JP3000962B2 - 出力回路 - Google Patents
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Description
に伝送ライン経由による集積回路相互間の論理信号伝送
用の出力回路に関する。
積回路相互間をバスラインなどの伝送路を経由して信号
伝送する場合の信号送信手段として利用されている。こ
の出力回路で論理信号を伝送する場合は論理値のHレベ
ルまたはLレベルのいずれかを信号として出力する。し
たがって、出力回路には自集積回路内部からの内部論理
信号を受信するための入力端子と、その内部論理信号を
他集積回路へ伝搬するための出力端子が必ず存在する。
されている電源電圧に近い値の振幅を持つものが殆どで
あったが、近年は信号振幅を極端に縮小して伝送する場
合が多くなってきている。例えば、従来の伝送信号とし
てCMOSインターフェースを例に挙げると、その信号
振幅は供給電源電圧にほぼ等しい、約5Vあるいは約3
Vという値が一般的であった。これに対し近年の小振幅
による伝送信号、例えばLow Voltage Di
fferencial Signaling(以下LV
DS)インターフェースを例に挙げると、その信号振幅
は約0.3Vという極めて小さい値になっている。この
ような信号振幅の縮小を行う理由は、伝送速度の高速
化、低消費電力化、信号伝送時に発生するノイズの低下
などに対し非常に大きな効果をもたらすことが明らかに
なっているためである。したがって、高速化あるいは低
消費電力化を基本思想とする集積回路には上記効果を得
るために、低振幅信号を出力することができる低振幅出
力回路を搭載する必要性が出てきた。
既に幾つかの提案がなされており、以下に過去において
提案された例を示す。
幅インターフェースの代表例であるPseudo Em
itter Coupled Logicインターフェ
ース(以下PECLインターフェース)を回路図で示す
図8を参照すると、この従来の第1の出力回路は、ソー
スが正電位の電源端子VDDにドレインが出力端子OU
T1にゲートが入力端子IN1にそれぞれ接続されたP
MOS型のトランジスタM11と、ドレインがトランジ
スタM11のドレインにゲートがトランジスタM11の
ゲートにそれぞれ接続しソースが接地電位の電源端子V
SSに接続されたNMOS型のトランジスタM12と、
一端が出力端子OUT1に他端が終端電源VTTにそれ
ぞれ接続した低振幅信号出力用の終端抵抗RTT1を備
える。
ら正の電位を供給し、また電源端子VSSを接地する。
VSSに負の電位を供給する場合もある。
値が規格化されており、前者は約50Ω、後者は電源電
圧から約2Vを差し引いた値を使用することが一般的で
ある。
回路の動作について説明すると、いま、入力端子IN1
に電源端子VDDの電位VDDに近いHレベルの電位が
供給されている場合は、トランジスタM11が遮断状
態、トランジスタM12が導通状態となるため、終端電
源VTTから終端抵抗RTTとトランジスタM12を経
由し、電源端子VSSへ向けて流れる電流ルートが形成
される。このときの出力端子OUT1のLレベル電位V
OLは、次式にて表される。 VOL=[VTT−{(VTT−VSS)×RTT}]/(RTT+RONN) ・・・・(1) ここで、VTTは終端電源VTTの電位、VSSは電源
端子VSSの電位、RTTは終端抵抗RTT1の抵抗
値、ROnNはNMOS型トランジスタM12の導通状
態の抵抗値すなわち導通抵抗をそれぞれ表す。
位VSSに近いLレベルの電位が供給されている場合を
考えると、トランジスタM11が導通状態、トランジス
タM12が遮断状態となるため、電源端子VDDからト
ランジスタM11と終端抵抗RTT1を経由し、終端電
源VTTへ向けて流れる電流ルートが形成される。この
ときの出力端子OUT1のHレベル電位VOHは、次式
にて表される。 VOH=[VTT+{(VDD−VTT)×RTT}]/(RTT+RONP) ・・・・(2) ここで、RONPはPMOS型トランジスタM11の導
通抵抗を表す。
OHとLレベルVOL及び信号振幅(VOH−VOL)
を算出するため、式(1)と式(2)における各種変数
を以下のように、VDD=3V、VSS=0V、VTT
=1.5V、RTT=50Ω、RONN=200Ω、R
ONP=200Ωと設定する。
入し計算すると、出力OUTのHレベルVOH,Lレベ
ルVOLは以下のように算出される。
は、予め定められた供給電源VDD,VSS,VTTと
終端抵抗RTTに対し、素子のサイズによって自由に調
節できるPMOS型トランジスタM11またはNMOS
型トランジスタM12の導通抵抗RONP,RONNを
変化させることによって実現できることが特徴の一つで
ある。
出力端子が1つしか存在しないことにより当然ながら伝
送信号も1種類だけであるため、一般的にこれを単相伝
送方式と呼ぶ。
の伝送方式として、出力端子を2つ保有することにより
2種類の伝送信号を出力する差動伝送方式と呼ばれるも
のも一般的に用いられている。この差動伝送方式の2種
類の伝送信号は、ぞれぞれの出力HレベルとLレベルの
電位は全く同等であるが、時間軸上における位相差が反
転しているという特徴を持つ。この差動伝送方式は上記
のように、2種類の信号の位相のみが反転しているの
で、信号のダイナミックレンジを単相伝送方式の場合と
比較して2倍確保できることに加え、電源等に発生する
ノイズの影響や電磁誘導障害も低減できるという効果が
あることから、高速伝送や高い信頼性を必要とする伝送
においてよく利用されている。この差動伝送方式に必要
な差動信号を出力するための出力回路も既に幾つかの提
案がなされており、以下にその一例を示す。
ンターフェース用の従来の第2の出力回路を図8と共通
の構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様に回
路図で示す図9を参照すると、この従来の第2の出力回
路は、従来の第1の出力回路と共通のトランジスタM1
1,M12,終端抵抗RTT1と、入力端子IN1,出
力端子OUT1とから成る出力部1と、出力部1と同一
構成すなわちソースが正電位の電源端子VDDにドレイ
ンが出力端子OUT2にゲートが入力端子IN2にそれ
ぞれ接続されたPMOS型のトランジスタM21と、ド
レインがトランジスタM21のドレインにゲートがトラ
ンジスタM21のゲートにそれぞれ接続しソースが接地
電位の電源端子VSSに接続されたNMOS型のトラン
ジスタM22と、一端が出力端子OUT2に他端が終端
電源VTTにそれぞれ接続した終端抵抗RTT2を有す
る出力部2とを備える。
TTは予め値が規格化されており、前者は約45ないし
65Ω、後者は約1.1Vないし1.4Vに設定するこ
とが一般的である。
回路の動作について説明すると、いま、入力端子IN1
に電源端子VDDの電位VDDに近いHレベルの電位が
供給され、同時に入力端子IN2に電源端子VSSの電
位VSSに近いLレベルの電位が供給されている場合を
考えると、トランジスタM12,M21が導通状態、ト
ランジスタM11,M22が遮断状態となるため、電源
端子VDDからトランジスタM21と終端抵抗RTT2
を経由し、終端電源VTTへ向けて流れる電流ルート
と、終端電源VTTから終端抵抗RTT1とトランジス
タM12を経由し電源端子VSSへ向けて流れる電流ル
ートとが形成される。したがって、出力端子OUT1は
Lレベル信号を、出力端子OUT2はHレベル信号をそ
れぞれ出力する。これらのHレベル信号電位VOHと、
Lレベル信号電位VOHは、前述の式(1),(2)で
与えられる。
電位VSSに近いLレベルの電位が供給され、同時に入
力端子IN2に電源端子VDDの電位VDDに近いHレ
ベルの電位が供給されている場合を考えると、トランジ
スタM11,M22が導通状態、トランジスタM12,
M21が遮断状態となるため、電源端子VDDからトラ
ンジスタM11と終端抵抗RTT1を経由し、終端電源
VTTへ向けて流れる電流ルートと、終端電源VTTか
ら終端抵抗RTT2とトランジスタM22を経由し電源
端子VSSへ向けて流れる電流ルートとが形成される。
したがって、出力端子OUT1はHレベル信号を、出力
端子OUT2はLレベル信号をそれぞれ出力する。
出力回路の出力信号電位のHレベルとLレベルを生成す
る方法は、単相型の従来の第1の出力回路の場合と全く
同一であるため、式(1),(2)に与える変数条件が
同じであれば、これらHレベル信号VOHとLレベル信
号VOLは上記の数値(3),(4),(5)と同等と
なる。また、この従来の第2の出力回路にて希望とする
小振幅を得るためには、従来の第1の出力回路と同様
に、予め定められた供給電源VDD,VSS,VTTと
終端抵抗RTT1,RTT2に対し、素子のサイズによ
って自由に調節できるPMOSトランジスタM11,M
21とまたはNMOSトランジスタM12,M22の導
通抵抗RONP,RONNを変化させることによって実
現できる。
出力回路は、予め定められた供給電源VDD,VSS,
VTTと終端抵抗RTT1,RTT2に対し、調節が容
易に実現できるMOSトランジスタの導通抵抗を設定す
ることによって、小振幅の出力信号を得ることができる
が、出力振幅の変動が極めて大きいという問題点があっ
た。
ルVOHとLレベルVOLを制御する要素はMOSトラ
ンジスタの導通抵抗RONP,RONNであったが、こ
れら抵抗値RONP,RONNには以下に示す3つの変
動成分が加味される。
響である。出力回路を構成しているトランジスタなどの
素子群は、製造工程の過程において、形状に関わる変動
要因、いわゆる製造ばらつきが必ず含まれる。MOSト
ランジスタの導通抵抗の一般的な製造ばらつきの例を挙
げると、トランジスタの形状によって異なるが、およそ
±10%ないし20%の変動幅を持つ。
搭載した電子装置は様々な環境下で利用される。MOS
トランジスタの導通抵抗は、特に周囲温度の変化ととも
に変動し、一般的なばらつきの例を挙げると、100℃
の温度変化に対しおよそ±8%ないし16%の変動幅を
持つ。
外部から供給される電源電圧は、外部電源自身の電位変
動に加え、供給線路の電位損失等によっても変化する。
MOSトランジスタの導通抵抗は、入力電圧の変化とと
もに変動し、一般的なばらつきの例を挙げると、電源電
圧±10%の変動に対しおよそ±10%ないし15%の
変動幅を持つ。
OSトランジスタの導通抵抗は、およそ±28%ないし
51%の範囲で変動する。この変動成分を式(1),
(2)で求めた出力信号のHレベルVOHとLレベルV
OLに換算すると、以下のように算出される。
出される。
の導通抵抗から計算した信号振幅は、既に数値(3)に
示したように0.6Vであった。これに対し3つの変動
要素を加味した場合の信号振幅は、数値(8)に示した
ように、約1.7倍もの値にまで大きくなっている。
信号振幅が大きくなった場合は、冒頭にて説明した小振
幅伝送の効果を損なうという問題を引き起こす。すなわ
ち従来の第1,第2の出力回路は、信号振幅の変動が著
しく大きく、そのため伝送速度の低下や消費電力の増加
及び信号伝送時に発生するノイズの増加要因となる。
第1,第2の出力回路は、予め定められた供給電源と終
端抵抗に対し、適切な素子サイズの設定により調節が容
易にできるMOSトランジスタの導通抵抗を設定するこ
とによって、所望の小振幅の出力信号を得るが、上記導
通抵抗が、製造ばらつきと周囲温度及び電源電圧の各変
動要因による影響を受けことから、出力振幅の変動が極
めて大きいという欠点があった。
幅が大きくなった場合は、伝送速度の低下や消費電力の
増加及び信号伝送時に発生するノイズの増加要因となる
という欠点があった。
圧し、伝送速度の低下や消費電力の増加及び信号伝送時
に発生するノイズの増加を低減する出力回路を提供する
ことにある。
1の集積回路の論理信号を電源電圧に比較して遥かに小
さい予め定めた振幅値の小振幅信号に変換して第2の集
積回路に伝送するための出力回路において、前記小振幅
信号の第1及び第2のレベルの電位値の各々をそれぞれ
検出してこの電位値対応の電流又は電圧信号であるレベ
ル検出信号を出力する第1及び第2の出力レベルセンス
手段の少なくとも1つと、前記レベル検出信号の大きさ
に応答して前記第1及び第2のレベルの電位値の各々を
変化させる第1及び第2の出力レベル制御手段の少なく
とも1つとを備えて構成されている。
を図8と共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付
して同様に回路図で示す図1を参照すると、この図に示
す本実施の形態の出力回路は、従来の第1の出力回路と
共通のトランジスタM11,M12,終端抵抗RTT1
と入力端子IN1,出力端子OUT1とから成る出力部
1に加えて、出力端子OUT1のレベルを検出するレベ
ルセンス回路3と、レベルセンス回路3のレベル検出に
応答して出力信号レベルを制御するレベル制御回路5と
を備える。
OUT1に接続したNMOS型のトランジスタM31
と、共通接続したドレインとゲートとをトランジスタM
31のドレインにソースを電源VSSにそれぞれ接続し
たNMOS型のトランジスタM32とを備える。
Dにベースをレベルセンス回路3のトランジスタM31
のドレインにエミッタを出力部1のトランジスタM11
のソースにそれぞれ接続したNPN型のバイポーラ型の
トランジスタM51と、一端をトランジスタM51のベ
ースに他端を電源VDDにそれぞれ接続した抵抗素子R
51とを備える。
について説明すると、この回路は出力信号のHレベルV
OHの変動を抑圧するための回路であり、まず、入力端
子INに電源端子VSSに近い電位のLレベル信号が供
給されている場合を考えると、出力回路1のトランジス
タM11が導通状態で、トランジスタM12が遮断状態
となり、レベル制御回路5のトランジスタM51は常に
導通状態であるため、電源端子VDDからトランジスタ
M51とトランジスタM11及び終端抵抗RTT1を経
由し、終端電源VTTへ向けて流れる電流ルートが形成
される。この場合の出力端子のHレベルVOHは、次式
にて表される。 VOH=[VTT+{(VDD−VTT)×RTT}]/(RTT+RONB+ RONP)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(9) ここで、RONBはトランジスタM51の導通抵抗であ
る。
ONPが上述した3つの変動要因、すなわち製造行程、
周囲温度、電源電圧の影響によって大きい値に変動し、
出力信号のHレベルVOHが上昇したとすると、このと
きレベルセンス回路3のトランジスタM31,M32が
強い導通状態に変化し、トランジスタM31のドレイン
からトランジスタM32を経由し、電源端子VSSへ向
けて電流を流そうとする。この時に流れる電流は、出力
信号HレベルVOHの変化に応じて変動する連続的な電
流であり、次式で示される。 I31=0.5×μ×CO×W/L×(VGS−VTN31)2・・(10) ここで、I31はトランジスタM31に流れる電流、μ
はトランジスタM31の移動度、COはトランジスタM
31の単位面積当たりのゲート・チャネル間容量、Wは
トランジスタM31のゲート幅、LはトランジスタM3
1のゲート長、VGSはトランジスタM31のゲート・
ソース間電圧、VTN31はトランジスタM31のしき
い値をそれぞれ示す。
Dから電流/電圧変換の役割を果たしているレベル制御
回路5の抵抗素子R51を経由しトランジスタM31の
ドレインへ供給される。抵抗素子R51は、上記の連続
的な電流変化量に比例した電位降下を発生し、その連続
的な電位降下は、出力レベル制御の役割を果たしている
トランジスタM51のベースに供給され、その電位差は
次式で示される。
量、R51は抵抗素子R51の抵抗値をそれぞれ示す。
は、ベースに入力された連続的な電圧変化量をそのまま
エミッタから出力し、出力回路1のトランジスタM11
のソースに供給する。トランジスタM11の移動度を
μ,ゲート幅をW,ゲート長をL,単位面積当たりのゲ
ート・チャネル間容量をCO,ゲート・ソース間電圧を
VGS,しきい値をVTP5とすると、トランジスタM
11の導通抵抗RONP11は、この連続的な電圧変化
を供給された場合、次式で示される。 RONP11=1/{μ×CO×W/L×(VGS−VTP11)}・(12) この場合は、トランジスタM11のソース電位が下降す
るため、ゲート・ソース間電圧VGSは小さくなる。し
たがって、式(12)より、トランジスタM11の導通
抵抗RONP11は大きい値に変化することが容易に理
解できる。また、上述した式(2)より、導通抵抗RO
NP11が大きくなると、出力信号のHレベルVOHが
導通抵抗RONP11の変化とともに下降することも容
易に理解できる。
抗RONPが大きく変動しても、それを抑えるようフィ
ードバック動作しているため、出力信号のHレベルVO
Hの変動を抑圧できる。またHレベルVOHの値は、レ
ベルセンス回路3の電流変化量とレベル制御回路5の電
流/電圧変換手段の電圧変換係数を任意の値にすること
で制御できる。すなわち、上記電流変化量はトランジス
タM31のゲート幅やゲート長を変えることによって容
易に実現でき、また上記電圧変換係数は抵抗素子R51
の値を変えることによって容易に実現できる。
形図で示す図2を参照すると、この図は、トランジスタ
M11における、3つの変動要因、すなわち製造行程,
周囲温度,電源電圧を加味した場合の出力端子OUT1
の波形Aを、上記3つの変動要因を加味しない場合の波
形Bと、従来の第1の出力回路の上記3つの変動要素が
加味された場合の波形Cとを比較して示したものであ
る。この図に示すように、従来の第1の出力回路の波形
Cは、出力信号のHレベルVOHが、上記変動要因の影
響によって約43%も上昇していることに対し、本実施
の形態の波形Aは、出力信号のHレベルVOHの変動
が、7%の上昇程度で抑えられている様子が分かる。
共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付して同様
に回路図で示す図3を参照すると、この図に示す本実施
の形態の前述の第1の実施の形態との相違点は、レベル
センス回路3の代わりにゲートを出力端子OUT1に接
続したPMOS型のトランジスタM33と、共通接続し
たドレインとゲートとをトランジスタM33のドレイン
にソースを電源VDDにそれぞれ接続したPMOS型の
トランジスタM34とを備えるレベルセンス回路3A
と、レベル制御回路5の代わりにコレクタを電源VSS
にベースをレベルセンス回路3AのトランジスタM33
のドレインにエミッタを出力部1のトランジスタM11
のソースにそれぞれ接続したPNP型のバイポーラ型の
トランジスタM52と、一端をトランジスタM52のベ
ースに他端を電源VSSにそれぞれ接続した抵抗素子R
52とを備えるレベル制御回路5Aを備えることであ
る。
について説明すると、この回路は出力信号のLレベルV
OLの変動を抑圧するための回路であり、まず、入力端
子INに電源端子VDDに近い電位のHレベル信号が供
給されている場合を考えると、出力回路1のトランジス
タM11が遮断状態で、トランジスタM12が導通状態
となり、レベル制御回路5AのトランジスタM52は常
に導通状態であるため、終端電源VTTからトランジス
タM52とトランジスタM12及び終端抵抗RTT1を
経由し、電源端子VSSへ向けて流れる電流ルートが形
成される。この場合の出力端子のLレベルVOLは、次
式にて表される。 VOL=[VTT−{(VTT−VSS)×RTT}]/(RTT+RONC+ RONN)・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(13) ここで、RONCはトランジスタM52の導通抵抗であ
る。
M12の導通抵抗RONNが上述した3つの変動要因の
影響によって大きい値に変動し、出力信号のLレベルV
OLが低下したとすると、このときレベルセンス回路3
AのトランジスタM33,M34が強い導通状態に変化
し、トランジスタM33のドレインからトランジスタM
34を経由し、電源端子VDDからトランジスタM33
のドレインへ向けて電流を流そうとする。トランジスタ
M33の移動度をμ,ゲート幅をW,ゲート長をL,単
位面積当たりのゲート・チャネル間容量をCO,ゲート
・ソース間電圧をVGS,しきい値をVTP33とする
と、この時に流れる電流I33は、出力信号LレベルV
OLの変化に応じて変動する連続的な電流であり、次式
で示される。 I33=0.5×μ×CO×W/L×(VGS−VTP33)2・・(14) 電流I33は、トランジスタM33のドレインからレベ
ル制御回路5Aの抵抗素子R52を経由し電源端子VS
Sへ供給される。抵抗素子R52で発生した連続的な電
位降下は、トランジスタM52のベースに供給され、そ
の電位差は次式で示される。
量、R52は抵抗素子R52の抵抗値をそれぞれ示す。
は、ベースに入力された連続的な電圧変化量をそのまま
エミッタから出力し、出力回路1のトランジスタM12
のソースに供給する。トランジスタM12の移動度を
μ,ゲート幅をW,ゲート長をL,単位面積当たりのゲ
ート・チャネル間容量をCO,ゲート・ソース間電圧を
VGS,しきい値をVTN12とすると、トランジスタ
M12の導通抵抗RONN11は、この連続的な電圧変
化を供給された場合、次式で示される。 RONN=1/{μ×CO×W/L×(VGS−VTN12)}・・・(16) この場合は、トランジスタM12のソース電位が上昇す
るため、ゲート・ソース間電圧VGSは小さくなる。し
たがって、式(16)より、トランジスタM12の導通
抵抗RONN12は大きい値に変化する。また、上述し
た式(1)に示すように、トランジスタM12の導通抵
抗RONNが大きくなると、出力信号のLレベルVOL
がこの導通抵抗RONNの変化とともに上昇する。
抗RONNが大きく変動しても、それを抑えるようフィ
ードバック動作しているため、出力信号のLレベルVO
Lの変動を抑圧できる。またLレベルVOLの値は、レ
ベルセンス回路3Aの電流変化量とレベル制御回路5A
の電流/電圧変換手段の電圧変換係数を任意の値にする
ことで制御できる。すなわち、上記電流変化量はトラン
ジスタM33のゲート幅やゲート長を変えることによっ
て容易に実現でき、また上記電圧変換係数は抵抗素子R
52の値を変えることによって容易に実現できる。
び図3と共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付
して同様に回路図で示す図4を参照すると、この図に示
す本実施の形態の出力回路は第1の実施の形態と第2の
実施の形態とを組み合わせた構成であり、トランジスタ
M11,M12を有する出力部1と、トランジスタM3
1,M32から成るレベルセンス回路3と、トランジス
タM33,M34から成るレベルセンス回路3Aと、ト
ランジスタM51と抵抗素子R51とから成るレベル制
御回路5と、トランジスタM52と抵抗素子R52とか
ら成るレベル制御回路5Aとを備える。
について説明すると、この回路は出力信号のHレベルV
OH及びLレベルVOLの変動を抑圧するための回路で
ある。 まず、入力端子INに電源端子VSSに近い電
位のLレベル信号が供給されている場合は、第1の実施
の形態と同様な動作を行い、出力信号のHレベルVOH
の変動を抑圧できる。また、入力端子INに電源端子V
DDに近い電位のHレベル信号が供給されている場合
は、第2の実施の形態と同様な動作を行い、出力信号の
LレベルVOLの変動を抑圧できる。
び図9と共通の構成要素には共通の参照文字/数字を付
して同様に回路図で示す図5を参照すると、この図に示
す本実施の形態の出力回路は、差動伝送方式に適用した
ものであり、前述の第1の実施の形態との相違点は、出
力部1と同一構成すなわちソースが正電位の電源端子V
DDにドレインが出力端子OUT2にゲートが入力端子
IN2にそれぞれ接続されたPMOS型のトランジスタ
M21とドレインがトランジスタM21のドレインにゲ
ートがトランジスタM21のゲートにそれぞれ接続しソ
ースが接地電位の電源端子VSSに接続されたNMOS
型のトランジスタM22と一端が出力端子OUT2に他
端が終端電源VTTにそれぞれ接続した終端抵抗RTT
2を有する出力部2と、レベルセンス回路3と同一構成
すなわちドレインをレベル制御回路5のトランジスタM
51のエミッタにゲートを出力端子OUT1に接続した
NMOS型のトランジスタM41と共通接続したドレイ
ンとゲートとをトランジスタM41のドレインにソース
を電源VSSにそれぞれ接続したNMOS型のトランジ
スタM42とを有するレベルセンス回路4とをさらに備
えることである。
出力回路であるので、それぞれ2つの入力端子1N1,
IN2と出力端子OUT1,OUT2が存在している
が、例えば入力端子IN1と出力端子OUT1の1組に
接続した出力部1,レベルセンス回路3,レベル制御回
路5は、単相伝送方式に対する第1の実施の形態と全く
同様であることが容易に理解できる。
子OUT2に接続した出力部2,レベルセンス回路4,
レベル制御回路5についても同様なことがいえる。
組の入力端子,出力端子に接続されている出力部,レベ
ルセンス回路、レベル制御回路に関して、第1の実施の
形態の動作と全く同様であり、かつ発生する効果も同様
であるため、以下では第1の実施の形態と同様な動作説
明を省略する。
路5のみを備える理由は、単に回路の簡略化を目的とし
たに過ぎないものである。すなわちレベル制御回路5を
2組備えてもよいが、機能的な動作や効果は1組のもの
と大差ないため簡略化したものである。
形図で示す図6を参照すると、この図は、トランジスタ
M11,M21における、3つの変動要因、すなわち製
造行程,周囲温度,電源電圧を加味した場合の出力端子
OUT1,OUT2の各々のの波形A1,A2を、上記
3つの変動要因を加味しない場合の波形B1,B2と、
従来の第2の出力回路の上記3つの変動要素が加味され
た場合の波形C1,C2とを比較して示したものであ
る。この図に示すように、従来の第2の出力回路の波形
C1,C2は、出力信号のHレベルVOHが、上記変動
要因の影響によって約43%も上昇しているのに対し、
本実施の形態の波形A1,A2は、出力信号のHレベル
VOHの変動が、7%の上昇程度で抑えられている様子
が分かる。これは図2に示した第1の実施の形態の単相
伝送方式の場合の出力波形と同等である。したがって本
発明の出力回路は、上述したように単相伝送方式と差動
伝送方式の何れに対しても同等の効果を持つことが分か
る。
態として、まず単相伝送方式の第1,第2,第3の実施
の形態を挙げ、第1の実施の形態を差動伝送方式に適用
した第4の実施の形態を説明したが、当然、第2,第3
の実施の形態を適用した差動伝送方式も実現可能であ
る。
ンス回路の出力レベルセンス手段を主にN/PMOSト
ランジスタによって構成した説明を行ったが、これはN
PN/PNPバイポーラトランジスタによっても構成で
きることも明らかである。
手段を主に抵抗素子によって構成した説明を行ったが、
これはP/NMOSトランジスタまたはPNP/NPN
バイポーラトランジスタによっても構成できることも明
らかである。
制御手段をNPN/PNPバイポーラトランジスタの代
わりにN/PMOSトランジスタを用いて構成できるこ
とも明らかである。
ベルセンス回路3Bを回路図で示す図7を参照すると、
このレベルセンス回路3Bの第1の実施の形態のレベル
センス回路3との相違点は、共通のトランジスタM31
に加えて、ダイオード接続したトランジスタM32の代
わりにトランジスタM31のソースに予め定めた電圧の
リファレンス電圧VREFを接続したことである。
ように、出力信号のHレベルVOHの変動を連続的な電
流変化I33に変えていた。
を調整することにより、式(10)のトランジスタM3
1のゲート・ソース間入力電圧VGSを任意に調節する
ことができる。これはレベルセンス回路3Bがセンスす
る出力レベルの値を、リファレンス電圧VREFによっ
てより自由に設定できるだけでなく、より高精度な出力
電位をセンスできるという長所を持つ。
は、小振幅信号のH/Lレベルの電位値を検出してレベ
ル検出信号を出力する出力レベルセンス手段と、レベル
検出信号の大きさに応答してH/Lレベルの電位値を変
化させる出力レベル制御手段とを備えることにより、ト
ランジスタの製造工程や周囲温度や電源電圧変動の影響
によって生ずる出力レベルの変動を抑え、伝送速度の低
下や消費電力の増加及び信号伝送時に発生するノイズの
増加を低減できるという効果がある。
差動伝送方式の何れにも応用することができるため、上
記効果は両者の伝送方式に対して全く同様に得ることが
できるという効果がある。
路図である。
来と比較して示した波形図である。
路図である。
路図である。
路図である。
来と比較して示した波形図である。
けるレベルセンス回路の回路図である。
る。
る。
33,M34,M41,M42,M51,M52 ト
ランジスタ R51,R52 抵抗素子 RTT1,RTT2 終端抵抗
Claims (5)
- 【請求項1】 第1の集積回路の論理信号を電源電圧に
比較して遥かに小さい予め定めた振幅値の小振幅信号に
変換して第2の集積回路に伝送するための出力回路にお
いて、 前記小振幅信号の第1及び第2のレベルの電位値の各々
をそれぞれ検出してこの電位値対応の電流又は電圧信号
であるレベル検出信号を出力する第1及び第2の出力レ
ベルセンス手段の少なくとも1つと、 前記レベル検出信号の大きさに応答して前記第1及び第
2のレベルの電位値の各々を変化させる第1及び第2の
出力レベル制御手段の少なくとも1つとを備えることを
特徴とする出力回路。 - 【請求項2】 ドレインが第1の出力端子にゲートが第
1の入力端子にそれぞれ接続された第1の導電型の第1
のトランジスタと、ドレインが前記第1のトランジスタ
のドレインにゲートが前記第1のトランジスタのゲート
にそれぞれ接続しソースが第2の電源端子に接続された
第2の導電型の第2のトランジスタと、一端が前記第1
の出力端子に他端が終端電源にそれぞれ接続した第1の
終端抵抗とを備える第1の出力部を備え、 前記第1の出力レベルセンス手段が、ゲートを前記第1
の出力端子に接続しソースを予め定めた電圧の電圧源に
接続した第2の導電型の第3のトランジスタを備え、 前記第1の出力レベル制御手段が、一端を前記第3のト
ランジスタのドレインに他端を前記第1の電源にそれぞ
れ接続した第1の抵抗素子と、 コレクタを前記第1の電源にベースを前記第1の抵抗素
子の一端にエミッタを前記第1のトランジスタのソース
にそれぞれ接続した第2の導電極性のバイポーラ型の第
4のトランジスタとを備えることを特徴とする請求項1
記載の出力回路。 - 【請求項3】 ソースが第1の電源端子にドレインが第
1の出力端子にゲートが第1の入力端子にそれぞれ接続
された第1の導電型の第1のトランジスタと、ドレイン
が前記第1のトランジスタのドレインにゲートが前記第
1のトランジスタのゲートにそれぞれ接続された第2の
導電型の第2のトランジスタと、一端が前記第1の出力
端子に他端が終端電源にそれぞれ接続した第1の終端抵
抗とを備える第1の出力部を備え、 前記第2の出力レベルセンス手段が、ゲートを前記第1
の出力端子に接続しソースを予め定めた電圧の電圧源に
接続した第1の導電型の第5のトランジスタを備え、 前記第2の出力レベル制御手段が、一端を前記第5のト
ランジスタのドレインに他端を前記第2の電源にそれぞ
れ接続した第2の抵抗素子と、 コレクタを前記第2の電源にベースを前記第2の抵抗素
子の一端にエミッタを前記第2のトランジスタのソース
にそれぞれ接続した第1の導電極性のバイポーラ型の第
6のトランジスタとを備えることを特徴とする請求項1
記載の出力回路。 - 【請求項4】 前記第1の出力部と、 前記第1の出力レベルセンス手段と、 前記第1の出力レベル制御手段と、 ドレインが前記第1の出力端子にゲートが前記第1の入
力端子にそれぞれ接続された第1の導電型の第7のトラ
ンジスタと、ドレインが前記第7のトランジスタのドレ
インにゲートが前記第7のトランジスタのゲートにそれ
ぞれ接続しソースが前記第2の電源端子に接続された第
2の導電型の第8のトランジスタと、一端が第2の出力
端子に他端が終端電源にそれぞれ接続した第2の終端抵
抗とを備える第2の出力部と、 ゲートを前記第2の出力端子に接続しソースを予め定め
た電圧の電圧源に接続しドレインを前記第5のトランジ
スタのエミッタに接続した第2の導電型の第9のトラン
ジスタを備える第3の出力レベルセンス手段とを備える
ことを特徴とする請求項2記載の出力回路。 - 【請求項5】 前記電圧源が、ドレインとゲートとを共
通接続しソースを前記第2の電源に接続した第2の導電
型のトランジスタを備えることを特徴とする請求項2,
3及び4記載の出力回路。
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