JP2993576B2 - アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法 - Google Patents
アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なアレニルβ−ラ
クタム化合物及びその製造法に関する。
クタム化合物及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明のアレニルβ−ラクタム化合物
は、文献未載の新規化合物であり、例えば、ペナム系、
ペネム系又はセフエム系抗生物質を合成するための重要
な中間体である。
は、文献未載の新規化合物であり、例えば、ペナム系、
ペネム系又はセフエム系抗生物質を合成するための重要
な中間体である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、広範
囲な抗菌スペクトルを有するペナム系、ペネム系、又は
セフエム系の抗生物質を合成するための重要な中間体と
して有用な、新規なアレニルβ−ラクタム化合物を提供
することにある。
囲な抗菌スペクトルを有するペナム系、ペネム系、又は
セフエム系の抗生物質を合成するための重要な中間体と
して有用な、新規なアレニルβ−ラクタム化合物を提供
することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式〔化１〕
で表されるアレニルβ−ラクタム化合物、及びその製造
法に係る。
で表されるアレニルβ−ラクタム化合物、及びその製造
法に係る。
【０００５】
【化１】 （式中Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、又は
保護されたアミノ基を示す。Ｒ2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルキル
基、水酸基、又は保護された水酸基を置換基として有す
る低級アルキル基、水酸基、又は保護された水酸基を示
す。又、Ｒ1とＲ2とで＝Ｏを示す。Ｒ3は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。Ｘは基−ＳＯ2Ｒ4又は基−Ｓ
Ｒ4を示す。Ｒ4は置換基を有していても良いアリール
基、又は置換基を有していても良い含窒素芳香族複素環
基を示す。）
保護されたアミノ基を示す。Ｒ2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルキル
基、水酸基、又は保護された水酸基を置換基として有す
る低級アルキル基、水酸基、又は保護された水酸基を示
す。又、Ｒ1とＲ2とで＝Ｏを示す。Ｒ3は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。Ｘは基−ＳＯ2Ｒ4又は基−Ｓ
Ｒ4を示す。Ｒ4は置換基を有していても良いアリール
基、又は置換基を有していても良い含窒素芳香族複素環
基を示す。）
【０００６】上記一般式〔化１〕で表される本発明化合
物は、文献未載の新規化合物であり、例えば、一般式
〔化２〕で表されるアゼチジノン誘導体を塩基と反応さ
せることにより製造することができる。
物は、文献未載の新規化合物であり、例えば、一般式
〔化２〕で表されるアゼチジノン誘導体を塩基と反応さ
せることにより製造することができる。
【０００７】
【化２】 （式中Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｘは前記に同じ。Ｒ5は置換基を
有していても良い低級アルキル基、又は置換基を有して
いても良いアリール基を示す。）
有していても良い低級アルキル基、又は置換基を有して
いても良いアリール基を示す。）
【０００８】本明細書において示される各基は、具体的
には各々次の通りである。尚、以下の説明において特に
断らない限り、ハロゲン原子とは、例えば、弗素、塩
素、臭素、沃素などを意味する。低級アルキル基とは、
例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ルなどの直鎖又は分枝状のＣ1〜Ｃ4アルキル基を意味す
る。又、アリール基とは、例えば、フエニル、ナフチル
などを意味する。
には各々次の通りである。尚、以下の説明において特に
断らない限り、ハロゲン原子とは、例えば、弗素、塩
素、臭素、沃素などを意味する。低級アルキル基とは、
例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ルなどの直鎖又は分枝状のＣ1〜Ｃ4アルキル基を意味す
る。又、アリール基とは、例えば、フエニル、ナフチル
などを意味する。
【０００９】Ｒ1で示される保護されたアミノ基として
はフエノキシアセトアミド、p−メチルフエノキシアセ
トアミド、p−メトキシフエノキシアセトアミド、p−ク
ロロフエノキシアセトアミド、p−ブロモフエノキシア
セトアミド、フエニルアセトアミド、p−メチルフエニ
ルアセトアミド、p−メトキシフエニルアセトアミド、p
−クロロフエニルアセトアミド、p−ブロモフエニルア
セトアミド、フエニルモノクロロアセトアミド、フエニ
ルジクロロアセトアミド、フエニルヒドロキシアセトア
ミド、フエニルアセトキシアセトアミド、α−オキソフ
エニルアセトアミド、チエニルアセトアミド、ベンズア
ミド、p−メチルベンズアミド、p−t−ブチルベンズア
ミド、p−メトキシベンズアミド、p−クロロベンズアミ
ド、p−ブロモベンズアミド、或いはＴheodora Ｗ．Ｇr
eene著の“Ｐrotective Ｇroupsin Ｏrganic Ｓynthesi
s"（以下、単に「文献」という）の第７章(p218〜287)
に記載されている基、或いはフエニルグリシルアミド及
びアミノ基の保護されたフエニルグリシルアミド、p−
ヒドロキシフエニルグリシルアミド及びアミノ基、水酸
基又はその両方が保護されたp−ヒドロキシフエニルグ
リシルアミドを例示できる。フエニルグリシルアミド及
びp−ヒドロキシフエニルグリシルアミドのアミノ基の
保護基としては上記文献の第７章(p218〜287)に記載さ
れている基を例示できる。又p−ヒドロキシフエニルグ
リシルアミドの水酸基の保護基としては上記文献の第２
章(p10〜72)に記載されている基を例示できる。
はフエノキシアセトアミド、p−メチルフエノキシアセ
トアミド、p−メトキシフエノキシアセトアミド、p−ク
ロロフエノキシアセトアミド、p−ブロモフエノキシア
セトアミド、フエニルアセトアミド、p−メチルフエニ
ルアセトアミド、p−メトキシフエニルアセトアミド、p
−クロロフエニルアセトアミド、p−ブロモフエニルア
セトアミド、フエニルモノクロロアセトアミド、フエニ
ルジクロロアセトアミド、フエニルヒドロキシアセトア
ミド、フエニルアセトキシアセトアミド、α−オキソフ
エニルアセトアミド、チエニルアセトアミド、ベンズア
ミド、p−メチルベンズアミド、p−t−ブチルベンズア
ミド、p−メトキシベンズアミド、p−クロロベンズアミ
ド、p−ブロモベンズアミド、或いはＴheodora Ｗ．Ｇr
eene著の“Ｐrotective Ｇroupsin Ｏrganic Ｓynthesi
s"（以下、単に「文献」という）の第７章(p218〜287)
に記載されている基、或いはフエニルグリシルアミド及
びアミノ基の保護されたフエニルグリシルアミド、p−
ヒドロキシフエニルグリシルアミド及びアミノ基、水酸
基又はその両方が保護されたp−ヒドロキシフエニルグ
リシルアミドを例示できる。フエニルグリシルアミド及
びp−ヒドロキシフエニルグリシルアミドのアミノ基の
保護基としては上記文献の第７章(p218〜287)に記載さ
れている基を例示できる。又p−ヒドロキシフエニルグ
リシルアミドの水酸基の保護基としては上記文献の第２
章(p10〜72)に記載されている基を例示できる。
【００１０】Ｒ2で示される低級アルコキシ基をして
は、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブト
キシ、tert−ブトキシなどの直鎖又は分枝状のＣ1〜Ｃ4
アルコキシ基を例示できる。
は、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブト
キシ、tert−ブトキシなどの直鎖又は分枝状のＣ1〜Ｃ4
アルコキシ基を例示できる。
【００１１】Ｒ2で示される低級アシル基としては、例
えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
イソブチリルなどの直鎖または分枝状のＣ1〜Ｃ4アシル
基を例示できる。
えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
イソブチリルなどの直鎖または分枝状のＣ1〜Ｃ4アシル
基を例示できる。
【００１２】Ｒ2で示される水酸基又は保護された水酸
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、及びＲ2で示される保護された水酸基の保護基と
しては、上記文献の第２章(p10〜72)に記載されている
各種基を例示できる。Ｒ2で示される上記置換低級アル
キル基は、水酸基又は上記で示される保護された水酸基
の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基で、同一
又は異なる炭素上に１つ以上置換されていてもよい。
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、及びＲ2で示される保護された水酸基の保護基と
しては、上記文献の第２章(p10〜72)に記載されている
各種基を例示できる。Ｒ2で示される上記置換低級アル
キル基は、水酸基又は上記で示される保護された水酸基
の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基で、同一
又は異なる炭素上に１つ以上置換されていてもよい。
【００１３】Ｒ3で示されるカルボン酸保護基としては
ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基、ジフエニルメチル基、トリクロロエチル基、tert
−ブチル基或いは上記文献の第５章(p152〜192)に記載
されている基を例示できる。
ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基、ジフエニルメチル基、トリクロロエチル基、tert
−ブチル基或いは上記文献の第５章(p152〜192)に記載
されている基を例示できる。
【００１４】Ｒ4で示される置換基を有していても良い
含窒素芳香族複素環基の含窒素芳香族複素環基として
は、例えば、チアゾール−２−イル、チアジアゾール−
２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール
−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、イミダゾ
ール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、ピラ
ミジニル、ピリジル基などが例示できる。
含窒素芳香族複素環基の含窒素芳香族複素環基として
は、例えば、チアゾール−２−イル、チアジアゾール−
２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オキサゾール
−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、イミダゾ
ール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、ピラ
ミジニル、ピリジル基などが例示できる。
【００１５】Ｒ4で示されるアリール基又は含窒素芳香
族複素環基に置換していてもよい置換基の種類として
は、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アリ
ール基、低級アルキル基、アミノ基、モノ低級アルキル
アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、メルカプト基、基
Ｒ6Ｓ−（Ｒ6は低級アルキル基又はアリール基）で表さ
れるアルキルチオ基又はアリールチオ基、ホルミルオキ
シ基、基Ｒ6ＣＯＯ−（Ｒ6は前記に同じ）で表されるア
シルオキシ基、ホルミル基、基Ｒ6ＣＯ−（Ｒ6は前記に
同じ）で表されるアシル基、基Ｒ6Ｏ−（Ｒ6は前記に同
じ）で表されるアルコキシ基又はアリールオキシ基、カ
ルボキシル基、基Ｒ6ＯＣＯ−（Ｒ6は前記に同じ）で表
されるアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカル
ボニル基などが例示できる。Ｒ4におけるアリール基又
は含窒素芳香族複素環基は、上記置換基から選ばれる１
つ以上の同一又は異なる種類の置換基で置換されていて
もよい。
族複素環基に置換していてもよい置換基の種類として
は、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アリ
ール基、低級アルキル基、アミノ基、モノ低級アルキル
アミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、メルカプト基、基
Ｒ6Ｓ−（Ｒ6は低級アルキル基又はアリール基）で表さ
れるアルキルチオ基又はアリールチオ基、ホルミルオキ
シ基、基Ｒ6ＣＯＯ−（Ｒ6は前記に同じ）で表されるア
シルオキシ基、ホルミル基、基Ｒ6ＣＯ−（Ｒ6は前記に
同じ）で表されるアシル基、基Ｒ6Ｏ−（Ｒ6は前記に同
じ）で表されるアルコキシ基又はアリールオキシ基、カ
ルボキシル基、基Ｒ6ＯＣＯ−（Ｒ6は前記に同じ）で表
されるアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカル
ボニル基などが例示できる。Ｒ4におけるアリール基又
は含窒素芳香族複素環基は、上記置換基から選ばれる１
つ以上の同一又は異なる種類の置換基で置換されていて
もよい。
【００１６】Ｒ5で示される低級アルキル基、又はアリ
ール基に置換していてもよい置換基としては、Ｒ4にお
ける置換基で説明したと同様の置換基が例示できる。Ｒ
5における低級アルキル基、又はアリール基は、上記置
換基から選ばれる同一又は異なる種類の置換基で、同一
又は異なる炭素上に１つ以上置換されていてもよい。
ール基に置換していてもよい置換基としては、Ｒ4にお
ける置換基で説明したと同様の置換基が例示できる。Ｒ
5における低級アルキル基、又はアリール基は、上記置
換基から選ばれる同一又は異なる種類の置換基で、同一
又は異なる炭素上に１つ以上置換されていてもよい。
【００１７】本発明において、出発原料として用いられ
る一般式〔化２〕で表されるアゼチジノン誘導体は、例
えば特開昭61−165367号に記載の方法に従つて製造され
る。
る一般式〔化２〕で表されるアゼチジノン誘導体は、例
えば特開昭61−165367号に記載の方法に従つて製造され
る。
【００１８】本発明の一般式〔化１〕の化合物を製造す
るに当つては、上記で得られる一般式〔化２〕の化合物
を適当な溶媒中、塩基と反応させる。使用する塩基とし
ては、脂肪族或いは芳香族アミンが好ましい。その具体
例としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、
エチルジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ＤＢ
Ｎ(1,5−ジアザビシクロ〔3.4.0〕ノネン−５)、ＤＢＵ
(1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−５)、ＤＡ
ＢＣＯ(1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン)、ピペ
リジン、Ｎ−メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、
Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン等を例示できる。
るに当つては、上記で得られる一般式〔化２〕の化合物
を適当な溶媒中、塩基と反応させる。使用する塩基とし
ては、脂肪族或いは芳香族アミンが好ましい。その具体
例としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、
エチルジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ＤＢ
Ｎ(1,5−ジアザビシクロ〔3.4.0〕ノネン−５)、ＤＢＵ
(1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−５)、ＤＡ
ＢＣＯ(1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン)、ピペ
リジン、Ｎ−メチルピペリジン、2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、
Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン等を例示できる。
【００１９】これら塩基の使用量としては一般式〔化
２〕の化合物に対して通常１〜12倍モル、好ましくは１
〜６倍モル量使用する。溶媒としては一般式〔化２〕の
化合物を溶解し且つ該反応条件下で不活性なものである
限り広く使用でき、例えば蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻
酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステ
ル類、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エ
チルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、
ジメトキシエタン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリ
ル、バレロニトリル等のニトリル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロルベンゼン、アニソール等の置換も
しくは未置換の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエタン、ジブ
ロムエタン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素、フ
レオン類等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン
等のシクロアルカン類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等
を挙げることができ、これらは１種又は２種以上混合し
て使用される。又これらの溶媒には、必要に応じて水が
含有されていてもよい。斯かる溶媒の使用量は、一般式
〔化２〕の化合物１kg当り0.5〜200ｌ程度、好ましくは
１〜50ｌ程度とするのがよい。反応は−70℃〜100℃、
好ましくは−50℃〜50℃の範囲で行われる。本発明の化
合物は、反応終了後、通常の抽出操作或いは晶析操作を
行うことによりほぼ純品として得ることができるが、そ
の他の方法によつても勿論精製することができる。
２〕の化合物に対して通常１〜12倍モル、好ましくは１
〜６倍モル量使用する。溶媒としては一般式〔化２〕の
化合物を溶解し且つ該反応条件下で不活性なものである
限り広く使用でき、例えば蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻
酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステ
ル類、ジエチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エ
チルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、
ジメトキシエタン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル類、アセトニトリル、
プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリ
ル、バレロニトリル等のニトリル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロルベンゼン、アニソール等の置換も
しくは未置換の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエタン、ジブ
ロムエタン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素、フ
レオン類等のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン
等のシクロアルカン類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等
を挙げることができ、これらは１種又は２種以上混合し
て使用される。又これらの溶媒には、必要に応じて水が
含有されていてもよい。斯かる溶媒の使用量は、一般式
〔化２〕の化合物１kg当り0.5〜200ｌ程度、好ましくは
１〜50ｌ程度とするのがよい。反応は−70℃〜100℃、
好ましくは−50℃〜50℃の範囲で行われる。本発明の化
合物は、反応終了後、通常の抽出操作或いは晶析操作を
行うことによりほぼ純品として得ることができるが、そ
の他の方法によつても勿論精製することができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明では、ペナム系、ペネム系、及び
セフエム系抗生物質の合成中間体として有用なアレニル
β−ラクタム化合物が提供される。
セフエム系抗生物質の合成中間体として有用なアレニル
β−ラクタム化合物が提供される。
【００２１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより一層明ら
かにする。尚、Ｐhはフエニル基を示す。
かにする。尚、Ｐhはフエニル基を示す。
【００２２】実施例１ 一般式〔化３〕の化合物→一般式〔化４〕の化合物
【００２３】
【化３】
【００２４】
【化４】
【００２５】一般式〔化３〕の化合物〔Ｒ1＝フエニル
アセトアミド、Ｒ2＝Ｈ、Ｒ3＝ジフエニルメチル、Ｘ＝
フエニルスルホニル、Ｒ5＝トリフルオロメチル〕１gを
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド 10mｌに溶解する。これ
を、−30℃に冷却したのち、トリエチルアミン 0.43mｌ
を加え−30℃で１時間撹拌して反応させる。反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。抽出液を減圧濃縮すると、一般式
〔化４〕の化合物〔Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，及びＸは前記に同
じ〕が収率99％で得られる。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；δｐｐｍ 3.61（s，２Ｈ）, 5.31（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ７
Ｈz）, 5.57 and 5.70(ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.84（d，
１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.02（d，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈz）, 6.81（s，１Ｈ）, 7.2
2〜7.73（m，20Ｈ）
アセトアミド、Ｒ2＝Ｈ、Ｒ3＝ジフエニルメチル、Ｘ＝
フエニルスルホニル、Ｒ5＝トリフルオロメチル〕１gを
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド 10mｌに溶解する。これ
を、−30℃に冷却したのち、トリエチルアミン 0.43mｌ
を加え−30℃で１時間撹拌して反応させる。反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。抽出液を減圧濃縮すると、一般式
〔化４〕の化合物〔Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，及びＸは前記に同
じ〕が収率99％で得られる。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；δｐｐｍ 3.61（s，２Ｈ）, 5.31（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ７
Ｈz）, 5.57 and 5.70(ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.84（d，
１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.02（d，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈz）, 6.81（s，１Ｈ）, 7.2
2〜7.73（m，20Ｈ）
【００２６】実施例２〜７ 表１に示す出発化合物を用いて実施例１と同様の反応を
行い以下に示す化合物が得られた。 一般式〔化２〕の化合物→一般式〔化１〕の化合物
行い以下に示す化合物が得られた。 一般式〔化２〕の化合物→一般式〔化１〕の化合物
【００２７】
【表１】
【００２８】以下にＮＭＲデータをまとめて示す。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）；δｐｐｍ
【００２９】化合物（1b）：3.58（s，２Ｈ）, 3.80
（s，３Ｈ）, 5.10（s，２Ｈ）， 5.32（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.60 and 5.47（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.87（d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.08（d，１Ｈ，Ｊ＝８
Ｈz）, 6.85〜7.83（m，14Ｈz）
（s，３Ｈ）, 5.10（s，２Ｈ）， 5.32（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.60 and 5.47（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.87（d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.08（d，１Ｈ，Ｊ＝８
Ｈz）, 6.85〜7.83（m，14Ｈz）
【００３０】化合物（1c）：3.59（s，２Ｈ）, 3.74
（s，３Ｈ）, 5.33（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.54 and 5.64（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.88（d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.02（d，１Ｈ，Ｊ＝８
Ｈz）, 7.20〜7.90（m，10Ｈz）
（s，３Ｈ）, 5.33（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.54 and 5.64（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 5.88（d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 6.02（d，１Ｈ，Ｊ＝８
Ｈz）, 7.20〜7.90（m，10Ｈz）
【００３１】化合物（1d）：3.67（s，２Ｈ）, 5.25
（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.69 （d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 5.60 and 5.76（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 6.71（s，１Ｈ）, 7.00〜7.34（m，20Ｈz）
（dd，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz and ８Ｈz）, 5.69 （d，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈz）, 5.60 and 5.76（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15Ｈz）, 6.71（s，１Ｈ）, 7.00〜7.34（m，20Ｈz）
【００３２】化合物（1e）：3.02（dd，１Ｈ，Ｊ＝2.6
Ｈz and 15.7Ｈz）, 3.58（dd，１Ｈ，Ｊ＝5.4Ｈz and 15.7Ｈz）, 3.79（s，３Ｈ）, 5.17（s，２Ｈ）， 5.47 and 5.60（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15.2Ｈz）, 5.62（dd，１Ｈ，Ｊ＝2.6Ｈz and 5.4Ｈz）, 6.87〜7.89（m，９Ｈ）
Ｈz and 15.7Ｈz）, 3.58（dd，１Ｈ，Ｊ＝5.4Ｈz and 15.7Ｈz）, 3.79（s，３Ｈ）, 5.17（s，２Ｈ）， 5.47 and 5.60（ＡＢq，２Ｈ，Ｊ＝15.2Ｈz）, 5.62（dd，１Ｈ，Ｊ＝2.6Ｈz and 5.4Ｈz）, 6.87〜7.89（m，９Ｈ）
【００３３】実施例８〜10 反応溶媒と反応温度を変えた以外は実施例１と同様の反
応を行い一般式〔化４〕の化合物が表２に示す収率で得
られた。
応を行い一般式〔化４〕の化合物が表２に示す収率で得
られた。
【００３４】
【表２】
フロントページの続き (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 205/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式〔化１〕で表されるアレニルβ−
ラクタム化合物。 【化１】 （式中Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、又は
保護されたアミノ基を示す。Ｒ2は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルキル
基、水酸基、又は保護された水酸基を置換基として有す
る低級アルキル基、水酸基、又は保護された水酸基を示
す。又、Ｒ1とＲ2とで＝Ｏを示す。Ｒ3は水素原子又は
カルボン酸保護基を示す。Ｘは基−ＳＯ2Ｒ4又は基−Ｓ
Ｒ4を示す。Ｒ4は置換基を有していても良いアリール
基、又は置換基を有していても良い含窒素芳香族複素環
基を示す。） - 【請求項２】 一般式〔化２〕で表されるアゼチジノン
誘導体を塩基と反応させて一般式〔化１〕で表されるア
レニルβ−ラクタム化合物を得ることを特徴とするアレ
ニルβ−ラクタム化合物の製造法。 【化２】 （式中Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｘは前記に同じ。Ｒ5は置換基を
有していても良い低級アルキル基、又は置換基を有して
いても良いアリール基を示す。）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072448A JP2993576B2 (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法 |
| DE69216126T DE69216126T2 (de) | 1991-03-11 | 1992-03-11 | Allenyl-Beta-Lactam-Verbindungen und Verfahren zu deren Herstellung |
| EP92104201A EP0503604B1 (en) | 1991-03-11 | 1992-03-11 | Allenyl beta-lactam compounds and process for preparing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072448A JP2993576B2 (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04282359A JPH04282359A (ja) | 1992-10-07 |
| JP2993576B2 true JP2993576B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=13489586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3072448A Expired - Fee Related JP2993576B2 (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | アレニルβ−ラクタム化合物及びその製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0503604B1 (ja) |
| JP (1) | JP2993576B2 (ja) |
| DE (1) | DE69216126T2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1270995B (it) * | 1994-07-22 | 1997-05-26 | Opos Biochimica Srl | Derivati dell'acido 2-(2-azetidinon-n-il)-3-butenoico e loro uso nella sintesi di cefalosporine |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4013648A (en) * | 1975-07-23 | 1977-03-22 | Bristol-Myers Company | Δ2,3 -0-2-Isocephem-4-carboxylic acid and derivatives as antibacterial agents |
| JPS59134779A (ja) * | 1983-01-19 | 1984-08-02 | Otsuka Chem Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
| GB2152497B (en) * | 1983-11-28 | 1987-08-05 | Otsuka Kagaku Kk | Process for the preparation of azetidinone derivatives |
| DE69126342T2 (de) * | 1990-03-08 | 1997-10-23 | Otsuka Kagaku Kk | Thiazolinoazetidinon-Derivat und Verfahren zur Herstellung eines 2-exo-Methylen-penam Derivates daraus |
-
1991
- 1991-03-11 JP JP3072448A patent/JP2993576B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-11 DE DE69216126T patent/DE69216126T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-11 EP EP92104201A patent/EP0503604B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0503604A3 (en) | 1992-12-02 |
| DE69216126D1 (de) | 1997-02-06 |
| EP0503604B1 (en) | 1996-12-27 |
| DE69216126T2 (de) | 1997-04-10 |
| JPH04282359A (ja) | 1992-10-07 |
| EP0503604A2 (en) | 1992-09-16 |
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