JP2814286B2 - ２―エキソメチレンペナム誘導体の製造法 - Google Patents
２―エキソメチレンペナム誘導体の製造法Info
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- JP2814286B2 JP2814286B2 JP2056957A JP5695790A JP2814286B2 JP 2814286 B2 JP2814286 B2 JP 2814286B2 JP 2056957 A JP2056957 A JP 2056957A JP 5695790 A JP5695790 A JP 5695790A JP 2814286 B2 JP2814286 B2 JP 2814286B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は２−エキソメチレンペナム誘導体の製造法に
関する。
関する。
（従来の技術） 従来、一般式 （式中R1は置換基を有していても良いフエニル基、置換
基を有していても良いメチル基又は を示す。R3は置換基を有していても良いフエニル基を示
す。R2は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。）で表
わされる２−エキソメチレンペナム誘導体の合成法とし
てはJ.Chem.Soc.,Chem.Commun.,81（1987）に記載され
ている方法しか知られていない。しかし、この方法は収
率が低く、又反応工程の随所で、煩雑な反応操作や分離
操作が必要で、到底実用的な製造法として満足できるも
のではなかつた。
基を有していても良いメチル基又は を示す。R3は置換基を有していても良いフエニル基を示
す。R2は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。）で表
わされる２−エキソメチレンペナム誘導体の合成法とし
てはJ.Chem.Soc.,Chem.Commun.,81（1987）に記載され
ている方法しか知られていない。しかし、この方法は収
率が低く、又反応工程の随所で、煩雑な反応操作や分離
操作が必要で、到底実用的な製造法として満足できるも
のではなかつた。
（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、上記従来法の如き難点がなく、安
全、簡便な操作で、且つ工業的に有利な方法で、しかも
高収率、高純度で上記２−エキソメチレンペナム誘導体
を製造し得る方法を提供することにある。
全、簡便な操作で、且つ工業的に有利な方法で、しかも
高収率、高純度で上記２−エキソメチレンペナム誘導体
を製造し得る方法を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 本発明は一般式 （式中R1は置換基を有していても良いフエニル基、置換
基を有していても良いメチル基又は を示す。R3は置換基を有していても良いフエニル基を示
す。R2は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。）で表
わされるチアゾリノアゼチジノン誘導体のチアゾリン環
を加水分解させて、一般式 （式中R1,R2は前記に同じ。）で表わされる２−エキソ
メチレンベナム誘導体に再閉環させることを特徴とする
２−エキソメチレンペナム誘導体の製造法に係る。
基を有していても良いメチル基又は を示す。R3は置換基を有していても良いフエニル基を示
す。R2は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。）で表
わされるチアゾリノアゼチジノン誘導体のチアゾリン環
を加水分解させて、一般式 （式中R1,R2は前記に同じ。）で表わされる２−エキソ
メチレンベナム誘導体に再閉環させることを特徴とする
２−エキソメチレンペナム誘導体の製造法に係る。
本発明において出発原料として用いられる一般式
（１）の化合物は、例えば一般式 （式中R1,R2は前記に同じ。R4は置換基を有していても
良い低級アルキル基又は置換基を有していても良いフエ
ニル基を示す。）で表わされるチオゾリノアゼチジノン
誘導体を塩基と反応させることにより製造することがで
きる。一般式（３）の化合物は例えば特開昭51−105051
号の参考例32或いは参考例33に記載の方法で製造され
る。
（１）の化合物は、例えば一般式 （式中R1,R2は前記に同じ。R4は置換基を有していても
良い低級アルキル基又は置換基を有していても良いフエ
ニル基を示す。）で表わされるチオゾリノアゼチジノン
誘導体を塩基と反応させることにより製造することがで
きる。一般式（３）の化合物は例えば特開昭51−105051
号の参考例32或いは参考例33に記載の方法で製造され
る。
本明細書において示される各基は、より具体的には各
々次の通りである。R1,R3或いはR4で示される置換基を
有していても良いフエニル基の置換基の種類としては、
F,Cl,Br,I等のハロゲン原子、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝
の低級アルキル基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アル
コキシ基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキルチオ
基、アミノ基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキル
基を１〜２個置換基として持つアミノ基、水酸基、保護
された水酸基、ニトロ基、シアノ基、フエニル基、 （R5はC1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキル基を示
す。）、 （R5は前記に同じ。）等を例示できる。これらの置換基
は１〜５個、同一或いは異なる種類で置換されていても
良い。
々次の通りである。R1,R3或いはR4で示される置換基を
有していても良いフエニル基の置換基の種類としては、
F,Cl,Br,I等のハロゲン原子、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝
の低級アルキル基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アル
コキシ基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキルチオ
基、アミノ基、C1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキル
基を１〜２個置換基として持つアミノ基、水酸基、保護
された水酸基、ニトロ基、シアノ基、フエニル基、 （R5はC1 〜 ４の直鎖或いは分枝の低級アルキル基を示
す。）、 （R5は前記に同じ。）等を例示できる。これらの置換基
は１〜５個、同一或いは異なる種類で置換されていても
良い。
R1で示される置換基を有していても良いメチル基の具
体例としては、−CH3,−CH2Cl,−CHCl2,−CCl3,−CH2B
r,−CHBr2,−CBr3,−CH2F,−CHF2,−CF3,−CHXR3基（Ｘ
は水素原子、F,Cl,Br,I等のハロゲン原子、水酸基、保
護された水酸基、アセトキシ基、アミノ基、保護された
アミノ基を示す。R3は前記に同じ。）、 −CY2R3基（ＹはF,Cl,Br,I等のハロゲン原子を示す。R3
は前記に同じ。）、−CH2OR3基（R3は前記に同じ。）等
で例示できる。
体例としては、−CH3,−CH2Cl,−CHCl2,−CCl3,−CH2B
r,−CHBr2,−CBr3,−CH2F,−CHF2,−CF3,−CHXR3基（Ｘ
は水素原子、F,Cl,Br,I等のハロゲン原子、水酸基、保
護された水酸基、アセトキシ基、アミノ基、保護された
アミノ基を示す。R3は前記に同じ。）、 −CY2R3基（ＹはF,Cl,Br,I等のハロゲン原子を示す。R3
は前記に同じ。）、−CH2OR3基（R3は前記に同じ。）等
で例示できる。
R2で示されるカルボン酸保護基としては、ベンジル
基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、
ジフエニルメチル基、トリクロロエチル基、メチル基、
エチル基、ｔ−ブチル基或いはTheodora W.Greene著の
“Protective Groups in Organic Synthesis"第５章（p
152〜192）に記載されている基を例示できる。
基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、
ジフエニルメチル基、トリクロロエチル基、メチル基、
エチル基、ｔ−ブチル基或いはTheodora W.Greene著の
“Protective Groups in Organic Synthesis"第５章（p
152〜192）に記載されている基を例示できる。
R4で示される置換基を有していても良い低級アルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピ
ル、ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、−CH2Cl、−CHC
l2、−CCl3、−CH2Br、−CHBr2、−CBr3、−CH2F、−CH
F2、−CF3、−CH2CH2F、−CH2CH2Cl、−CH2CH2Br、−CH
2CHF2、−CH2CHCl2、−CH2CHBr2、−CH2CF3、−CH2CC
l3、−CH2CBr3等を例示できる。
基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピ
ル、ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、−CH2Cl、−CHC
l2、−CCl3、−CH2Br、−CHBr2、−CBr3、−CH2F、−CH
F2、−CF3、−CH2CH2F、−CH2CH2Cl、−CH2CH2Br、−CH
2CHF2、−CH2CHCl2、−CH2CHBr2、−CH2CF3、−CH2CC
l3、−CH2CBr3等を例示できる。
本明細書において各基の置換基として示される保護さ
れた水酸基の保護基としては、Theodora W.Greene著の
“Protective Groups in Organic Synthesis"第２章（p
10〜72）に記載されている基を例示できる。
れた水酸基の保護基としては、Theodora W.Greene著の
“Protective Groups in Organic Synthesis"第２章（p
10〜72）に記載されている基を例示できる。
本明細書において各基の置換基として示される保護さ
れたアミノ基の保護基としては、Theodora W.Greene著
の“Protective Groups in Organic Synthesis"第７章
（p218〜287）に記載されている基を例示できる。
れたアミノ基の保護基としては、Theodora W.Greene著
の“Protective Groups in Organic Synthesis"第７章
（p218〜287）に記載されている基を例示できる。
本発明においては、上記一般式（１）で表わされるチ
アゾリノアゲチジノン誘導体のチアゾリン環を加水分解
させて、２−エキソメチレンペナム誘導体に再閉環させ
る。一般式（１）の化合物は、例えば一般式（３）の化
合物を塩基と反応させて製造される。本発明において
は、上記の方法で、一般式（３）の化合物より合成され
た一般式（１）の化合物を単離することなく、そのまま
一般式（１）の化合物のチアゾリン環を加水分解させ
て、目的の２−エキソメチレンペナム誘導体に再閉環さ
せることもできる。
アゾリノアゲチジノン誘導体のチアゾリン環を加水分解
させて、２−エキソメチレンペナム誘導体に再閉環させ
る。一般式（１）の化合物は、例えば一般式（３）の化
合物を塩基と反応させて製造される。本発明において
は、上記の方法で、一般式（３）の化合物より合成され
た一般式（１）の化合物を単離することなく、そのまま
一般式（１）の化合物のチアゾリン環を加水分解させ
て、目的の２−エキソメチレンペナム誘導体に再閉環さ
せることもできる。
本発明において、一般式（３）の化合物から一般式
（１）の化合物を合成し、単離せずにそのまま反応させ
る場合も、一般式（１）の化合物を単離し、反応させる
場合も適当な溶媒中で反応させるのが好ましい。
（１）の化合物を合成し、単離せずにそのまま反応させ
る場合も、一般式（１）の化合物を単離し、反応させる
場合も適当な溶媒中で反応させるのが好ましい。
使用する溶媒としては、一般式（３）及び／又は一般
式（１）の化合物を溶解し且つ該反応条件下で不活性な
ものである限り広く使用でき、例えば蟻酸メチル、蟻酸
エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチ
ル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アル
キルエステル類、ジエチルエーテル、エチルプロピルエ
ーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類、アセトニ
トリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチ
ロニトリル、バレロニトリル等のニトリル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、アニソール
等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素類、ジクロル
メタン、クロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエ
タン、ジブロムエタン、プロピレンジクロライド、四塩
化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素類、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、シ
クロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シク
ロオクタン等のシクロアルカン類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスル
ホキシド等を挙げることができ、これらは１種又は２種
以上混合して使用される。又これらの溶媒には、必要に
応じて水が含有されていてもよい。斯かる溶媒の使用量
は、一般式（３）の化合物及び／又は一般式（１）の化
合物1kg当り0.5〜200程度、好ましくは１〜50程度
とするのがよい。
式（１）の化合物を溶解し且つ該反応条件下で不活性な
ものである限り広く使用でき、例えば蟻酸メチル、蟻酸
エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチ
ル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アル
キルエステル類、ジエチルエーテル、エチルプロピルエ
ーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類、アセトニ
トリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチ
ロニトリル、バレロニトリル等のニトリル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、アニソール
等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素類、ジクロル
メタン、クロロホルム、ジクロルエタン、トリクロルエ
タン、ジブロムエタン、プロピレンジクロライド、四塩
化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素類、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、シ
クロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シク
ロオクタン等のシクロアルカン類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスル
ホキシド等を挙げることができ、これらは１種又は２種
以上混合して使用される。又これらの溶媒には、必要に
応じて水が含有されていてもよい。斯かる溶媒の使用量
は、一般式（３）の化合物及び／又は一般式（１）の化
合物1kg当り0.5〜200程度、好ましくは１〜50程度
とするのがよい。
一般式（３）の化合物から一般式（１）の化合物を合
成する反応で使用する塩基としては、脂肪族或いは芳香
族アミンが好ましい。その具体例としてはトリエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、トリブチルアミン、DBN（1,5−ジアザビシクロ
〔3.4.0〕ノネン−５）、DBU（1,5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデセン−５）、DABCO（1,4−ジアザビシ
クロ〔2.2.2〕オクタン）、ピペリジン、Ｎ−メチルピ
ペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、モルホ
リン、Ｎ−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジン等を例示できる。こ
れら塩基の使用量としては一般式（２）の化合物に対し
て通常１〜12倍モル、好ましくは１〜６倍モル量使用す
る。
成する反応で使用する塩基としては、脂肪族或いは芳香
族アミンが好ましい。その具体例としてはトリエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、トリブチルアミン、DBN（1,5−ジアザビシクロ
〔3.4.0〕ノネン−５）、DBU（1,5−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデセン−５）、DABCO（1,4−ジアザビシ
クロ〔2.2.2〕オクタン）、ピペリジン、Ｎ−メチルピ
ペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、モルホ
リン、Ｎ−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジメチルアミノピリジン等を例示できる。こ
れら塩基の使用量としては一般式（２）の化合物に対し
て通常１〜12倍モル、好ましくは１〜６倍モル量使用す
る。
一般式（３）化合物から一般式（１）の化合物を合成
する反応は−70℃〜50℃、好ましくは−50℃〜０℃の範
囲で行われる。
する反応は−70℃〜50℃、好ましくは−50℃〜０℃の範
囲で行われる。
一般式（１）で表わされるチアゾリノアゼチジノン誘
導体のチアゾリン環を加水分解させて、目的の２−エキ
ソメチレンペナム誘導体に再閉環させるには、一般式
（１）の化合物を酸の存在下、水と反応させる。使用す
る酸としては特に限定されるものではなく、無機酸、有
機酸ともに従来公知のものを広く使用でき、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、リン酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、F,Cl,Br,I等のハロゲン原子
が１〜５個置換したベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンフアース
ルホン酸、ギ酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢
酸、トリクロル酢酸、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢
酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、F,Cl,Br,I等のハロ
ゲン原子が１〜５個置換した安息香酸等を例示できる。
又一般式（３）の化合物から一般式（１）の化合物を合
成し、単離せずにそのまま反応させる場合、使用した塩
基と、使用した上記酸とで形成される塩も本発明の酸と
して使用される。上記酸の使用量としては、理論的には
触媒量で良いが、通常、一般式（１）で表わされる化合
物に対して0.01〜50倍モル、好ましくは0.1〜30倍モル
使用される。
導体のチアゾリン環を加水分解させて、目的の２−エキ
ソメチレンペナム誘導体に再閉環させるには、一般式
（１）の化合物を酸の存在下、水と反応させる。使用す
る酸としては特に限定されるものではなく、無機酸、有
機酸ともに従来公知のものを広く使用でき、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、リン酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、F,Cl,Br,I等のハロゲン原子
が１〜５個置換したベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンフアース
ルホン酸、ギ酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢
酸、トリクロル酢酸、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢
酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、F,Cl,Br,I等のハロ
ゲン原子が１〜５個置換した安息香酸等を例示できる。
又一般式（３）の化合物から一般式（１）の化合物を合
成し、単離せずにそのまま反応させる場合、使用した塩
基と、使用した上記酸とで形成される塩も本発明の酸と
して使用される。上記酸の使用量としては、理論的には
触媒量で良いが、通常、一般式（１）で表わされる化合
物に対して0.01〜50倍モル、好ましくは0.1〜30倍モル
使用される。
上記チアゾリン環の加水分解反応での水の使用量とし
ては、理論的には一般式（１）で表わされる化合物に対
して当モル量で良いが、通常、１〜1500倍モル、好まし
くは１〜1000倍モル使用される。使用する酸が水溶液で
ある場合、或いは結晶水を持つている場合は新たに水を
加えなくても良い場合もある。
ては、理論的には一般式（１）で表わされる化合物に対
して当モル量で良いが、通常、１〜1500倍モル、好まし
くは１〜1000倍モル使用される。使用する酸が水溶液で
ある場合、或いは結晶水を持つている場合は新たに水を
加えなくても良い場合もある。
上記、チアゾリン環を加水分解させて、目的の２−エ
キソメチレンペナム誘導体へ再閉環させる反応は−70℃
〜50℃、好ましくは−50℃〜10℃の範囲で行われる。
キソメチレンペナム誘導体へ再閉環させる反応は−70℃
〜50℃、好ましくは−50℃〜10℃の範囲で行われる。
上記反応終了後、例えば通常の抽出操作を行うことに
より、目的とする一般式（２）で表わされる２−エキソ
メチレンペナム誘導体をほぼ純品として得ることができ
るが、その他の方法によつても勿論精製することができ
る。
より、目的とする一般式（２）で表わされる２−エキソ
メチレンペナム誘導体をほぼ純品として得ることができ
るが、その他の方法によつても勿論精製することができ
る。
（発明の効果） 本発明では、目的とする一般式（２）で表わされる２
−エキソメチレンペナム誘導体が簡便な操作で、且つ工
業的に有利な方法で、しかも高収率、高純度で製造され
る。
−エキソメチレンペナム誘導体が簡便な操作で、且つ工
業的に有利な方法で、しかも高収率、高純度で製造され
る。
（実施例） 以下に実施例を挙げて本発明をより一層明らかにす
る。尚、Phはフエニル基を示す。
る。尚、Phはフエニル基を示す。
実施例１ 化合物（１）（R1＝ベンジル、R2＝メチル）170mgを
N,N−ジメチルホルムアミド（1ml）に溶かし、−10℃に
冷却する。これに５％希塩酸0.2mlを加え、−10℃で撹
拌しながら５分間反応させたのち、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水MgSO4で乾燥し
たのち、減圧濃縮する。このようにして得られた濃縮残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製
すると化合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝メチル）が収
率85％で得られた。
N,N−ジメチルホルムアミド（1ml）に溶かし、−10℃に
冷却する。これに５％希塩酸0.2mlを加え、−10℃で撹
拌しながら５分間反応させたのち、酢酸エチルで抽出す
る。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水MgSO4で乾燥し
たのち、減圧濃縮する。このようにして得られた濃縮残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製
すると化合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝メチル）が収
率85％で得られた。
NMR（CDCl3）；δ ppm 3.62（ABq,2H,J＝16Hz）,3.78（s,3H）， 5.19（t,1H,J＝2Hz）， 5.28（t,1H,J＝2Hz）， 5.40（t,1H,J＝2Hz）， 5.60（d,1H,J＝4Hz）， 5.77（dd,1H,J＝4Hz and 9Hz）， 6.20（d,1H,9Hz）,7.27〜7.39（m,5H） 実施例２ 化合物（３）（R1＝ベンジル、R2＝メチル、R3＝メチ
ル）704mgをN,N−ジメチルホルムアミド（5ml）に溶か
し、−20℃に冷却する。これにトリエチルアミン（1m
l）を加えて、−20℃で撹拌しながら１時間反応させ
る。この反応液に５％希塩酸（10ml）を加え、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗い、無水MgSO4
で乾燥したのち、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製すると
化合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝メチル）が収率80％
で得られた。
ル）704mgをN,N−ジメチルホルムアミド（5ml）に溶か
し、−20℃に冷却する。これにトリエチルアミン（1m
l）を加えて、−20℃で撹拌しながら１時間反応させ
る。この反応液に５％希塩酸（10ml）を加え、酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗い、無水MgSO4
で乾燥したのち、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーを用いて精製すると
化合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝メチル）が収率80％
で得られた。
実施例３ 化合物（３）（R1＝ベンジル、R2＝ジフエニルメチ
ル、R3＝メチル）30mgをN,N−ジメチルホルムアミド（1
ml）に溶かし、−20℃に冷却する。これにトリエチルア
ミン（18μ）を加えて、−20℃撹拌しながら１時間反
応させる。この反応液に70％過塩素酸（50μ）を加
え、０℃に昇温する。０℃で撹拌しながら2.5時間反応
させた後、水を加え酢酸エチルで抽出する。有機層を飽
和食塩水で洗い、無水MgSO4で乾燥したのち、減圧濃縮
する。析出した結晶をエーテルにて別すると化合物
（２）（R1＝ベンジル、R2＝ジフエニルメチル）が収率
82％で得られた。
ル、R3＝メチル）30mgをN,N−ジメチルホルムアミド（1
ml）に溶かし、−20℃に冷却する。これにトリエチルア
ミン（18μ）を加えて、−20℃撹拌しながら１時間反
応させる。この反応液に70％過塩素酸（50μ）を加
え、０℃に昇温する。０℃で撹拌しながら2.5時間反応
させた後、水を加え酢酸エチルで抽出する。有機層を飽
和食塩水で洗い、無水MgSO4で乾燥したのち、減圧濃縮
する。析出した結晶をエーテルにて別すると化合物
（２）（R1＝ベンジル、R2＝ジフエニルメチル）が収率
82％で得られた。
NMR（CDCl3）；δ ppm 3.62（s,2H）,5.26〜5.28（m,2H）， 5.37（t,1H,J＝2Hz）， 5.61（d,1H,J＝4Hz）， 5.76（dd,1H,J＝4Hz and 9Hz）， 6.14（d,1H,J＝9Hz）,6.82（s,1H）， 7.20〜7.41（m,15H） 実施例４ 実施例２と同様の反応を行い化合物（３）（R1＝ベン
ジル、R2＝ｐ−メトキシベンジル、R3＝メチル）より化
合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝ｐ−メトキシベンジ
ル）が得られた。
ジル、R2＝ｐ−メトキシベンジル、R3＝メチル）より化
合物（２）（R1＝ベンジル、R2＝ｐ−メトキシベンジ
ル）が得られた。
実施例５ 実施例２と同様の反応を行い化合物（３）（R1＝フエ
ノキシメチル、R2＝ｐ−ニトロベンジル、R3＝メチル）
より化合物（２）（R1＝フエノキシメチル、R2＝ｐ−ニ
トロベンジル）が得られた。
ノキシメチル、R2＝ｐ−ニトロベンジル、R3＝メチル）
より化合物（２）（R1＝フエノキシメチル、R2＝ｐ−ニ
トロベンジル）が得られた。
実施例６ 実施例２と同様の反応を行い化合物（３）（R1＝ベン
ジル、R2＝ジフエニルメチル、R3＝メチル）より化合物
（２）（R1＝ベンジル、R2＝ジフエニルメチル）が得ら
れた。
ジル、R2＝ジフエニルメチル、R3＝メチル）より化合物
（２）（R1＝ベンジル、R2＝ジフエニルメチル）が得ら
れた。
フロントページの続き (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463番地 大塚化学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 昭50−160291（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 499/84 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中R1は置換基を有していても良いフエニル基、置換
基を有していても良いメチル基又は を示す。R3は置換基を有していても良いフエニル基を示
す。R2は水素原子又はカルボン酸保護基を示す。）で表
わされるチアゾリノアゼチジノン誘導体のチアゾリン環
を加水分解させて、一般式 （式中R1,R2は前記に同じ。）で表わされる２−エキソ
メチレンベナム誘導体に再閉環させることを特徴とする
２−エキソメチレンペナム誘導体の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056957A JP2814286B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ２―エキソメチレンペナム誘導体の製造法 |
| US07/665,863 US5206361A (en) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Thiazolinoazetidinone derivative |
| EP91103515A EP0445822B1 (en) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Thiazolinoazetidinone derivative and process for preparing 2-exo-methylene-penam derivative thereform |
| DE69126342T DE69126342T2 (de) | 1990-03-08 | 1991-03-07 | Thiazolinoazetidinon-Derivat und Verfahren zur Herstellung eines 2-exo-Methylen-penam Derivates daraus |
| US08/003,024 US5288860A (en) | 1990-03-08 | 1993-01-11 | Process for preparing thiazolino azetidinone and 2-exo-methylenepenam derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056957A JP2814286B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ２―エキソメチレンペナム誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03258782A JPH03258782A (ja) | 1991-11-19 |
| JP2814286B2 true JP2814286B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=13042021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2056957A Expired - Fee Related JP2814286B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | ２―エキソメチレンペナム誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2814286B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2056957A patent/JP2814286B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03258782A (ja) | 1991-11-19 |
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