JPH05506008A - ホモキラルなアミンの製造方法、該アミンを製造するための中間体の製造方法及び該方法に従って製造された中間体 - Google Patents

ホモキラルなアミンの製造方法、該アミンを製造するための中間体の製造方法及び該方法に従って製造された中間体

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JPH05506008A JP91503496A JP50349691A JPH05506008A JP H05506008 A JPH05506008 A JP H05506008A JP 91503496 A JP91503496 A JP 91503496A JP 50349691 A JP50349691 A JP 50349691A JP H05506008 A JPH05506008 A JP H05506008A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ホモキラルなアミンの製造方法、該アミンを製造するための中間体の製造方法及 び該方法に従って製造された中間体本発明は、ベータ受容体遮断物W(以下ベー タ遮断薬(betablockers)という)として使用されかつ以下の各々 の式二[式中、Armは置換されたベンゼン基又はナフタレン基を表し、R1は イソプロピル、第三級ブチル、2− (3,4−ジメトキシフェニル)エチル、 2−(2−メトキシフェノキシ)エチル、2−(4−ヒドロキシフェニルアセチ ルアミノ)エチル又は2−(N−モルホリノカルボニルアミノ)エチル基を表す コをもつ、置換3−アリールオキシ−2−ヒドロキシプロピルアミンのS−及び R−エナンチオマーの製造方法に関するものである。
本発明によれば、これらのベータ遮断薬は以下に示すアミンのS−又はR−エナ ンチオマーの形の中間体を経て製造することができる。
ここで、R1は前記と同じ意味を表し、R4は水素、又は水素化分解によって容 易に除かれる保護基、例えば−又はそれ以上の同−又は異なる置換基(例えばメ チル、アルキル、メトキシ、アルコキシ、ヒドロキシル又はニトロ)で任意に置 換されたベンジル基を表すが、無置換のベンジル基から成る保護基が好ましい。
9a又は9b、及び、8a又は8bとして示された前記中間体は、R型又はS型 の以下の一般式をもった、本発明に含まれかつ明細書中で後述する他の中間体か ら順に得る事ができる。
並びに ここで、Ar+は少なくとも−の電子吸引性の置換基をもつ置換されたベンゼン 基又はナフタレン基を表す。
従来Ω挾虚 ベータ遮断薬は生として心臓血管系の疾病(例えば高血圧、狭心症、ある種の不 整脈)及び緑内障(眼病)の薬物として使用される。殆どのベータ遮断薬は置換 された3−アリールオキシ−2−ヒドロキシプロピルアミンから成っている。
これらのものは2の位置の炭素原子にキラル中心をもっており、その結果として 各々がR型とS型の二つのエナンチオマーとして存在しつる。等量のR型とS型 から成る物質は以後ラセミ又はラセミ化合物と呼び、主にこれら二つの型の一方 から成る物質をホモキラルと呼ぶ。
幾つかのベータ遮断薬の場合、それらのS型が心臓血管系疾病に必要とされる薬 理効果をもつことが知られており、他方同じベータ遮断薬のR型は実質的に不活 性である。それとは対照的に、キーテス、EU、ストーン、Rは、アメリカンジ ャーナルオブオフサルモル第98巻(1984年)73ページにおいて、両エナ ンチオマーは緑内障に対して殆ど同等の効果があることを見出だしている。
それ故、緑内障に対しては心臓血管系に影響を与えないためR型ベータ遮断薬を 使用することが提唱されており、一方心臓血管系疾病にはS型ベータ遮断薬を使 用すべきである。それ故にホモキラルなベータ遮断薬のS型とR型の双方の製造 のための簡便な合成ルートの確立が重要となった。
ある種のホモキラルなベータ遮断薬を製造する合成ルートは文献に記載がある。
例えば米国特許4,408,063により、S−又はR−プロプラノロールは下 記の一般的機構Iに従ってS−又はR−グリシジル−4−トルエンスルホネート (la又はtb)から製造できることが既に知られている。(ここで及び以後の 一般式機構においては、当業者にとって明らかな工程や定義は表示を簡潔にする ために省略している。多くの場合、以下に続く明細書でもこれらの一般式や機構 に付された参照番号を直接参照している。)徴遣工 他に、置換されたナフタレン基の代わりに置換されたベンゼン基を含むベータ遮 断薬も従来知られている。それ故これらのベータ遮断薬についても、1ページで 前もって言ったように、一般的名称のAr2が置換されたベンゼン基とナフタレ ン基の双方を表すものとして考慮されるものである。英国特許1. 269゜7 76はこのようなベータ遮断薬を以下で2a、2b、3a及び3bとして示され るある種の特定のアミンを出発点として用いて、以下(機構■)に示した一般的 な方法に従って製造する方法を開示している。ここで、R1はアルキル基を表し 、R2は水素又はα−アリールアルキル基を表し、Zはハロゲン原子を表す。機 構■は、一方ではR2が水素である場合は目的のS−又はR−ベータ遮断薬が直 接得られ、R2が水素でない場合は得られる生成物は目的とする生成物でないが 水素化分解によって変換することにより目的物が得られることを示している。
吸慝ユ z 物の分割)によって対応するラセミ化合物からホモキラルな形で製造できる可能 し、Zlは置換可能な基を表す)のいずれかから製造されることが既に知られて いる。
橿fi オールスルホネートは、アミンと反応して対応するクロロプロパツールアミンア ミン9a、9b、8a及び8bは先に論じたアミン2及び3の一般式中に含まし たがって各々当業者に知られた技術手段によって10a又は10bに変換するこ とができる。
盪1Δ 上記機構中、ここでAr、は置換されたベンゼン基又はナフタレン基で、そのう ちの少な(とも−の置換基が電子吸引性のものであること、例えばl又はそれ以 上の塩素、臭素又はヨー素原子、1又はそれ以上のニトロソ基、ニトロ基、シア ン基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基又はトリブロモメチル基、■ 又はそれ以上の任意に置換されたスルフィニル基、スルホニル基、ホスホニル基 、ホスホリル基又はカルボニル基、或はこれらの原子及び基の組み合わせであり 、上記置換基はベンゼン環又はナフタレン環のどの位置にあってもよい。Ar。
は置換されたベンゼン基であって、少な(ともlの置換基がベンゼン環の任意の 位置にあるニトロ基、任意に置換されたスルホニル基又は任意に買換されたカル ボニル基であるものが好ましい。最も興味ある選択は、Ar、が置換されたベン ゼン基であって、ベンゼン環のいずれかの位置に少なくとも1のニトロ基の置換 基があるものである。
代わりに、スルホン酸グリシジル10aおよびlobはアリルアルコールから出 発して製造することもでき、該アリルアルコールはエナンチオ選択性エポキシ化 によってS−又はR−グリシドールに変換し、更に該グリシドールは、例えばク ルンダー、J M、ヨー、S Y1シャープレス、KBがジャーナルオブオルガ ニックケミストリー第51巻(1986)3710ページに発表したような公知 技術を用いることによって反応して各々10a又は10bを生ずる。
スルホン酸グリシジル10a及び10b各々を塩化水素と反応させ、ついでアミ ンと処理することによるアミン9a及び9bの製造は次のように表せる。
盪逍■ ここでAr+、R1及びR4は前記と同じ意味を表す。
ここで見るように、塩化水素との反応のもとでRはSに、SはRに変化する。
我々は命名法の慣習に従う接頭語R及びSよりもむしろ、その化学的現象に従っ て引用記号としてa及びbを用いることを選んだ。
アミン9a及び9bは、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム又 はマグネシウムの水酸化物、アルコキシド又は炭酸塩並びに任意に置換されたア ンモニアのような塩基で処理することにより、アミン8a及び8bの各々へと完 全に又は部分的に変換することができるが、機構Vの関連部分かられかるように 、任意にフェノールの存在下において、上記の塩基としてはナトリウム又はカリ ウムの水酸化物、あるいはナトリウム又はカリウムのアルコキシド(例えばメト キシド、エトキシド又は第三級ブトキシド)から成るものが好ましい。
ホモキラルな形態にあるアミン8及び9を製造するための上記の新規手順の有利 な点は、原料の100%を利用できるということにあり、これに対して従前の方 法では使用した原料の最大50%が利用できたにすぎず、又従前の方法は得てし て高価なホモキラル塩−生成物の使用並びに回収を伴うものであった。
前述のように、本発明はさらにS−及びR−ベータ遮断薬を製造するための新た なルートに関するものである。これらのルートはアミン9a又は9b並びに8a 又は8bを経由する。この理由のために、本発明のこの部分のための出発物質も また、反応してアミン9a又は9bを生ずるスルホン酸のR−及びS−グリシジ ルエステル(10a又は10b)である。これらのアミンは次に以下の機構に従 ってさらに処理される。
徴盪又 ここでR1とR4は前記と同じ意味を表す。R3がイソプロピルである場合はA r2は以下の第−表に示した基のうちのいずれか一つである。
第−表 (特に意味 基−Arz R−(15b)形態1 2−アセチル−4−(ブチリ ルアミノ)フェニル アセブトロール2 2−アリルフェニル アルプレノロー ル3 4−カルバモイルメチルフェニル アテノロール4 4−(2−シクロプ ロピルメトキシ ベタク゛)ロールエチル)フェニル 5 4−(2−イソプロポキシエトキシ ピップロロールメチル)フェニル 6 4−(2−シクロプロピルメトキシ シクロプロロールエトキシ)フェニル 7 2−アセチル−4−(アセチルアミカフェニル ジアセトロール8 2−メ トキシフェニル レボモプロロール9 4−(2−メトキシエチル)フェニル  メトプロロール10 8−(3−ニトロキシ)クロマニル ニブラジロールo  2−アリルオキシフェニル オクスプレノロールさらにR,が第三級ブチルであ るときは、Ar.は第二表に記載の基のうちのL%ずれか一つである。
第二表 番 号 5−(15a)又は (特に意味 基−A r 2 R−(15b ) 杉態はf慕い) の (苫括 的名称) 21 2−アセチル−4−(ジエチルカルバモイル セリプロロールアミノ)フ ェニル 22 2−メチルカルバモイルメトキンフェニル セクモロール23 1−(5 −オキソ−5,6,7,8−テトラ レボブノロールヒドロナフチル) 24 1−(シス−6,7−ヒドロキシ−5,6,ナドロール7.8−テトラヒ ドロナフチノリ 25 2−シクロペンチル ペンブトロール26 8−チオクロマニル クーク トロールR3が2− (3,4−ジメトキシフェニル)エチルであるときはAr 、は3−メチルフェニル又は4−(2−シアノ−1−メチルエチニル)フェニル であり、R1が2−(2−メトキンフェノキシ)エチルであるときはArtは4 −カルバゾリルであり、R8が2−(4−ヒドロキシフェニルアセチルアミノ) エチルであるときはAr2は2−シアノフェニルであり、最後にR1が2−(N −モルホリノカルボニルアミノ)エチルであるときはAr2は4−ヒドロキシフ ェニルである。上記機構中に示した塩基の例は既に前述した。
上記のS型又はR型のベータ遮断薬は、かくして得ることができる。これらのう ち3番、すなわちAr2が4−カルバモイルメチルフェニル(S型又はR型のア テノロール)であるものは、14番(Ar2は4−シアノメチルフェニル)のも のを例えば酸又はアルカリ水溶液で処理して加水分解することによっても得るこ とができる。
一方ではアミン8a及び9a或は8b及び9b、他方ではS−ベータ遮断薬ある いはR−ベータ遮断薬の製造のための本発明にかかる手順は、一部前述してきた ように、各々のスルホン酸グリシジル(10a又は10b)が塩化水素と反応し てクロロプロパンジオールスルホネートを生成し、該スルホネートが順にアミン 、例えばイソプロピルアミンと反応して対応するクロロプロパツールアミン9a 又は9bを生成するところにある。かくして得られたクロロプロパツールアミン をフェノール13とともに処理することにより、前記塩基の作用のもとて目的物 が得られる。ここでR1が水素を表すときは、目的物はS−又はR−ベータ遮断 薬15a又は15bであるが、R4が水素でないときは一般的構造14a又は1 4bをもつ化合物となる。構造14a又は14bをもつ物質は、水素化分解をも たらす反応条件とすることによって、例えばパラジウムのような金属触媒の存在 下で水素ガス処理を行うことによって対応するS−又は択一的にR−ベータ遮断 薬(15a又は15b)へ変換される。アミン9a又は9bを塩基の存在下でフ ェノールと反応させる場合、二つの平行的な反応が起こる。その一つは14a又 は14bあるいは15a又は15bへの直接変換であり、第二は中間生成物であ る前述のアミン8a又は8bを経由して起こる反応である。もし必要ならば、か かる中間生成物8a又は8bは結晶化又は蒸留により単離できる。
ホモキラルなスルホン酸のグリシジルエステルから出発する従来知られた手順か らホモキラルなベータ遮断薬の製造のための本発明にかかる手順を本貫的に区別 する特徴は、本発明にかかる方法では合成シーケンス中に−のエポキシ基を1. 2−クロロヒドリン基へ変換する(機構■におけるlOa又は10bから11a 又はllbへの変換)という特別の反応段階が含まれていることにある。
この新たな反応段階を加える利点は次の通りである。クロロプロパンジオールス ルホネート11a及びllbは、対応するスルホン酸グリシジルlog及びIG bよりも、もたらされる三位の炭素(C3)がアミノ化された形の副産物の比率 がより低くなることが見出だされた。このことは、アミン8a、8b、9a又は 9b中の三位の炭素がアミノ化された不純物の存在が、これらアミンから製造さ れるホモキラルなベータ遮断薬中に反対のキラル型(S−ベータ遮断薬中の不純 物としてのR−ベータ遮断薬、又はR−ベータ遮断薬中の不純物としてのS−ベ ータ遮断薬)の同類のベータ遮断薬から成る不純物の生成をもたらすので極めて 重要である。このような主成分に近い不純物の除去は、一般的に困難であ前述し たように、Ar、が少なくとも−の電子吸引性の基を含む理由は、この方法で得 られる三位の炭素がアミノ化された副産物の比率をより低くするということと同 様である。
機構■及びVに記載した手順で使用できる従来知られていないいくつかの物質の 例として次のものを挙げることができる。
R−グリシジル 4−ニトロベンゼンスルホネート、式10a又は10b(式中 、Artは前記と同じ意味を表す)のスルホン酸のある種のS−又はR−グリシ ジルエステル、並びに式11a又はllbのS−又はR−3−クロロ−1,2− プロパンジオール 1−スルホネート、例えばS−又はR−クロロ−1,2−プ ロパンジオール 1−(4−ニトロベンゼンスルホネート)。
これは本発明がR型及びS型の次の一般式の中間体をも含むことを意味する。
並びに しかし従来から知られた物質、すなわちArtが4−二トロフェニルであるS型 、Artが2−または3−ニトロフェニル、4−クロロフェニル又は4−クロロ −3−ニトロフェニルであるR型及びS型のものは除外される。
上述の本発明の構成部分である、中間体を経て原料が目的の最終生成物を生じる 反応、並びに中間体及び最終生成物の両者の分離における溶媒、濃度、温度、圧 力等の化学的諸条件の選択は本発明の目的を達成する結果を得るのに臨界的なも のではなく、その代わりに一般的に知られる有機合成手法を各々の特有な場合に 用い得る。同様のことが当然に以下に示される実施例にも当てはまり、この理由 により上記のデータは必ずしも含まれてはいない。
本発明にかかる方法に関連して適切であるい(つかの溶媒の例としてジクロロメ タン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、メタノール、水、トルエン 及び酢酸エチルが挙げられる。濃度は便法的に約0.1Mから当該反応混合物中 での飽和濃度の間の濃度が選択され、温度は約−20°Cと150°Cの間が選 択され、圧力はOOlと20バールの間が選択される。
請求の範囲で特定される本発明を、以下の実施例においてその各構成部分につい て更に説明する。これらの実施例の理解を容易にするために、各々の特定の場合 ごとに関連する式機構を引用し、同時にこれらの式機構に示されかつ種々の化合 物及びそれらのエナンチオマーに関する引用番号がいくつか含まれている。
医施皿土ユ撮復IV) 60gのR−グリシジル 3−ニトロベンゼンスルホネート(10a;Ar、は 3−ニトロフェニルを表す:〉99%はR型)をガラスフラスコ中でジクロロメ タン90m1に溶解し、次に高速液体クロマトグラフィー(HPLC)によって 99%超の上記ベンゼンスルホネートが変換されたことが分かるまで上記溶液中 へ塩化水素ガスを導入した。過剰のMCI及びジクロロメタンを除去することに よりオイル状で徐々に結晶化する5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル 3 −ニトロベンゼンスルホネート(lla:Artは3−ニトロフェニル) をt lh。
溶媒としてジューテロクロロホルムを用いた核磁気共鳴分光法(NMR)により 、以下の結果が得られた。
δ2. 7 (IH,−重線) 、3. 60 (2H,二重線) 、4. 2  (IH,多重線)、4. 24 (2H,二重線)、7. 80 (IH,三 重線)、8.24(IH1二重線から成る三重線) 、8. 50 (IH,二 重線から成る三重線)、8、 74 (IH,三重線)ppm0HPLCによる 純度は約98%。最大の不純物はエポキシド環の反対側の開環により形成された 生成物と思われる。
寒施皿lユ盪櫃■L 実施例1と同様に、但し3−異性体の代わりに4−異性体(10a:Ar、は4 −ニトロフェニル;〉99%はR型)を用いて実施することにより5−2−ヒド クキシー3−クロロプロピル 4−二トロベンゼンスルホネート(Ila+Ar 。
は4−ニトロフェニル)を得た。
NMR:δ2. 5 (IH,−重線)、3. 61 (2H,二重線)、4. 2(IH1多重線)、4. 26 (2H,二重線) 、8. 12 (2H, 二重線)、8、 41 (2H,二重線)ppm。
塞施血lユ盪復■と 実施例Iと同様に、但し塩化水素ガスとジクロロメタンの代わりに1塩酸(20 0ml)を用いて実施したところ、同様の結果が得られた。
4 ■ びV イソプロピルアミン(12; R3はイソプロピル%R1は水素、1.2m1) とジクロロメタン(0,35m1)を実施例1に従って製造された5−2−ヒド ロキシ 3−クロロプロピル 3−ニトロベンゼンスルホネート(lla;Ar +は3−ニトロフェニル) (0,20g)へ添加した。この溶液を約20”C で1時間静置し、次に減圧下で揮発性成分を取り除いた。ジメチルスルホキシド (DMSO,0,5m1)中に溶解した後、2−(4−ヒドロキシフェニル)ア セトアミド(13;Arzは4−カルバモイルメチルフェニル、0. 43g) と第三級酪酸カリウム(potassiumtert−butylate)(0 ゜68g)とのDMSO(1,3m1)溶液を加えた。80°Cで2時間経過後 、反応混合物をHPLC(カラム:キラルAGP、ChromTech)にかけ たところ、4−(2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキン)フェニ ルアセトアミド(15a:Arzは4−カルバモイルメチルフェニル、R1はイ ソプロピル)が生成されていること、並びにそのS型とR型の比が〉991であ ることが分かった。
丈施血旦(エポキシ基の1. 2−クロロヒドリン基への変換なし)実施例4と 同様に、但し5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル 3−二トロベンゼンス ルホネート(11a ;Ar+は3−ニトロフェニル)の代わりにR−グリシジ ル 3−ニトロベンゼンスルホネート(lOa:Ar、は3−ニトロフェニル) を用いて実施した。この場合生成物のS型とR型の比は97:3であった。
実施医旦ユ吸皇■と イソプロピルアミン(12;R,はイソプロピル、R4は水素、60m1)とジ クロロメタン(10ml)を実施例1に従って製造した5−2−ヒドロキシ−3 −クロロプロピル 3−ニトロベンゼンスルホネート(lla;Ar+は3−ニ トロフェニル’)(20g)に加えた。この溶液を30℃で2時間静置した。減 圧下で揮発性成分を除去し、結晶性の生成物(27g)を得た。HPLCによっ てそれが生にイソプロピルアミンの3−二トロベンゼンスルホン酸塩と5−2− ヒドロキシ−3−クロロプロピルイソプロピルアミン(9a:Rsはイソプロピ ル、R4は水素)との混合物から成ることが分かった。後者を同定する対照とし てエビクロロヒドリンをイソプロピルアミンと反応させて得たラセミ生成物を用 いた。
叉施皿しユ喪逍IVY 実施例6と同様に、但し3−異性体の代わりに4−異性体(11a ;Ar、は 4−ニトロフェニル)から出発して実施した。この場合、得られた結晶性生成物 は、実施例6において得られたものと、イソプロピルアミンの3−二トロベンゼ ンスルホン酸塩の代わりに4−二トロベンゼンスルホン酸塩と、5−2−ヒドロ キシ−3−クロロプロピルイソプロピルアミン(9a:Rsはイソプロピル、R 4は水素)とから成る点のみにおいて相違した。
衷施云且二扱逍■と 段階A 実施例1に従って製造した5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル 3−二ト ロベンゼンスルホネート(11a ;Ar、は3−ニトロフェニル)(1゜48 g)とベンジルイソプロピルアミン(12:R,はイソプロピル、R4はベンジ ル、1. 16g)とのメタノール(3,0m1)溶液を40’Cで5時間加熱 した。メタノールは減圧下で除去した。
段階B 前記生成物を、酢酸エチル/ジクロロメタン(1:9)を溶離液として用いてシ リカゲルに対してクロマトグラフィーにかけた。この場合、5−2−ヒドロキシ −3−クロロプロピルベンジルインプロピルアミン(9a ; R,はイソプロ ピル、R4はベンジル)が、粘性のオイル(0,1g)の形で得られた。
N〜fR・δ1. 02 (6H,二つの二重線) 、2. 55 (2H,多 重線)、2゜96 (IH,を重線(septet) 、3.2 (IH,広い 一重線)、3.5(5H2多重線) 、7. 16 (5H,−重線)ppm0 宜上皿主ユ攪逍yと 実施例7に従って製造された5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルイソプロ ピルアミン(9a:Rxはイソプロピル、R4は水素) (46,1g)を含む 生成物をメタノール(22ml)中に懸濁し、水酸化カリウム(16,6g)の メタノール溶液(95ml)を加えた。40’Cで1時間加熱後、揮発性成分を 除去し、水を加え、この混合物をジクロロメタンで抽出した。抽出液を蒸留して オイル状のS−2,3−エポキシプロピルイソプロピルアミン(8a;R,はイ ソプロピル、R4は水素)を得、該アミンは真空蒸留により精製した(lトール で沸点38度)。対照には実施例6で用いた対照から第三級酪酸カリウム誘導に よる塩化水素の脱離によって得たラセミ生成物を用いて、HPLCで同定を実施 した。
実施皿上旦ユ盪[1 実施例7に従って製造された5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルイソプロ ピルアミン(9a;R,はイソプロピル、R4は水素) (46,1g)を含む 生成物をメタノール(22ml)中に懸濁し、2−(4−ヒドロキシフェニル) アセトアミド(13;Arzは4−カルバモイルメチルフェニル、57.0g) と水酸化カリウム(35,7g)のメタノール溶液(195ml)を加えた。5 0’Cで2時間加熱後、HPLCによると一部8a(Riはイソプロピル、R4 は水素)を経由するが完全な変換が起こっていることが分かった。イソブタノー ルを加え、その〆昆合物を濾過し、そして大部分のメタノールをろ液から取り除 いた。残液を水で洗浄し、次に有機相の揮発性成分を除去した。生成物をイソプ ロピルアルコールを用いて再結晶し、5−4− (2−ヒドロキシ−3−イソプ ロピルアミノプロポキシ)フェニルアセトアミド(15a;Ar2は4−カルバ モイルメチルフェニル、R3はイソプロピル、6.2g)を得た。NMRはラセ ミ対照と同一であった。HPLC(カラム:キラルAGP)によると上記生成物 中のS型とR型の比は>99 : 1であった。
叉ユク巳U又と 実施例10と同様に、但し2−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミドの代わ りに1−ナフトール(13:Arzは1−ナフチル、54.4g)を用いて実施 した。この場合、S−1−(2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキ ン)ナフタレン(15a;ArzはI−ナフチル、R1はイソプロピル)が得ら れ、S型とR型の比は〉99%であった。
!施医上λユ吸櫃yル 実施例8の段階Aに従って製造された5−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル ベンジルインプロピルアミン(9a+Rsはイソプロピル、R4はベンジル)( 8,7g)を含有する生成物をメタノール(5ml)に懸濁し、2−(4−ヒド ロキシフェニル)アセトアミド(13;Arzは4−カルバモイルメチルフェニ ル、57g)と水酸化カリウム(3,6g)のメタノール溶液(20ml)を加 えた。60℃で3時間加熱後、上記混合物を濾過し、ろ液を蒸発させた。水を加 え、その混合液をジクロロメタンで抽出した。蒸発操作後抽出物をメタノール( 50ml)に溶かしパラジウム/木炭(10%、0.21g)を加え水素ガス雰 囲気中でその混合物を攪拌した。この反応は、HPLCにより出発物質の全部が 消費されたと認められた時点で中止した。得られた懸濁液を濾過し、メタノール を除去した。イソプロピルアルコールで再結晶し、NMRがラセミ対照と同一の 5−4− (2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキシ)フェニルア セトアミド(15a;Ar、はカルバモイルメチルフェニル、R3はイソプロピ ル、0.9g)を得た。HPLC(カラム:キラルAGP)による上記生成物の S型とR型の比は>99:1であった。
大流W引1!L 実施例10と同様に、但し2−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミドの代わ りに2−(4−ヒドロキシフェニル)アセトニトリル(13;Ar2は4〜シア ンメチルフエニル、50.2g)を用いて実施した。この場合5−4− (2− ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキシ)フェニルアセトニトリル(1 5a;Arzは4−シアノメチルフェニル、R8はイソプロピル、5.7g)を 得た。
寒施皿上土 実施例13に従って製造した5−4−(2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミ ノプロポキシ)フェニルアセトニトリル(15a;Aiは4−シアノメチルフェ ニル、R8はイソプロピル) (2,5g)を40℃で濃塩酸(15ml)と共 に攪拌した。3時間後混合液を水浴中で冷却し、pHを水酸化カリウムio%水 溶液を用いて12へと調整した。上記混合液を塩化ナトリウムで飽和し濾過した 。
イソプロピルアルコールで再結晶し、実施例10と同一、同純度で5−4− ( 2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキシ)フェニルアセトアミド( 15a;Ar2は4−カルバモイルメチルフェニル、R3はイソプロピル、15 g)を得た。
失血1ユ盪逍■と 実施例2と同様に、但しR−異性体の代わりにS−異性体(10b;Ar、は4 −ニトロフェニル)を用いて実施し、R−2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル 4−ニトロベンゼンスルホネート(11b ;Ar、は4−ニトロフェニル)を 得た。
叉血外上lユ吸復■と 実施例7と同様に、但しS−異性体の代わりに実施例14に従って製造したR− 異性体(] 1 b ;Ar、は4−ニトロフェニル)を用いて実施し、イソプ ロピルアミンの4−二トロベンゼンスルホン酸塩とR−2−ヒドロキシ−3−ク ロロプロピルイソプロピルアミン(9b;R,はイソプロピル、R1は水素)を 得た。
寒流す巳J二Ω引IKと 実施例10と同様に、但しS−異性体の代わりに実施例15に従って製造したR −異性体(9b;R,はイソプロピル、R,は水素)を用いて実施し、R−4− (2−ヒドロキシ−3−イソプロピルアミノプロポキシ)フェニルアセトアミド (15b;Ar2は4−カルバモイルメチルフェニル、R5はイソプロピル)を 得た。R型とS型の比は>99:1であった。
要約書 本発明は、ベータ遮断薬として用いられるある種の置換3−アリールオキソ−2 −ヒドロキシプロピルアミンのS−及びR−エナンチオマーを製造するための方 法、並びにこの製造工程に使用されるある種の中間体のS−及びR−エナンチオ マーに関する。
補正書の写しく翻訳文)提出書(特許法第184条の8)平成4*7月22日

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼(S型)及び▲数式、化学式、表等がありま す▼(R型)を有するクロロプロパノールアミンのS−及びR−エナンチオマー を、式:▲数式、化学式、表等があります▼(R型)及び▲数式、化学式、表等 があります▼(S型)[式中、Ar1は置換されたベンゼン基又はナフタレン基 を表し、少なくとも一の置換基が電子吸引性のものである] を有するスルホン酸のR−及びS−グリシジルエステル(スルホン酸グリシジル )からそれぞれ製造する方法であって、各々の上記スルホン酸グリシジルの形の 出発物質を塩化水素と反応させてそこに含有されるエポキシ基を1,2−クロロ ヒドリン基に変換して対応するクロロプロパンジオールスルホネートを得、次に 該スルホネートを一般式: R3R4NH [式中、R3はイソプロピル基、第三級ブチル基、2−(3,4−ジメトキシフ ェニル)エチル基、2−(2−メトキシフェノキシ)エチル基、2−(4−ヒド ロキシフェニルアセチルアミノ)エチル基又は2−(N−モルホリンカルボニル アミノ)エチル基を表し、R4は水素或は水素化分解によって容易に取り除くこ とができる保護基を表す] を有するアミンと反応させて目的とする前記クロロプロパノールアミンを得るこ とを特徴とする前記製造方法。
  2. 2.請求項1に従って製造された対応するS−及びR−クロロプロパノールアミ ンから一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼S型及び▲数式、化学式、表等があります▼ R型を有する2,3−エポキシプロピルアミンのS−及びR−エナンチオマーを 製造する方法であって、上記出発物質を、任意にフェノール存在下で、塩基と共 に処理することを特徴とする前記製造方法。
  3. 3.請求項1に従って製造されたS−またはR−クロロプロパノールアミンから 出発してS−及びR−ベータ遮断薬を製造する方法であって、これらアミンを塩 基存在下で一般式: Ar2OH [式中、R3がイソプロピルであるときはAr2は2−アセチル−4−(ブチリ ルアミノ)フェニル、2−アリルフェニル、4−カルバモイルメチルフェニル、 4−(2−シクロプロピルメトキシエチル)フェニル、4−(2−イソプロポキ シエトキシメチル)フェニル、4−(2−シクロプロピルメトキシエトキシ)フ ェニル、2−アセチル−4−(アセチルアミノ)フェニル、2−メトキシフェニ ル、4−(2−メトキシエチル)フェニル、8−(3−ニトロキシ)クロマニル 、2−アリルオキシフェニル、4−インドリル、1−ナフチル及び4−シアノメ チルフェニルからなる群から選ばれる基であり;R3が第三級ブチルであるとき はAr2は2−アセチル−4−(ジエチルカルバモイルアミノ)フェニル、2− メチルカルバモイルメトキシフェニル、1−(5−オキソ−5,6,7,8−テ トラヒドロナフチル)、1−(シス−6,7−ヒドロキシ−5,6,7,8−テ トラヒドロナフチル、2−シクロペンチル及び8−チオクロマニルからなる群か ら選ばれる基であり;R3が2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチルである ときはAr2は3−メチルフェニルまたは4−(2−シアノ−1−メチルエテニ ル)フェニルであり;R3が2−(2−メトキシフェノキシ)エチルであるとき はAr2は4−カルバゾリルであり; R3が2−(N−モルホリノカルボニルアミノ)エチルであるときはAr2は4 −ヒドロキシフェニルであり; R3が2−(4−ヒドロキシフェニルアセチルアミノ)エチルであるときはAr 2は2−シアノフェニルである]のフェノールで処理し、次に必要な場合、即ち R4が水素でないときは、上記反応生成物を水素化分解をもたらす反応条件下に おき、及び/又は、Ar2が4−シアノメチルフェニルであるときは上記反応生 成物を加水分解をもたらす反応条件下に任意的におくことを特徴とする前記製造 方法。
  4. 4.請求項2に従って製造されたS−又はR−2,3−エポキシプロピルアミン から出発してS−及びR−ベータ遮断薬を製造する方法であって、これらアミン を塩基存在下で一般式: Ar2OH [式中、R3がイソプロピルであるときはAr2は2−アセチル−4−(ブチリ ルアミノ)フェニル、2−アリルフェニル、4−カルバモイルメチルフェニル、 4−(2−シクロプロピルメトキシエチル)フェニル、4−(2−イソプロポキ シエトキシメチル)フェニル、4−(2−シクロプロピルメトキシエトキシ)フ ェニル、2−アセチル−4−(アセチルアミノ)フェニル、2−メトキシフェニ ル、4−(2−メトキシエチル)フェニル、8−(3−ニトロキシ)クロマニル 、2−アリルオキシフェニル、4−インドリル、1−ナフチル及び4−シアノメ チルフェニルからなる群から選ばれる基であり;またR3が第三級ブチルである ときはAr2は2−アセチル−4−(ジエチルカルバモイルアミノ)フェニル、 2−メチルカルバモイルメトキシフェニル、1−(5−オキソ−5,6,7,8 −テトラヒドロナフチル)、1−(シス−6,7−ヒドロキシ−5,6,7,8 −テトラヒドロナフチル)、2−シクロペンチル及び8−チオクロマニルからな る群から選ばれる基であり;またR3が2−(3,4−ジメトキシフェニル)エ チルであるときはAr2は3−メチルフェニル又は4−(2−シアノ−1−メチ ルエチル)フェニルであり;R3が2−(2−メトキシフェノキシ)エチルであ るときはAr2は4−カルバゾリルであり; R3が2−(N−モルホリノカルボニルアミノ)エチルであるときはAr2は4 −ヒドロキシフェニルであり; R3が2−(4−ヒドロキシフェニルアセチルアミノ)エチルであるときはAr 2は2−シアノフェニルである]のフェノールで処理し、次に必要な場合、即ち R4が水素でないときは、上記反応生成物を水素化分解をもたらす反応条件下に おき、及び/又は、Ar2が4−シアノメチルフェニルである場合は上記反応生 成物を加水分解をもたらす反応条件下に任意的におくことを特徴とする前記製造 方法。
  5. 5.クロロプロパノールアミンのS−及びR−エナンチオマーの製造に用いられ る中間体であって、R及びS型が各々次の一般式:▲数式、化学式、表等があり ます▼R型及び▲数式、化学式、表等があります▼S型〔式中、Ar1は置換さ れたベンゼン基又はナフタレン基であり、少なくとも一の置換基が電子吸引性の ものであるが、Ar1が4−ニトロフェニルであるS型のもの、並びにAr1が 2−又は3−ニトロフェニル、4−クロロフェニル又は4−クロロ−3−ニトロ フェニルであるR型及びS型のものは除く]で表されることを特徴とする前記中 間体。
  6. 6.クロロプロパノールアミンのS−及びR−エナンチオマーの製造に用いられ る中間体であって、S型及びR型がそれぞれ次の一般式:▲数式、化学式、表等 があります▼S型及び▲数式、化学式、表等があります▼R型[式中、Ar1は 置換されたベンゼン基又はナフタレン基であり、少なくとも一の置換基が電子吸 引性のものである] で表されることを特徴とする前記中間体。
  7. 7.ベータ遮断薬として利用される置換された3−アリールオキシ−2−ヒドロ キシプロピルアミンのS−及びR−エナンチオマーであって次の式:▲数式、化 学式、表等があります▼S−ベータ遮断薬▲数式、化学式、表等があります▼R −ベータ遮断薬[式中、Ar2は置換されたベンゼン基又はナフタレン基であり 、またR3はイソプロピル、第三級ブチル、2−(3,4−ジメトキシフェニル )エチル、2−(2−メトキシフェノキシ)エチル、2−(4−ヒドロキシフェ ニルアセチルアミノ)エチル又は2−(N−モルホリノカルボニルアミノ)エチ ル基である]で表わされるものの製造方法であって、上記アミンのR−又はS− グリシドール又はエステルを以下の機構:▲数式、化学式、表等があります▼R 型→▲数式、化学式、表等があります▼S型ClO2SAr1→▲数式、化学式 、表等があります▼R型▲数式、化学式、表等があります▼R型ClO2SAr 1→▲数式、化学式、表等があります▼S型〔上記機構中、Ar1は置換された ベンゼン基又はナフタレン基で少なくとも一の置換基が電子吸引性であるもの] に従って各々スルホン酸グリシジルへ変換し、或はエナンチオ選択性エポキシ化 によってアルキルアルコールから同様のスルホン酸グリシジルを製造し;次いで このようにして得られたスルホン酸グリシジルを以下の機構: ▲数式、化学式、表等があります▼R型HCl→▲数式、化学式、表等がありま す▼S型→▲数式、化学式、表等があります▼S型▲数式、化学式、表等があり ます▼S型HCl→▲数式、化学式、表等があります▼R型→▲数式、化学式、 表等があります▼R型[上記機構中、R4は水素又は水素化分解によって容易に 取り除ける保護基であり、R3とAr1は前記と同じ意味を表す]に従って塩化 水素と反応させかつアミン処理することにより対応するクロロプロパノールアミ ンを得;次に、このようにして得られたクロロプロパノールアミンを以下の機構 : ▲数式、化学式、表等があります▼S−ベータ遮断機▲数式、化学式、表等があ ります▼R−ベータ遮断機に従って塩基の作用下でフェノール処理することを特 徴とする前記製造方法。
  8. 8.前記の塩化水素反応とアミン処理の後で得られたクロロプロパノールアミン を以下の機構: ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ [上記機構中、水素化分解段階は、R4が水素でないときのみ行い、又Ar2が 4−シアノメチルフェニルである場合には加水分解をもたらす反応条件下に任意 的におかれる] に従って、最初に塩基で処理し、その後にフェノール処理することを特徴とする 、請求項7に記載の方法。
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