JP2944334B2 - ベンズアミド誘導体およびその製造法 - Google Patents
ベンズアミド誘導体およびその製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なベンズアミド誘
導体およびその製造法に関するものである。当該ベンズ
アミド誘導体は、殺虫、殺ダニ活性を有するオキサゾリ
ン誘導体を製造する際の中間体として有用であり、また
各種有機化合物の出発原料、あるいは芳香族系ポリマー
の改質剤としても利用できるものである。
導体およびその製造法に関するものである。当該ベンズ
アミド誘導体は、殺虫、殺ダニ活性を有するオキサゾリ
ン誘導体を製造する際の中間体として有用であり、また
各種有機化合物の出発原料、あるいは芳香族系ポリマー
の改質剤としても利用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、置換ベンズアミド類とハロゲ
ン化アセトアルデヒド類との反応は知られているが、両
者の１分子同士の縮合物は不安定であり、これを単離す
ること、および反応中間体として利用することは困難で
あった。
ン化アセトアルデヒド類との反応は知られているが、両
者の１分子同士の縮合物は不安定であり、これを単離す
ること、および反応中間体として利用することは困難で
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、かかる
課題を解決するために、下記一般式（Ｉ）で表される新
規ベンズアミド誘導体の合成を種々検討した結果、置換
ベンズアミド類とα−ハロアセタール類とを反応させる
ことにより、両者の１分子同士の縮合物である目的の化
合物が容易に得られること、および当該化合物が安定で
あり、反応中間体として極めて有用であることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
課題を解決するために、下記一般式（Ｉ）で表される新
規ベンズアミド誘導体の合成を種々検討した結果、置換
ベンズアミド類とα−ハロアセタール類とを反応させる
ことにより、両者の１分子同士の縮合物である目的の化
合物が容易に得られること、および当該化合物が安定で
あり、反応中間体として極めて有用であることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式（Ｉ）で表されることを特徴とするベンズアミド誘
導体、
般式（Ｉ）で表されることを特徴とするベンズアミド誘
導体、
【０００５】
【化５】
【０００６】（一般式（Ｉ）中、Ｘはハロゲン原子を示
し、Ｙ1及びＹ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
子またはハロゲン原子を示し、Ｒは低級アルキル基を示
す。）
し、Ｙ1及びＹ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
子またはハロゲン原子を示し、Ｒは低級アルキル基を示
す。）
【０００７】および、下記一般式（II）で表される置換
ベンズアミド類と、下記一般式（III）で表されるα−
ハロアセタール類とを反応させて、下記一般式（Ｉ）で
表されるベンズアミド誘導体を製造することを特徴とす
るベンズアミド誘導体の製造法を提供するものである。
ベンズアミド類と、下記一般式（III）で表されるα−
ハロアセタール類とを反応させて、下記一般式（Ｉ）で
表されるベンズアミド誘導体を製造することを特徴とす
るベンズアミド誘導体の製造法を提供するものである。
【０００８】
【化６】
【０００９】（一般式（II）中、Ｙ1 及びＹ2 は同一で
も異なっていてもよく、水素原子またはハロゲン原子を
示す。）
も異なっていてもよく、水素原子またはハロゲン原子を
示す。）
【００１０】
【化７】
【００１１】（一般式（III）中、Ｘはハロゲン原子を
示し、Ｒは低級アルキル基を示す。）
示し、Ｒは低級アルキル基を示す。）
【００１２】
【化８】
【００１３】（一般式（Ｉ）中、Ｘはハロゲン原子を示
し、Ｙ1及びＹ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
子またはハロゲン原子を示し、Ｒは低級アルキル基を示
す。)
し、Ｙ1及びＹ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
子またはハロゲン原子を示し、Ｒは低級アルキル基を示
す。)
【００１４】以下、本発明を詳しく説明する。本発明の
ベンズアミド誘導体におけるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。また低級アルキル基としては直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、例えばメチル基、ブチル基等が挙げられ
る。
ベンズアミド誘導体におけるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ
る。また低級アルキル基としては直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、例えばメチル基、ブチル基等が挙げられ
る。
【００１５】本発明において、原料として用いられる置
換ベンズアミド類（一般式（II））としては、例えばベ
ンズアミド、２−フルオロベンズアミド、２−クロロベ
ンズアミド、２−ブロモベンズアミド、２−ヨードベン
ズアミド、２，６−ジフルオロベンズアミド、２，６−
ジクロロベンズアミド、２，６−ジブロモベンズアミ
ド、２，６−ジヨードベンズアミド、２−フルオロ−６
−クロロベンズアミド、２−フルオロ−６−ブロモベン
ズアミド、２−クロロ−６−ブロモベンズアミド等が挙
げられ、またα−ハロアセタール類としては、例えばク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタール、クロロアセ
トアルデヒドジエチルアセタール、ブロモアセトアルデ
ヒドジメチルアセタール、ブロモアセトアルデヒドジエ
チルアセタール等が挙げられる。
換ベンズアミド類（一般式（II））としては、例えばベ
ンズアミド、２−フルオロベンズアミド、２−クロロベ
ンズアミド、２−ブロモベンズアミド、２−ヨードベン
ズアミド、２，６−ジフルオロベンズアミド、２，６−
ジクロロベンズアミド、２，６−ジブロモベンズアミ
ド、２，６−ジヨードベンズアミド、２−フルオロ−６
−クロロベンズアミド、２−フルオロ−６−ブロモベン
ズアミド、２−クロロ−６−ブロモベンズアミド等が挙
げられ、またα−ハロアセタール類としては、例えばク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタール、クロロアセ
トアルデヒドジエチルアセタール、ブロモアセトアルデ
ヒドジメチルアセタール、ブロモアセトアルデヒドジエ
チルアセタール等が挙げられる。
【００１６】本発明の製造法における置換ベンズアミド
類とα−ハロアセタール類との反応は、触媒を用いずに
行い得るが、通常は酸触媒の存在下で行うのが望まし
い。酸触媒としては、特に限定はないが、例えば硫酸、
塩酸、燐酸等の無機酸、酢酸、安息香酸等のカルボン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有
機スルホン酸、塩化アルミニウム、フッ化ホウ素等のル
イス酸、カチオン交換樹脂等が挙げられる。
類とα−ハロアセタール類との反応は、触媒を用いずに
行い得るが、通常は酸触媒の存在下で行うのが望まし
い。酸触媒としては、特に限定はないが、例えば硫酸、
塩酸、燐酸等の無機酸、酢酸、安息香酸等のカルボン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有
機スルホン酸、塩化アルミニウム、フッ化ホウ素等のル
イス酸、カチオン交換樹脂等が挙げられる。
【００１７】また、上記反応は特に溶媒を必要とせず、
無溶媒で行い得るが、溶媒を用いて行うこともできる。
溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はなく、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、メチレン
クロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、ｎ−ブタノールのよう
なアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、またはジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類を挙げることができる。
無溶媒で行い得るが、溶媒を用いて行うこともできる。
溶媒としては、反応を阻害せず出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はなく、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、メチレン
クロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンのようなケトン類、ｎ−ブタノールのよう
なアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類、またはジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類を挙げることができる。
【００１８】反応温度は、原料化合物、使用される触媒
や溶媒の種類等によって異なるが、−５℃から１５０℃
であり、好ましくは５０℃から１００℃の範囲である。
反応時間は、反応温度、原料化合物、使用される触媒や
溶媒の種類等によって異なるが、通常３０分間から数時
間の範囲である。反応は通常回分式で行うが、イオン交
換樹脂等の固体酸を用い、連続式にて行うこともでき
る。
や溶媒の種類等によって異なるが、−５℃から１５０℃
であり、好ましくは５０℃から１００℃の範囲である。
反応時間は、反応温度、原料化合物、使用される触媒や
溶媒の種類等によって異なるが、通常３０分間から数時
間の範囲である。反応は通常回分式で行うが、イオン交
換樹脂等の固体酸を用い、連続式にて行うこともでき
る。
【００１９】上記反応においては、前記置換ベンズアミ
ド類１当量に対し、α−ハロアセタール類は通常１〜１
０当量、好ましくは１．５〜３当量が用いられる。但
し、当該反応を余剰のα−ハロアセタールを回収しつつ
連続式にて行う場合、α−ハロアセタールの使用量はこ
のかぎりではない。触媒の使用量は置換ベンズアミド類
１当量に対して通常０．００１〜１当量、好ましくは
０．０１〜０．５当量である。但し、当該反応を連続式
にて行う場合、触媒量はこのかぎりではない。反応終了
後、反応液は水洗、ろ過等による触媒の除去、余剰のα
−ハロアセタール類の溜去等、通常の後処理を行い、必
要によりクロマトグラフィー、再結晶等の操作を行って
精製することもできる。
ド類１当量に対し、α−ハロアセタール類は通常１〜１
０当量、好ましくは１．５〜３当量が用いられる。但
し、当該反応を余剰のα−ハロアセタールを回収しつつ
連続式にて行う場合、α−ハロアセタールの使用量はこ
のかぎりではない。触媒の使用量は置換ベンズアミド類
１当量に対して通常０．００１〜１当量、好ましくは
０．０１〜０．５当量である。但し、当該反応を連続式
にて行う場合、触媒量はこのかぎりではない。反応終了
後、反応液は水洗、ろ過等による触媒の除去、余剰のα
−ハロアセタール類の溜去等、通常の後処理を行い、必
要によりクロマトグラフィー、再結晶等の操作を行って
精製することもできる。
【００２０】上記のようにして製造される本発明のベン
ズアミド誘導体としては、例えば下記第１表に示す化合
物が挙げられる。
ズアミド誘導体としては、例えば下記第１表に示す化合
物が挙げられる。
【００２１】
【表１】
【００２２】本発明のベンズアミド誘導体は、例えば特
開平２−８５２６８号公報に記載されたオキサゾリン誘
導体を製造する際の中間体として特に有用である。
開平２−８５２６８号公報に記載されたオキサゾリン誘
導体を製造する際の中間体として特に有用である。
【００２３】
【実施例】次に、実施例により本発明を説明するが、本
発明は下記のベンズアミド誘導体およびそれらの製造法
のみに限定されるものではない。
発明は下記のベンズアミド誘導体およびそれらの製造法
のみに限定されるものではない。
【００２４】（実施例１） 化合物（１）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズアミドの合成 ベンズアミド１２．１ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジメチルアセタール１４．３ｇを氷浴中で冷却しながら
攪拌し、これに濃硫酸７ｍｌを１時間で滴下した。室温
で２時間攪拌したのち、反応液に水２００ｍｌを加え、
クロロホルム３００ｍｌにて抽出した。抽出層を水１０
０ｍｌで２回洗浄し、クロロホルムおよび余剰のクロロ
アセトアルデヒドジメチルアセタールを減圧下に溜去し
て化合物（１）１５．０ｇを得た。 融点：76.9-77.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.45(s,3H),3.72
(d,2H,J=4.0Hz),5.40-5.75(m,1H),6.60-7.15(br,1H),7.
30-7.60(m,3H),7.70-7.95(m,2H)
メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズアミドの合成 ベンズアミド１２．１ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジメチルアセタール１４．３ｇを氷浴中で冷却しながら
攪拌し、これに濃硫酸７ｍｌを１時間で滴下した。室温
で２時間攪拌したのち、反応液に水２００ｍｌを加え、
クロロホルム３００ｍｌにて抽出した。抽出層を水１０
０ｍｌで２回洗浄し、クロロホルムおよび余剰のクロロ
アセトアルデヒドジメチルアセタールを減圧下に溜去し
て化合物（１）１５．０ｇを得た。 融点：76.9-77.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.45(s,3H),3.72
(d,2H,J=4.0Hz),5.40-5.75(m,1H),6.60-7.15(br,1H),7.
30-7.60(m,3H),7.70-7.95(m,2H)
【００２５】（実施例２） 化合物（１）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズアミドの合成 ベンズアミド９．６ｇ、クロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール４９．８ｇおよび交換容量がベンズアミド
と当量の強酸性イオン交換樹脂を６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を４０℃まで冷却し、これにジクロロメタン
３０ｍｌを加えた。減圧ろ過にてイオン交換樹脂を除
き、濾液よりジクロロメタンおよび余剰のクロロアセト
アルデヒドジメチルアセタールを減圧溜去した後、ｎ−
ヘキサン１００ｍｌを加えて結晶を析出させ、これを濾
取、乾燥して化合物（１）７．０ｇを得た。
メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズアミドの合成 ベンズアミド９．６ｇ、クロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール４９．８ｇおよび交換容量がベンズアミド
と当量の強酸性イオン交換樹脂を６０℃で３時間攪拌し
た。反応液を４０℃まで冷却し、これにジクロロメタン
３０ｍｌを加えた。減圧ろ過にてイオン交換樹脂を除
き、濾液よりジクロロメタンおよび余剰のクロロアセト
アルデヒドジメチルアセタールを減圧溜去した後、ｎ−
ヘキサン１００ｍｌを加えて結晶を析出させ、これを濾
取、乾燥して化合物（１）７．０ｇを得た。
【００２６】（実施例３） 化合物（２）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２−フルオロベンズア
ミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−フルオロベン
ズアミド１０．０ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメ
チルアセタール４４．８ｇより、化合物（２）８．０ｇ
を得た。 融点：49.7-50.8℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.73
(d,2H,J=4.0Hz),5.50-5.85(m,1H),6.95-7.70(m,4H),7.9
0-8.29(m,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２−フルオロベンズア
ミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−フルオロベン
ズアミド１０．０ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメ
チルアセタール４４．８ｇより、化合物（２）８．０ｇ
を得た。 融点：49.7-50.8℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.73
(d,2H,J=4.0Hz),5.50-5.85(m,1H),6.95-7.70(m,4H),7.9
0-8.29(m,1H)
【００２７】（実施例４） 化合物（３）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２−クロロベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−クロロベンズ
アミド７．８ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチル
アセタール３１．１ｇより、化合物（３）９．６ｇを得
た。 融点：105.9-106.5℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.70
(d,2H,J=5.8Hz),5.52-5.63(m,1H),7.25-7.70(m,4H),8.0
0-8.45(br,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２−クロロベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−クロロベンズ
アミド７．８ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチル
アセタール３１．１ｇより、化合物（３）９．６ｇを得
た。 融点：105.9-106.5℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.70
(d,2H,J=5.8Hz),5.52-5.63(m,1H),7.25-7.70(m,4H),8.0
0-8.45(br,1H)
【００２８】（実施例５） 化合物（４）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２−ブロモベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−ブロモベンズ
アミド１０．３ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール３２．１ｇより、化合物（４）１１．１ｇ
を得た。 融点：121.0-121.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.52(s,3H),3.69
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.62(m,1H),7.15-7.75(m,4H),8.2
0-8.65(br,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２−ブロモベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−ブロモベンズ
アミド１０．３ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチ
ルアセタール３２．１ｇより、化合物（４）１１．１ｇ
を得た。 融点：121.0-121.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.52(s,3H),3.69
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.62(m,1H),7.15-7.75(m,4H),8.2
0-8.65(br,1H)
【００２９】（実施例６） 化合物（５）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２−ヨードベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−ヨードベンズ
アミド６．０ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチル
アセタール１５．１ｇより、化合物（５）５．８ｇを得
た。 融点：113.4-114.0℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.65(s,3H),3.75
(d,2H,J=4.0Hz),5.38-5.70(m,1H),6.32-6.70(br,1H),6.
90-7.50(m,3H),7.78-7.98(m,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２−ヨードベンズアミ
ドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−ヨードベンズ
アミド６．０ｇおよびクロロアセトアルデヒドジメチル
アセタール１５．１ｇより、化合物（５）５．８ｇを得
た。 融点：113.4-114.0℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.65(s,3H),3.75
(d,2H,J=4.0Hz),5.38-5.70(m,1H),6.32-6.70(br,1H),6.
90-7.50(m,3H),7.78-7.98(m,1H)
【００３０】（実施例７） 化合物（６）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロベ
ンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド１５．７ｇおよびクロロアセトアルデヒ
ドジメチルアセタール６２．３ｇより、化合物（６）１
９．６ｇを得た。 融点：90.4-91.6℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.45(s,3H),3.69
(d,2H,J=4.0Hz),5.35-5.71(m,1H),6.48-6.80(br,1H),6.
80-7.60(m,3H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロベ
ンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド１５．７ｇおよびクロロアセトアルデヒ
ドジメチルアセタール６２．３ｇより、化合物（６）１
９．６ｇを得た。 融点：90.4-91.6℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.45(s,3H),3.69
(d,2H,J=4.0Hz),5.35-5.71(m,1H),6.48-6.80(br,1H),6.
80-7.60(m,3H)
【００３１】（実施例８） 化合物（７）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジクロロベン
ズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジクロロ
ベンズアミド１０．０ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジメチルアセタール３２．８ｇより、化合物（７）９．
０ｇを得た。 融点：159.3-160.2℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.53(s,3H),3.66
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.60(m,1H),7.35(s,3H),8.66-9.0
0(br,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジクロロベン
ズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジクロロ
ベンズアミド１０．０ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジメチルアセタール３２．８ｇより、化合物（７）９．
０ｇを得た。 融点：159.3-160.2℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.53(s,3H),3.66
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.60(m,1H),7.35(s,3H),8.66-9.0
0(br,1H)
【００３２】（実施例９） 化合物（８）：Ｎ−（１−
メトキシ−２−クロロエチル）−２−フルオロ−６−ク
ロロベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−フルオロ−６
−クロロベンズアミド６．５ｇおよびクロロアセトアル
デヒドジメチルアセタール２３．０ｇより、化合物
（８）７．３ｇを得た。 融点：134.8-135.5℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.65
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.58(m,1H),6.85-7.50(m,3H),8.5
5-9.00(br,1H)
メトキシ−２−クロロエチル）−２−フルオロ−６−ク
ロロベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２−フルオロ−６
−クロロベンズアミド６．５ｇおよびクロロアセトアル
デヒドジメチルアセタール２３．０ｇより、化合物
（８）７．３ｇを得た。 融点：134.8-135.5℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.65
(d,2H,J=5.8Hz),5.20-5.58(m,1H),6.85-7.50(m,3H),8.5
5-9.00(br,1H)
【００３３】（実施例１０） 化合物（９）：Ｎ−（１
−エトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロ
ベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド８．６ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジエチルアセタール２５．０ｇより、化合物（９）１
０．４ｇを得た。 融点：71.8-72.6℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：1.25(t,3H,J=7H
z),3.45-3.90(m,4H),5.45-5.80(m,1H),6.47-7.58(m,4H)
−エトキシ−２−クロロエチル）−２，６−ジフルオロ
ベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド８．６ｇおよびクロロアセトアルデヒド
ジエチルアセタール２５．０ｇより、化合物（９）１
０．４ｇを得た。 融点：71.8-72.6℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：1.25(t,3H,J=7H
z),3.45-3.90(m,4H),5.45-5.80(m,1H),6.47-7.58(m,4H)
【００３４】（実施例１１） 化合物（１０）：Ｎ−
（１−メトキシ−２−ブロモエチル）−２，６−ジフル
オロベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド７．７ｇおよびブロモアセトアルデヒド
ジメチルアセタール２５．０ｇより、化合物（１０）１
０．２ｇを得た。 融点：99.3-100.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.55
(d,2H,J=4Hz),5.32-5.70(m,1H),6.40-7.60(m,4H)
（１−メトキシ−２−ブロモエチル）−２，６−ジフル
オロベンズアミドの合成 実施例２に示す製造法と同様にして、２，６−ジフルオ
ロベンズアミド７．７ｇおよびブロモアセトアルデヒド
ジメチルアセタール２５．０ｇより、化合物（１０）１
０．２ｇを得た。 融点：99.3-100.7℃1 Ｈ−ＮＭＲ（60MHz,CDCl3，TMS）δ：3.50(s,3H),3.55
(d,2H,J=4Hz),5.32-5.70(m,1H),6.40-7.60(m,4H)
【００３５】（実施例１２） 連続式での製造法 内径３５ｍｍのガラス製カラムに交換容量４ｍｅｑ／ｇ
の強酸性イオン交換樹脂８５ｇを充填し、湯浴で７０℃
に加熱した。これにベンズアミド１重量部をクロロアセ
トアルデヒドジメチルアセタール１０重量部に溶解させ
た溶液を１時間当たり２３０ｇの速度で定量ポンプにて
送液した。カラムより排出された反応液２３０ｇよりク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールを減圧下に溜
去して約１３０ｇとなるまで濃縮した。次いで、これに
ｎ−ヘキサン１００ｍｌを加え、析出する結晶を濾取し
てＮ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズア
ミド〔化合物（１）〕３３．７ｇを得た。消費したベン
ズアミドに対する収率は９１％であった。
の強酸性イオン交換樹脂８５ｇを充填し、湯浴で７０℃
に加熱した。これにベンズアミド１重量部をクロロアセ
トアルデヒドジメチルアセタール１０重量部に溶解させ
た溶液を１時間当たり２３０ｇの速度で定量ポンプにて
送液した。カラムより排出された反応液２３０ｇよりク
ロロアセトアルデヒドジメチルアセタールを減圧下に溜
去して約１３０ｇとなるまで濃縮した。次いで、これに
ｎ−ヘキサン１００ｍｌを加え、析出する結晶を濾取し
てＮ−（１−メトキシ−２−クロロエチル）−ベンズア
ミド〔化合物（１）〕３３．７ｇを得た。消費したベン
ズアミドに対する収率は９１％であった。
【００３６】
【発明の効果】本発明のベンズアミド誘導体は、置換ベ
ンズアミド類とα−ハロアセタール類との反応によって
容易に合成することができ、殺虫、殺ダニ活性を有する
オキサゾリン誘導体を製造する際の中間体、あるいは各
種有機化合物の出発原料等として有用である。
ンズアミド類とα−ハロアセタール類との反応によって
容易に合成することができ、殺虫、殺ダニ活性を有する
オキサゾリン誘導体を製造する際の中間体、あるいは各
種有機化合物の出発原料等として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 朝田 亨 千葉県印旛郡酒々井町中央台４−18−６ (72)発明者 三浦 康尚 千葉県佐倉市六崎1550−２ 大日本イン キ化学佐倉社宅２−204 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 233/69 C07C 231/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴
とするベンズアミド誘導体。 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙ1 及びＹ2 は同一
でも異なっていてもよく、水素原子またはハロゲン原子
を示し、Ｒは低級アルキル基を示す。） - 【請求項２】 下記一般式（II）で表される置換ベンズ
アミド類と、 【化２】 （式中、Ｙ1 及びＹ2 は同一でも異なっていてもよく、
水素原子またはハロゲン原子を示す。）下記一般式（II
I）で表されるα−ハロアセタール類とを反応させて、 【化３】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒは低級アルキル基
を示す。）下記一般式（Ｉ）で表されるベンズアミド誘
導体を製造することを特徴とするベンズアミド誘導体の
製造法。 【化４】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙ1 及びＹ2 は同一
でも異なっていてもよく、水素原子またはハロゲン原子
を示し、Ｒは低級アルキル基を示す。） - 【請求項３】 上記一般式（II）で表される置換ベンズ
アミド類と、上記一般式（III）で表されるα−ハロア
セタール類とを、酸触媒の存在下で反応させることを特
徴とする請求項２記載のベンズアミド誘導体の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28639492A JP2944334B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体およびその製造法 |
| US08/138,423 US5354905A (en) | 1992-10-23 | 1993-10-20 | N-alkoxymethyl benzamide derivative and manufacturing method therefor, and manufacturing method for benzamide derivative using this N-alkoxymethyl benzamide derivative |
| AT93117096T ATE143354T1 (de) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-alkoxymethylbenzamid-derivate und verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von benzamid-derivaten |
| DE69305045T DE69305045T2 (de) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-Alkoxymethylbenzamid-Derivate und Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Herstellung von Benzamid-Derivaten |
| EP93117096A EP0594179B1 (en) | 1992-10-23 | 1993-10-21 | N-alkoxymethyl benzamide derivative and manufacturing method therefor, and manufacturing method for benzamide derivative using this N-alkoxymethyl benzamide derivate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28639492A JP2944334B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135916A JPH06135916A (ja) | 1994-05-17 |
| JP2944334B2 true JP2944334B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=17703838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28639492A Expired - Lifetime JP2944334B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ベンズアミド誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2944334B2 (ja) |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP28639492A patent/JP2944334B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06135916A (ja) | 1994-05-17 |
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