なくとも1種またはそれ以上の
金属原子を含む合金粉末を用いることもできる。このと
き、合金粉末は、上記のいずれかの金属とその他の金属
を組み合わせて製造されるか、あるいは上記いずれかの
金属の2種以上を組み合わせて製造される。この合金粉
末と金属間化合物を形成し得る金属単体あるいは第二の
合金粉末とを組み合わせて原料金属粉とする。合金粉末
と組み合わされる金属単体は、錫(Sn)、銀(A
g)、銅(Cu)、ビスマス(Bi)、亜鉛(Zn)、
インジウム(In)、金(Au)、ニッケル(Ni)、
アンチモン(Sb)、パラジウム(Pd)、白金(P
t)、およびゲルマニウム(Ge)からなる群より選択
されることが好ましい。また第二の合金粉末も錫(S
n)、銀(Ag)、銅(Cu)、ビスマス(Bi)、亜
鉛(Zn)、インジウム(In)、金(Au)、ニッケ
ル(Ni)、アンチモン(Sb)、パラジウム(P
d)、白金(Pt)、およびゲルマニウム(Ge)から
なる群より選択される少なくとも1種またはそれ以上の
金属原子を含むことが好ましい。
が、直径100μmから200μmの範囲内であること
が好ましい。
料およびその粒径は特に限定されないが、真鍮製で粒径
5mm〜20mmのボールが好ましく用いられる。
する為に容器内に不活性ガスが充填される。充填され得
る不活性ガスは特に限定されないが、アルゴンガス、窒
素ガスなどが好ましく用いられ得る。
の他にさらに粉末の容器壁面への付着を防止するための
液体を加えることもできる。このような液体としては、
例えば、メチルアルコールが挙げられる。
拌、または振動させ、または容器内の攪拌棒を回転また
は振動させ、容器内部の金属ボールを移動せしめて、適
度な時間ミリングを行なう。回転数およびミリングの時
間は特に限定されず金属の種類により適宜選択される。
具体的には、ミリング後の金属粉が、微細化し、金属間
化合物を形成する前の未反応相を含み、さらに非結晶
化、すなわち組成的過冷却状態におかれるような条件を
選択する。
末の直径が10nm〜100μmの範囲であることを指
す。このように微細化することにより、得られる半田粉
末の融点が降下する。
むか否かは、例えば示差走査熱量計(DSC)で測定す
ることができる。すなわち、得られた金属粉の昇温ある
いは冷却過程における熱量変化をDSCにより測定する
ことで融点を求めることができる。金属間化合物の融点
は、当業者に公知である為、得られた金属粉の融点を、
金属間化合物の融点と比較することで、未反応相の有無
が確認できる。
粉末回折X線分析により測定することができる。
らに添加物として別の金属粉を加えて融点を低下させる
こともできるが、本発明の無鉛半田粉末は、特に添加物
を加えない場合でも、融点が低く、半田としての優れた
性質が備わっている。
田フラックスを加えて、本発明の無鉛半田ペーストを得
る。半田フラックスとしては、一般的なロジン系フラッ
クスを使用することができるがこれに限定されない。
鉛半田粉末に由来する未反応相を含む為、溶融法により
作成した同一成分の半田粉末と比較して粉末固有の融点
が低い上、実際の半田付けに利用する際、融点以下の温
度でも金属間化合物の生成反応が進行し、生じる生成熱
により半田が溶融し、さらなる融点降下を期待できる。
粉末および無鉛半田ペーストの用途は特に限定されな
い。好ましくは、各種マイクロエレクトロニクス部品の
半田付けに利用される。
無鉛半田ペーストの調製の態様につき説明したが、本発
明は、これらの実施の態様にのみ限定されるものではな
い。本発明は、必要に応じて、その趣旨を逸脱しない範
囲で当業者の知識に基づき、種々なる改良、変更、およ
び修正を加えた態様で実施し得る。
が、本発明は実施例の内容に限定されない。
置である。容器10内に金属ボール2と所定の組成の各
原料粉末4を不活性ガスで密封している。容器10の中
央部には、モーターで駆動する攪拌軸6が設置される。
本発明の無鉛半田粉末の製造に際しては、攪拌軸6の回
転と共に、金属ボール2が容器10内をランダムに移動
する。その結果、原料粉末4が微細化される。粉末の大
きさは、攪拌軸6の回転スピード、回転時間、金属ボー
ルの大きさ、および金属ボールの数などのパラメータを
変えることにより調整できる。
に、直径10mmの真鍮製ボールを入れた。原料粉末と
して、SnとCuを単体で入れ、さらに10%のメチル
アルコールを入れ密封した。
なった。ミリングの途中でサンプリングを行いながら、
粉末解析X線解析で、組成的過冷却状態を確認した。
は、有害な鉛を含まない為、半田付け作業の際の安全性
に優れ、半田を含む部品の廃棄に際しても、環境に与え
る悪影響を抑えられる。
金属間化合物を形成し得る2種以上の金属を、未反応相
および非晶質の状態で含む為、金属間化合物より融点が
低い。このことにより、半田として望ましい特性が顕現
する。
鉛半田ペーストを使用する際、金属間化合物を生成する
反応が進行し、融点以下の温度においても半田が溶融す
る。この為、比較的低温度で半田付け作業を行なうこと
ができ、半田を使用する、例えばプリント配線基板など
の部品を損傷する可能性が少なくなる。この為、部品の
長寿命化が達成できる。
表す斜視図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 金属間化合物を形成し得る2種以上の金
属の組み合わせを含む金属粉末からなり、金属間化合物
を形成する前の未反応相および非晶質相を含む、無鉛半
田粉末。 - 【請求項2】 前記金属間化合物を形成し得る2種以上
の金属が、錫(Sn)、銀(Ag)、銅(Cu)、ビス
マス(Bi)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、金
(Au)、ニッケル(Ni)、アンチモン(Sb)、パ
ラジウム(Pd)、白金(Pt)、およびゲルマニウム
(Ge)からなる群より選択される金属である請求項1
に記載の無鉛半田粉末。 - 【請求項3】 前記金属間化合物を形成し得る2種以上
の金属の組み合わせが、Cu−Sn、Ag−Sn、Au
−Sn、Au−Cu、Au−Bi、Au−Zn、Au−
In、Au−Sb、Au−Pt、Ni−Sn、Cu−I
n、Ni−In、Ag−In、Ag−Sb、Ag−P
t、Ag−Zn、Bi−In、Ni−Bi、Cu−Z
n、Cu−Sb、Cu−Ge、Cu−Pd、Cu−P
t、Ge−Ni、In−Pd、In−Sb、Ni−Z
n、Ni−Sb、Ni−Pt、Pd−Sn、Pt−S
n、Pt−Sb、およびSb−Znからなる群より選択
される金属の組み合わせまたは該組み合わせにさらに1
種以上の金属を加えて得られる請求項1または2に記載
の無鉛半田粉末。 - 【請求項4】 前記無鉛半田粉末の粒径が10nm〜1
00μmの範囲である、請求項1から3までのいずれか
に記載の無鉛半田粉末。 - 【請求項5】 請求項1から4までのいずれかに記載の
無鉛半田粉末に、半田フラックスを混合してなる、無鉛
半田ペースト。 - 【請求項6】 金属間化合物を形成し得る2種以上の原
料金属粉を小径の金属ボールと共に密閉容器内に入れる
工程と、該密閉容器内で、金属ボールを移動せしめて、
該金属ボールにより該原料金属粉を微細化し、未反応相
および非晶質相を含む金属粉末を得る工程を含む無鉛半
田粉末の製造方法。 - 【請求項7】 前記金属間化合物を形成し得る2種以上
の原料金属粉が、それぞれ、錫(Sn)、銀(Ag)、
銅(Cu)、ビスマス(Bi)、亜鉛(Zn)、インジ
ウム(In)、金(Au)、ニッケル(Ni)、アンチ
モン(Sb)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、お
よびゲルマニウム(Ge)からなる群より選択される金
属単体である、請求項6に記載の無鉛半田粉末の製造方
法。 - 【請求項8】 前記金属間化合物を形成し得る2種以上
の原料金属粉が、錫(Sn)、銀(Ag)、銅(C
u)、ビスマス(Bi)、亜鉛(Zn)、インジウム
(In)、金(Au)、ニッケル(Ni)、アンチモン
(Sb)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、および
ゲルマニウム(Ge)からなる群より選択される少なく
とも1種以上の金属を含有する合金粉および該合金粉と
金属間化合物を形成し得る金属粉である、請求項7に記
載の無鉛半田粉末の製造方法。 - 【請求項9】 前記金属間化合物を形成し得る2種以
上の原料金属粉が、Cu−Sn、Ag−Sn、Au−S
n、Au−Cu、Au−Bi、Au−Zn、Au−I
n、Au−Sb、Au−Pt、Ni−Sn、Cu−I
n、Ni−In、Ag−In、Ag−Sb、Ag−P
t、Ag−Zn、Bi−In、Ni−Bi、Cu−Z
n、Cu−Sb、Cu−Ge、Cu−Pd、Cu−P
t、Ge−Ni、In−Pd、In−Sb、Ni−Z
n、Ni−Sb、Ni−Pt、Pd−Sn、Pt−S
n、Pt−Sb、およびSb−Znからなる群より選択
される金属の組み合わせを含む請求項6から8までのい
ずれかに記載の無鉛半田粉末の製造方法。 - 【請求項10】 前記無鉛半田粉末の粒径が、10nm
〜100μmの範囲である、請求項6から9までのいず
れかに記載の無鉛半田粉末の製造方法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11044016A JP3074649B1 (ja) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 |
IDP991195D ID24795A (id) | 1999-02-23 | 1999-12-27 | Serbuk pateri bebas timbal, pasta pateri bebas timbal dan metode pembuatannya |
TW089100418A TW457161B (en) | 1999-02-23 | 2000-01-12 | Lead free solder powder, lead free solder paste, and a method for preparing the same |
CNB001016539A CN1161207C (zh) | 1999-02-23 | 2000-01-21 | 无铅焊料粉末、无铅焊料膏及其制备方法 |
KR1020000006959A KR100353586B1 (ko) | 1999-02-23 | 2000-02-15 | 무연 땜납 분말, 무연 땜납 페이스트 및 이들의 제조 방법 |
MYPI20000516 MY133211A (en) | 1999-02-23 | 2000-02-15 | Lead free solder powder, lead free solder paste, and a method for preparing the same |
US09/511,478 US6569262B1 (en) | 1999-02-23 | 2000-02-23 | Lead-free solder powder material, lead-free solder paste and a method for preparing same |
HK01101360A HK1030385A1 (en) | 1999-02-23 | 2001-02-23 | Lead free solder powder, lead free solder paste, and a method for preparing the same. |
US10/400,776 US7172643B2 (en) | 1999-02-23 | 2003-03-27 | Lead-free solder powder material, lead-free solder paste and a method for preparing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11044016A JP3074649B1 (ja) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3074649B1 true JP3074649B1 (ja) | 2000-08-07 |
JP2000246483A JP2000246483A (ja) | 2000-09-12 |
Family
ID=12679896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11044016A Expired - Fee Related JP3074649B1 (ja) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6569262B1 (ja) |
JP (1) | JP3074649B1 (ja) |
KR (1) | KR100353586B1 (ja) |
CN (1) | CN1161207C (ja) |
HK (1) | HK1030385A1 (ja) |
ID (1) | ID24795A (ja) |
MY (1) | MY133211A (ja) |
TW (1) | TW457161B (ja) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3074649B1 (ja) * | 1999-02-23 | 2000-08-07 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ−ション | 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 |
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JP3169500B2 (ja) | 1994-01-14 | 2001-05-28 | 新日本製鐵株式会社 | 低鉄損一方向性電磁鋼板 |
TW301843B (en) | 1994-11-15 | 1997-04-01 | Ibm | Electrically conductive paste and composite and their use as an electrically conductive connector |
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US5897336A (en) | 1996-08-05 | 1999-04-27 | International Business Machines Corporation | Direct chip attach for low alpha emission interconnect system |
JP3074649B1 (ja) * | 1999-02-23 | 2000-08-07 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ−ション | 無鉛半田粉末、無鉛半田ペースト、およびそれらの製造方法 |
-
1999
- 1999-02-23 JP JP11044016A patent/JP3074649B1/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-27 ID IDP991195D patent/ID24795A/id unknown
-
2000
- 2000-01-12 TW TW089100418A patent/TW457161B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-01-21 CN CNB001016539A patent/CN1161207C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-15 MY MYPI20000516 patent/MY133211A/en unknown
- 2000-02-15 KR KR1020000006959A patent/KR100353586B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-02-23 US US09/511,478 patent/US6569262B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-02-23 HK HK01101360A patent/HK1030385A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-03-27 US US10/400,776 patent/US7172643B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1030385A1 (en) | 2001-05-04 |
KR100353586B1 (ko) | 2002-09-27 |
CN1161207C (zh) | 2004-08-11 |
CN1264635A (zh) | 2000-08-30 |
US6569262B1 (en) | 2003-05-27 |
JP2000246483A (ja) | 2000-09-12 |
TW457161B (en) | 2001-10-01 |
ID24795A (id) | 2000-08-24 |
KR20000058041A (ko) | 2000-09-25 |
MY133211A (en) | 2007-10-31 |
US20030168130A1 (en) | 2003-09-11 |
US7172643B2 (en) | 2007-02-06 |
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