JP3025911B2 - ２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体 - Google Patents
２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体Info
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- JP3025911B2 JP3025911B2 JP3047166A JP4716691A JP3025911B2 JP 3025911 B2 JP3025911 B2 JP 3025911B2 JP 3047166 A JP3047166 A JP 3047166A JP 4716691 A JP4716691 A JP 4716691A JP 3025911 B2 JP3025911 B2 JP 3025911B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な２−エキソメチ
レンペナムオキシド誘導体に関する。
レンペナムオキシド誘導体に関する。
【０００２】
【従来技術とその課題】本発明の２−エキソメチレンペ
ナムオキシド誘導体は、文献未記載の新規化合物であ
り、本発明は後記の通り広範囲な抗菌スペクトルを有す
るペナム系抗生物質を合成するための中間体として好適
に使用され得る上記２−エキソメチレンペナムオキシド
誘導体の提供を目的とする。
ナムオキシド誘導体は、文献未記載の新規化合物であ
り、本発明は後記の通り広範囲な抗菌スペクトルを有す
るペナム系抗生物質を合成するための中間体として好適
に使用され得る上記２−エキソメチレンペナムオキシド
誘導体の提供を目的とする。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
（１）
（１）
【０００４】
【化２】
【０００５】［式中Ｒ1 は水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基又は保護されたアミノ基を示す。Ｒ2 は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、
低級アルキル基、水酸基もしくは保護された水酸基を置
換基として有する低級アルキル基、水酸基又は保護され
た水酸基を示す。或いはＲ1 とＲ2 とが互いに結合して
オキソ基を形成してもよい。Ｒ3 は水素原子又はカルボ
ン酸保護基を示す。ｎは１又は２を示す。］で表わされ
る２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体が提供され
る。
ミノ基又は保護されたアミノ基を示す。Ｒ2 は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、
低級アルキル基、水酸基もしくは保護された水酸基を置
換基として有する低級アルキル基、水酸基又は保護され
た水酸基を示す。或いはＲ1 とＲ2 とが互いに結合して
オキソ基を形成してもよい。Ｒ3 は水素原子又はカルボ
ン酸保護基を示す。ｎは１又は２を示す。］で表わされ
る２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体が提供され
る。
【０００６】本明細書において示される各基は、より具
体的にはそれぞれ次の通りである。
体的にはそれぞれ次の通りである。
【０００７】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。低級ア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec −ブ
チル、tert−ブチル基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基が挙げられる。またアリール基としては、例え
ばフェニル、ナフチル基等が挙げられる。
塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられる。低級ア
ルキル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec −ブ
チル、tert−ブチル基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基が挙げられる。またアリール基としては、例え
ばフェニル、ナフチル基等が挙げられる。
【０００８】Ｒ1 で示される保護されたアミノ基として
は、プロテクティブ グループ イン オーガニック
シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesi
s 、Theodora W.Greene 著、以下単に「文献」という）
の第７章（第２１８〜２８７頁）に記載されている各種
の基の他、フェノキシアセトアミド、ｐ−メチルフェノ
キシアセトアミド、ｐ−メトキシフェノキシアセトアミ
ド、ｐ−クロロフェノキシアセトアミド、ｐ−ブロモフ
ェノキシアセトアミド、フェニルアセトアミド、ｐ−メ
チルフェニルアセトアミド、ｐ−メトキシフェニルアセ
トアミド、ｐ−クロロフェニルアセトアミド、ｐ−ブロ
モフェニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセトア
ミド、フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒドロ
キシアセトアミド、チェニルアセトアミド、フェニルア
セトキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミド、ｐ−メト
キシベンズアミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロ
モベンズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ基の
保護されたフェニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロキシフ
ェニルグリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方又は
両方が保護されたｐ−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ド等を例示できる。フェニルグリシルアミド及びｐ−ヒ
ドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護基と
しては、上記文献の第７章（第２１８〜２８７頁）に記
載されている各種基を例示できる。またｐ−ヒドロキシ
フェニルグリシルアミドの水酸基の保護基としては、上
記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載されている各
種基を例示できる。
は、プロテクティブ グループ イン オーガニック
シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesi
s 、Theodora W.Greene 著、以下単に「文献」という）
の第７章（第２１８〜２８７頁）に記載されている各種
の基の他、フェノキシアセトアミド、ｐ−メチルフェノ
キシアセトアミド、ｐ−メトキシフェノキシアセトアミ
ド、ｐ−クロロフェノキシアセトアミド、ｐ−ブロモフ
ェノキシアセトアミド、フェニルアセトアミド、ｐ−メ
チルフェニルアセトアミド、ｐ−メトキシフェニルアセ
トアミド、ｐ−クロロフェニルアセトアミド、ｐ−ブロ
モフェニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセトア
ミド、フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒドロ
キシアセトアミド、チェニルアセトアミド、フェニルア
セトキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、ベンズアミド、ｐ−メチルベンズアミド、ｐ−メト
キシベンズアミド、ｐ−クロロベンズアミド、ｐ−ブロ
モベンズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ基の
保護されたフェニルグリシルアミド、ｐ−ヒドロキシフ
ェニルグリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方又は
両方が保護されたｐ−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ド等を例示できる。フェニルグリシルアミド及びｐ−ヒ
ドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護基と
しては、上記文献の第７章（第２１８〜２８７頁）に記
載されている各種基を例示できる。またｐ−ヒドロキシ
フェニルグリシルアミドの水酸基の保護基としては、上
記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載されている各
種基を例示できる。
【０００９】Ｒ2 で示される低級アルコキシ基として
は、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソ
プロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、sec −ブト
キシ、tert−ブトキシ基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基が挙げられる。
は、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソ
プロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、sec −ブト
キシ、tert−ブトキシ基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基が挙げられる。
【００１０】Ｒ2 で示される低級アシル基としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状アシル基が
挙げられる。
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル基等のＣ1-4 の直鎖又は分枝鎖状アシル基が
挙げられる。
【００１１】Ｒ2 で示される水酸基又は保護された水酸
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、及びＲ2 で示される保護された水酸基の保護基と
しては、上記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載さ
れている各種基を例示できる。Ｒ2 で示される上記置換
低級アルキル基は、水酸基又は上記で示される保護され
た水酸基の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基
で、同一又は異なる炭素上に１つ以上置換されていても
よい。
基を置換基として有する低級アルキル基の保護された水
酸基、及びＲ2 で示される保護された水酸基の保護基と
しては、上記文献の第２章（第１０〜７２頁）に記載さ
れている各種基を例示できる。Ｒ2 で示される上記置換
低級アルキル基は、水酸基又は上記で示される保護され
た水酸基の中から選ばれる同一又は異なる種類の置換基
で、同一又は異なる炭素上に１つ以上置換されていても
よい。
【００１２】Ｒ3 で示されるカルボン酸の保護基として
は、上記文献の第５章（第１５２〜１９２頁）に記載さ
れている各種の基の他、ベンジル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基、
トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例示できる。
は、上記文献の第５章（第１５２〜１９２頁）に記載さ
れている各種の基の他、ベンジル基、ｐ−メトキシベン
ジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基、
トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例示できる。
【００１３】上記一般式（１）で表わされる２−エキソ
メチレンペナムオキシド誘導体は、例えば下記に示す方
法で製造される。即ち、一般式
メチレンペナムオキシド誘導体は、例えば下記に示す方
法で製造される。即ち、一般式
【００１４】
【化３】
【００１５】［式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同
じ。］で表わされる２−エキソメチレンペナム誘導体を
酸化剤を用いて酸化することにより容易に製造される。
じ。］で表わされる２−エキソメチレンペナム誘導体を
酸化剤を用いて酸化することにより容易に製造される。
【００１６】この反応は、適当な溶媒中で行なわれる。
斯かる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−
ブタノール等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキル
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等の
エーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチ
ロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭
化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレン
ジクロライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭
化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカ
ン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙げることがで
きる。これらは１種単独で又は２種以上混合して使用さ
れる。またこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含
有されていてもよい。斯かる溶媒は、一般式（２）の化
合物１kg当り、通常１０〜２００ｌ程度、好ましくは２
０〜１００ｌ程度使用されるのがよい。
斯かる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−
ブタノール等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチ
ル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキル
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等の
エーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチ
ロニトリル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等の
ニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭
化水素類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエ
タン、トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレン
ジクロライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭
化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカ
ン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙げることがで
きる。これらは１種単独で又は２種以上混合して使用さ
れる。またこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含
有されていてもよい。斯かる溶媒は、一般式（２）の化
合物１kg当り、通常１０〜２００ｌ程度、好ましくは２
０〜１００ｌ程度使用されるのがよい。
【００１７】本反応に用いる酸化剤としては、広くスル
フィドの酸化に使用する酸化剤を用いることができる。
具体的には、二酸化マンガン、クロム酸、四酢酸鉛、四
酸化ルテニウム、過マンガン酸カリウム等の無機酸化
物、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸ナトリウム等の過ヨウ素酸
類、Ｎ−ブロモこはく酸イミド、Ｎ−クロロこはく酸イ
ミド等のＮ−ハロカルボン酸アミド類、次亜塩素酸ｔ−
ブチル、過酸化水素、過蟻酸、過酢酸、メタクロロ過安
息香酸等の有機過酸類、又は過酸化水素と蟻酸、酢酸等
の低級カルボン酸との組合せ等が例示できる。これら酸
化剤の使用量は、基質や目的物のｎ＝１の場合とｎ＝２
の場合等によって異なるが、通常１〜２０倍モル、好ま
しくは１〜５倍モル程度使用される。
フィドの酸化に使用する酸化剤を用いることができる。
具体的には、二酸化マンガン、クロム酸、四酢酸鉛、四
酸化ルテニウム、過マンガン酸カリウム等の無機酸化
物、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸ナトリウム等の過ヨウ素酸
類、Ｎ−ブロモこはく酸イミド、Ｎ−クロロこはく酸イ
ミド等のＮ−ハロカルボン酸アミド類、次亜塩素酸ｔ−
ブチル、過酸化水素、過蟻酸、過酢酸、メタクロロ過安
息香酸等の有機過酸類、又は過酸化水素と蟻酸、酢酸等
の低級カルボン酸との組合せ等が例示できる。これら酸
化剤の使用量は、基質や目的物のｎ＝１の場合とｎ＝２
の場合等によって異なるが、通常１〜２０倍モル、好ま
しくは１〜５倍モル程度使用される。
【００１８】上記反応の反応温度は、通常−５０〜８０
℃程度、好ましくは−１０〜５０℃程度である。
℃程度、好ましくは−１０〜５０℃程度である。
【００１９】上記反応で得られる本発明の化合物は、通
常の単離精製手段、例えば濾過、再結晶、カラムクロマ
トグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー
等により反応混合物から単離、精製され得る。
常の単離精製手段、例えば濾過、再結晶、カラムクロマ
トグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー
等により反応混合物から単離、精製され得る。
【００２０】本発明において出発原料として用いられる
上記一般式（２）の化合物は、例えば
上記一般式（２）の化合物は、例えば
【００２１】
【化４】
【００２２】［式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同じ。
Ｘは基−ＳＯ2 Ｒ4 又は基−ＳＲ4 を示す。ここでＲ4
は置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有
していてもよい含窒素芳香族複素環基を示す。］で表わ
されるアレニルβ−ラクタム化合物を金属還元剤と反応
させることにより容易に合成され得る。
Ｘは基−ＳＯ2 Ｒ4 又は基−ＳＲ4 を示す。ここでＲ4
は置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有
していてもよい含窒素芳香族複素環基を示す。］で表わ
されるアレニルβ−ラクタム化合物を金属還元剤と反応
させることにより容易に合成され得る。
【００２３】上記において、Ｒ4 で示される置換基を有
していてもよい含窒素芳香族複素環基の含窒素芳香族複
素環基としては、例えばチアゾール−２−イル、チアジ
アゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オ
キサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イ
ル、イミダゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２
−イル、ピラミジニル、ピリジル基等が挙げられる。ま
たＲ4 で示されるアリール基又は含窒素芳香族複素環基
に置換してもよい置換基の種類としては、ハロゲン原
子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級ア
ルキル基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低
級アルキルアミノ基、メルカプト基、基Ｒ5 Ｓ−（Ｒ5
は低級アルキル基又はアリール基）で表わされるアルキ
ルチオ基又はアリールチオ基、ホルミルオキシ基、基Ｒ
5 ＣＯＯ−（Ｒ5 は前記に同じ）で表わされるアシルオ
キシ基、ホルミル基、基Ｒ5 ＣＯ−（Ｒ5 は前記に同
じ）で表わされるアシル基、基Ｒ5 Ｏ−（Ｒ5 は前記に
同じ）で表わされるアルコキシ基もしくはアリールオキ
シ基、カルボキシ基、基Ｒ5 ＯＣＯ−（Ｒ5 は前記に同
じ）で表わされるアルコキシカルボニル基もしくはアリ
ールオキシカルボニル基等が挙げられる。更にＲ4 にお
けるアリール基又は含窒素芳香族複素環基は、上記置換
基から選ばれる１つ以上の同一又は異なる種類の置換基
で置換されていてもよい。
していてもよい含窒素芳香族複素環基の含窒素芳香族複
素環基としては、例えばチアゾール−２−イル、チアジ
アゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、オ
キサゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イ
ル、イミダゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２
−イル、ピラミジニル、ピリジル基等が挙げられる。ま
たＲ4 で示されるアリール基又は含窒素芳香族複素環基
に置換してもよい置換基の種類としては、ハロゲン原
子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アリール基、低級ア
ルキル基、アミノ基、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低
級アルキルアミノ基、メルカプト基、基Ｒ5 Ｓ−（Ｒ5
は低級アルキル基又はアリール基）で表わされるアルキ
ルチオ基又はアリールチオ基、ホルミルオキシ基、基Ｒ
5 ＣＯＯ−（Ｒ5 は前記に同じ）で表わされるアシルオ
キシ基、ホルミル基、基Ｒ5 ＣＯ−（Ｒ5 は前記に同
じ）で表わされるアシル基、基Ｒ5 Ｏ−（Ｒ5 は前記に
同じ）で表わされるアルコキシ基もしくはアリールオキ
シ基、カルボキシ基、基Ｒ5 ＯＣＯ−（Ｒ5 は前記に同
じ）で表わされるアルコキシカルボニル基もしくはアリ
ールオキシカルボニル基等が挙げられる。更にＲ4 にお
けるアリール基又は含窒素芳香族複素環基は、上記置換
基から選ばれる１つ以上の同一又は異なる種類の置換基
で置換されていてもよい。
【００２４】一般式（３）の化合物から一般式（２）の
化合物を得る反応は、有機溶媒中で行なわれる。有機溶
媒としては、一般式（３）の化合物を溶解し且つ該反応
の条件下で不活性なものである限り従来公知のものを広
く使用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノー
ル等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プ
ロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン
酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチ
ルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは１種単独で又は２種以上混合して使用される。ま
たこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含有されて
いてもよい。斯かる溶媒は、一般式（３）の化合物１kg
当り、通常０．５〜２００ｌ程度、好ましくは１０ｌ程
度使用されるのがよい。
化合物を得る反応は、有機溶媒中で行なわれる。有機溶
媒としては、一般式（３）の化合物を溶解し且つ該反応
の条件下で不活性なものである限り従来公知のものを広
く使用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノー
ル等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プ
ロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン
酸エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチ
ルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは１種単独で又は２種以上混合して使用される。ま
たこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含有されて
いてもよい。斯かる溶媒は、一般式（３）の化合物１kg
当り、通常０．５〜２００ｌ程度、好ましくは１０ｌ程
度使用されるのがよい。
【００２５】上記反応で用いられる金属還元剤として
は、例えば金属鉛、金属チタン、金属ジルコニウム、金
属ガリウム、金属ビスマス、金属アンチモン等を挙げる
ことができる。反応させるこれら金属の形状は、特に制
限はなく、粉状、板状、塊状、針金状等の広範囲の形態
を使用し得る。上記反応をより低い温度、より短時間で
完結させるためには、粉状金属を使用するのが有利であ
る。金属還元剤として粉状金属を用いる場合、その粒子
径は広い範囲内から適宜選択し得るが、１０〜５００メ
ッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら金属
還元剤の使用量は、一般式（３）の化合物に対して通常
１〜１０倍モル原子程度、好ましくは１〜４倍モル原子
程度とするのがよい。
は、例えば金属鉛、金属チタン、金属ジルコニウム、金
属ガリウム、金属ビスマス、金属アンチモン等を挙げる
ことができる。反応させるこれら金属の形状は、特に制
限はなく、粉状、板状、塊状、針金状等の広範囲の形態
を使用し得る。上記反応をより低い温度、より短時間で
完結させるためには、粉状金属を使用するのが有利であ
る。金属還元剤として粉状金属を用いる場合、その粒子
径は広い範囲内から適宜選択し得るが、１０〜５００メ
ッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら金属
還元剤の使用量は、一般式（３）の化合物に対して通常
１〜１０倍モル原子程度、好ましくは１〜４倍モル原子
程度とするのがよい。
【００２６】上記反応においては、反応系内に上記金属
還元剤よりもイオン化傾向の大きい金属を共存させるの
が好ましい。斯かる金属を共存させることにより、上記
金属還元剤の使用量を極端に低減させることができ、反
応後の後処理が容易になると共に、反応をより低い温度
で、より短時間で遂行させることができる。上記金属還
元剤とそれよりもイオン化傾向の大きい金属の組合わせ
の具体例としては、Ｐｂ／Ａｌ、Ｂｉ／Ａｌ、Ｔｉ／Ｚ
ｎ、Ｇａ／Ｚｎ、Ｚｒ／Ｚｎ、Ｓｂ／Ｚｎ、Ｔｅ／Ｚ
ｎ、Ｐｂ／Ｚｎ、Ｂｉ／Ｚｎ、Ｂｉ／Ｍｇ、Ｂｉ／Ｓ
ｎ、Ｓｂ／Ｓｎ等を例示できる。金属還元剤と共存させ
るこれら金属の形状も、特に制限はなく、粉状、板状、
箔状、塊状、針金状等の広範囲の形態を使用し得るが、
上記反応をより低い温度、より短時間で完結させるため
には、粉状金属を使用するのが有利である。粉状金属の
粒子径は広い範囲内から適宜選択し得るが、１０〜３０
０メッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら
金属の使用量は、一般式（３）の化合物に対して通常１
〜５０倍モル原子程度、好ましくは１〜１０倍モル原子
程度とするのがよい。
還元剤よりもイオン化傾向の大きい金属を共存させるの
が好ましい。斯かる金属を共存させることにより、上記
金属還元剤の使用量を極端に低減させることができ、反
応後の後処理が容易になると共に、反応をより低い温度
で、より短時間で遂行させることができる。上記金属還
元剤とそれよりもイオン化傾向の大きい金属の組合わせ
の具体例としては、Ｐｂ／Ａｌ、Ｂｉ／Ａｌ、Ｔｉ／Ｚ
ｎ、Ｇａ／Ｚｎ、Ｚｒ／Ｚｎ、Ｓｂ／Ｚｎ、Ｔｅ／Ｚ
ｎ、Ｐｂ／Ｚｎ、Ｂｉ／Ｚｎ、Ｂｉ／Ｍｇ、Ｂｉ／Ｓ
ｎ、Ｓｂ／Ｓｎ等を例示できる。金属還元剤と共存させ
るこれら金属の形状も、特に制限はなく、粉状、板状、
箔状、塊状、針金状等の広範囲の形態を使用し得るが、
上記反応をより低い温度、より短時間で完結させるため
には、粉状金属を使用するのが有利である。粉状金属の
粒子径は広い範囲内から適宜選択し得るが、１０〜３０
０メッシュ程度のものを使用するのが望ましい。これら
金属の使用量は、一般式（３）の化合物に対して通常１
〜５０倍モル原子程度、好ましくは１〜１０倍モル原子
程度とするのがよい。
【００２７】上記反応において、上記金属還元剤よりも
イオン化傾向の大きい金属を併用する場合には、上記金
属還元剤の代りにそれら金属の化合物を使用するのがよ
り好ましい。斯かる金属化合物の具体例としては、弗化
鉛、塩化鉛、臭化鉛、沃化鉛等のハロゲン化鉛、硝酸
鉛、硫酸鉛、過塩素酸鉛、硼酸鉛、炭酸鉛、燐酸鉛等の
無機酸鉛、酢酸鉛、蓚酸鉛、ステアリン酸鉛等の脂肪酸
鉛、酸化鉛、水酸化鉛、弗化チタン、塩化チタン、臭化
チタン、沃化チタン等のハロゲン化チタン、硫酸チタ
ン、硝酸チタン等の無機酸チタン、弗化ガリウム、塩化
ガリウム、臭化ガリウム、沃化ガリウム等のハロゲン化
ガリウム、硫酸ガリウム、硝酸ガリウム、過塩素酸ガリ
ウム等の無機酸ガリウム、弗化ジルコニウム、塩化ジル
コニウム、臭化ジルコニウム、沃化ジルコニウム等のハ
ロゲン化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、塩化テルル
ウム、臭化テルルウム、沃化テルルウム等のハロゲン化
テルルウム、弗化ビスマス、塩化ビスマス、臭化ビスマ
ス、沃化ビスマス等のハロゲン化ビスマス、硝酸ビスマ
ス、硫酸ビスマス等の無機酸ビスマス、酸化ビスマス、
弗化アンチモン、塩化アンチモン、臭化アンチモン、沃
化アンチモン等のハロゲン化アンチモン、硫酸アンチモ
ン等の無機酸アンチモン、酸化アンチモン等を例示でき
る。これらの金属化合物の使用量としては、理論的には
１分子が反応系内に存在すればよいわけであるが、通常
一般式（３）の化合物に対して約０．０００１〜２倍モ
ルとするのがよい。
イオン化傾向の大きい金属を併用する場合には、上記金
属還元剤の代りにそれら金属の化合物を使用するのがよ
り好ましい。斯かる金属化合物の具体例としては、弗化
鉛、塩化鉛、臭化鉛、沃化鉛等のハロゲン化鉛、硝酸
鉛、硫酸鉛、過塩素酸鉛、硼酸鉛、炭酸鉛、燐酸鉛等の
無機酸鉛、酢酸鉛、蓚酸鉛、ステアリン酸鉛等の脂肪酸
鉛、酸化鉛、水酸化鉛、弗化チタン、塩化チタン、臭化
チタン、沃化チタン等のハロゲン化チタン、硫酸チタ
ン、硝酸チタン等の無機酸チタン、弗化ガリウム、塩化
ガリウム、臭化ガリウム、沃化ガリウム等のハロゲン化
ガリウム、硫酸ガリウム、硝酸ガリウム、過塩素酸ガリ
ウム等の無機酸ガリウム、弗化ジルコニウム、塩化ジル
コニウム、臭化ジルコニウム、沃化ジルコニウム等のハ
ロゲン化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、塩化テルル
ウム、臭化テルルウム、沃化テルルウム等のハロゲン化
テルルウム、弗化ビスマス、塩化ビスマス、臭化ビスマ
ス、沃化ビスマス等のハロゲン化ビスマス、硝酸ビスマ
ス、硫酸ビスマス等の無機酸ビスマス、酸化ビスマス、
弗化アンチモン、塩化アンチモン、臭化アンチモン、沃
化アンチモン等のハロゲン化アンチモン、硫酸アンチモ
ン等の無機酸アンチモン、酸化アンチモン等を例示でき
る。これらの金属化合物の使用量としては、理論的には
１分子が反応系内に存在すればよいわけであるが、通常
一般式（３）の化合物に対して約０．０００１〜２倍モ
ルとするのがよい。
【００２８】上記反応の反応温度は、原料物質、使用す
る有機溶媒等により異なり一概には言えないが、通常−
２０〜１００℃程度、好ましくは０〜５０℃程度であ
る。
る有機溶媒等により異なり一概には言えないが、通常−
２０〜１００℃程度、好ましくは０〜５０℃程度であ
る。
【００２９】尚、該反応においては、超音波の照射下に
反応を行なうと、反応がより速やかに進行する場合があ
る。
反応を行なうと、反応がより速やかに進行する場合があ
る。
【００３０】上記反応終了後、例えば通常の抽出操作を
行なうことにより、目的とする一般式（２）の２−エキ
ソメチレンペナム誘導体をほぼ純品の形態で単離し得
る。更に精製の必要があれば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等の慣用の精製手段を採用すればよい。
行なうことにより、目的とする一般式（２）の２−エキ
ソメチレンペナム誘導体をほぼ純品の形態で単離し得
る。更に精製の必要があれば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等の慣用の精製手段を採用すればよい。
【００３１】上記一般式（３）で表わされる化合物は、
例えば一般式
例えば一般式
【００３２】
【化５】
【００３３】［式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＸは前記に同
じ。Ｒ6 は置換基を有していてもよい低級アルキル基又
は置換基を有していてもよいアリール基を示す。］で表
わされるアゼチジノン誘導体を塩基と反応させることに
より製造される。
じ。Ｒ6 は置換基を有していてもよい低級アルキル基又
は置換基を有していてもよいアリール基を示す。］で表
わされるアゼチジノン誘導体を塩基と反応させることに
より製造される。
【００３４】この反応において、用いられる塩基として
は、脂肪族アミン及び芳香族アミンが好ましく、具体的
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、１，５−ジ
アザビシクロ［３．４．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、
１，５−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−５
（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．０］オ
クタン（ＤＡＢＣＯ）、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、モル
ホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を例示でき
る。これら塩基の使用量としては、一般式（４）の化合
物に対して通常１〜１２倍モル、好ましくは１〜６倍モ
ル量とするのがよい。また溶媒としては、一般式（４）
の化合物を溶解し且つ該反応の条件下で不活性なもので
ある限り従来公知のものを広く使用でき、例えば蟻酸メ
チル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピ
オン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸
の低級アルキルエステル類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは１種単独で又は２種以上混合して使用される。ま
たこれらの溶媒には、必要に応じて水が含有されていて
もよい。斯かる溶媒は、一般式（４）の化合物１kg当
り、通常０．５〜２００ｌ程度、好ましくは１〜５０ｌ
程度使用されるのがよい。該反応は、−７０〜１００
℃、好ましくは−５０〜５０℃の範囲で行なわれる。斯
くして得られる一般式（３）の化合物は、反応終了後、
通常の抽出操作又は晶析操作を行なうことによりほぼ純
品として得ることができるが、その他の方法によっても
精製することは勿論である。
は、脂肪族アミン及び芳香族アミンが好ましく、具体的
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、１，５−ジ
アザビシクロ［３．４．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、
１，５−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−５
（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．０］オ
クタン（ＤＡＢＣＯ）、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、モル
ホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を例示でき
る。これら塩基の使用量としては、一般式（４）の化合
物に対して通常１〜１２倍モル、好ましくは１〜６倍モ
ル量とするのがよい。また溶媒としては、一般式（４）
の化合物を溶解し且つ該反応の条件下で不活性なもので
ある限り従来公知のものを広く使用でき、例えば蟻酸メ
チル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピ
オン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸
の低級アルキルエステル類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは１種単独で又は２種以上混合して使用される。ま
たこれらの溶媒には、必要に応じて水が含有されていて
もよい。斯かる溶媒は、一般式（４）の化合物１kg当
り、通常０．５〜２００ｌ程度、好ましくは１〜５０ｌ
程度使用されるのがよい。該反応は、−７０〜１００
℃、好ましくは−５０〜５０℃の範囲で行なわれる。斯
くして得られる一般式（３）の化合物は、反応終了後、
通常の抽出操作又は晶析操作を行なうことによりほぼ純
品として得ることができるが、その他の方法によっても
精製することは勿論である。
【００３５】一般式（４）の化合物は、例えば特開昭６
１−１６５３６７号公報に記載の方法に従い製造され
る。
１−１６５３６７号公報に記載の方法に従い製造され
る。
【００３６】本発明の２−エキソメチレンペナムオキシ
ド誘導体は、ペナム系抗生物質を合成するための中間体
として有用である。例えばｎが１である本発明の化合物
（１）は、下記反応式−１に示す方法に従い一般式
（６）で表わされる２−置換メチルペナム誘導体等に誘
導され得る。
ド誘導体は、ペナム系抗生物質を合成するための中間体
として有用である。例えばｎが１である本発明の化合物
（１）は、下記反応式−１に示す方法に従い一般式
（６）で表わされる２−置換メチルペナム誘導体等に誘
導され得る。
【００３７】［反応式−１］
【００３８】
【化６】
【００３９】［式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同じ。
Ｙは求核剤残基を示す。］
Ｙは求核剤残基を示す。］
【００４０】
【発明の効果】本発明では、ペナム系抗菌剤の合成中間
体として有用な新規２−エキソメチレンペナムオキシド
誘導体が提供される。
体として有用な新規２−エキソメチレンペナムオキシド
誘導体が提供される。
【００４１】
【実施例】以下に参考例及び実施例を掲げて本発明をよ
り一層明らかにする。
り一層明らかにする。
【００４２】
【参考例１】Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水
素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基、Ｘがフェニルスル
フェニル基且つＲ5 がトリフロロメチル基である一般式
（４）の化合物（以下「化合物（４ａ）という）１ｇを
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解する。こ
れを、−３０℃に冷却したのち、トリエチルアミン０．
４３ｍｌを加え−３０℃で１時間撹拌して反応させる。
反応混合物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液を減圧濃縮する
と、Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、
Ｒ3 がジフェニルメチル基且つＸがフェニルスルフェニ
ル基である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３
ａ）という）が収率９９％で得られる。
素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基、Ｘがフェニルスル
フェニル基且つＲ5 がトリフロロメチル基である一般式
（４）の化合物（以下「化合物（４ａ）という）１ｇを
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解する。こ
れを、−３０℃に冷却したのち、トリエチルアミン０．
４３ｍｌを加え−３０℃で１時間撹拌して反応させる。
反応混合物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液を減圧濃縮する
と、Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、
Ｒ3 がジフェニルメチル基且つＸがフェニルスルフェニ
ル基である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３
ａ）という）が収率９９％で得られる。
【００４３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
１（ｓ，２Ｈ）、５．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及
び７Ｈｚ）、５．５７及び５．７０（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ
＝１５Ｈｚ）、５．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、
６．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８１（ｓ，１
Ｈ）、７．２２−７．７３（ｍ，２０Ｈ）
１（ｓ，２Ｈ）、５．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及
び７Ｈｚ）、５．５７及び５．７０（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ
＝１５Ｈｚ）、５．８４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、
６．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８１（ｓ，１
Ｈ）、７．２２−７．７３（ｍ，２０Ｈ）
【００４４】
【参考例２−７】表１に示す出発化合物を用いて参考例
１と同様の反応を行ない、以下に示す化合物が得られ
る。
１と同様の反応を行ない、以下に示す化合物が得られ
る。
【００４５】
【表１】
【００４６】以下にＮＭＲデーターをまとめて示す。
【００４７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ； 化合物（３ｂ）：３．５８（ｓ，２Ｈ）、３．８０
（ｓ，３Ｈ）、５．１０（ｓ，２Ｈ）、５．３２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び８Ｈｚ）、５．６０及び５．
４７（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、５．８７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、６．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．８５−７．８３（ｍ，１４Ｈ） 化合物（３ｃ）：３．５９（ｓ，２Ｈ）、３．７４
（ｓ，３Ｈ）、５．３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び
８Ｈｚ）、５．５４及び５．６４（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝
１５Ｈｚ）、５．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、６．
０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．９０
（ｍ，１０Ｈ） 化合物（３ｄ）：３．６７（ｓ，２Ｈ）、５．２５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び８Ｈｚ）、５．６９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、５．６０及び５．７６（ＡＢｑ，２
Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、６．７１（ｓ，１Ｈ）、７．００
−７．３４（ｍ，２０Ｈ） 化合物（３ｅ）：３．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈ
ｚ及び１５．７Ｈｚ）、３．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ及び１５．７Ｈｚ）、３．７９（ｓ，３
Ｈ）、５．１７（ｓ，２Ｈ）、５．４７及び５．６０
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ）、５．６２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ及び５．４Ｈｚ）、６．８７
−７．８９（ｍ，９Ｈ）
（ｓ，３Ｈ）、５．１０（ｓ，２Ｈ）、５．３２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び８Ｈｚ）、５．６０及び５．
４７（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、５．８７（ｄ，
１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、６．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．８５−７．８３（ｍ，１４Ｈ） 化合物（３ｃ）：３．５９（ｓ，２Ｈ）、３．７４
（ｓ，３Ｈ）、５．３３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び
８Ｈｚ）、５．５４及び５．６４（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝
１５Ｈｚ）、５．８８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、６．
０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．９０
（ｍ，１０Ｈ） 化合物（３ｄ）：３．６７（ｓ，２Ｈ）、５．２５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ及び８Ｈｚ）、５．６９（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝５Ｈｚ）、５．６０及び５．７６（ＡＢｑ，２
Ｈ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、６．７１（ｓ，１Ｈ）、７．００
−７．３４（ｍ，２０Ｈ） 化合物（３ｅ）：３．０２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈ
ｚ及び１５．７Ｈｚ）、３．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ及び１５．７Ｈｚ）、３．７９（ｓ，３
Ｈ）、５．１７（ｓ，２Ｈ）、５．４７及び５．６０
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ）、５．６２（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ及び５．４Ｈｚ）、６．８７
−７．８９（ｍ，９Ｈ）
【００４８】
【参考例８−１０】反応溶媒と反応温度を変えた以外は
参考例１と同様の反応を行ない、化合物（３ａ）が表２
に示す収率で得られる。
参考例１と同様の反応を行ない、化合物（３ａ）が表２
に示す収率で得られる。
【００４９】
【表２】
【００５０】
【参考例１１】化合物（３ａ）１００ｍｇをＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１ｍｌに溶解した。これに亜鉛粉末
５０ｍｇを加え，続いてＢｉＣｌ3 ５０ｍｇを加えて、
室温下で３０分間撹拌しながら反応させた。このように
して得られた反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を分液し、水洗後無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製すると、Ｒ
1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子且つＲ3
がｐ−メトキシベンジル基である一般式（２）の化合物
（以下「化合物（２ａ）」という）が収率９２％で得ら
れた。
メチルホルムアミド１ｍｌに溶解した。これに亜鉛粉末
５０ｍｇを加え，続いてＢｉＣｌ3 ５０ｍｇを加えて、
室温下で３０分間撹拌しながら反応させた。このように
して得られた反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を分液し、水洗後無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、減圧濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製すると、Ｒ
1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子且つＲ3
がｐ−メトキシベンジル基である一般式（２）の化合物
（以下「化合物（２ａ）」という）が収率９２％で得ら
れた。
【００５１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
１（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．８０（ｓ，３
Ｈ）、５．１１（ｓ，２Ｈ）、５．１８（ｔ，１Ｈ，Ｊ
＝１Ｈｚ）、５．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、５．
３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、５．５７（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び
９Ｈｚ）、６．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、６．８
５−７．４０（ｍ，９Ｈ）
１（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．８０（ｓ，３
Ｈ）、５．１１（ｓ，２Ｈ）、５．１８（ｔ，１Ｈ，Ｊ
＝１Ｈｚ）、５．２４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、５．
３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、５．５７（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び
９Ｈｚ）、６．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、６．８
５−７．４０（ｍ，９Ｈ）
【００５２】
【参考例１２】Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が
水素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基且つＸがフェニル
スルフェニル基である一般式（３）の化合物（以下「化
合物（３ｂ）」という）２００ｍｇを参考例１１と同様
の反応を行ない、Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2
が水素原子且つＲ3 がジフェニルメチル基である一般式
（２）の化合物（以下「化合物（２ｂ）」という）が収
率８９％で得られた。
水素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基且つＸがフェニル
スルフェニル基である一般式（３）の化合物（以下「化
合物（３ｂ）」という）２００ｍｇを参考例１１と同様
の反応を行ない、Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2
が水素原子且つＲ3 がジフェニルメチル基である一般式
（２）の化合物（以下「化合物（２ｂ）」という）が収
率８９％で得られた。
【００５３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
２（ｓ，２Ｈ）、５．２６−５．２８（ｍ，２Ｈ）、
５．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．６１（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ
及び９Ｈｚ）、６．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、
６．８２（ｓ，１Ｈ）、７．２０−７．４１（ｍ，１５
Ｈ）
２（ｓ，２Ｈ）、５．２６−５．２８（ｍ，２Ｈ）、
５．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．６１（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ
及び９Ｈｚ）、６．１４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、
６．８２（ｓ，１Ｈ）、７．２０−７．４１（ｍ，１５
Ｈ）
【００５４】
【参考例１３】Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が
水素原子、Ｒ3 がメチル基且つＸがフェニルスルフェニ
ル基である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３
ｃ）」という）５０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド０．５ｍｌに溶解する。これに亜鉛粉末５０ｍｇとＴ
ｉＣｌ4 １０μｌを加え，室温下２５分間撹拌しながら
反応させた。参考例１１と同様の後処理を行ない、Ｒ1
がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子且つＲ3 が
メチル基である一般式（２）の化合物（以下「化合物
（２ｃ）」という）を収率９５％で得る。
水素原子、Ｒ3 がメチル基且つＸがフェニルスルフェニ
ル基である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３
ｃ）」という）５０ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド０．５ｍｌに溶解する。これに亜鉛粉末５０ｍｇとＴ
ｉＣｌ4 １０μｌを加え，室温下２５分間撹拌しながら
反応させた。参考例１１と同様の後処理を行ない、Ｒ1
がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子且つＲ3 が
メチル基である一般式（２）の化合物（以下「化合物
（２ｃ）」という）を収率９５％で得る。
【００５５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
２（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．７８（ｓ，３
Ｈ）、５．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．２８
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝
２Ｈｚ）、５．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７
７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び９Ｈｚ）、６．２０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．２７−７．３９（ｍ，
５Ｈ）
２（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．７８（ｓ，３
Ｈ）、５．１９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．２８
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝
２Ｈｚ）、５．６０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７
７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び９Ｈｚ）、６．２０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．２７−７．３９（ｍ，
５Ｈ）
【００５６】
【参考例１４】Ｒ1 及びＲ2 が共に水素原子、Ｒ3 がｐ
−メトキシベンジル基且つＸがフェニルスルフェニル基
である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３ｄ）」
という）１８９ｍｇを参考例１１と同様の反応を行な
い、Ｒ1 及びＲ2 が共に水素原子且つＲ3 がｐ−メトキ
シベンジル基である一般式（２）の化合物（以下「化合
物（２ｄ）」という）が収率８８％で得られた。
−メトキシベンジル基且つＸがフェニルスルフェニル基
である一般式（３）の化合物（以下「化合物（３ｄ）」
という）１８９ｍｇを参考例１１と同様の反応を行な
い、Ｒ1 及びＲ2 が共に水素原子且つＲ3 がｐ−メトキ
シベンジル基である一般式（２）の化合物（以下「化合
物（２ｄ）」という）が収率８８％で得られた。
【００５７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．１
６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ及び１６Ｈｚ）、３．
６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び１６Ｈｚ）、３．８
２（ｓ，３Ｈ）、５．１３（ｓ，２Ｈ）、５．２４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、５．２８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、５．
３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、
５．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ及び４Ｈｚ）、
６．８７−７．３０（ｍ，４Ｈ）
６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ及び１６Ｈｚ）、３．
６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び１６Ｈｚ）、３．８
２（ｓ，３Ｈ）、５．１３（ｓ，２Ｈ）、５．２４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、５．２８
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、５．
３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ及び１．８Ｈｚ）、
５．３８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．５Ｈｚ及び４Ｈｚ）、
６．８７−７．３０（ｍ，４Ｈ）
【００５８】
【参考例１５−２０】金属及び金属塩を変えた以外は、
参考例１１と同様の反応を行ない、化合物（２ａ）を得
る。結果を表３に示す。
参考例１１と同様の反応を行ない、化合物（２ａ）を得
る。結果を表３に示す。
【００５９】
【表３】
【００６０】
【実施例１】化合物（２ａ）５０ｍｇを塩化メチレン３
ｍｌに溶解する。これに氷冷下ｍ−クロロ過安息香酸３
０ｍｇを加え、３０分間撹拌して反応させる。反応混合
物を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧濃縮する。濃縮残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、Ｒ1
がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がｐ
−メトキシベンジル基且つｎが１である一般式（１）の
化合物（以下「化合物（１ａ）」という）が収率９０％
で得られる。
ｍｌに溶解する。これに氷冷下ｍ−クロロ過安息香酸３
０ｍｇを加え、３０分間撹拌して反応させる。反応混合
物を飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した後、減圧濃縮する。濃縮残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製すると、Ｒ1
がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がｐ
−メトキシベンジル基且つｎが１である一般式（１）の
化合物（以下「化合物（１ａ）」という）が収率９０％
で得られる。
【００６１】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
０（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｓ，３Ｈ）、４．８０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、４．１１及び５．２４
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、５．４４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、５．９１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、６．１
５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１０．４Ｈｚ）、
６．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈ
ｚ）、７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ）、６．
８５−６．９３（ｍ，２Ｈ）、７．２２−７．４０
（ｍ，７Ｈ）
０（ｓ，２Ｈ）、３．８１（ｓ，３Ｈ）、４．８０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、４．１１及び５．２４
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、５．４４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、５．９１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、６．１
５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１０．４Ｈｚ）、
６．１９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２．４Ｈ
ｚ）、７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ）、６．
８５−６．９３（ｍ，２Ｈ）、７．２２−７．４０
（ｍ，７Ｈ）
【００６２】
【実施例２】化合物（２ａ）５１．４ｍｇを塩化メチレ
ン３ｍｌに溶解する。これにｍ−クロロ過安息香酸１２
６ｍｇを加え、室温下６時間撹拌して反応させる。反応
混合物を実施例１と同様に後処理すると、Ｒ1 がフェニ
ルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がｐ−メトキ
シベンジル基且つｎが２である一般式（１）の化合物
（以下「化合物（１ｂ）」という）が収率９０％で得ら
れる。
ン３ｍｌに溶解する。これにｍ−クロロ過安息香酸１２
６ｍｇを加え、室温下６時間撹拌して反応させる。反応
混合物を実施例１と同様に後処理すると、Ｒ1 がフェニ
ルアセトアミド基、Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がｐ−メトキ
シベンジル基且つｎが２である一般式（１）の化合物
（以下「化合物（１ｂ）」という）が収率９０％で得ら
れる。
【００６３】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
６（ｓ，２Ｈ）、３．８２（ｓ，３Ｈ）、４．６０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、５．１１及び５．２５
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、５．２６（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、５．９７
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、６．１
４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、６．
１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１０．７Ｈｚ）、
６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、６．８６−
６．９３（ｍ，２Ｈ）、７．２３−７．４０（ｍ，７
Ｈ）
６（ｓ，２Ｈ）、３．８２（ｓ，３Ｈ）、４．６０
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、５．１１及び５．２５
（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、５．２６（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、５．９７
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、６．１
４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２．６Ｈｚ）、６．
１７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１０．７Ｈｚ）、
６．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ）、６．８６−
６．９３（ｍ，２Ｈ）、７．２３−７．４０（ｍ，７
Ｈ）
【００６４】
【実施例３】Ｒ1 がフェニルアセトアミド基、Ｒ2 が水
素原子且つＲ3 がジフェニルメチル基である一般式
（２）の化合物（以下「化合物（２ｂ）」という）３０
ｍｇを塩化メチレン１ｍｌに溶解する。これに、氷冷下
ｍ−クロロ過安息香酸１５ｍｇを加え２０分間撹拌して
反応させる。反応混合物を飽和重曹水、ハイポ水、飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧濃縮する。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製するとＲ1 がフェニルアセトアミド基、
Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基且つｎが１
である一般式（１）の化合物（以下「化合物（１ｃ）と
いう）が収率９２％で得られる。
素原子且つＲ3 がジフェニルメチル基である一般式
（２）の化合物（以下「化合物（２ｂ）」という）３０
ｍｇを塩化メチレン１ｍｌに溶解する。これに、氷冷下
ｍ−クロロ過安息香酸１５ｍｇを加え２０分間撹拌して
反応させる。反応混合物を飽和重曹水、ハイポ水、飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧濃縮する。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製するとＲ1 がフェニルアセトアミド基、
Ｒ2 が水素原子、Ｒ3 がジフェニルメチル基且つｎが１
である一般式（１）の化合物（以下「化合物（１ｃ）と
いう）が収率９２％で得られる。
【００６５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．６
０及び３．６１（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．
８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．３５（ｔ，１Ｈ，
Ｊ＝２．５Ｈｚ）、５．８０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ）、６．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、６．１
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び１０Ｈｚ）、６．９５
（ｓ，１Ｈ）、７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、
７．０２−７．４０（ｍ，１５Ｈ）
０及び３．６１（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．
８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．３５（ｔ，１Ｈ，
Ｊ＝２．５Ｈｚ）、５．８０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ）、６．１４（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、６．１
８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４Ｈｚ及び１０Ｈｚ）、６．９５
（ｓ，１Ｈ）、７．１３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、
７．０２−７．４０（ｍ，１５Ｈ）
【００６６】
【実施例４】化合物（２ｄ）８５ｍｇを塩化メチレン６
ｍｌに溶解する。これに、ｍ−クロロ過安息香酸３００
ｍｇを加え、室温下２時間撹拌して反応させる。反応混
合物を実施例１と同様に処理すると、Ｒ1 及びＲ2 が共
に水素原子、Ｒ3 がｐ−メトキシベンジル基且つｎが２
である一般式（１）の化合物（以下「化合物（１ｄ）と
いう）が収率７８％で得られる。
ｍｌに溶解する。これに、ｍ−クロロ過安息香酸３００
ｍｇを加え、室温下２時間撹拌して反応させる。反応混
合物を実施例１と同様に処理すると、Ｒ1 及びＲ2 が共
に水素原子、Ｒ3 がｐ−メトキシベンジル基且つｎが２
である一般式（１）の化合物（以下「化合物（１ｄ）と
いう）が収率７８％で得られる。
【００６７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：δｐｐｍ；３．４
９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ及び１５．９Ｈｚ）、
３．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６Ｈｚ及び１５．９Ｈ
ｚ）、３．８３（ｓ，３Ｈ）、４．５２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．３Ｈｚ及び３．６Ｈｚ）、５．１３及び５．２
６（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ）、５．２５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、６．０２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、６．
２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、
６．８９−７．３３（ｍ，４Ｈ）
９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３Ｈｚ及び１５．９Ｈｚ）、
３．５８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．６Ｈｚ及び１５．９Ｈ
ｚ）、３．８３（ｓ，３Ｈ）、４．５２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝２．３Ｈｚ及び３．６Ｈｚ）、５．１３及び５．２
６（ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ）、５．２５（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、６．０２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、６．
２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．７Ｈｚ及び２．７Ｈｚ）、
６．８９−７．３３（ｍ，４Ｈ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 平１−283288（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−204494（ＪＰ，Ａ) Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ. Ｃｏｍｍｕｎ．（1987），（２），ｐａ ｇｅｓ81−83 Ｉｎｖｅｓｔ．Ｍｅｄ．Ｉｎｔ. （1977），４（１），ｐａｇｅｓ95− 110 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 499/00 - 499/82 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中Ｒ1 は水素原子、ハロゲン原子、アミノ基又は保
護されたアミノ基を示す。Ｒ2 は水素原子、ハロゲン原
子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルキル
基、水酸基もしくは保護された水酸基を置換基として有
する低級アルキル基、水酸基又は保護された水酸基を示
す。或いはＲ1 とＲ2 とが互いに結合してオキソ基を形
成してもよい。Ｒ3 は水素原子又はカルボン酸保護基を
示す。ｎは１又は２を示す。］で表わされる２−エキソ
メチレンペナムオキシド誘導体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047166A JP3025911B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体 |
| DE69225821T DE69225821T2 (de) | 1991-03-13 | 1992-03-11 | Penamderivate und Verfahren zu deren Herstellung |
| EP92104192A EP0503597B1 (en) | 1991-03-13 | 1992-03-11 | Penam derivatives and processes for producing the same |
| US08/314,307 US5599925A (en) | 1991-03-13 | 1994-09-30 | Penam derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047166A JP3025911B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283583A JPH04283583A (ja) | 1992-10-08 |
| JP3025911B2 true JP3025911B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=12767486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047166A Expired - Fee Related JP3025911B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ２−エキソメチレンペナムオキシド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3025911B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3047166A patent/JP3025911B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Ｉｎｖｅｓｔ．Ｍｅｄ．Ｉｎｔ．（１９７７），４（１），ｐａｇｅｓ９５−１１０ |
| Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．（１９８７），（２），ｐａｇｅｓ８１−８３ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04283583A (ja) | 1992-10-08 |
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