JP3018296B2 - グリシジルエーテルの製造法 - Google Patents
グリシジルエーテルの製造法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
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-
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- C07D407/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬品、特にβ−アドレナリン遮断作用を
有する化合物を製造するために有用なグリシジルエーテ
ルの新規な製造法に関する。
有する化合物を製造するために有用なグリシジルエーテ
ルの新規な製造法に関する。
高血圧、狭心症、不整脈などの循環器系薬剤として治
療用途に広く使用されているβ−アドレナリン遮断剤の
多くは、下記の式(I)を有するオキシプロパノールア
ミンである。
療用途に広く使用されているβ−アドレナリン遮断剤の
多くは、下記の式(I)を有するオキシプロパノールア
ミンである。
(式中のArはアリール基等の母核を、Rは低級アルキル
等を示す) これらの製造法は種々報告されているが、下記の方法
が多く用いられている。
等を示す) これらの製造法は種々報告されているが、下記の方法
が多く用いられている。
すなわち、アリールアルコールにエポキシ化合物を作
用させてグリシジルエーテルを製造し、次いでアミンを
作用させて目的のアリールオキシプロパノールアミンを
製造している。
用させてグリシジルエーテルを製造し、次いでアミンを
作用させて目的のアリールオキシプロパノールアミンを
製造している。
この反応のうち、第2工程であるグリシジルエーテル
とアミンの反応は一般に副反応も起こらず収率が良いた
め、特に問題はないが、第1工程のアリールアルコール
とエポキシ化合物との反応については、副反応、特に光
学異性体の製造においては光学純度の低下などに問題が
ある。その実施法として下記の方法が報告されている。
とアミンの反応は一般に副反応も起こらず収率が良いた
め、特に問題はないが、第1工程のアリールアルコール
とエポキシ化合物との反応については、副反応、特に光
学異性体の製造においては光学純度の低下などに問題が
ある。その実施法として下記の方法が報告されている。
特公昭60−54317号公報、特開昭57−167981号公報、
J.Med.Chem.15(3)260〜266(1972)など。
J.Med.Chem.15(3)260〜266(1972)など。
J.Am.Chem.Soc.101 3666(1979)、Chem.Pharm.Bul
l.35(9)3691〜3698(1987)など。
l.35(9)3691〜3698(1987)など。
特開昭60−208973号公報、Chem.Pharm.Bull.35(9)
3691〜3698(1987)。
3691〜3698(1987)。
Y=CF3SO2− J.Am.Chem.Soc.101 3666(1979)。
J.Med.Chem.15(3)260〜266(1972)、 J.Med.Chem.23(10)1122〜1126(1980)。
これらの方法のうち、(1)及び(2)の方法は水酸
化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基を用いて加熱する
ため、原料のアリールアルコールが塩基に対して不安定
な場合には好ましくない。例えば、母核にニトロキシ
基、アシルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアルコ
キシ基、アルコキシカルボニル基等が存在している場合
には、塩基によってこれらの基が脱離もしくは加水分解
しやすいという欠点がある。また、この方法を光学活性
体の製造に用いると、得られるグリシジルエーテルの光
学純度が低下するという欠点がある。(3)の方法にお
いては、光学純度の低下はきわめて小さいが、光学活性
なグリシジルスルホネート類を製造する必要があり、工
業的に不利な方法である。(4)の方法は収率が低く、
除去しにくい数種の副成物が生じるという欠点を有す
る。
化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基を用いて加熱する
ため、原料のアリールアルコールが塩基に対して不安定
な場合には好ましくない。例えば、母核にニトロキシ
基、アシルアミノ基、アルキルアミノカルボニルアルコ
キシ基、アルコキシカルボニル基等が存在している場合
には、塩基によってこれらの基が脱離もしくは加水分解
しやすいという欠点がある。また、この方法を光学活性
体の製造に用いると、得られるグリシジルエーテルの光
学純度が低下するという欠点がある。(3)の方法にお
いては、光学純度の低下はきわめて小さいが、光学活性
なグリシジルスルホネート類を製造する必要があり、工
業的に不利な方法である。(4)の方法は収率が低く、
除去しにくい数種の副成物が生じるという欠点を有す
る。
〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、前記の欠点を有しない、グリシジルエーテ
ルの製造法に関するもので、工業的に有利な方法を提供
するものである。
ルの製造法に関するもので、工業的に有利な方法を提供
するものである。
本発明は、3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニ
トロキシ−2H−1−ベンゾピラン〔以下化合物(II)と
いう〕に、四級アンモニウム塩(II)の存在下、水を添
加せずにエピハロヒドリン(IV)を作用させることを特
徴とする、3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロ
ポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピラン〔以下
化合物(IV)という〕の製造法である。
トロキシ−2H−1−ベンゾピラン〔以下化合物(II)と
いう〕に、四級アンモニウム塩(II)の存在下、水を添
加せずにエピハロヒドリン(IV)を作用させることを特
徴とする、3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロ
ポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピラン〔以下
化合物(IV)という〕の製造法である。
この反応を式で示すと、下記のとおりである。
式中のXはハロゲン原子を示す。ハロゲン原子として
は塩素原子、臭素原子、沃素原子が好ましい。
は塩素原子、臭素原子、沃素原子が好ましい。
第1工程では目的物(V)のほかに化合物(VI)が得
られるが、この化合物(VI)を塩基で処理することによ
り目的物(V)が生成する。
られるが、この化合物(VI)を塩基で処理することによ
り目的物(V)が生成する。
本発明のグリシジルエーテルの製造法は、塩基触媒を
用いず、また反応温度も室温程度で進行するので、好ま
しくない副反応や、化学純度の低下もきわめて起こりに
くい有利な方法である。また第2工程の塩基処理も、冷
却下もしくは室温で行えるので、塩基による障害はきわ
めて小さい。
用いず、また反応温度も室温程度で進行するので、好ま
しくない副反応や、化学純度の低下もきわめて起こりに
くい有利な方法である。また第2工程の塩基処理も、冷
却下もしくは室温で行えるので、塩基による障害はきわ
めて小さい。
光学活性体の製造に際しては、化合物(II)及び(I
V)として適当な光学活性体を用いることにより、光学
純度の高い目的化合物(V)を得ることができる。
V)として適当な光学活性体を用いることにより、光学
純度の高い目的化合物(V)を得ることができる。
本反応においては、アリール基等の母核の置換基の配
置は保持され、側鎖2位の配置は反転する。したがっ
て、式(II)の化合物と、(R)である化合物(IV)を
反応させると(2′S)である化合物(V)が得られ
る。同様に式(II)の化合物と(S)である化合物(I
V)を反応させると、(2′R)である化合物(V)が
得られる。
置は保持され、側鎖2位の配置は反転する。したがっ
て、式(II)の化合物と、(R)である化合物(IV)を
反応させると(2′S)である化合物(V)が得られ
る。同様に式(II)の化合物と(S)である化合物(I
V)を反応させると、(2′R)である化合物(V)が
得られる。
本反応に用いられるエピハロヒドリン(IV)の光学活
性体は、微生物を用いて容易に製造することができる
(例えば特開昭61−132196号、同62−40298号公報参
照)ので、この化合物を用いることは工業的に有利であ
る。また、最終目的である化合物(I)〔3,4−ジヒド
ロ−8−(3−イソプロピルアミノ−2−ヒドロキシ)
プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピラン〕
を製造するに際しては、本発明の製造方法の第1工程及
び第2工程に加え、アミンを反応させる工程を1ポット
反応で行うことができる。
性体は、微生物を用いて容易に製造することができる
(例えば特開昭61−132196号、同62−40298号公報参
照)ので、この化合物を用いることは工業的に有利であ
る。また、最終目的である化合物(I)〔3,4−ジヒド
ロ−8−(3−イソプロピルアミノ−2−ヒドロキシ)
プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピラン〕
を製造するに際しては、本発明の製造方法の第1工程及
び第2工程に加え、アミンを反応させる工程を1ポット
反応で行うことができる。
本発明に用いられる四級アンモニウム塩(III)とし
ては、次式 (式中のR1ないしR4は同一もしくは異なった低級アルキ
ル基、アリール基又はアルアルキル基、X′はハロゲン
原子を示す)で表わされる化合物が好ましい。化合物
(VII)のX′のためのハロゲン原子としては、例えば
塩素原子、臭素原子、沃素原子等が好ましい。第2工程
で用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナト
リウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
などのアルコラート類、1,8−ジアゾビシクロ〔5.4.0〕
ウンデサ−7−エンなどがあげられる。
ては、次式 (式中のR1ないしR4は同一もしくは異なった低級アルキ
ル基、アリール基又はアルアルキル基、X′はハロゲン
原子を示す)で表わされる化合物が好ましい。化合物
(VII)のX′のためのハロゲン原子としては、例えば
塩素原子、臭素原子、沃素原子等が好ましい。第2工程
で用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナト
リウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
などのアルコラート類、1,8−ジアゾビシクロ〔5.4.0〕
ウンデサ−7−エンなどがあげられる。
本反応の第1工程は、化合物(II)と1〜10モル量の
化合物(IV)を1/2〜1/50モル量の四級アンモニウム塩
(III)の存在下に0〜30℃で10〜150時間反応させるこ
とによって進行する。反応はクロロホルム、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン等の溶
媒中で行うことができるが、化合物(IV)を過剰に用い
て溶媒を兼ねることもできる。
化合物(IV)を1/2〜1/50モル量の四級アンモニウム塩
(III)の存在下に0〜30℃で10〜150時間反応させるこ
とによって進行する。反応はクロロホルム、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン等の溶
媒中で行うことができるが、化合物(IV)を過剰に用い
て溶媒を兼ねることもできる。
反応終了後、生成物を分離、精製して第2工程を行う
こともできるが、生成物を分離せずに直ちに第2工程を
行うことが工業的に有利である。すなわち第1工程終了
後の反応液に、好ましくはメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ドなどの溶媒と塩基1〜2モルを加え−10〜+30℃で数
分間ないし数時間反応させることによって第2工程の反
応は終了する。
こともできるが、生成物を分離せずに直ちに第2工程を
行うことが工業的に有利である。すなわち第1工程終了
後の反応液に、好ましくはメタノール、エタノール、n
−プロパノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ドなどの溶媒と塩基1〜2モルを加え−10〜+30℃で数
分間ないし数時間反応させることによって第2工程の反
応は終了する。
反応終了後の分離、精製は通常の方法を適当に組み合
せて行うことができる。
せて行うことができる。
本発明方法は、安価な原料を用い、副反応及び光学純
度の低下が極めて起こりにくい工業的に有利な方法であ
る。
度の低下が極めて起こりにくい工業的に有利な方法であ
る。
実施例1 3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3
−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランの製造: 3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニトロキシ−2
H−1−ベンゾピラン4.0g及びテトラメチルアンモニウ
ムクロライド207mgをエピクロロヒドリン5.2gに加え、
室温で48時間攪拌した。反応後、水酸化ナトリウム1.2g
のメタノール60ml溶液を室温で攪拌下に加え、さらに2
時間攪拌した。反応液に濃硫酸0.3gのメタノール4ml溶
液を加え、5分間攪拌したのち、溶媒を留去した。残渣
にクロロホルム及び水を加えて抽出し、クロロホルム層
を分取して、水洗後乾燥した。クロロホルムを留去し、
残渣にヘキサン30mlを加えて析出物を濾取すると、無色
結晶性粉末として目的物4.9g(収率96.8%)が得られ
た。
−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランの製造: 3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニトロキシ−2
H−1−ベンゾピラン4.0g及びテトラメチルアンモニウ
ムクロライド207mgをエピクロロヒドリン5.2gに加え、
室温で48時間攪拌した。反応後、水酸化ナトリウム1.2g
のメタノール60ml溶液を室温で攪拌下に加え、さらに2
時間攪拌した。反応液に濃硫酸0.3gのメタノール4ml溶
液を加え、5分間攪拌したのち、溶媒を留去した。残渣
にクロロホルム及び水を加えて抽出し、クロロホルム層
を分取して、水洗後乾燥した。クロロホルムを留去し、
残渣にヘキサン30mlを加えて析出物を濾取すると、無色
結晶性粉末として目的物4.9g(収率96.8%)が得られ
た。
このものの物理化学的性質は、特開昭57−167981号公
報に記載の同一化合物のものと一致した。
報に記載の同一化合物のものと一致した。
実施例2 (2′S),(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン700mg及びテトラメチル
アンモニウムクロライド70mgを(R)−エピクロロヒド
リン(光学純度98%ee以上)920mgに加え、室温で48時
間攪拌した。反応液に水酸化ナトリウム240mgのメタノ
ール12ml溶液を室温で攪拌下に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に酢酸120mgを加えて5分間攪拌したの
ち、溶媒を留去した。残渣にクロロホルム及び水を加え
て抽出し、クロロホルム層を分取して乾燥した。クロロ
ホルムを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶媒:クロロホルム)で精製したのち、アセト
ン−ヘキサンより再結晶して無色針状晶の目的物794mg
(収率89.6%)を得た。
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン700mg及びテトラメチル
アンモニウムクロライド70mgを(R)−エピクロロヒド
リン(光学純度98%ee以上)920mgに加え、室温で48時
間攪拌した。反応液に水酸化ナトリウム240mgのメタノ
ール12ml溶液を室温で攪拌下に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に酢酸120mgを加えて5分間攪拌したの
ち、溶媒を留去した。残渣にクロロホルム及び水を加え
て抽出し、クロロホルム層を分取して乾燥した。クロロ
ホルムを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶媒:クロロホルム)で精製したのち、アセト
ン−ヘキサンより再結晶して無色針状晶の目的物794mg
(収率89.6%)を得た。
融点:127〜128℃ 比旋光度:▲〔α〕25 D▼+24.7゜(c=3、CHCl3) IR値及び1H−NMR値は、Chem.Pharm.Bull.35(9)369
1〜3698(1987)に記載の同一化合物のものと一致し
た。
1〜3698(1987)に記載の同一化合物のものと一致し
た。
実施例3 (2′S),(3S)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラメチルアンモニウムクロライドを用い
て、実施例2と同様に反応、処理して目的物を得た。
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラメチルアンモニウムクロライドを用い
て、実施例2と同様に反応、処理して目的物を得た。
収率:89% 融点:136〜138.5℃ 比旋光度:▲〔α〕25 D▼−30.5゜(c=3、CHCl3) 実施例4 (2′R),(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(S)−エピクロロヒ
ドリン(光学純度98%ee以上)及びテトラメチルアンモ
ニウムクロライドを用いて、実施例2と同様に反応、処
理して目的物を得た。
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(S)−エピクロロヒ
ドリン(光学純度98%ee以上)及びテトラメチルアンモ
ニウムクロライドを用いて、実施例2と同様に反応、処
理して目的物を得た。
収率:91.0% 融点:136〜138℃ 比旋光度:▲〔α〕25 D▼+31.3゜(c=3、CHCl3) 実施例5 (2′R),(3S)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(S)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラメチルアンモニウムクロライドを用い
て、実施例2と同様に反応、処理して目的物を得た。
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランの製造: (3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(S)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラメチルアンモニウムクロライドを用い
て、実施例2と同様に反応、処理して目的物を得た。
収率:91.5% 融点:126〜127℃ 比旋光度:▲〔α〕25 D▼−24.2゜(c=3、CHCl3) 実施例6 (2′S),(3R)−ニプラジロール〔(2′S),
(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(3−イソプロピルアミ
ノ−2−ヒドロキシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H
−1−ベンゾピラン〕の製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン400mg、(R)−エピク
ロロヒドリン528mg及びテトラブチルアンモニウムブロ
マイド72mgを用い、実施例2と同様に反応、処理して
(2′S),(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランを得た。このものを精製することなく、メタノール
10mlに溶解し、イソプロピルアミン5.2mlを加えて75℃
で1時間攪拌した。反応液を常法により処理して得られ
た粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶
媒:クロロホルム−アンモニアのメタノール溶媒(10%
W/W)(15:1)〕で精製して目的物550mg(収率88.9%)
を得た。
(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(3−イソプロピルアミ
ノ−2−ヒドロキシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H
−1−ベンゾピラン〕の製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン400mg、(R)−エピク
ロロヒドリン528mg及びテトラブチルアンモニウムブロ
マイド72mgを用い、実施例2と同様に反応、処理して
(2′S),(3R)−3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エポ
キシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピ
ランを得た。このものを精製することなく、メタノール
10mlに溶解し、イソプロピルアミン5.2mlを加えて75℃
で1時間攪拌した。反応液を常法により処理して得られ
た粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶
媒:クロロホルム−アンモニアのメタノール溶媒(10%
W/W)(15:1)〕で精製して目的物550mg(収率88.9%)
を得た。
IR値及び1H−NMR値は、Chem.Pharm.Bull.35(9)369
1〜3698(1987)に記載の同一化合物のものと一致し
た。
1〜3698(1987)に記載の同一化合物のものと一致し
た。
このものを光学活性担体を用いて、別途合成したラセ
ミ体を標品とする高速液体クロマトグラフィーによって
測定したところ、(2′S),(3R)体:(2′R),
(3R)体=93.1:6.9であった。
ミ体を標品とする高速液体クロマトグラフィーによって
測定したところ、(2′S),(3R)体:(2′R),
(3R)体=93.1:6.9であった。
実施例7 (2′S),(3R)−ニプラジロールの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラエチルアンモニウムアイオダイドを用
い、実施例6と同様に反応、処理して目的物を得た。
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラエチルアンモニウムアイオダイドを用
い、実施例6と同様に反応、処理して目的物を得た。
収率:91.7% このものを光学活性担体を用いた高速液体クロマトグ
ラフィーによって測定したところ、(2′S),(3R)
体:(2′R),(3R)体=93.9:6.1であった。
ラフィーによって測定したところ、(2′S),(3R)
体:(2′R),(3R)体=93.9:6.1であった。
実施例8 (2′S),(3R)−ニプラジロールの製造: (3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラエチルアンモニウムアイオダイドを用
い、実施例6と同様に反応、処理して目的物を得た。
ロキシ−2H−1−ベンゾピラン、(R)−エピクロロヒ
ドリン及びテトラエチルアンモニウムアイオダイドを用
い、実施例6と同様に反応、処理して目的物を得た。
収率:88.0% このものを光学活性担体を用いた高速液体クロマトグ
ラフィーによって測定したところ、(2′S),(3R)
体:(2′R),(3R)体=94.9:5.1であった。
ラフィーによって測定したところ、(2′S),(3R)
体:(2′R),(3R)体=94.9:5.1であった。
Claims (7)
- 【請求項1】3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニ
トロキシ−2H−1−ベンゾピランに、四級アンモニウム
塩の存在下、水を添加せずにエピハロヒドリンを作用さ
せることを特徴とする、3,4−ジヒドロ−8−(2,3−エ
ポキシ)プロポキシ−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾ
ピランの製造法。 - 【請求項2】3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ−3−ニ
トロキシ−2H−1−ベンゾピランに、四級アンモニウム
塩の存在下、水を添加せずにエピハロヒドリンを作用さ
せ、次いで塩基で処理することを特徴とする、3,4−ジ
ヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3−ニト
ロキシ−2H−1−ベンゾピランの製造法。 - 【請求項3】(3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ
−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランに(R)−エ
ピハロヒドリンを作用させて、(2′S),(3R)−3,
4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3−
ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランを製造することを特
徴とする第1又は第2請求項記載の方法。 - 【請求項4】(3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ
−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランに(R)−エ
ピハロヒドリンを作用させて、(2′S),(3S)−3,
4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3−
ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランを製造することを特
徴とする第1又は第2請求項記載の方法。 - 【請求項5】(3R)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ
−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランに(S)−エ
ピハロヒドリンを作用させて、(2′R),(3R)−3,
4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3−
ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランを製造することを特
徴とする第1又は第2請求項記載の方法。 - 【請求項6】(3S)−3,4−ジヒドロ−8−ヒドロキシ
−3−ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランに(S)−エ
ピハロヒドリンを作用させて、(2′R),(3S)−3,
4−ジヒドロ−8−(2,3−エポキシ)プロポキシ−3−
ニトロキシ−2H−1−ベンゾピランを製造することを特
徴とする第1又は第2請求項記載の方法。 - 【請求項7】四級アンモニウム塩が、テトラ低級アルキ
ルアンモニウムハライドである第1又は第2請求項記載
の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32620588 | 1988-12-26 | ||
JP63-326205 | 1988-12-26 | ||
JP1335206A JP3018296B2 (ja) | 1988-12-26 | 1989-12-26 | グリシジルエーテルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH02256672A JPH02256672A (ja) | 1990-10-17 |
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Family
ID=18185179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1335206A Expired - Lifetime JP3018296B2 (ja) | 1988-12-26 | 1989-12-26 | グリシジルエーテルの製造法 |
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---|---|
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EP (1) | EP0406438B1 (ja) |
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AT (1) | ATE102931T1 (ja) |
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US5223646A (en) * | 1989-12-27 | 1993-06-29 | Daiso Company, Ltd. | Process for producing optically active atenolol and intermediate thereof |
JP4749759B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-08-17 | 株式会社トクヤマ | ジヒドロベンゾピラン化合物の製造方法 |
JP2007008822A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Tokuyama Corp | ジヒドロベンゾピラン誘導体の製造方法 |
Family Cites Families (13)
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---|---|---|---|---|
DE2947469A1 (de) * | 1979-11-24 | 1981-06-04 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von glycidylaethern ein- oder mehrwertiger phenole |
JPS5824578A (ja) * | 1981-08-05 | 1983-02-14 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | グリシジルエ−テルの製造方法 |
US4567264A (en) * | 1983-05-18 | 1986-01-28 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Cardioselective aryloxy- and arylthio- hydroxypropylene-piperazinyl acetanilides which affect calcium entry |
DE3319027A1 (de) * | 1983-05-26 | 1984-11-29 | Boehringer Mannheim Gmbh, 6800 Mannheim | Verfahren zur herstellung von optisch aktiven carbazol-derivaten, neue r- und s-carbazol-derivate, sowie arzneimittel, die diese verbindungen enthalten |
JPS6147474A (ja) * | 1984-08-14 | 1986-03-07 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | 臭素化オキシラン誘導体の製造法 |
DE3447252A1 (de) * | 1984-12-22 | 1986-06-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von niedermolekularen glycidylethern ein- und mehrwertiger phenole |
US4582892A (en) * | 1985-05-28 | 1986-04-15 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of epoxy resins |
DE3682537D1 (de) * | 1985-06-06 | 1992-01-02 | Ciba Geigy Ag | Polyepoxide und deren verwendung. |
JPS6245582A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-27 | Teijin Ltd | エポキシ樹脂の製造法 |
US4909957A (en) * | 1987-09-07 | 1990-03-20 | Daiso Co., Ltd. | Liquid crystalline compounds and process for production thereof |
CA1341098C (en) * | 1988-08-25 | 2000-09-12 | Kazuhiko Sakaguchi | Liquid crystal composition and use thereof |
JP2723943B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1998-03-09 | 三井化学株式会社 | 高純度多価フェノールポリグリシジルエーテルの製造方法 |
JPH06130583A (ja) * | 1992-10-21 | 1994-05-13 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真現像処理方法 |
-
1989
- 1989-12-25 EP EP90900359A patent/EP0406438B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-25 ES ES90900359T patent/ES2050425T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-25 AT AT90900359T patent/ATE102931T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-12-25 DE DE68913965T patent/DE68913965T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-25 US US07/571,543 patent/US5359097A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-25 WO PCT/JP1989/001293 patent/WO1990007506A1/ja active IP Right Grant
- 1989-12-26 JP JP1335206A patent/JP3018296B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPH02256672A (ja) | 1990-10-17 |
DE68913965T2 (de) | 1994-08-04 |
WO1990007506A1 (en) | 1990-07-12 |
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ES2050425T3 (es) | 1994-05-16 |
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EP0406438A1 (en) | 1991-01-09 |
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