JP3040732B2 - ハーフトーンステンシルならびにその製造方法および製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、請求項１に記載の
特徴を有するハーフトーンステンシルの製造方法、請求
項１５に記載の特徴を有し前記製造方法を実施する装
置、および請求項２２に記載の特徴を有し前記製造方法
に従って製造されるハーフトーンステンシルに関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、生成する必要のあるパターン
によって、単位面積当たり異なる量のインキを塗布する
（ハーフトーン印刷）なっ染用のステンシルは公知であ
る。

【０００３】しかし、ハーフトーン印刷においては、ス
テンシル製造に使用される彫刻装置および印刷機の両者
に関する操作パラメータの多くの設定は、彫刻工または
なっ染工の判断および熟練に任され、その結果、明確に
ハーフトーン印刷の領域において、目標とするハーフト
ーン印刷の濃淡プロファイルからの意図的でないひどい
偏りが生成される。このように、たとえば、ハーフトー
ンステンシルが公称の開口部寸法で正しく彫刻されなか
った結果として、あるいは印刷機または印刷設備のひと
つの印刷機が意図的でなく誤って設定された結果とし
て、インキの一部が誤った量で塗布される。特に、多色
印刷の場合は、これによって、直ちに色再現の感知でき
る乱れを生じる結果となり、このことは、これらの色は
個々の成分の正確な定量比を基礎として正しく再現され
るものであり、この場合は色の観点からみると完全に不
正確に再現されるようにならざるを得ないことを意味す
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、色について
一層正確すなわち一層真実であるハーフトーン印刷を実
施できるハーフトーンステンシルを提供すること、また
は特に、その製造方法を特定することを目的とする。さ
らに、このようなハーフトーンステンシルの製造に適切
である装置を提供することも、本発明の目的である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明による方法は、そ
れぞれが異なる程度のインク保持率を有しステンシルパ
ターン領域の外側に配置される複数の均質の基準孔構造
が基本ステンシル要素に彫刻されることを特徴とする。

【０００６】また、基準孔構造は、ハーフトーンマーク
またはエリアマークと呼ぶことができる。これらの基準
孔構造すなわちエリアマークは、互いに直接に隣接して
位置することができるが、互いに間隔を置いてまたは引
き離して配置することもできる。

【０００７】本発明によって、ハーフトーンステンシル
の端部に、既に存在する印刷標識（ピコ（ｐｉｃｏ））
に加えて前記基準孔構造が生成され、ステンシルが印刷
に使用されるときに、この基準孔構造によって、特定の
所定色濃淡が指定され実現される。これらの基準孔構造
は、小面積の、たとえば正方形、長方形または円形を含
み、これらは異なるが所定のインク保持率を有するよう
に彫刻される。また、基準孔構造が公称の正しいインク
保持率を有し、またこのようなハーフトーンステンシル
を使用し後で印刷するときの印刷機のすべてのパラメー
タが正確に設定されれば、明確でありしたがって検査可
能である色濃淡値の系列が得られ、色濃淡値の範囲は０
％から１００％までである。したがって、基準孔構造を
使用して得られる印刷画像の濃淡値を検査することによ
って、また変更することが適切なときは、検査の結果の
関数としての印刷パラメータを変更することによって、
ステンシルパターン領域においても、改良されたハーフ
トーン印刷を実現することが可能である。それは、ステ
ンシルパターン領域に存在するステンシルパターン孔構
造は基準孔構造と関係があるためである（二つが同一で
あることは必要でない）。

【０００８】本発明の有利な開発によれば、各基準孔構
造のインク保持率はそれぞれの所望のインク保持率と比
較され、その結果によって、それぞれの偏りの関数とし
て、前記偏りが減少するような方法で、均質の基準孔構
造が新たに彫刻され、この順序の段階が少なくとも一度
実施される。

【０００９】この基準の利点は、実際の印刷以前であっ
ても、「インク保持率」パラメータを所望の値（または
少なくともほぼその値）とすることが可能であるので、
後に、実際の印刷中に、それぞれの所定のインク保持率
（所望インク保持率）に関する所望の色濃淡を実現する
ために、ある状況下においては恐らく全く不可能である
ほど、残りの印刷パラメータを大幅に変更する必要はも
はやないことが認められる。本明細書においては、所望
のインク保持率は、ハーフトーンステンシルの公称の正
しい開口比として理解することとする。したがって、実
際のインク保持率は、ハーフトーンステンシルについて
実際に実現される開口寸法比に関連する。 さらに、本
発明の有利な開発によれば、ステンシルパターン領域に
あるステンシルパターン孔構造は、前記偏りの関数とし
て彫刻される。したがって、実際のインク保持率が所望
のインク保持率から偏っている場合は、改良されたステ
ンシルパターン孔構造を実現するために、それぞれの基
準孔構造の再彫刻が実施されるだけでなく、彫刻パラメ
ータの変更さえも実施される。既に前述したように、ス
テンシルパターン孔構造の様々な領域におけるインク保
持率は、必ずしも基準孔構造のインク保持率と同一であ
る必要はない。むしろ、前者は後者と関連するので、基
準孔構造のインク保持率が対応する所望インク保持率か
らの偏りの結果として変更されるときは、前記の関係は
同様に適切に変更されることになる。

【００１０】本発明の改良によれば、それぞれの古い孔
基準構造は、そのインク保持率が所望のインク保持率と
比較された後に除去される。この場合、古い基準孔構造
の除去は、新しく彫刻する前に実施することができる。
除去は、たとえば古い基準孔構造を基本ステンシル要素
から簡単に切り離すことによって実施することもでき
る。しかし、古い基準孔構造にワニスを塗り、それぞれ
の場合に対応する領域に新しい基準孔構造を彫刻するこ
とは、一層有利である。

【００１１】さらに、本発明の非常に有利な改良によれ
ば、それぞれの基準孔構造のインク保持率は、自動的に
測定される。それぞれの基準孔構造について、インク保
持率と所望のインク保持率との比較を視覚によって、す
なわち彫刻工によって実施することは、原則として可能
である。しかし、自動モニタリングはさらに好都合であ
り、それは自動モニタリングは一層速く、一層正確に実
施することができるためである。さらに、視覚による比
較のためには、基準孔構造が比較的費用がかかるものと
なることが不可避であり、すなわち、既に最初に例とし
て述べた長方形、正方形、または円形が比較的大きくな
る。したがって、それぞれの基準孔構造は、非常に多く
のステンシル開口部を含む。しかし、インク保持率が自
動的に測定されるときは、これは比較的少ないステンシ
ル開口部すなわち比較的小さい基準孔構造を使用中に早
くも実施可能であり、これによって時間および基本ステ
ンシル要素の場所が節減される。

【００１２】たとえば、基本ステンシル要素として、そ
の上に被覆層が塗布されるスクリーンを使用し、基準孔
構造を形成するために、被覆層の少なくとも一部領域に
無処理スクリーン開口部を残すことは可能である。

【００１３】被覆層は、スクリーンを被覆するラッカー
層である場合があり、スクリーン開口部を露出させるた
めに、ラッカー層は一部領域をレーザビームを使用し焼
いて除去される。また、たとえば、レーザビームを用い
て一点ごとに照射して硬化させるために、ラッカー層は
重合特性を有する場合がある。後続の現像工程におい
て、スクリーン開口部を露出させるために、ラッカー層
の非露光領域が次に除去される。しかし、被覆層が重合
特性を有するときは、被覆層を不透明な液体を使用し一
点ごとに被覆することもできる。次に、大領域照射およ
び非被覆領域の硬化を実施し、その後、現像工程を実施
し非硬化層領域を除去する。代案としては、ノズルを用
いて液体被覆材料をスクリーン上に噴霧し、ラッカー層
を生成させることもできる。この場合は、ノズルのスイ
ッチを切ることによって、何時でもステンシル開口部が
生成される。

【００１４】さらに、基本ステンシル要素として、密閉
表面を有し、密閉表面上に被覆層が塗布される物体を使
用し、基準孔構造を形成するために、被覆層は一部領域
に無処理表面を残すことは可能である。

【００１５】この場合も、被覆層は、レーザビームによ
る焼却除去、一点ごとの照射およびそれに続く現像（重
合可能である場合）、またはステンシル要素表面へのノ
ズルによる液体の噴霧によって、生成することができ
る。同様に、この場合は、被覆層は、最初に一点ごとに
不透明液体で被覆することもできる。その後、液体によ
って被覆されていない層領域を硬化するために、もう一
度大領域に対して照射を実施することができる。次に、
非硬化層領域を溶解し除去するために、現像工程を続い
て実施する。

【００１６】適切な複数の基準孔構造を有する被覆層を
調製後、それぞれの基準孔構造のインク保持率を決定す
るために、次に、これらの測定が実施される。最後に、
インク保持率が所望のインク保持率と一致する場合、ま
たは所望のインク保持率に十分に近い場合は、スクリー
ンを得るために金属材料が被覆層に塗布され、その後、
金属材料は基本ステンシル要素から除去される。たとえ
ば、この層がニッケルからなるときは、スクリーンを形
成するために、ニッケルが電気メッキによって被覆層の
表面に塗布される。それゆえ、完成されたスクリーンは
複数の基準孔構造だけでなく、完成ステンシルパターン
を含む。

【００１７】最初から存在するスクリーンの場合は、基
準孔構造のインク保持率は、スクリーン開口部を通過
し、ステンシル表面に本質上垂直に到達し、後者を一方
向または他の方向に通過することができる光束を使用し
て測定される。光束は集束させられ、焦点はステンシル
表面に存在するようになる。

【００１８】代案としては、この場合は、基準孔構造の
インク保持率は、スクリーン開口部を通過するガス流を
使用し測定することもできる。

【００１９】密閉表面を有する基本ステンシル要素の場
合は、基本ステンシル表面に配置されるラッカー層の基
準孔構造のインク保持率は、自由表面において反射され
る光束を使用し測定される。基準孔構造に属する開口部
の寸法によって、反射強度の大きさが変わり、反射強度
の大きさはこれらの開口部の寸法の尺度である。しか
し、ここで、スクリーンのスクリーン開口部は後で備え
られ、それは測定中は被覆層の材料がまだ存在する所に
位置するようになることを考慮する必要がある。このこ
とは、インク保持率の測定の間中、考慮する必要があ
る。

【００２０】インク保持率の測定後、インク保持率は所
望のインク保持率から偏っているので、インク保持率を
所望のインク保持率に等しくするために、生成変量、好
適にはレーザビームのパルスデューティ比または液体を
噴霧するノズルのオン／オフ切換サイクルによって、イ
ンク保持率を変化させることが決定される。

【００２１】本発明の実施においては、基本ステンシル
要素は、中空シリンダとして構成することができるの
で、ハーフトーン輪転印刷ステンシルも本発明による工
程を使用して製造することができる。

【００２２】本発明によるハーフトーンステンシル製造
装置は、中空シリンダを回転可能に取り付けるためのベ
アリング装置、中空シリンダの外側表面を機械加工する
ための装置、中空シリンダ軸と平行に配置することが可
能であり機械加工装置の少なくとも一部を支持する可動
台部、および機械加工装置を制御しまた中空シリンダが
回転されるときに可動台部を転置するための制御装置を
備える。この装置は、所定のステンシル領域に配置され
る基準孔構造のインク保持率を測定するための測定装置
を有することを特徴とする。

【００２３】この場合は、基準孔構造は、中空シリンダ
の一端だけに配置されることが好適であるので、測定装
置の位置は適切に選択される。したがって、測定装置
は、たとえばベアリング装置に固定することができる。

【００２４】特に、ほぼ中央に位置するステンシルパタ
ーン領域を有するハーフトーンステンシルは、ステンシ
ルパターンの外側に、それぞれ異なるインク保持率を有
する複数の均質の基準孔構造を有することによって特徴
付けられる。この場合は、輪転印刷ステンシルを得るた
めに、ハーフトーンステンシルは中空シリンダとして設
計することができる。基準孔構造は、互いに直接に隣接
して配置すること、または互いに間隔を置いて配置する
ことが可能である。

【００２５】基準孔構造という述語は、均質または不均
質に開口される複数のスクリーン開口部、またはスクリ
ーン開口部を形成するために使用される均質または同質
の複数の構造が存在する領域として理解すべきであるこ
とを、再度、指摘する必要がある。スクリーン開口部の
場合は、異なるインク保持率は、これらのスクリーン開
口部が被覆層によって比較的大きい程度または比較的少
ない程度に被覆されることによって実現される。スクリ
ーン開口部を形成するための前述の構造の場合は、後で
形成される予定のスクリーンの異なるインク保持率は、
比較的広いまたは比較的狭い幅で構成される構造によっ
て実現される。

【００２６】

【発明の実施の形態】図１に、ハーフトーン印刷のため
に、本発明によって製造される中空シリンダ輪転印刷ス
テンシル１を示す。このステンシルは、その中央部すな
わちステンシル領域２に、ステンシルパターン３を形成
するための彫刻パターン孔構造すなわちステンシルパタ
ーン孔構造を備える。ステンシルパターン３は、異なる
領域において、異なるインク保持率特性を有する。図示
の場合には、ハーフトーンステンシル１は中空シリンダ
スクリーンを備え、中空シリンダスクリーン上には被覆
層が配置され、被覆層には、シリンダ状支持スクリーン
にスクリーン開口部を露出させるために、少なくとも一
部にステンシルパターン孔構造が彫刻されている。

【００２７】ステンシルパターン領域２の外側に、たと
えば、ハーフトーンステンシル１の端縁にエリアマーク
４があり、エリアマーク４はそれぞれ均質の基準孔構造
を有するが、基準孔構造はインク保持率の観点では異な
る。図１には、４個のエリアマーク４が示してあり、エ
リアマーク４は、それぞれ１０、５０、７５、および１
００％のインク保持率を有し、互いに分離して配置され
る。この場合は、インク保持性は、被覆層の下に配置さ
れるシリンダスクリーンの露出程度だけでなく、後でス
テンシル開口部を通過するインキの種類および粘度、な
らびに液体圧力などによって変わる。さらに、エリアマ
ーク４の領域のインク保持性は、ステンシルパターン３
のそれぞれの領域のインク保持性と同じである必要はな
い。

【００２８】その上、さらに印刷標識５（ピコ）が備え
られ、印刷標識５は円形環によってここに具体化され
る。印刷標識５は、輪転印刷機において複数のハーフト
ーンステンシル相互間を調整を容易にすることを目的と
する。

【００２９】視覚による彫刻の評価のために、エリアマ
ーク４すなわち本明細書に示す均質の基準孔構造に対す
る比較標準を保持することが可能であり、前記比較標準
は同様にラッカー被覆されたスクリーンの彫刻ピース、
たとえばニッケルスクリーンピースよりなる。このよう
な視覚による比較の場合は、当然、彫刻システムを停止
することが必要である。しかし、それぞれの基準孔構造
すなわちエリアマーク４のインク保持率の測定が自動的
に実施される場合は、彫刻システムの運転中に比較を実
施することが可能であり、換言すれば、それぞれのエリ
アマーク４に関するインク保持率と所望のインク保持率
との比較は彫刻システムの運転中に実施することが可能
である。

【００３０】図２に、本発明によって製造されたステン
シル１が使用される輪転印刷機６を示す。このような印
刷機６においては、ステンシル１はギヤーホイール７お
よび整列配置された送りギヤ８によって駆動されるの
で、前記ステンシルは、ステンシル１の下に案内され印
刷機６を通過する材料ウエブ９と同期して作動する。ギ
ヤーホイール７は、ステンシル１の端部に接着されるス
テンシルヘッドに固定される。材料ウエブ９は、非常に
容易に剥がすことのできる接着剤を使用し下部ブランケ
ット１０の上に接着され、印刷中は下部ブランケット１
０によってしっかりと保持される。下部ブランケット１
０は、非常に幅の広いゴム構造搬送ウエブであり、２個
の転向ロール１１によって駆動され転向ロール１１の回
りに下部ブランケット１０が巻き付く。この配置によっ
て、前述のステンシル１と印刷対象である材料ウエブ９
との同時作動が実現される。各ステンシル１のエリアマ
ーク４は、パターンと共に材料ウエブ９に印刷され、ウ
エブにエリアマーク画像１２を生成する。ビデオカメラ
１３が、印刷機６の端部で、印刷機の側壁１４に取り付
けられ、エリアマーク画像１２の色濃淡を連続的に測定
する。陰影の偏りまたは色濃淡の偏りが確認されると、
音響信号または視覚信号が発信され、あるいはサーボ機
構のような装置があるときは再調整する必要のあるイン
キ装置がサーボ機構によって作動される。

【００３１】図３に、レーザ彫刻システムを示す。彫刻
対象のステンシル１は締め付け円錐１５および１６間の
中央に置かれ堅く保持される。締め付け円錐１５は、回
転できるように駆動されギヤーボックス１７に取り付け
られ、ギヤーボックス１７には駆動モータも配置され
る。ステンシル１は、その左側端部が前記締め付け円錐
１５に押し付けられる。締め付け円錐１６は、心押し台
１８に回転可能に取り付けられ、この例示した実施形態
においては駆動されない。心押し台１８は、案内１９上
で、二つの締め付け円錐１５と１６との間で結合軸２０
の方向に調整できるので、いかなる所望の長さのステン
シル１でも取り付けることができる。エンコーダ２１
は、ねじれで堅固になる方式で締め付け円錐１５に連結
され、彫刻システムコンピュータ２２のためのパルスま
たは回転位置信号を回線２１ａ経由で提供する。彫刻の
ために、レーザ２４から放射されるレーザビーム２３
が、反射鏡２５および光学システム２６経由でステンシ
ル１の表面に焦点が合わせられる。レーザビーム２３は
パターン３の要求に従って回線２２ａ経由で繰り返さ
れ、すなわち、スイッチがオンまたはオフされ、それに
対応してラッカー層１ａがシリンダスクリーン１ｂから
除去または硬化される。彫刻中は、ステンシル１は約５
００ないし１２００回転／分で回転し、同時に、光学シ
ステム２６を支持する可動台部２８がアドバンススピン
ドル（図示してない）によって結合軸２０の方向に進め
られる。下層台部の移動はコンピュータ２２の制御に基
づいて回線２２ｂ経由で実施される。

【００３２】彫刻作業の開始時に、エリアマーク４は最
初に彫刻される。これらのエリアマーク４は生成直後
に、まだ実際のパターン３の彫刻が開始される前に検査
を受ける。測定すなわち検査装置２７は、この実施形態
の場合は心押し台１８に固定される。しかし、この装置
２７をギヤーボックス１７に取り付けステンシル１の反
対側にエリアマーク４を備えることが全く適切である場
合がある。検査装置２７は、以下の図によって説明する
構造のひとつを有することができる。検査装置２７の出
力信号は、回線２２ｃ経由でコンピュータ２２に送られ
る。

【００３３】図４に、彫刻されたエリアマーク４のイン
ク保持率を測定するために光学測定法を使用する検査装
置２７を示す。心押し台１８はボールベアリング２９に
取り付けられる締め付け円錐１６だけでなく、仮想イメ
ージ３１を生成するための投射装置３０も備える。投射
装置３０は、ほぼステンシル１のカバーの部分に配置さ
れる。管３３によって、管３３の右端部から始まるラン
プハウジング３２が支持される。この管３３は、心押し
台１８の適合する円錐状受け孔中にある円錐状締め付け
スリーブ３４によって保持される。圧力板３５によっ
て、締め付けスリーブ３４がこの受け孔に圧入される。
ランプハウジング３２内に投射ランプ３６が備えられ、
投射ランプ３６は取付台３７によって保持される。中空
鏡３８を使用して、投射ランプ３６からの光得率が増加
させられる。放射される光の役に立たない量の一部は、
中空鏡３８によって反射されコンデンサ３９に戻され
る。金属ダイアフラム４０は、円形または正方形の形状
のダイアフラム開口部を備える。このダイアフラム４０
は、コンデンサ３９によってできるだけ一様に照射され
る。ダイアフラム開口部は、光学システム４１（色消し
レンズ）によって、反射鏡４２を経由して仮想イメージ
３１としてステンシル１の被覆に投射される。この仮想
イメージ３１のうち、投射を受けたステンシル１の点に
該当するこれらの点だけを外部から知覚することができ
る。心押し台１８上のホルダ４３によって半導体カメラ
４４が支持され、半導体カメラ４４は、さらに光学シス
テム４５経由で、感光性半導体（光ダイオード、フォト
トランジスタ、）４６上に仮想イメージ３１の可視部の
像を造る。この半導体４６の出力信号は、光の入射によ
って誘発され、ＩＣ前置増幅器４７によって増幅され、
この方法によって測定された彫刻のインク保持性の大き
さとして使用される。

【００３４】さらに、図５に、光学基準に基づいて作動
し、彫刻品質を測定するために、エリアマーク４の領域
から反射される放射を使用する検査装置２７′を示す。
この装置２７′は、密閉（すなわち、スクリーン状でな
い）中空シリンダ１ｄ上の被覆層１ｃに、彫刻を実施す
ることを意図する場合に使用される。ランプ４９の照射
部分は、ランプハウジング３２の光学システム４８経由
でエリアマーク４の表面に像を映される。このランプハ
ウジング３２は、大体は図４に示すものと同じである
が、本来、幾分さらに複雑に構成されることもある。い
ずれの場合においても、エリアマーク４の照射は、エリ
アマーク４に含まれる領域の可能な限り全体が可能な限
り一様に照射されるように実施される。エリアマーク４
によって反射される光、さらに正確にいえば、その光の
強度が半導体カメラ４４によって測定され、エリアマー
ク４のインク保持率の測定に使用される。エリアマーク
４の画像は、光学システム４５によって感光性半導体４
６に投射され、その出力信号がＩＣ前置増幅器４７によ
って増幅され評価装置２２（図示してない）に送られ
る。

【００３５】図６に、エリアマーク４の彫刻品質すなわ
ちインク保持率を測定するための装置２７″を示す。こ
の装置は流体技術を使用して作動し、測定ノズルとして
設計されている。この実施形態においては、ステンシル
１の内部は幾分昇圧された空気圧力であり、ほぼ０．１
ないし０．３バール程度加圧されている。この圧力は、
締め付け円錐１６を支持する中空軸５５を通じて圧縮空
気を供給することによって生成される。この圧縮空気の
供給源は遠心送風機（図示してない）であり、多段遠心
送風機でもよい。比較的大きいパターン領域が露出され
ない限り圧力を維持することだけはできるが、エリアマ
ーク４がステンシル１の唯一の開口領域である限りこの
圧縮空気は低い動力消費で供給することができる。しか
し、これらのエリアマーク４は、何としても彫刻作業の
開始時に実施することが必要であり、それは、実際のパ
ターン彫刻の開始前に、彫刻機のパラメータの何らかの
補正が必要とされるときは、これらのエリアマーク４の
測定の結果を利用することが必要であるためである。し
たがって、前述の制約は全く障害とならない。エリアマ
ーク４の露出領域からの空気流出は、空気作動検査装置
２７″の導口５０ａによって捕集される。ステンシル１
の外側被覆と導口５０ａとの間隔は、好適には導口の直
径の１／４未満である。導口５０ａによって捕集される
空気は、次にテーパ５１を通り流れ導管５０に流入す
る。テーパにおいては、流れ導管５０がこの部分におい
て外部に対する開口部を有しないときは、流速が増加し
静圧が低下することは公知である。このテーパには、第
一温度依存性レジスタ５２（ＮＴＣレジスタ）が配置さ
れ、このレジスタは可能な限り導管の中央に配置され、
取付により漏洩が全く発生しないように、ここに取り付
けられる。このレジスタ５２は、高流速によって、ここ
で明確に冷却される。導管５０は、次にディフューザの
様式で拡大される。これは、高いエネルギー損失を発生
させず、また可能な限り多くの空気を測定ノズルを通過
させ、可能な限り少ない空気しか導口５０ａの前面の空
隙を通って外部大気中に流失させないためである。次
に、第二温度依存性レジスタ５３（ＮＴＣレジスタ）
が、ディフューザの様式で拡大される導管５０に、流れ
を保護するように可能な限り流れから離して境界位置に
備えられる。そこでは、レジスタの周辺には弱い流れし
かなく、レジスタはごく僅かに冷却されるだけである。
これらの二つのレジスタ５２、５３がハーフブリッジに
接続され、さらに二つのレジスタがハーフブリッジに補
足されフルブリッジが形成されるときは、その架橋電圧
をエリアマーク４の彫刻のインク保持率に関する信号と
して使用することができる。この装置２７″は、非常に
小さい流速に対してさえも極めて敏感に反応する。勿
論、それぞれの場合に、二つの温度依存性レジスタを流
れ導管のテーパ位置と拡大位置とに配置し、これらをフ
ルブリッジの形態に接続し、これによって測定信号を増
大させることも可能である。

【００３６】当然、本質的に公知であるように、ダイア
フラム装置によって、または同様に公知である差圧測定
カプセルによって、エリアマーク４を通過できる空気量
を検出することも可能である。後者の場合は、図６に示
す測定ノズルの最高流速位置と最低流速位置との間で、
差圧が測定される。

【図面の簡単な説明】

【図１】 それぞれの場合に異なるインク保持率の複数
の基準孔構造を有するハーフトーン輪転印刷ステンシル
を示す図である。

【図２】 図１によるハーフトーンステンシルが使用さ
れる輪転印刷機を示す図である。

【図３】 図１に示すハーフトーン輪転印刷ステンシル
を製造するためのレーザ彫刻システムを示す図である。

【図４】 図３によるレーザ彫刻システムの右側ベアリ
ング部分の軸方向断面を示す図である。

【図５】 ステンシルブランクの表面の基準孔構造のイ
ンク保持率を測定するための光反射測定装置を示す図で
あり、スクリーン印刷ステンシルを形成するためにステ
ンシルブランクに金属材料が電気メッキにより塗布され
る。

【図６】 基準孔構造のインク保持率を測定するため
の、流れ技術を使用し操作する測定装置と共に、図３に
よるレーザ彫刻システムの右側ベアリング部分の軸方向
断面を示す図である。

【符号の説明】

１ 中空シリンダ輪転印刷ステンシル、１ａ ラッカー
層、１ｂ シリンダスクリーン、１ｃ 被覆層、１ｄ
密閉シリンダ、２ ステンシルパターン領域、３ ステ
ンシルパターン、４ エリアマーク、５ 印刷標識、６
輪転印刷機、７ ギヤーホイール、８ 送りギア、９
材料ウエブ、１０ 下部ブランケット、１１ 転向ロ
ール、１２ エリアマーク画像、１３ ビデオカメラ、
１４ 印刷機側壁、１５，１６ 締め付け円錐、１７
ギヤーボックス、１８ 心押し台、１９ 案内、２０
結合軸、２１ コンコーダ、２１ａ，２２ａ，２２ｂ，
２２ｃ 回線、２２ コンピュータ、２３ レーザビー
ム、２４ レーザ、２５，４２ 反射鏡、２６，４５，
４８ 光学システム、２７，２７′，２７″ 測定装置
（検査装置）、２８ 可動台部、２９ ボールベアリン
グ、３０ 投射装置、３１ 仮想イメージ、３２ ラン
プハウジング、３３ 管、３４ 円錐状締め付けスリー
ブ、３５ 圧力板、３６ 投射ランプ、３７ 取付台、
３８ 中空鏡、３９ コンデンサ、４０ 金属ダイアフ
ラム、４１ 光学システム（色消しレンズ）、４３ ホ
ルダ、４４ 半導体カメラ、４６ 感光性半導体、４７
ＩＣ前置増幅器、５０ 流れ導管、５０ａ 導口、５
１ テーパ、５２ 第一温度依存性レジスタ、５３ 第
二温度依存性レジスタ、５５ 中空軸。

Claims (24)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ハーフトーンステンシル（１）の製造方
   法であって、前記ハーフトーンステンシル（１）は、基
   本ステンシル要素（１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ）から成る
   所定のステンシルパターン領域（２）に、ステンシルパ
   ターン孔構造が彫刻されステンシルパターン（３）を形
   成し、複数の均質の基準孔構造（４）を有することを特
   徴とし、前記基準孔構造（４）はそれぞれ異なるインク
   保持率を有し前記ステンシルパターン領域（２）の外側
   に存在し、前記基本ステンシル要素（１ａ、１ｂ、１
   ｃ、１ｄ）で彫刻されることを特徴とするハーフトーン
   ステンシルの製造方法。
2. 【請求項２】 各前記基準孔構造（４）のインク保持率
   がそれぞれの所望のインク保持率と比較され、その結果
   によって、それぞれの偏りの関数として、前記偏りが減
   少する方法によって、新たに均質の基準孔構造が彫刻さ
   れ、この順序の工程が少なくとも一回実施されることを
   特徴とする請求項１に記載の製造方法。
3. 【請求項３】 前記ステンシルパターン領域（２）に存
   在する前記ステンシルパターン孔構造が前記偏りの関数
   として彫刻されることを特徴とする請求項２に記載の製
   造方法。
4. 【請求項４】 それぞれの古い前記基準孔構造（４）の
   インク保持率が前記の所望のインク保持率と比較された
   後に、それぞれの古い前記基準孔構造（４）が除去され
   ることを特徴とする請求項２または３に記載の製造方
   法。
5. 【請求項５】 それぞれの古い前記基準孔構造（４）の
   除去が、新しい彫刻の前に実施されることを特徴とする
   請求項４に記載の製造方法。
6. 【請求項６】 それぞれの基準孔構造（４）が、自動的
   に測定されることを特徴とする請求項２から５のいずれ
   かに記載の製造方法。
7. 【請求項７】 基本ステンシル要素として、その上に被
   覆層（１ａ）が塗布されるスクリーン（１ｂ）が使用さ
   れ、基準孔構造（４）を形成するために、被覆層（１
   ａ）は少なくとも一部領域にスクリーン開口部を露出さ
   せるように除かれていることを特徴とする請求項１から
   ６のいずれかに記載の製造方法。
8. 【請求項８】 基本ステンシル要素として、密閉表面を
   有し、その上に被覆層（１ｃ）が塗布される要素（１
   ｄ）が使用され、前記基準孔構造（４）を形成するため
   に、被覆層（１ｃ）は一部領域で除かれ密閉表面が一部
   領域で露出していることを特徴とする請求項１から６の
   いずれかに記載の製造方法。
9. 【請求項９】 前記基準孔構造（４）のインク保持率
   が、前記スクリーン開口部を通過する光束の手段によっ
   て測定されることを特徴とする請求項６および７のいず
   れかに記載の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記基準孔構造（４）のインク保持率
    が、前記スクリーン開口部を通過するガスの手段によっ
    て測定されることを特徴とする請求項６および７のいず
    れかに記載の製造方法。
11. 【請求項１１】 前記基準孔構造（４）のインク保持率
    が、自由表面において反射される光束の手段によって測
    定されることを特徴とする請求項６および８のいずれか
    に記載の製造方法。
12. 【請求項１２】 前記基準孔構造（４）を形成するため
    に、レーザビーム（２３）が使用され、前記レーザビー
    ム（２３）のパルスデューティ比は前記基準孔構造
    （４）のインク保持率とその所望インク保持率との偏り
    に従って変わることを特徴とする請求項２から１１のい
    ずれかに記載の製造方法。
13. 【請求項１３】 基準孔構造（４）を形成するために、
    被覆ラッカーを噴霧するためのノズルが使用され、ノズ
    ルのオン／オフ切換サイクルは前記基準孔構造（４）の
    インク保持率とその所望インク保持率との偏りに従って
    変わることを特徴とする請求項２から１１のいずれかに
    記載の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記基本ステンシル要素が中空シリン
    ダとして設計されることを特徴とする請求項１から１３
    のいずれかに記載の製造方法。
15. 【請求項１５】 ハーフトーンステンシルを製造するた
    めの装置であって、 中空シリンダ（１ａ、１ｂ；１ｃ、１ｄ）を回転可能に
    取り付けるためのベアリング装置（１５、１６）と、 前記中空シリンダの外側周辺面を機械加工するための装
    置（２４ないし２６）と、 中空シリンダ軸（２０）と平行に配置可能であり、前記
    機械加工装置の少なくとも一部を支持する可動台部（２
    ８）と、 前記中空シリンダが回転されるときに、前記機械加工装
    置を制御するため、および前記可動台部を移動させるた
    めの制御装置（２２）とを備え、 前記制御装置は所定のステンシル領域に存在する基準孔
    構造（４）のインク保持率を測定するための測定装置
    （２７、２７′、２７″）を備えることを特徴とする装
    置。
16. 【請求項１６】 前記制御装置（２２）がインク保持率
    の測定値を所望のインク保持率と比較するための比較装
    置を備え、また前記機械加工装置（２４ないし２６）は
    比較結果の関数として制御することができることを特徴
    とする請求項１５に記載の装置。
17. 【請求項１７】 前記測定装置（２７）が、光線束を放
    射するための光線発生源（３６）、および前記中空シリ
    ンダ壁を通した光伝達経路に配置される光線検出器（４
    ７）を備えることを特徴とする請求項１６に記載の装
    置。
18. 【請求項１８】 測定装置（２７′）が、光線束を放射
    するための光線発生源（４９）、および前記中空シリン
    ダ壁を通した光伝達経路に配置される光線検出器（４
    ７）を備えることを特徴とする請求項１５または１６に
    記載の製造装置。
19. 【請求項１９】 前記光線発生源（４９）が、単色光線
    束を放射するように設計されることを特徴とする請求項
    １８に記載の装置。
20. 【請求項２０】 前記測定装置が、前記中空シリンダ
    （１ａ、１ｂ）に関して外側に本質的に半径方向に配置
    される測定ノズル（２７″）を備え、また前記ベアリン
    グ装置（１６）が、前記中空シリンダ（１ａ、１ｂ）の
    内部に加圧下でガスを導入するためのガス供給導管（５
    ５）を備えることを特徴とする請求項１５または１６に
    記載の装置。
21. 【請求項２１】 前記測定装置（２７、２７′、２
    ７″）が、前記ベアリング装置（１６）に固定されるこ
    とを特徴とする請求項１５から２０のいずれかに記載の
    装置。
22. 【請求項２２】 ほぼ中央に配置されるステンシルパタ
    ーン領域（２）を有し、ステンシルパターン領域（２）
    の外側に、それぞれが異なるインク保持率を有する複数
    の均質の基準孔構造（４）が備えられることを特徴とす
    るハーフトーンステンシル。
23. 【請求項２３】 前記ハーフトーンステンシルが、中空
    シリンダ設計であることを特徴とする請求項２２に記載
    のハーフトーンステンシル。
24. 【請求項２４】 それぞれの前記基準孔構造が、互いに
    分離して配置されることを特徴とする請求項２２または
    ２３に記載のハーフトーンステンシル。