JPH07153908A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH07153908A
JPH07153908A JP5297669A JP29766993A JPH07153908A JP H07153908 A JPH07153908 A JP H07153908A JP 5297669 A JP5297669 A JP 5297669A JP 29766993 A JP29766993 A JP 29766993A JP H07153908 A JPH07153908 A JP H07153908A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】プリント基板上などにおいて信号伝送線路を介
して高速微小信号の伝送が行われる高速微小信号伝送系
などに使用される多ビット入力の半導体集積回路に関
し、基準電圧入力端子として1個の外部端子を設けれ
ば、複数ビットの高速微小伝送信号の論理判定を正確に
行うことができ、例えば、GTL規格に充分に適合する
ことができるようにする。 【構成】複数の論理判定回路部381、382・・・38
nに共用される1個の内部基準電圧発生回路部42を設
けるようにすると共に、nMOSトランジスタ68のゲ
ートと入力保護回路34の出力端との間にキャパシタ4
6を設け、論理判定回路部381、382・・・38n
内部基準電圧発生回路部42との間の直流的なオフセッ
トのバランスを図ると共に、交流的なオフセットの抑制
を図る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板上などに
おいて信号伝送線路を介して高速微小信号の伝送が行わ
れる高速微小信号伝送系などに使用される多ビット入力
の半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高速微小信号の伝送が行われる高
速微小信号伝送系に適用される高速微小信号伝送規格と
して、GTL(Gunning Transceiver Logic)と称さ
れる規格が提案されている。
【0003】このGTL規格は、出力回路をオープン・
ドレイン型ドライバとし、整合終端することを基本とし
て、終端電圧VTT=1.2V±5%、基準電圧VREF
0.8V、出力ハイレベル電圧VOH=0.8V+400m
V、出力ロウレベル電圧VOL=0.8V−400mV、
入力ハイレベル電圧VIH=0.8V+50mV、入力ロ
ウレベル電圧VIH=0.8V−50mVとするものであ
る。
【0004】ところで、従来、高速微小信号伝送系に使
用される半導体集積回路の入力回路としては、図9に示
すような差動コンパレータ回路や、図10に示すような
差動コンパレータ回路が使用されてきた。
【0005】図9に示す差動コンパレータ回路は、一般
に、nMOS差動コンパレータ回路と称されるものであ
り、図中、1は電源電圧VCC、例えば、3.3Vを供
給する電源線、2、3は負荷をなすカレントミラー回路
を構成するpチャネルMOSFET、いわゆるpMOS
トランジスタである。
【0006】また、4、5は差動トランジスタ対をなす
nチャネルMOS FET、いわゆるnMOSトランジ
スタであり、4は伝送信号DINが入力されるnMOSト
ランジスタ、5は伝送信号DINの論理判定に必要な基準
電圧(参照電圧)VREFが入力されるnMOSトランジ
スタである。
【0007】また、6は定電流源をなすnMOSトラン
ジスタ、VSSは接地電圧、7はnMOSトランジスタ
4のドレインに得られる信号を入力信号とする波形整形
用のインバータ、DOUTは出力信号である。
【0008】また、図10に示す差動コンパレータ回路
は、pMOS差動コンパレータ回路と称されるものであ
り、8は電源電圧VCCを供給する電源線、9は定電流
源をなすpMOSトランジスタである。
【0009】また、10、11は差動トランジスタ対を
なすpMOSトランジスタであり、10は伝送信号DIN
が入力されるpMOSトランジスタ、11は基準電圧V
REFが入力されるpMOSトランジスタである。
【0010】また、12、13は負荷をなすカレントミ
ラー回路をなすnMOSトランジスタ、14はpMOS
トランジスタ10のドレインに得られる信号を入力信号
とする波形整形用のインバータである。
【0011】ここに、nMOS差動コンパレータ回路
は、コモンモード電圧CMVが1.5V付近であれば、
利得として約20dB、帯域幅積として約1GHzを得
ることができるが、コモンモード電圧CMVが0.5V
以下では利得が急激に下がり、基準電圧VREFを0.8V
とするGTL規格の伝送信号を増幅することが難しい。
【0012】これに対して、pMOS差動コンパレータ
回路は、コモンモード電圧CMVが0〜1.5Vで、利
得として約5dBが得られるが、帯域幅積が約300M
Hzと小さく、数100MHzの信号を増幅するには性能
的に不足している。
【0013】そこで、また、従来、GTL規格の伝送信
号に好適な入力回路として、図11に示すような入力回
路が提案されている。
【0014】図中、15は電源電圧VCCを供給する電
源線、16、17は負荷素子をなすpMOSトランジス
タ、18、19はカレントミラー回路を構成するnMO
Sトランジスタであり、伝送信号DINは、nMOSトラ
ンジスタ18のソースに入力され、基準電圧VREFは、
nMOSトランジスタ19のソースに入力される。
【0015】また、20はnMOSトランジスタ18の
ドレイン(ノード21)に得られる信号を入力信号とす
る波形整形用のインバータである。
【0016】この入力回路においては、nMOSトラン
ジスタ18のソースに入力される伝送信号DINの電圧V
INとnMOSトランジスタ19のソースに入力される基
準電圧VREFとの差VIN−VREFと、nMOSトランジス
タ18のドレイン電圧との関係は、図12に示すように
なる。
【0017】即ち、この入力回路においては、nMOS
トランジスタ18、19はカレントミラー回路を構成し
ているので、VIN=VREFの場合には、nMOSトラン
ジスタ18のドレイン電圧=nMOSトランジスタ19
のドレイン電圧(ノード22の電圧)=VREF+VTH
ΔVTHとなる。
【0018】但し、VTHはnMOSトランジスタ18、
19のスレッショルド電圧、ΔVTHはnMOSトランジ
スタ18、19のサブ・スッレショルド電流を考慮し
て、スレッショルド電圧VTHを補正するための電圧値で
ある。
【0019】ここに、VIN>VREF、即ち、VIN−VREF
>0の場合には、nMOSトランジスタ18のゲート・
ソース間電圧は小さくなり、nMOSトランジスタ18
の内部抵抗が高くなって、nMOSトランジスタ18の
ドレイン電流は小さくなり、nMOSトランジスタ18
のドレイン電圧は、VREF+VTH+ΔVTHよりも高くな
る。
【0020】これに対して、VIN<VREF、即ち、VIN
−VREF<0の場合には、nMOSトランジスタ18の
ゲート・ソース間電圧は大きくなるので、nMOSトラ
ンジスタ18の内部抵抗が小さくなって、nMOSトラ
ンジスタ18のドレイン電流は大きくなり、nMOSト
ランジスタ18のドレイン電圧はVREF+VTH+ΔVTH
よりも低くなる。
【0021】この入力回路においては、nMOSトラン
ジスタ19のゲート・ソース間電圧は、例えば、1Vに
なるように設定され、nMOSトランジスタ18のドレ
イン電圧はVCC/2=1.65Vを中心に振幅するよ
うに設定され、nMOSトランジスタ18は5極管領
域、即ち、相互コンダクタンスgmが大きい領域で動作
するように設定される。
【0022】このように、この入力回路によれば、伝送
信号DINが入力されるトランジスタに、相互コンダクタ
ンスgmが大きく、カット・オフ周波数の高いnMOS
トランジスタ18を使用し、また、このnMOSトラン
ジスタ18を5極管領域で動作させるようにしているの
で、高利得、高帯域幅積の特性を得ることができる。
【0023】この入力回路を多ビット入力の半導体集積
回路に使用する場合には、この入力回路の構成上、各ビ
ットごとに、この入力回路を設けることになるが、外部
端子の数の制約から、各入力回路ごとに基準電圧入力端
子を設けることができない。
【0024】そこで、この入力回路は、多ビット入力の
半導体集積回路においては、図13に示すように、基準
電圧入力端子を共用するように設けられることになる。
【0025】図中、DIN(1)、DIN(2)、DIN(n)は伝送
信号、231、232、23nは伝送信号入力端子、24
は基準電圧入力端子、251、252、25n、26は入
力保護回路である。
【0026】また、271、272、27n、28はそれ
ぞれ入力保護回路251、252、25n、26の内部抵
抗、291、292、29nは図11に示す入力回路、3
1、302、30nは波形整形用のインバータ、D
OUT(1)、DOUT(2)、DOUT(n)は出力信号である。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】この多ビット入力の半
導体集積回路においては、基準電圧入力端子24を入力
回路291、292・・・29nで共有化しているので、
基準電圧入力端子24に流れる直流バイアス電流による
入力保護回路26の内部抵抗28における電圧降下を原
因として基準電圧VREFに大きなオフセットが発生して
しまう。
【0028】ここに、1個のnMOSトランジスタ19
の直流バイアス電流をiDCとすると、入力保護回路26
に流れる電流は8×iDCとなり、また、入力保護回路2
6の内部抵抗28の抵抗値をR28とすると、入力保護回
路26の内部抵抗28における電圧降下ΔV28は、ΔV
28=8×iDC×R28となる。
【0029】例えば、8ビット入力で、iDC=0.1m
V、R28=500Ωとすると、入力保護回路26の内部
抵抗28における電圧降下ΔV28は、8×0.1×10
-3×500=0.4Vとなる。
【0030】ここに、GTL規格においては、基準電圧
入力端子24に入力される基準電圧VREF=0.8Vであ
るから、内部の基準電圧、即ち、入力保護回路26の他
端の電圧は、0.8+0.4=1.2Vとなってしまう。
【0031】ところが、GTL規格における入力ハイレ
ベル電圧VIHは、前述したように、0.8V+50m
V、入力ロウレベル電圧VILは0.8V−50mVであ
るから、内部基準電圧が1.2Vでは意味がなく、内部
の基準電圧のオフセットは5mV程度が限度となる。
【0032】ここに、基準電圧入力端子24を各入力回
路291、292・・・29nごとに設けるようにする場
合には、このような問題点は発生しないが、前述のよう
に、外部端子の数には制約があり、基準電圧入力端子2
4を増加することは不可能である。
【0033】換言すれば、図11に示す入力回路は、各
入力回路ごとに基準電圧入力端子を設けるのでなけれ
ば、多ビット入力の半導体集積回路の入力回路として使
用することはできない。
【0034】本発明は、かかる点に鑑み、基準電圧入力
端子として1個の外部端子を設ければ、複数ビットの高
速微小伝送信号の論理判定を正確に行うことができ、例
えば、GTL規格に充分に適合することができるように
した入力回路を設けてなる多ビット入力の半導体集積回
路を提供することを目的とする。
【0035】
【課題を解決するための手段】
第1の発明・・図1 図1は本発明中、第1の発明による半導体集積回路の原
理説明図であり、入力回路部を示している。
【0036】図中、311、312、31nは伝送信号入
力端子、32は基準電圧入力端子、331、332、33
n、34は入力保護回路、351、352、35n、36は
それぞれ入力保護回路331、332、33n、34の内
部抵抗である。
【0037】また、37は入力回路であり、この入力回
路37において、381、382、38nはそれぞれ伝送
信号DIN(1)、DIN(2)、DIN(n)の論理判定を行う、回
路構成を同一とする論理判定回路部である。
【0038】なお、論理判定回路部381において、3
9は電源電圧VCCを供給する電源線、40は負荷素
子、41は入力トランジスタをなすnチャネル絶縁ゲー
ト形電界効果トランジスタである。
【0039】また、42は論理判定回路部381、382
・・・38nのnチャネル絶縁ゲート形電界効果トラン
ジスタ41のゲートに供給すべき内部基準電圧V1を発
生する内部基準電圧発生回路部である。
【0040】この内部基準電圧発生回路部42におい
て、43は電源電圧VCCを供給する電源線、44は負
荷素子、45は論理判定回路部381、382・・・38
nのnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ41
とカレントミラー回路を構成するnチャネル絶縁ゲート
形電界効果トランジスタである。
【0041】また、46はnチャネル絶縁ゲート形電界
効果トランジスタ41のソースと入力保護回路34の他
端との間に接続されたキャパシタである。
【0042】また、471、472、47nはそれぞれ論
理判定回路部381、382、38nのnチャネル絶縁ゲ
ート形電界効果トランジスタ41のドレインに得られる
信号を入力信号として出力信号DOUT(1)、DOUT(2)、D
OUT(n)を出力する波形整形用のインバータである。
【0043】ここに、伝送信号入力端子311、312
31nは、それぞれ、入力保護回路331、332、33n
を介して論理判定回路部381、382、38nのnチャ
ネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ41のソースに
接続されている。
【0044】また、基準電圧入力端子32は、入力保護
回路34を介して内部基準電圧発生回路部42のnチャ
ネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ45のソースに
接続されている。
【0045】第2の発明・・図2 図2は本発明中、第2の発明による半導体集積回路の原
理説明図であり、入力回路部を示している。
【0046】この第2の発明による半導体集積回路は、
第1の発明が設ける内部基準電圧発生回路部42と回路
構成の異なる内部基準電圧発生回路部48を設けてなる
入力回路49を設け、その他については、第1の発明と
同様に構成したものである。なお、内部基準電圧発生回
路部48において、50は電圧フォロア回路を構成する
オペアンプである。
【0047】第3の発明・・図3 図3は本発明中、第3の発明による半導体集積回路の原
理説明図であり、入力回路部を示している。
【0048】図中、521、522、52nは回路構成を
同一とする入力回路であり、入力回路521において、
53は伝送信号DIN(1)の論理判定を行う論理判定回路
部、54は論理判定回路部53に供給すべき内部基準電
圧V1を発生する内部基準電圧発生回路部である。
【0049】これら論理判定回路部53及び内部基準電
圧発生回路部54において、55は電源電圧VCCを供
給する電源線、56、57は負荷素子、58、59はカ
レントミラー回路を構成するnチャネル絶縁ゲート形電
界効果トランジスタである。
【0050】また、60、61は可変インピーダンス素
子であり、60A、61Aは電流入力端子、60B、6
1Bは電流出力端子、60C、61Cはインピーダンス
値を制御する制御端子である。
【0051】ここに、伝送信号入力端子311、312
31nは、それぞれ、入力保護回路331、332、33n
を介して入力回路521、522、52nの可変インピー
ダンス素子60の制御端子60Cに接続されている。
【0052】また、基準電圧入力端子32は、入力保護
回路34を介して入力回路521、522・・・52n
可変インピーダンス素子61の制御端子61Cに接続さ
れている。
【0053】また、波形整形用のインバータ471、4
2、47nは、それぞれ、入力回路521、522、52
nのnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ58
のドレインに得られる信号を入力信号としている。
【0054】
【作用】
第1の発明・・図1、図4 第1の発明においては、伝送信号DINが入力されるトラ
ンジスタに、相互コンダクタンスgmが大きく、カット
・オフ周波数の高いnチャネル絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ41を使用しているが、このnチャネル絶縁
ゲート形電界効果トランジスタ41を図11に示す入力
回路のnMOSトランジスタ18と同様に5極管領域で
使用できることは当然に可能である。
【0055】また、この第1の発明においては、複数の
論理判定回路部381、382・・・38nに対して、こ
れら複数の論理判定回路部381、382・・・38n
共用される1個の内部基準電圧発生回路部42を設ける
ようにしている。
【0056】この結果、各論理判定回路部381、382
・・・38nに流れる直流バイアス電流と、内部基準電
圧発生回路部42に流れる直流バイアス電流とは一致す
ることになる。
【0057】したがって、また、入力保護回路331
332、33n、34の内部抵抗351、352、35n
36の抵抗値が同一であれば、直流バイアス電流による
入力保護回路331、332、33nの内部抵抗351、3
2、35nにおける電圧降下ΔVIN1、ΔVIN2・・・Δ
INnと、入力保護回路34の内部抵抗36の電圧降下
ΔVREFとは一致することになる。
【0058】即ち、この第1の発明によれば、直流バイ
アス電流の入力保護回路34の内部抵抗36による電圧
降下は伝送信号DIN(1)、DIN(2)・・・DIN(n)の電圧
が論理判定基準電圧VREFである0.8Vになった場合に
生じる各入力保護回路331、332・・・33nの内部
抵抗351、352・・・35nの電圧降下と同一となる
ので、論理判定回路部381、382・・・38nと、内
部基準電圧発生回路部42との間の直流的なオフセット
のバランスを取ることができる。
【0059】また、この第1の発明においては、例え
ば、論理判定回路部381において、伝送信号DIN(1)
ハイレベルからロウレベルに変化した場合、nチャネル
絶縁ゲート形電界効果トランジスタ41に流れる電流が
増加する。
【0060】この場合、図4に示すように、この電流が
増加する際の交流成分(微分成分)iACは、nチャネル
絶縁ゲート形電界効果トランジスタ41のゲート・ソー
ス間の寄生容量62を介して供給されることになる。
【0061】また、この場合には、nチャネル絶縁ゲー
ト形電界効果トランジスタ41のドレイン電圧が降下す
るが、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ4
1のドレイン・ゲート間の寄生容量63は、ミラー効果
によって、実効的に大きくなる。
【0062】この結果、nチャネル絶縁ゲート形電界効
果トランジスタ41のゲートからドレイン側にも電流が
流れてしまい、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トラン
ジスタ41のゲート側に流れる電流iAC’は、ソース側
に流れる電流iACよりも大きくなってしまう。
【0063】そこで、これに対して何らかの対策、例え
ば、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ45
のゲートと入力保護回路34の出力端との間にキャパシ
タ46を設けるようにしないと、例えば、伝送信号D
IN(1)、DIN(2)・・・DIN(n)が同時にハイレベルから
ロウレベルに変化した場合には、内部基準電圧発生回路
部42のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ
45のゲート電圧が大きく降下してしまう。
【0064】これを許すと、内部基準電圧発生回路部4
2においてダイオード接続されているnチャネル絶縁ゲ
ート形電界効果トランジスタ45はカット・オフしてし
まい、このnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジス
タ45のゲート電圧、即ち、内部基準電圧V1は下がっ
たままとなり、伝送信号入力端子311、312・・・3
1nのいずれかにノイズが重畳された場合には、このノ
イズをハイレベルの信号として誤判定してしまうことに
なる。
【0065】しかし、この第1の発明においては、nチ
ャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ45のゲート
と入力保護回路34の出力端との間にキャパシタ46を
設けているので、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トラ
ンジスタ41のゲートに流れる電流iAC’をこのキャパ
シタ46を介して供給することができるので、過渡的に
発生する交流的なオフセットも抑制することができる。
【0066】以上のように、第1の発明によれば、入力
トランジスタをなすnチャネル絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ41を5極管領域で使用することができ、ま
た、論理判定回路部381、382・・・38nと内部基
準電圧発生回路部42との間の直流的なオフセットのバ
ランスを図ることができると共に、交流的なオフセット
の抑制を図ることができるので、高速微小伝送信号に対
して、高利得、高帯域幅積の入出力特性を得ることがで
き、特に、GTL規格に適合した半導体集積回路を提供
することができる。
【0067】第2の発明・・図2 第2の発明においても、伝送信号DINが入力されるトラ
ンジスタに、相互コンダクタンスgmが大きく、カット
・オフ周波数の高いnチャネル絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ41を使用しているが、このnチャネル絶縁
ゲート形電界効果トランジスタ41を図11に示す入力
回路のnMOSトランジスタ18と同様に5極管領域で
使用できることは、当然に可能である。
【0068】また、この第2の発明においては、複数の
論理判定回路部381、382・・・38nに対して、こ
れら複数の論理判定回路部381、382・・・38n
共用される1個の内部基準電圧発生回路部48を設ける
ようにしている。
【0069】この結果、各論理判定回路部381、382
・・・38nに流れる直流バイアス電流と、内部基準電
圧発生回路部48に流れる直流バイアス電流とは一致す
ることになる。
【0070】したがって、また、入力保護回路331
332、33n、34の内部抵抗351、352、35n
36の抵抗値が同一であれば、直流バイアス電流による
入力保護回路331、332、33nの内部抵抗351、3
2、35nにおける電圧降下ΔVIN1、ΔVIN2・・・Δ
INnと、入力保護回路34の内部抵抗36の電圧降下
ΔVREFとは一致することになる。なお、この第2の発
明においては、内部基準電圧V1は、VREF+ΔVREF
なる。
【0071】即ち、この第2の発明によれば、直流バイ
アス電流の入力保護回路34の内部抵抗36による電圧
降下は伝送信号DIN(1)、DIN(2)・・・DIN(n)の電圧
が論理判定基準電圧VREFである0.8Vになった場合に
生じる各入力保護回路331、332・・・33nの内部
抵抗351、352・・・35nの電圧降下と同一となる
ので、論理判定回路部381、382・・・38nと内部
基準電圧発生回路部48との間の直流的なオフセットの
バランスを取ることができる。
【0072】また、オペアンプ50においては、このオ
ペアンプ50の正相入力端子と逆相入力端子の電圧とが
一致するようにフィードバック制御されるので、オペア
ンプ50の出力端子の電圧、即ち、内部基準電圧V1
は、常に、VREF+ΔVREFとなるように制御される。
【0073】この結果、例えば、伝送信号DIN(1)、D
IN(2)・・・DIN(n)が同時にハイレベルからロウレベル
に変化した場合においても、内部基準電圧V1は降下す
ることなく、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジ
スタ41のゲート側に流れる電流は、オペアンプ50に
よって供給されることになる。
【0074】したがって、この第2の発明においても、
第1の発明と同様に、過渡的に発生する交流的なオフセ
ットを抑制することができ、同時スイッチング・ノイズ
に対して強いものとすることができる。
【0075】以上のように、この第2の発明によれば、
入力トランジスタをなすnチャネル絶縁ゲート形電界効
果トランジスタ41を5極管領域で使用することがで
き、また、論理判定回路部381、382・・・38n
内部基準電圧発生回路部48との間の直流的なオフセッ
トのバランスを図ることができると共に、交流的なオフ
セットの抑制を図ることができるので、高速微小伝送信
号に対して、高利得、高帯域幅積の入出力特性を得るこ
とができ、特に、GTL規格に適合した半導体集積回路
を提供することができる。
【0076】なお、前述の第1の発明では、伝送信号D
IN(1)、DIN(2)・・・DIN(n)が同時にハイレベルから
ロウレベルに変化した場合、入力保護回路34に交流成
分の電流が流れてしまうので、異なるシステムごとに、
交流的なオフセットが許容されるものであるか否かを検
討する必要がある。
【0077】しかし、この第2の発明によれば、伝送信
号DIN(1)、DIN(2)・・・DIN(n)が同時にハイレベル
からロウレベルに変化した場合においても、これを原因
とする電流が入力保護回路34に流れることがないの
で、異なるシステムごとに、交流的なオフセットが許容
されるものであるか否かを検討する必要がなく、その
分、第1の発明よりも設計が容易となる。
【0078】第3の発明・・図3 第3の発明においては、伝送信号入力端子311、312
・・・31nはそれぞれ入力保護回路331、332・・
・33nを介して入力回路521、522・・・52nの論
理判定回路部53の可変インピーダンス素子60の制御
端子60Cに接続されている。
【0079】この結果、入力回路521、522・・・5
nの論理判定回路部53の直流バイアス電流が入力保
護回路331、332・・・33nを流れることはなく、
入力保護回路331、332・・・33nの内部抵抗3
1、352・・・35nには入力回路521、522・・
・52nの論理判定回路部53の直流バイアス電流によ
る電圧降下が生じることはない。
【0080】また、基準電圧入力端子32は、入力保護
回路34を介して内部基準電圧発生回路部54の可変イ
ンピーダンス素子61の制御端子61Cに接続されてい
る。
【0081】したがって、内部基準電圧発生回路部54
の直流バイアス電流が入力保護回路34を流れることは
なく、入力保護回路34の内部抵抗36には内部基準電
圧発生回路部54の直流バイアス電流による電圧降下が
生じることはない。
【0082】この結果、この第3の発明においては、内
部基準電圧発生回路部54から発生される内部基準電圧
V1に直流バイアス電流によるオフセットが発生するこ
とはない。
【0083】また、この第3の発明においては、論理判
定回路部53ごとに内部基準電圧発生回路部54を設け
ているので、例えば、伝送信号DIN(1)、DIN(2)・・・
IN (n)が同時にハイレベルからロウレベルに変化した
場合においても、内部基準電圧V1が降下することはな
い。
【0084】したがって、この第3の発明においても、
第1の発明と同様に、過渡的に発生する交流的なオフセ
ットを抑制することができ、同時スイッチング・ノイズ
に対して強いものとすることができる。
【0085】以上のように、第3の発明によれば、各入
力回路521、522・・・52nの論理判定回路部53
と内部基準電圧発生回路部54との間の直流的なオフセ
ットのバランスを図ることができると共に、交流的なオ
フセットの抑制を図ることができるので、高速微小伝送
信号に対して、高利得、高帯域幅積の入出力特性を得る
ことができ、特に、GTL規格に適合した半導体集積回
路を提供することができる。
【0086】
【実施例】以下、図5〜図8を参照して、本発明の第1
実施例〜第3実施例について説明する。
【0087】第1実施例・・図5 図5は本発明の第1実施例(第1の発明の一実施例)の
要部を示す回路図であり、入力回路部を示している。
【0088】この第1実施例においては、図1に示す負
荷素子40、44は、それぞれ、エンハンスメント形の
pMOSトランジスタ65、66で構成されていると共
に、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ4
1、45として、エンハンスメント形のnMOSトラン
ジスタ67、68が使用されている。
【0089】ここに、pMOSトランジスタ65、66
はゲートを接地して抵抗として使用されているが、これ
らpMOSトランジスタ65、66のゲートに対して5
極管領域で動作させるためのバイアス電圧を供給するよ
うにして、これらpMOSトランジスタ65、66を定
電流源として動作させる場合には、抵抗として使用する
場合よりも、帯域幅積を大きくすることができる。
【0090】第2実施例・・図6、図7 図6は本発明の第2実施例(第2の発明の一実施例)の
要部を示す回路図であり、入力回路部を示している。
【0091】この第2実施例においては、図2に示す負
荷素子40、44は、それぞれ、エンハンスメント形の
pMOSトランジスタ65、66で構成されていると共
に、nチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ4
1、45として、エンハンスメント形のnMOSトラン
ジスタ67、68が使用されている。
【0092】また、オペアンプ50は図7に示すように
構成されている。図中、69〜72はエンハンスメント
形のpMOSトランジスタ、73〜76はエンハンスメ
ント形のnMOSトランジスタ、77は正相入力端子、
78は逆相入力端子、79は出力端子である。
【0093】この第2実施例においても、pMOSトラ
ンジスタ65、66は、ゲートを接地して抵抗として使
用されているが、これらpMOSトランジスタ65、6
6のゲートに対して5極管領域で動作させるためのバイ
アス電圧を供給するようにして、これらpMOSトラン
ジスタ65、66を定電流源として動作させる場合に
は、抵抗として使用する場合よりも、帯域幅積を大きく
することができる。
【0094】第3実施例・・図8 図8は本発明の第3実施例(第3の発明の一実施例)の
要部を示す回路図であり、入力回路部を示している。
【0095】この第3実施例においては、図3に示す負
荷素子56、57は、それぞれ、エンハンスメント形の
pMOSトランジスタ80、81で構成されている。
【0096】また、可変インピーダンス素子60、61
は、それぞれ、エンハンスメント形のpMOSトランジ
スタ82、83で構成されている。
【0097】また、nチャネル絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ58、59として、エンハンスメント形のn
MOSトランジスタ84、85が使用されている。
【0098】なお、可変インピーダンス素子60、61
としては、エンハンスメント形のpMOSトランジスタ
のほか、エンハンスメント形のnMOSトランジスタを
使用することもできるが、基準電圧が0.8Vと低い場
合においては、高利得、高帯域幅積を得るために、スレ
ッショルド電圧を0V以下とするディプリーション形の
nMOSトランジスタを使用することが好適である。
【0099】
【発明の効果】
第1の発明・・図1 本発明中、第1の発明によれば、入力トランジスタをな
すnMOSトランジスタ41を5極管領域で使用するこ
とができ、また、論理判定回路部381、382・・・3
nと内部基準電圧発生回路部42との間の直流的なオ
フセットのバランスを図ることができると共に、交流的
なオフセットの抑制を図ることができるので、高速微小
伝送信号に対して、高利得、高帯域幅積の入出力特性を
得ることができ、特に、GTL規格に適合した半導体集
積回路を提供することができる。
【0100】第2の発明・・図2 本発明中、第2の発明によっても、入力トランジスタを
なすnMOSトランジスタ41を5極管領域で使用する
ことができ、また、論理判定回路部381、382・・・
38nと内部基準電圧発生回路部48との間の直流的な
オフセットのバランスを図ることができると共に、交流
的なオフセットの抑制を図ることができるので、高速微
小伝送信号に対して、高利得、高帯域幅積の入出力特性
を得ることができ、特に、GTL規格に適合した半導体
集積回路を提供することができる。
【0101】また、特に、この第2の発明によれば、伝
送信号DIN(1)、DIN(2)・・・DIN (n)が同時にハイレ
ベルからロウレベルに変化した場合においても、これを
原因とする電流が入力保護回路34に流れることがない
ので、異なるシステムごとに、交流的なオフセットが許
容されるものであるか否かを検討する必要がなく、その
分、第1の発明よりも設計が容易となる、という格別な
効果を得ることができる。
【0102】第3の発明・・図3 本発明中、第3の発明によれば、各入力回路521、5
2・・・52nの論理判定回路部53と内部基準電圧発
生回路部54との間の直流的なオフセットのバランスを
図ることができると共に、交流的なオフセットの抑制を
図ることができるので、高速微小伝送信号に対して、高
利得、高帯域幅積の入出力特性を得ることができ、特
に、GTL規格に適合した半導体集積回路を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明中、第1の発明の原理説明図である。
【図2】本発明中、第2の発明の原理説明図である。
【図3】本発明中、第3の発明の原理説明図である。
【図4】本発明中、第1の発明の作用を説明するための
回路図である。
【図5】本発明の第1実施例(第1の発明の一実施例)
の要部(入力回路部)を示す回路図である。
【図6】本発明の第2実施例(第2の発明の一実施例)
の要部(入力回路部)を示す回路図である。
【図7】本発明の第2実施例を構成する内部基準電圧発
生回路部を具体的に示す回路図である。
【図8】本発明の第3実施例(第3の発明の一実施例)
の要部(入力回路部)を示す回路図である。
【図9】高速微小信号伝送系に使用される半導体集積回
路に使用される従来の入力回路の第1例(nMOS差動
コンパレータ回路)を示す回路図である。
【図10】高速微小信号伝送系に使用される半導体集積
回路に使用される従来の入力回路の第2例(pMOS差
動コンパレータ回路)を示す回路図である。
【図11】GTL規格の高速微小信号伝送系に使用され
る従来の入力回路の第3例を示す回路図である。
【図12】図11に示す入力回路の特性を示す図であ
る。
【図13】図11に示す入力回路を使用してなる多ビッ
ト入力の半導体集積回路の入力回路部の一例を示す回路
図である。
【符号の説明】
311、312、31n 伝送信号入力端子 32 基準電圧入力端子 331、332、33n、34 入力保護回路 40、44、56、57 負荷素子 60、61 可変インピーダンス素子

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一端を電源電圧を供給する電源線に接続さ
    れた第1の負荷素子と、ドレインを前記第1の負荷素子
    の他端に接続され、ゲートに内部基準電圧が供給され、
    ソースに伝送信号入力端子及び第1の入力保護回路を介
    して伝送信号が入力される第1のnチャネル絶縁ゲート
    形電界効果トランジスタとを有し、この第1のnチャネ
    ル絶縁ゲート形電界効果トランジスタのドレインに前記
    伝送信号を論理判定してなる出力信号を得るようにされ
    た複数の論理判定回路部と、 一端を前記電源線に接続された第2の負荷素子と、ドレ
    インをゲート及び前記第2の負荷素子の他端に接続さ
    れ、ゲートを前記複数の論理判定回路部の第1のnチャ
    ネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタのゲートに接続
    され、ソースに基準電圧入力端子及び第2の入力保護回
    路を介して前記伝送信号の論理を判定するのに必要な基
    準電圧が入力される第2のnチャネル絶縁ゲート形電界
    効果トランジスタと、一端を前記第2のnチャネル絶縁
    ゲート形電界効果トランジスタのゲートに接続され、他
    端を前記第2の入力保護回路の出力端に接続されたキャ
    パシタとを有し、前記第2のnチャネル絶縁ゲート形電
    界効果トランジスタのゲートに前記内部基準電圧を得る
    ようにされた内部基準電圧発生回路部とを設けてなる入
    力回路を設けて構成されていることを特徴とする半導体
    集積回路。
  2. 【請求項2】一端を電源電圧を供給する電源線に接続さ
    れた第1の負荷素子と、ドレインを前記第1の負荷素子
    の他端に接続され、ゲートに内部基準電圧が供給され、
    ソースに伝送信号入力端子及び第1の入力保護回路を介
    して伝送信号が入力される第1のnチャネル絶縁ゲート
    形電界効果トランジスタとを有し、この第1のnチャネ
    ル絶縁ゲート形電界効果トランジスタのドレインに前記
    伝送信号を論理判定してなる出力信号を得るようにされ
    た複数の論理判定回路部と、 一端を前記電源線に接続された第2の負荷素子と、ドレ
    インをゲート及び前記第2の負荷素子の他端に接続さ
    れ、ソースに基準電圧入力端子及び第2の入力保護回路
    を介して前記伝送信号の論理を判定するのに必要な基準
    電圧が入力される第2のnチャネル絶縁ゲート形電界効
    果トランジスタと、正相入力端子を前記第2のnチャネ
    ル絶縁ゲート形電界効果トランジスタのソースに接続さ
    れ、出力端子を逆相入力端子及び前記複数の論理判定回
    路部の前記第1のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トラ
    ンジスタのゲートに接続されたオペアンプとを有し、こ
    のオペアンプの前記出力端子に前記内部基準電圧を得る
    ようにされた内部基準電圧発生回路部とを設けてなる入
    力回路を設けて構成されていることを特徴とする半導体
    集積回路。
  3. 【請求項3】一端を電源電圧を供給する電源線に接続さ
    れた第1の負荷素子と、ドレインを前記第1の負荷素子
    の他端に接続され、ゲートに内部基準電圧が供給される
    第1のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ
    と、電流入力端子を前記第1のnチャネル絶縁ゲート形
    電界効果トランジスタのソースに接続され、電流出力端
    子を接地電圧に設定される接地線に接続され、制御端子
    に伝送信号入力端子及び第1の入力保護回路を介して伝
    送信号が入力される第1の可変インピーダンス素子とを
    有し、前記第1のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トラ
    ンジスタのドレインに前記伝送信号を論理判定してなる
    出力信号を得るようにされた論理判定回路部と、 一端を前記電源線に接続された第2の負荷素子と、ドレ
    インをゲート及び前記第2の負荷素子の他端に接続さ
    れ、ゲートを前記論理判定回路部の第1のnチャネル絶
    縁ゲート形電界効果トランジスタのゲートに接続された
    第2のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタ
    と、電流入力端子を前記第2のnチャネル絶縁ゲート形
    電界効果トランジスタのソースに接続され、電流出力端
    子を接地電圧に設定される接地線に接続され、制御端子
    に基準電圧入力端子及び第2の入力保護回路を介して前
    記伝送信号の論理を判定するのに必要な基準電圧が入力
    される第2の可変インピーダンス素子とを有し、前記第
    2のnチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタのゲ
    ートに前記内部基準電圧を得るようにされた内部基準電
    圧発生回路部とを設けてなる複数の入力回路を設けて構
    成されていることを特徴とする半導体集積回路。
  4. 【請求項4】前記第1、第2の可変インピーダンス素子
    は、それぞれ、ソースを前記電流入力端子、ドレインを
    前記電流出力端子、ゲートを前記制御端子とするpチャ
    ネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタで構成されてい
    ることを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】前記第1、第2の可変インピーダンス素子
    は、それぞれ、ドレインを前記電流入力端子、ソースを
    前記電流出力端子、ゲートを前記制御端子とするnチャ
    ネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタで構成されてい
    ることを特徴とする請求項3記載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】前記nチャネル絶縁ゲート形電界効果トラ
    ンジスタは、ディプリーション形のnチャネル絶縁ゲー
    ト形電界効果トランジスタであることを特徴とする請求
    項5記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】前記第1、第2の負荷素子は、ソースを前
    記一端とし、ドレインを前記他端とするpチャネル絶縁
    ゲート形電界効果トランジスタで構成されていることを
    特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6記載の半導
    体集積回路。
  8. 【請求項8】前記pチャネル絶縁ゲート形電界効果トラ
    ンジスタは、定電流源として動作するためのバイアス電
    圧がゲートに供給されることを特徴とする請求項7記載
    の半導体集積回路。
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