JP3022694B2 - ベンズアミド誘導体の製造法 - Google Patents
ベンズアミド誘導体の製造法Info
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- JP3022694B2 JP3022694B2 JP4286395A JP28639592A JP3022694B2 JP 3022694 B2 JP3022694 B2 JP 3022694B2 JP 4286395 A JP4286395 A JP 4286395A JP 28639592 A JP28639592 A JP 28639592A JP 3022694 B2 JP3022694 B2 JP 3022694B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、殺虫、殺ダニ活性等を
有するオキサゾリン誘導体を製造する際の重要な中間体
であるベンズアミド誘導体の製造法に関するものであ
る。
有するオキサゾリン誘導体を製造する際の重要な中間体
であるベンズアミド誘導体の製造法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】本発明の目的化合物である、後述の一般
式（III）で表されるベンズアミド誘導体の製造法とし
ては、例えば、下記一般式（IV）で表されるアミノエタ
ノール誘導体を出発原料とする方法が特開平２−８５２
６８号公報に開示されている。
式（III）で表されるベンズアミド誘導体の製造法とし
ては、例えば、下記一般式（IV）で表されるアミノエタ
ノール誘導体を出発原料とする方法が特開平２−８５２
６８号公報に開示されている。
【０００３】
【化４】
【０００４】（一般式（IV）中、Ｒ1 及びＲ2 は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、又は
トリフルオロメトキシル基を示す。）
も異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、又は
トリフルオロメトキシル基を示す。）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の方法を本発明者らが試みたところ、工業的に入手し
得る原料からアミノエタノール誘導体を合成するために
４工程を要した。更に、そのアミノエタノール誘導体か
ら一般式（III）のベンズアミド誘導体へと導くのに２
工程を要した。このように従来の方法は、全体としての
工程数が多く、全工程を通じての収率も満足できるもの
ではなかった。
来の方法を本発明者らが試みたところ、工業的に入手し
得る原料からアミノエタノール誘導体を合成するために
４工程を要した。更に、そのアミノエタノール誘導体か
ら一般式（III）のベンズアミド誘導体へと導くのに２
工程を要した。このように従来の方法は、全体としての
工程数が多く、全工程を通じての収率も満足できるもの
ではなかった。
【０００６】本発明者等は、かかる課題を解決するため
に種々検討した結果、工業的に１工程で容易に合成し得
るＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体と、ベンゼ
ン又はその誘導体とを反応させることにより、目的とす
るベンズアミド誘導体が容易に、かつ高収率で製造でき
ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
に種々検討した結果、工業的に１工程で容易に合成し得
るＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体と、ベンゼ
ン又はその誘導体とを反応させることにより、目的とす
るベンズアミド誘導体が容易に、かつ高収率で製造でき
ることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は下記一般
式（Ｉ）で表されるＮ−アルコキシメチルベンズアミド
誘導体と、下記一般式（II）で表されるベンゼン又はそ
の誘導体とを反応させて、下記一般式（III）で表され
るベンズアミド誘導体を製造することを特徴とするベン
ズアミド誘導体の製造法を提供するものである。
式（Ｉ）で表されるＮ−アルコキシメチルベンズアミド
誘導体と、下記一般式（II）で表されるベンゼン又はそ
の誘導体とを反応させて、下記一般式（III）で表され
るベンズアミド誘導体を製造することを特徴とするベン
ズアミド誘導体の製造法を提供するものである。
【０００８】
【化５】
【０００９】（一般式（Ｉ）中、Ｘはハロゲン原子を示
し、Ｙ1 及びＹ2 は同一でも異なっていてもよく、水素
原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ3 は低級アルキル基
を示す。）
し、Ｙ1 及びＹ2 は同一でも異なっていてもよく、水素
原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ3 は低級アルキル基
を示す。）
【００１０】
【化６】
【００１１】（一般式（II）中、Ｒ1 及びＲ2 は同一で
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、アルキル、アルケニル、アルキニル、
アリール及びヘテロアリールからなる群から選ばれる随
時置換されてもよい基、又はＲ4Ｏ−、Ｒ4Ｓ−、
（Ｒ4）2Ｎ−、Ｒ4ＣＯ−若しくは（Ｒ4）3Ｓｉ−で表
される基を示す。但し、Ｒ4 は同一でも異なっていても
よく、水素原子、又はアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、ヘテロアリール、アルキルアミノカルボ
ニルからなる群から選ばれる随時置換されてもよい基を
示す。）
も異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、アルキル、アルケニル、アルキニル、
アリール及びヘテロアリールからなる群から選ばれる随
時置換されてもよい基、又はＲ4Ｏ−、Ｒ4Ｓ−、
（Ｒ4）2Ｎ−、Ｒ4ＣＯ−若しくは（Ｒ4）3Ｓｉ−で表
される基を示す。但し、Ｒ4 は同一でも異なっていても
よく、水素原子、又はアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、ヘテロアリール、アルキルアミノカルボ
ニルからなる群から選ばれる随時置換されてもよい基を
示す。）
【００１２】
【化７】
【００１３】（一般式（III）中、Ｘ、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ1及
びＲ2は前記と同じ意義を示す。）
びＲ2は前記と同じ意義を示す。）
【００１４】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
ベンズアミド誘導体の製造法における原料化合物であ
る、一般式（Ｉ）で表されるＮ−アルコキシメチルベン
ズアミド誘導体において、ハロゲン原子とは、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素原子であり、また低級アルキル基と
しては直鎖状、分枝状のいずれでもよく、例えばメチル
基、ブチル基等が挙げられる。
ベンズアミド誘導体の製造法における原料化合物であ
る、一般式（Ｉ）で表されるＮ−アルコキシメチルベン
ズアミド誘導体において、ハロゲン原子とは、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素原子であり、また低級アルキル基と
しては直鎖状、分枝状のいずれでもよく、例えばメチル
基、ブチル基等が挙げられる。
【００１５】一般式（II）で表されるベンゼン誘導体に
おけるＲ1およびＲ2で示される基としては、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、エテニル基、プロペニル基、エチニル基、プ
ロピニル基、クロロメチル基、ヒドロキシメチル基、ア
セチルオキシメチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シメチル基、フェニルメチル基、イソプロピルフェニル
メチル基、メトキシフェニルメチル基、フェニルエチル
基、フェニル基、フルオロフェニル基、メチルフェニル
基、ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、トリメチ
ルシリルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
トリフルオロメトキシフェニル基、ピリジル基、メチル
ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロチオ基、アミノ
基、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシ基、ブトキシ
基、アリルオキシ基、ゲラニルオキシ基、プロパルギル
オキシ基、フェノキシ基、ピリジルオキシ基、メチルチ
オ基、トリフルオロメチルフェニルオキシ基、トリフル
オロメトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ
基、ノニルチオ基、フェニルチオ基、ジメチルアミノ
基、フェニルアミノ基、トリメチルシリル基、アセチル
オキシ基、エトキシカルボニル基、ベンゾイルアミノ
基、メチルアミノカルボニルアミノ基、ジメチルフェニ
ルシリル基等が挙げられる。
おけるＲ1およびＲ2で示される基としては、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、エテニル基、プロペニル基、エチニル基、プ
ロピニル基、クロロメチル基、ヒドロキシメチル基、ア
セチルオキシメチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シメチル基、フェニルメチル基、イソプロピルフェニル
メチル基、メトキシフェニルメチル基、フェニルエチル
基、フェニル基、フルオロフェニル基、メチルフェニル
基、ブチルフェニル基、メトキシフェニル基、トリメチ
ルシリルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
トリフルオロメトキシフェニル基、ピリジル基、メチル
ピリジル基、ヒドロキシル基、ヒドロチオ基、アミノ
基、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシ基、ブトキシ
基、アリルオキシ基、ゲラニルオキシ基、プロパルギル
オキシ基、フェノキシ基、ピリジルオキシ基、メチルチ
オ基、トリフルオロメチルフェニルオキシ基、トリフル
オロメトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ
基、ノニルチオ基、フェニルチオ基、ジメチルアミノ
基、フェニルアミノ基、トリメチルシリル基、アセチル
オキシ基、エトキシカルボニル基、ベンゾイルアミノ
基、メチルアミノカルボニルアミノ基、ジメチルフェニ
ルシリル基等が挙げられる。
【００１６】本発明の製造法におけるＮ−アルコキシメ
チルベンズアミド誘導体とベンゼン又はその誘導体との
反応は、下記の反応式（Ａ）で示される。
チルベンズアミド誘導体とベンゼン又はその誘導体との
反応は、下記の反応式（Ａ）で示される。
【００１７】
【化８】
【００１８】上記反応は、触媒を用いずに行い得るが、
通常は酸触媒の存在下で行うのが望ましい。酸触媒とし
ては特に限定はないが、例えば硫酸、塩酸、硝酸、燐
酸、過塩素酸等の無機酸、酢酸、安息香酸等のカルボン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有
機スルホン酸、塩化アルミニウム、四塩化チタン、フッ
化ホウ素、オキシ塩化リン等のルイス酸、カチオン交換
樹脂等が挙げられる。
通常は酸触媒の存在下で行うのが望ましい。酸触媒とし
ては特に限定はないが、例えば硫酸、塩酸、硝酸、燐
酸、過塩素酸等の無機酸、酢酸、安息香酸等のカルボン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有
機スルホン酸、塩化アルミニウム、四塩化チタン、フッ
化ホウ素、オキシ塩化リン等のルイス酸、カチオン交換
樹脂等が挙げられる。
【００１９】本反応においては特に溶媒を必要とせず、
無溶媒で行い得るが、溶媒を用いて反応を行うこともで
きる。溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程
度溶解するものであれば特に限定はなく、例えばｎ−ヘ
キサン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、メチレンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、メタノール、ｎ−ブタノール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のス
ルホキシド類が挙げられる。
無溶媒で行い得るが、溶媒を用いて反応を行うこともで
きる。溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程
度溶解するものであれば特に限定はなく、例えばｎ−ヘ
キサン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、メチレンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、メタノール、ｎ−ブタノール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のス
ルホキシド類が挙げられる。
【００２０】反応温度は、原料化合物、使用される触媒
や溶媒の種類等により異なるが、通常−２０℃〜２００
℃、好ましくは−１０℃〜７０℃である。反応時間は、
反応温度、原料化合物、触媒や溶媒の種類等によって異
なるが、通常３０分から２０時間、好ましくは１時間か
ら６時間である。触媒は通常Ｎ−アルコキシメチルベン
ズアミド誘導体１当量に対して０．００１〜１０当量、
好ましくは０．０１〜３当量である。本発明の製造法に
おいては、Ｎ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体１
モルに対してベンゼン又はその誘導体を０．８〜５倍モ
ル、好ましくは１〜２倍モル使用する。反応は通常回分
式で行うが、連続式にて行うこともできる。合成された
ベンズアミド誘導体は、例えば濾過、抽出、蒸留、カラ
ムクロマトグラフィー等の一般に用いられる手段によっ
て精製することができる。
や溶媒の種類等により異なるが、通常−２０℃〜２００
℃、好ましくは−１０℃〜７０℃である。反応時間は、
反応温度、原料化合物、触媒や溶媒の種類等によって異
なるが、通常３０分から２０時間、好ましくは１時間か
ら６時間である。触媒は通常Ｎ−アルコキシメチルベン
ズアミド誘導体１当量に対して０．００１〜１０当量、
好ましくは０．０１〜３当量である。本発明の製造法に
おいては、Ｎ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体１
モルに対してベンゼン又はその誘導体を０．８〜５倍モ
ル、好ましくは１〜２倍モル使用する。反応は通常回分
式で行うが、連続式にて行うこともできる。合成された
ベンズアミド誘導体は、例えば濾過、抽出、蒸留、カラ
ムクロマトグラフィー等の一般に用いられる手段によっ
て精製することができる。
【００２１】本発明で用いられる上記一般式（Ｉ）で表
されるＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体は、置
換ベンズアミド類とα−ハロアセタールとの反応により
容易に得ることができ、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロ
ロエチル）−ベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
クロロエチル）−２−フルオロベンズアミド、Ｎ−（１
−メトキシ−２−クロロエチル）−２−クロロベンズア
ミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−２−
ブロモベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロ
エチル）−２−ヨードベンズアミド、Ｎ−（１−メトキ
シ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロベンズア
ミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−２，
６−ジクロロベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
クロロエチル）−２−フルオロ−６−クロロベンズアミ
ド、Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロエチル）−２，６
−ジフルオロベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
ブロモエチル）−２，６−ジフルオロベンズアミド等を
例示することができる。
されるＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体は、置
換ベンズアミド類とα−ハロアセタールとの反応により
容易に得ることができ、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロ
ロエチル）−ベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
クロロエチル）−２−フルオロベンズアミド、Ｎ−（１
−メトキシ−２−クロロエチル）−２−クロロベンズア
ミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−２−
ブロモベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロ
エチル）−２−ヨードベンズアミド、Ｎ−（１−メトキ
シ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロベンズア
ミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−２，
６−ジクロロベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
クロロエチル）−２−フルオロ−６−クロロベンズアミ
ド、Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロエチル）−２，６
−ジフルオロベンズアミド、Ｎ−（１−メトキシ−２−
ブロモエチル）−２，６−ジフルオロベンズアミド等を
例示することができる。
【００２２】一方、上記一般式（II）で表されるベンゼ
ン誘導体としては、フルオロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、シクロヘキシル
ベンゼン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、トルエ
ン、エチルベンゼン、ｎ−オクチルベンゼン、スチレ
ン、アリルベンゼン、フェニルアセチレン、ビフェニ
ル、４−フェニルピリジン、ベンジルクロライド、ベン
ジルアルコール、酢酸ベンジル、α，α，α−トリフル
オロトルエン、ベンジルメチルエーテル、ジフェニルメ
タン、４−イソプロピルジフェニルメタン、４−メトキ
シジフェニルメタン、ビベンジル、２−フルオロビフェ
ニル、３−フェニルトルエン、２−メトキシビフェニ
ル、４−トリメチルシリルビフェニル、３−メチル−２
−フェニルピリジン、フェノール、チオフェノール、ア
ニリン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アニソー
ル、ブチルフェニルエーテル、アリルフェニルエーテ
ル、プロピニルフェニルエーテル、ジフェニルエーテ
ル、フェニルピリジルエーテル、チオフェノール、チオ
アニソール、フェニルスルフィド、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ジフェニルアミン、フェニルトリメチルシラ
ン、酢酸フェニル、安息香酸エチル、ベンズアニリド、
１−メチル−３−フェニルウレア、ｍ−ジフルオロベン
ゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、３−ブロモクロロベンゼ
ン、１−クロロ−２−ニトロベンゼン、３−クロロトル
エン、２−ブロモアニソール、４，４’−ジフルオロビ
フェニル、３−メトキシ−４’−ｎ−プロピルビフェニ
ル、３−フルオロ−４’−ｔ−ブチルジフェニルメタ
ン、２−クロロ−４−トリフルオロメチルジフェニルエ
ーテル、１−クロロ−３−トリフルオロメトキシジフェ
ニルエーテル、ジメチルジフェニルシラン等を例示する
ことができる。
ン誘導体としては、フルオロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、シクロヘキシル
ベンゼン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、トルエ
ン、エチルベンゼン、ｎ−オクチルベンゼン、スチレ
ン、アリルベンゼン、フェニルアセチレン、ビフェニ
ル、４−フェニルピリジン、ベンジルクロライド、ベン
ジルアルコール、酢酸ベンジル、α，α，α−トリフル
オロトルエン、ベンジルメチルエーテル、ジフェニルメ
タン、４−イソプロピルジフェニルメタン、４−メトキ
シジフェニルメタン、ビベンジル、２−フルオロビフェ
ニル、３−フェニルトルエン、２−メトキシビフェニ
ル、４−トリメチルシリルビフェニル、３−メチル−２
−フェニルピリジン、フェノール、チオフェノール、ア
ニリン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アニソー
ル、ブチルフェニルエーテル、アリルフェニルエーテ
ル、プロピニルフェニルエーテル、ジフェニルエーテ
ル、フェニルピリジルエーテル、チオフェノール、チオ
アニソール、フェニルスルフィド、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、ジフェニルアミン、フェニルトリメチルシラ
ン、酢酸フェニル、安息香酸エチル、ベンズアニリド、
１−メチル−３−フェニルウレア、ｍ−ジフルオロベン
ゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、３−ブロモクロロベンゼ
ン、１−クロロ−２−ニトロベンゼン、３−クロロトル
エン、２−ブロモアニソール、４，４’−ジフルオロビ
フェニル、３−メトキシ−４’−ｎ−プロピルビフェニ
ル、３−フルオロ−４’−ｔ−ブチルジフェニルメタ
ン、２−クロロ−４−トリフルオロメチルジフェニルエ
ーテル、１−クロロ−３−トリフルオロメトキシジフェ
ニルエーテル、ジメチルジフェニルシラン等を例示する
ことができる。
【００２３】本発明の製造法で合成される、上記一般式
（III）で表される化合物としては、例えば下記の表１
及び表２に示すものが挙げられる。尚、Ｒ1、Ｒ2の置換
位置は、ｏ−，ｍ−，ｐ−のいずれでもよい。
（III）で表される化合物としては、例えば下記の表１
及び表２に示すものが挙げられる。尚、Ｒ1、Ｒ2の置換
位置は、ｏ−，ｍ−，ｐ−のいずれでもよい。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】本発明の製造法で得られるベンズアミド誘
導体は、例えば下記の反応式（Ｂ）で示される反応によ
り、殺虫、殺ダニ活性を有するオキサゾリン誘導体へと
導くことができる。
導体は、例えば下記の反応式（Ｂ）で示される反応によ
り、殺虫、殺ダニ活性を有するオキサゾリン誘導体へと
導くことができる。
【００２７】
【化９】
【００２８】
【実施例】次に、実施例により本発明を説明するが、本
発明は下記に示すベンズアミド誘導体の製造法のみに限
定されるものではない。
発明は下記に示すベンズアミド誘導体の製造法のみに限
定されるものではない。
【００２９】（実施例１） Ｎ−［２−クロロ−１−
（２，５−ジメトキシ）フェニルエチル］ベンズアミド
の合成 Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）ベンズアミド
２．１ｇ、１，４−ジメトキシベンゼン２．８ｇを酢酸
２０ｍｌに溶解させ、氷浴中で冷却しながら濃硫酸０．
１ｇを加えた。室温で５時間反応させた後、反応液に水
５０ｍｌを加え、ジクロロメタン５０ｍｌによる抽出を
行った。抽出層を水５０ｍｌにて２回洗浄し、無水硫酸
ナトリウムにて乾燥した後、ジクロロメタンを溜去して
反応液を濃縮し、析出した目的物を濾取、乾燥してＮ−
［２−クロロ−１−（２，５−ジメトキシ）フェニルエ
チル］ベンズアミド２．６ｇを得た。Ｎ−（１−メトキ
シ−２−クロロエチル）ベンズアミドに対する収率は８
１％であった。
（２，５−ジメトキシ）フェニルエチル］ベンズアミド
の合成 Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）ベンズアミド
２．１ｇ、１，４−ジメトキシベンゼン２．８ｇを酢酸
２０ｍｌに溶解させ、氷浴中で冷却しながら濃硫酸０．
１ｇを加えた。室温で５時間反応させた後、反応液に水
５０ｍｌを加え、ジクロロメタン５０ｍｌによる抽出を
行った。抽出層を水５０ｍｌにて２回洗浄し、無水硫酸
ナトリウムにて乾燥した後、ジクロロメタンを溜去して
反応液を濃縮し、析出した目的物を濾取、乾燥してＮ−
［２−クロロ−１−（２，５−ジメトキシ）フェニルエ
チル］ベンズアミド２．６ｇを得た。Ｎ−（１−メトキ
シ−２−クロロエチル）ベンズアミドに対する収率は８
１％であった。
【００３０】（実施例２） ２，６−ジクロロ−Ｎ−
［２−クロロ−１−（２−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチ
ル）フェニルエチル］ベンズアミドの合成 ２，６−ジクロロ−Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエ
チル）ベンズアミド２．８ｇ、ｍ−ｔ−ブチルフェノー
ル３．０ｇを７０℃にて攪拌し、これにオキシ塩化リン
１．１ｇを滴下した。７０〜８０℃で３時間攪拌を続け
た後、反応液を５０℃に冷却し、ｎ−ヘキサン５ｍｌを
加え、さらに水５ｍｌを少しずつ加えて一晩放置した。
析出した結晶を濾取し、水及びｎ−ヘキサンで洗浄後、
乾燥して２，６−ジクロロ−Ｎ−［２−クロロ−１−
（２−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチル）フェニルエチル］
ベンズアミド３．１ｇを得た。２，６−ジクロロ−Ｎ−
（１−メトキシ−２−クロロエチル）ベンズアミドに対
する収率は７８％であった。
［２−クロロ−１−（２−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチ
ル）フェニルエチル］ベンズアミドの合成 ２，６−ジクロロ−Ｎ−（１−メトキシ−２−クロロエ
チル）ベンズアミド２．８ｇ、ｍ−ｔ−ブチルフェノー
ル３．０ｇを７０℃にて攪拌し、これにオキシ塩化リン
１．１ｇを滴下した。７０〜８０℃で３時間攪拌を続け
た後、反応液を５０℃に冷却し、ｎ−ヘキサン５ｍｌを
加え、さらに水５ｍｌを少しずつ加えて一晩放置した。
析出した結晶を濾取し、水及びｎ−ヘキサンで洗浄後、
乾燥して２，６−ジクロロ−Ｎ−［２−クロロ−１−
（２−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチル）フェニルエチル］
ベンズアミド３．１ｇを得た。２，６−ジクロロ−Ｎ−
（１−メトキシ−２−クロロエチル）ベンズアミドに対
する収率は７８％であった。
【００３１】（実施例３） ２，６−ジフルオロ−Ｎ
−［２−クロロ−１−（２−エトキシ−５−ｔ−ブチ
ル）フェニルエチル］ベンズアミドの合成 無水塩化アルミニウム２．６ｇをジクロロメタン１０ｍ
ｌに溶解させ、氷冷しつつ攪拌した。これに２，６−ジ
フルオロ−Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロエチル）ベ
ンズアミド２．６ｇ及び４−ｔ−ブチルフェネトール
３．６ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた溶液を
１０分間で滴下した。次いで反応液を徐々に加温し、２
時間還流を行った後、これを氷水中に加えた。ジクロロ
メタン層を水にて洗浄し、ジクロロメタンを溜去、濃縮
して析出する結晶を濾取、乾燥し、２，６−ジフルオロ
−Ｎ−［２−クロロ−１−（２−エトキシ−５−ｔ−ブ
チル）フェニルエチル］ベンズアミド３．５ｇを得た。
２，６−ジフルオロ−Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロ
エチル）ベンズアミドに対する収率は８６％であった。
−［２−クロロ−１−（２−エトキシ−５−ｔ−ブチ
ル）フェニルエチル］ベンズアミドの合成 無水塩化アルミニウム２．６ｇをジクロロメタン１０ｍ
ｌに溶解させ、氷冷しつつ攪拌した。これに２，６−ジ
フルオロ−Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロエチル）ベ
ンズアミド２．６ｇ及び４−ｔ−ブチルフェネトール
３．６ｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解させた溶液を
１０分間で滴下した。次いで反応液を徐々に加温し、２
時間還流を行った後、これを氷水中に加えた。ジクロロ
メタン層を水にて洗浄し、ジクロロメタンを溜去、濃縮
して析出する結晶を濾取、乾燥し、２，６−ジフルオロ
−Ｎ−［２−クロロ−１−（２−エトキシ−５−ｔ−ブ
チル）フェニルエチル］ベンズアミド３．５ｇを得た。
２，６−ジフルオロ−Ｎ−（１−エトキシ−２−クロロ
エチル）ベンズアミドに対する収率は８６％であった。
【００３２】（実施例４〜３７）実施例４は実施例１に
示す製造法と、実施例５〜１３は実施例２に示す製造法
と、実施例１４〜３７は実施例３に示す製造法とそれぞ
れ同様にして下記表３、４に示す化合物を合成した。収
率はいずれもＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体
に対するモル収率として表した。
示す製造法と、実施例５〜１３は実施例２に示す製造法
と、実施例１４〜３７は実施例３に示す製造法とそれぞ
れ同様にして下記表３、４に示す化合物を合成した。収
率はいずれもＮ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体
に対するモル収率として表した。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【表４】
【００３５】
【発明の効果】本発明のベンズアミド誘導体の製造法
は、Ｎ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体とベンゼ
ン又はその誘導体とを反応させるものである。本発明の
製造法は、反応工程数が少なく、収率も高いので、工業
的に極めて有利な方法である。
は、Ｎ−アルコキシメチルベンズアミド誘導体とベンゼ
ン又はその誘導体とを反応させるものである。本発明の
製造法は、反応工程数が少なく、収率も高いので、工業
的に極めて有利な方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 255/58 Ｃ０７Ｃ 255/58 273/18 273/18 275/40 275/40 319/20 319/20 323/42 323/42 Ｃ０７Ｄ 213/53 Ｃ０７Ｄ 213/53 Ｃ０７Ｆ 7/12 Ｃ０７Ｆ 7/12 Ａ // Ｃ０７Ｄ 263/10 Ｃ０７Ｄ 263/10 (72)発明者 朝田 亨 千葉県印旛郡酒々井町中央台４−18−６ (72)発明者 三浦 康尚 千葉県佐倉市六崎1550−２ 大日本イン キ化学佐倉社宅２−204 (72)発明者 菊池 靖夫 長野県長野市大字富竹1081−６ (72)発明者 針谷 康明 長野県長野市三輪５−18−９ (56)参考文献 特開 平３−188051（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−109349（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−85268（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−216941（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−67529（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−145240（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−117437（ＪＰ，Ａ) 特公 昭48−27302（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭43−15415（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭43−2695（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 233/69 C07C 231/12 C07C 233/66 C07C 233/77 C07C 253/30 C07C 255/58
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるＮ−アルコ
キシメチルベンズアミド誘導体と、 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙ1 及びＹ2 は同一
でも異なっていてもよく、水素原子またはハロゲン原子
を示し、Ｒ3 は低級アルキル基を示す。）下記一般式
（II）で表されるベンゼン又はその誘導体とを反応させ
て、 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一でも異なっていてもよく、
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキ
ル、アルケニル、アルキニル、アリール及びヘテロアリ
ールからなる群から選ばれる随時置換されてもよい基、
又は Ｒ4Ｏ−、Ｒ4Ｓ−、（Ｒ4）2Ｎ−、Ｒ4ＣＯ−若し
くは（Ｒ4）3Ｓｉ−で表される基を示す。但し、Ｒ4 は
同一でも異なっていてもよく、水素原子、又はアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリー
ル、アルキルアミノカルボニルからなる群から選ばれる
随時置換されてもよい基を示す。）下記一般式（III）
で表されるベンズアミド誘導体を製造することを特徴と
するベンズアミド誘導体の製造法。 【化３】 （式中、Ｘ、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意義を
示す。） - 【請求項２】 上記一般式（Ｉ）で表されるＮ−アルコ
キシメチルベンズアミド誘導体と、上記一般式（II）で
表されるベンゼン又はその誘導体とを、酸触媒の存在下
で反応させることを特徴とする請求項１記載のベンズア
ミド誘導体の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286395A JP3022694B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体の製造法 |
| US08/138,423 US5354905A (en) | 1992-10-23 | 1993-10-20 | N-alkoxymethyl benzamide derivative and manufacturing method therefor, and manufacturing method for benzamide derivative using this N-alkoxymethyl benzamide derivative |
| AT93117096T ATE143354T1 (de) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-alkoxymethylbenzamid-derivate und verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von benzamid-derivaten |
| DE69305045T DE69305045T2 (de) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-Alkoxymethylbenzamid-Derivate und Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Herstellung von Benzamid-Derivaten |
| EP93117096A EP0594179B1 (en) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-alkoxymethyl benzamide derivative and manufacturing method therefor, and manufacturing method for benzamide derivative using this N-alkoxymethyl benzamide derivate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286395A JP3022694B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135917A JPH06135917A (ja) | 1994-05-17 |
| JP3022694B2 true JP3022694B2 (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17703851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4286395A Expired - Lifetime JP3022694B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3022694B2 (ja) |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP4286395A patent/JP3022694B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06135917A (ja) | 1994-05-17 |
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