JP3010843B2 - 導電性樹脂ペースト組成物およびこの組成物を用いた半導体装置 - Google Patents
導電性樹脂ペースト組成物およびこの組成物を用いた半導体装置Info
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Description
る、半導体のダイボンディング用導電性樹脂ペースト組
成物およびこの組成物を用いた半導体装置に関する。
て、Au−Si共晶、半田、導電性樹脂ペースト組成物
等が知られているが、作業性及び低コスト化の点から、
導電性樹脂ペーストが広く使用されるようになった。更
に、近年の半導体産業の進歩に伴い、高スループット、
高生産性を実現するため短時間で硬化できることが、導
電性樹脂ペースト組成物に要求されるようになってき
た。
は、酸無水物、フェノール樹脂、ジシアンジアミド等の
主硬化剤に硬化促進剤としてイミダゾール等のアミン系
化合物を添加する手法が用いられるが、短時間硬化を実
現するためには硬化促進剤の添加量を多くする必要があ
る。このようにアミン系硬化促進剤を多く添加して調製
した導電性樹脂ペースト組成物は、その硬化物の熱水抽
出後の抽出水中のイオン性不純物が増加し、半導体装置
の耐湿信頼性を劣化させる原因となる欠点を有する。
点がなく、短時間硬化が可能であり、なおかつ、熱水抽
出水中のイオン性不純物が少ない、高信頼性の半導体の
ダイボンディング用導電性樹脂ペースト組成物およびこ
の組成物を用いた半導体装置を提供するものである。
シ樹脂、(2)硬化剤、(3)導電性金属粉体および
(4)無機イオン交換体を含有してなる導電性樹脂ペー
スト組成物ならびにこの組成物を用いた半導体装置に関
する。
は、導電性樹脂ペースト硬化物を熱水中で抽出したと
き、水溶液中に抽出されるイオン、例えば、
り、また、ペースト組成物の硬化及び半導体装置の組立
て工程で加えられる熱に耐えられる耐熱性を有すること
が必要である。このようなイオン交換体としては、天然
に産出されるゼオライト、沸石類、酸性白土、白雲石、
ハイドロタルサイト類などの天然鉱物、人工的に合成さ
れた合成ゼオライト、特開平2−294354号広報に
開示されている次の一般式(I)で示されるオキシ酸ビ
スマス系化合物等が用いられる。 Bix(M)yOz(OH)p(X)q(Y)r・nH20 (I) 式においてMは、Sb、Siなどの金属、X、Yは炭酸
基、硝酸基、スルホン酸基、ケイ酸基などのオキシ酸残
基、z、y、z、p、q、r、nは0以上の小数を含む
数を表す。これらの無機イオン交換体は、イオン捕捉効
果から導電性樹脂ペースト組成物に対し0.05〜5重
量%の範囲で添加するのが好ましい。
に制限はないが、1分子中に2個以上のエポキシ基を有
する化合物が、硬化性の点から好ましい。このようなエ
ポキシ樹脂としては、たとえば、フェノールノボラツク
型エポキシ樹脂 N−730S(大日本インキ化学社
製)、Quatrex−2010(ダウ・ケミカル社
製)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 YDCN
−702(東都化成社製)、EOCN−100(日本化
薬社製)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂 AER−
X8501(旭化成工業社製)、YL−980(油化シ
ェルエポキシ社製)、ビスフェノールF型エポキシ樹脂
YDF−170(東都化成社製)、ビスフェノールA
D型エポキシ樹脂 R−1710(三井石油化学社
製)、多官能エポキシ樹脂 EPPN−501(日本化
薬社製)、TACTIX−742(ダウ・ケミカル社
製)、VG−3101(三井石油化学工業社製)、10
32S(油化シェルエポキシ社製)、ナフタレン骨格を
有するエポキシ樹脂 HP−4032(大日本インキ化
学社製)、脂環式エポキシ樹脂 EHPE−3150
(ダイセル化学工業社製)、アミン型エポキシ樹脂 E
LM−100(住友化学社製)、YH−434L(東都
化成社製)などがある。またこれらのエポキシ樹脂を適
宜組み合わせて用いてもよい。
はないが、例えばフェノール樹脂H−1(明和化成社
製)、フェノールアラルキル樹脂 XL−225(三井
東圧化学社製)、ジシアンジアミドSP−10(日本カ
ーバイド社製)、二塩酸ジヒドラジド、ADH、PD
H、SDH(日本ヒドラジン工業社製)、イミダゾール
類、キュアゾール(四国化成社製)などが挙げられる。
促進剤を添加してもよい。このような、硬化促進剤とし
ては、有機ボロン塩、EMZ・K、TPPK(北興化学
社製)、三級アミン類及びその塩、DBU、U−CAT
102、106、830、340、5002(サンアプ
ロ社製)イミダゾール類、キュアゾール(四国化成社
製)などが挙げられる。これら硬化剤及び必要に応じて
添加される硬化促進剤は単独で用いてもよく、数種類の
硬化剤及び硬化促進剤を適宜組み合わせて用いてもよ
い。
たとえば金、銀、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、ス
テンレス等の粉体が挙げられる。これらの中で、導電性
に優れ、イオン性不純物の少ない銀が好ましい。これら
導電性金属粉体の形状としては、フレーク状、樹枝状、
球状、不定形等あるが、これら種々の形状のものを組合
せて用いることもできる。
は、ペースト組成物作成時の作業性及び使用時の塗布作
業性をより良好ならしめるため、必要に応じて、希釈剤
を添加することができる。これらの希釈剤としては、ブ
チルセロソルブ、カルビトール、酢酸ブチルセロソル
ブ、酢酸カルビトール、エチレングリコールジエチルエ
ーテル、α−テルピネオールなどの比較的沸点の高い有
機溶剤、PGE(日本化薬社製)、PP−101(東都
化成社製)、ED−502、503(旭電化社製)、Y
ED−122(油化シェルエポキシ社製)、KBM−4
03、LS−7970(信越化学工業社製)、TSL−
8350、TSL−8355、TSL−9905(東芝
シリコーン社製)などの1分子中に1〜2個のエポキシ
基を有する反応性を有する希釈剤が挙げられる。
に必要に応じてシランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤等の接着力向上剤、ノニオン系界面活性剤、フッ
素系界面活性剤などの濡れ向上剤、シリコーン油などの
消泡剤等も適宜添加することができる。
(1)エポキシ樹脂、(2)硬化剤、(3)導電性金属
粉体および(4)無機イオン交換体に必要に応じて添加
される希釈剤、各種添加剤の存在下、一括または分割し
て、撹拌器、らいかい器、三本ロール、ボールミル、プ
ラネタリーミキサなどの分散、溶解装置を適宜組合せ、
必要に応じて加熱して、混合、溶解、解粒混練又は分散
して、均一なペースト状とすることができる。
て半導体素子をリードフレーム等の基板に接着させるに
は、まず基板上に導電性樹脂ペースト組成物をディスペ
ンス法、スクリーン印刷法、スタンピング法などにより
塗布したのち、半導体素子を圧着し、その後オーブンま
たはヒートブロックなどの加熱装置を用いて加熱硬化す
ることにより行うことができる。さらに、ワイヤボンド
工程を経たのち、通常の方法により封止することによ
り、完成された半導体装置とすることができる。
化物からの熱水へのイオン性不純物の溶出を押さえるこ
とができ、この導電性樹脂ペースト組成物を半導体のダ
イボンディング材として使用した場合に、半導体の耐湿
信頼性を向上させることができる。
型エポキシ樹脂、エポキシ当量=170)10重量部、
YL−980(油化シェルエポキシ製商品名、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量=185)10
重量部を80℃に加熱し1時間撹拌を続け均一なエポキ
シ樹脂溶液を得る。H−1(明和化成製商品名、フェノ
ールノボラック樹脂、OH当量=106)1重量部、P
P−101(東都化成製商品名、アルキルフェニルグリ
シジルエーテル、エポキシ当量=230)2重量部を1
00℃に加熱し、1時間撹拌を続け均一なフェノール樹
脂溶液を得る。こうして得た、エポキシ樹脂溶液及びフ
ェノール樹脂溶液に、PP−101、2P4MHZ(四
国化成製商品名、イミダゾール類)、オキシ酸ビスマス
系化合物(合成物)、ハイドロタルサイト(天然鉱
物)、TCG−1(徳力化学研究所製商品名、銀粉)を
表1に示す配合比に従って配合し、三本ロールを用いて
混練したのち、5Torrで10分間脱泡処理を行い、
導電性樹脂ペースト組成物を得た。ここで、オキシ酸ビ
スマス系化合物は、硝酸ビスマス5水和物(Bi(NO
3)3・5H2O)50重量%水溶液200gに、水酸化
ナトリウム(NaOH)15重量%水溶液23g及びメ
タケイ酸ナトリウム(Na2SiO3・9H2O)15重
量%水溶液500gを10ml/minの速度で添加
し、得られたスラリーを24時間室温で放置後、脱イオ
ン水で洗浄、テカンテーションを行い、No.2のろ紙
でろ過後、110℃で10時間乾燥させて得た。更に、
これをクラッシャーミルで粉砕したのち、更に自動乳鉢
で粉砕後、120℃で24時間乾燥して用いた。組成分
析の結果Bi6O6(OH)5(NO3)0.4(HSiO3)
0.6・H2Oであった。この導電性樹脂ペースト組成物の
特性を調べた結果、表1に示すように、オキシ酸ビスマ
ス系化合物の添加量を多くするに従って抽出液中のCl
- 濃度が減少する傾向が認められた。
部に、Quatrex2010(ダウ・ケミカル社製商
品名、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ
当量=180)5重量部を加え、100℃に加熱して1
時間撹拌してエポキシ樹脂溶液を得る。表1に示す配合
となるように各材料を配合して、実施例1〜5と同様に
して導電性樹脂ペースト組成物を作成し、特性を調べ
た。表1に示すように実施例1〜5と同様に、抽出水中
のCl- 濃度は低い値を示した。
例3と同様にして導電性樹脂ペースト組成物を作成し、
特性を調べた。表1に示すように、抽出水中のCl- 濃
度は低い値を示した。
び2P4MHZの添加量を少なくしたものについて、表
1に示す配合の導電性樹脂ペースト組成物を実施例1と
同様にして作成し、特性を調べた。表1に示すように、
2P4MHZの添加量の多い比較例1では、抽出水中の
Cl- 濃度は高い値を示し、2P4MHZの添加量を少
なくすると、抽出水中のCl- 濃度は低いが、硬化性も
劣り、十分な接着強さが得られなくなる。
さ及び抽出水Cl- 濃度を硬化剤2P4MHZの添加量
に対してプロットしたものを図1に示す。
おける粘度(Pa・s)を測定した。
に約200μg塗布し、この上に2×2mmのSiチッ
プ(厚さ、約0.4mm)を圧着し、更に200℃に設
定したヒートブロック上にのせ、60秒加熱した。これ
を自動接着力試験器(Dege製、マイクロテスター)
を用い、室温におけるせん断接着強さ(kg/chi
p)を測定した。
広げ、これを180℃に設定した熱風循環式の通常のオ
ーブンに1時間放置して硬化させ、100メッシュ程度
にクラッシャミルを用いて粉砕し、この粉砕物10gに
対し、脱イオン水50gを60mlの耐圧テフロンジャ
ーに入れて密封し、120℃に設定した熱風循環式の通
常のオーブンに20時間放置して得た抽出水から、ろか
により、導電性樹脂ペースト組成物の硬化物を除去し、
イオンクロマトグラフ法により抽出水中のCl- 濃度
(ppm)を測定した。
るためには、単純に硬化剤の添加量を多くすると、熱水
で抽出されるイオン性不純物、特にCl- 濃度が高くな
る傾向があるが、本発明になる導電性樹脂ペースト組成
物は、熱水で抽出されるCl-濃度が低く、半導体の耐
湿信頼性において、Al配線腐食に対する耐性が向上さ
れる。また、本発明になる導電性樹脂ペースト組成物
は、短時間硬化が可能であり、半導体装置の生産性向上
に寄与できる。
び抽出水Cl-濃度を、硬化剤2P4MHZの添加量に
対してプロットしたものである。
Claims (3)
- 【請求項1】 (1)エポキシ樹脂、(2)硬化剤、
(3)導電性金属粉体および(4)無機イオン交換体を
含有してなる導電性樹脂ペースト組成物。 - 【請求項2】 無機イオン交換体が、オキシ酸ビスマス
系化合物である請求項1記載の導電性樹脂ペースト組成
物。 - 【請求項3】 半導体素子と基板とを請求項1又は請求
項2に記載の導電性樹脂ペースト組成物で接着した後、
封止してなる半導体装置。
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---|---|---|---|
JP28134291A JP3010843B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 導電性樹脂ペースト組成物およびこの組成物を用いた半導体装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28134291A JP3010843B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 導電性樹脂ペースト組成物およびこの組成物を用いた半導体装置 |
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JPH05121465A JPH05121465A (ja) | 1993-05-18 |
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ID=17637775
Family Applications (1)
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JP28134291A Expired - Lifetime JP3010843B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 導電性樹脂ペースト組成物およびこの組成物を用いた半導体装置 |
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- 1991-10-28 JP JP28134291A patent/JP3010843B2/ja not_active Expired - Lifetime
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