JP2988986B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

Info

Publication number
JP2988986B2
JP2988986B2 JP2222595A JP22259590A JP2988986B2 JP 2988986 B2 JP2988986 B2 JP 2988986B2 JP 2222595 A JP2222595 A JP 2222595A JP 22259590 A JP22259590 A JP 22259590A JP 2988986 B2 JP2988986 B2 JP 2988986B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
island
semiconductor device
lead
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2222595A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04106963A (ja
Inventor
好彦 猪野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MYAZAKI OKI DENKI KK
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
MYAZAKI OKI DENKI KK
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MYAZAKI OKI DENKI KK, Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical MYAZAKI OKI DENKI KK
Priority to JP2222595A priority Critical patent/JP2988986B2/ja
Publication of JPH04106963A publication Critical patent/JPH04106963A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2988986B2 publication Critical patent/JP2988986B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体装置及びその製造方法に関するもの
である。
(従来の技術) 従来、このような分野の技術としては、例えば以下に
示すようなものがあった。
第5図はかかる従来の薄型半導体装置の断面図であ
る。
この図に示すように、リードフレーム1のアイランド
3上に半導体素子(チップ)4を搭載し、該半導体素子
4のパッドとリードフレーム1のインナリード2との間
を、ワイヤ5でワイヤボンデイングを行った後、封止樹
脂6によって封止するようにしていた。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記した従来の薄型半導体装置では、
ワイヤ5のループ高さ、半導体素子4及びリードフレー
ム1の厚みの関係から、パッケージの薄型化に限界があ
り、また、封止樹脂注入時に発生する僅かなアイランド
3の傾き、浮きが原因となって、外部ボイド、未充填が
発生し易い。
本発明は、以上述べたパッケージの薄型化を実現し、
封止樹脂注入時のアイランドの浮き、傾きによる成形不
良の問題点を除去し、優れた半導体装置及びその製造方
法を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成するために、 (1)半導体素子を搭載する搭載面を有するアイランド
と複数のリードとが形成されたリードフレームを用いて
製造され、前記アイランド、このアイランド上に搭載さ
れた半導体素子、前記リード各々における前記アイラン
ド近傍部分、及び該リード前記半導体素子に設けられた
パッドとを接続するワイヤをそれぞれ樹脂封止し、前記
リードが樹脂封止された部分から延出してなる半導体装
置において、前記搭載面側及び前記リードにおける前記
ワイヤと接続される側のそのリードが延出する境界部分
までは第1の封止樹脂で封止され、前記搭載面とは反対
の面側及び前記リードにおける前記ワイヤと接続される
側とは反対の面側のそのリードが延出する境界部分まで
は第2の封止樹脂で封止されており、前記第1の封止樹
脂の厚さより、前記第2の封止樹脂の厚さが薄いことを
特徴とする。
(2)請求項1記載の半導体装置において、前記第1の
封止樹脂の厚さと前記第2の封止樹脂の厚さとの比は、
2.25:1〜4.5:1の範囲内であることを特徴とする。
(3)請求項1または2記載の半導体装置において、前
記第1の封止樹脂は熱硬化性樹脂であることを特徴とす
る。
(4)半導体素子を搭載する搭載面を有するアイランド
と、このアイランド上に搭載された半導体素子と、複数
のリードと、このリードと前記半導体素子に設けられた
パッドとを接続するワイヤとを有し、前記アイランド、
前記半導体素子、前記リード各々における前記アイラン
ド近傍部分、及び前記ワイヤをそれぞれ樹脂封止し、前
記リードが樹脂封止された部分から延出してなる半導体
装置の製造方法において、前記半導体素子の搭載面側及
び前記リードの前記ワイヤと接続される側の該リードが
延出する境界部分までの樹脂封止を行った後に、前記搭
載面とは反対の面側及び前記リードの前記ワイヤと接続
される側とは反対側の該リードが延出する境界部分まで
を絶縁物にて覆うことを特徴とする。
(5)請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁物は封止樹脂であることを特徴とする。
(6)請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁物は保護テープであることを特徴とする。
(7)請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁物は塗布された液体樹脂であることを特徴とす
る。
(8)請求項4〜7のいずれか1つに記載の半導体装置
の製造方法において、前記半導体素子の搭載面側の樹脂
封止は、前記アイランドの前記搭載面とは反対の面を吸
引した状態で、前記搭載面側に樹脂が供給されることを
特徴とする。
(作用) 本発明によれば、第1の封止工程により半導体素子搭
載面側を封止する場合には、バキューム又はマグネット
によって、アイランドの下面側を下金型の平らな面に引
きつけながら成形することにより、第2図(b)に示す
ような半封止品17を形成し、その後、半導体素子搭載面
の反対面を金型で板状絶縁樹脂で成形するか、あるい
は、パッケージ裏面に絶縁性で耐熱性のテープを貼り付
る、又は同性質の液状樹脂の塗布によって封止する。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳
細に説明する。
第1図は本発明の第1実施例を示す超薄型半導体装置
の断面図、第2図はその超薄型半導体装置の製造工程断
面図である。
まず、第2図(a)に示すように、下金型10と上金型
11間に半導体素子15がアイランド13上に実装され、かつ
ワイヤ16により配線されたリードフレーム12をセットす
る。
次いで、リードフレーム12のアイランド13をバキュー
ムで引きながら、アイランド13の下面側を下金型10の平
らな面に引きつけながら、熱硬化性モールド樹脂(封止
材)18を注入することによって、アイランド13の浮き、
傾きを発生させることなく、第2図(b)に示すよう
な、半封止品17を成形する。
なお、リードフレーム12のアイランド13はマグネット
により、下金型10の平らな面に引きつけるようにしても
よい。14はサイドゲートであり、因みに、半封止品17の
高さは、例えば0.45mmである。
次に、第2図(c)に示すように、半封止品17の裏面
を上側にして、下金型20と上金型21間にセットし、半封
止品17の裏面側に封止材18を注入することにより、第2
図(d)に示すように、半封止品17の裏面に薄い板状絶
縁性樹脂23を形成する。なお、第2図(c)における22
はサイドゲートであり、板状絶縁性樹脂23の厚みは、例
えば0.1〜0.2mmである。
このようにして、第1図に示すような超薄型半導体装
置を得ることができる。
第3図は本発明の第2実施例を示す超薄型半導体装置
の製造工程断面図である。
まず、第3図(a)及び第3図(b)に示すように、
第2図(a)及び第2図(b)と同様の方法により、半
封止品17を成形する。
次に、第3図(c)に示すように、半封止品17の裏面
に、絶縁性で、かつ耐熱性の保護テープ30を貼り付け
て、第3図(d)に示すように、超薄型半導体装置を得
ることができる。
第4図は本発明の第3実施例を示す超薄型半導体装置
の製造工程断面図である。
まず、第4図(a)及び第4図(b)に示すように、
第2図(a)及び第2図(b)と同様の方法により、半
封止品17を成形する。
次に、第4図(c)に示すように、半封止品17の裏面
に、液状樹脂40をニードル41によって塗布して、平坦化
することにより、第4図(d)に示すように、半封止品
17の裏面に、薄い液状樹脂からなる封止樹脂42が形成さ
れ、超薄型半導体装置を得ることができる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、
これらを本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、第2
の封止工程により半導体素子搭載面の反対側に薄い絶縁
性の封止体を形成するようにしたので、従来の薄型半導
体封止方法に較べて、より薄く、かつ、成形性の良い半
導体装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示す超薄型半導体装置の
断面図、第2図はその超薄型半導体装置の製造工程断面
図、第3図は本発明の第2実施例を示す超薄型半導体装
置の製造工程断面図、第4図は本発明の第3実施例を示
す超薄型半導体装置の製造工程断面図、第5図は従来の
薄型半導体装置の断面図である。 10,20……下金型、11,21……上金型、12……リードフレ
ーム、13……アイランド、14,22……サイドゲート、15
……半導体素子、16……ワイヤ、17……半封止品、18…
…封止材、23……板状絶縁性樹脂、30……保護テープ、
40……液状樹脂、41……ニードル、42……封止樹脂。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/28 - 23/30 H01L 21/56

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体素子を搭載する搭載面を有するアイ
    ランドと複数のリードとが形成されたリードフレームを
    用いて製造され、前記アイランド、該アイランド上に搭
    載された半導体素子、前記リード各々における前記アイ
    ランド近傍部分、及び該リードと前記半導体素子に設け
    られたパッドとを接続するワイヤをそれぞれ樹脂封止
    し、前記リードが樹脂封止された部分から延出してなる
    半導体装置において、 前記搭載面側及び前記リードにおける前記ワイヤと接続
    される側の該リードが延出する境界部分までは第1の封
    止樹脂で封止され、前記搭載面とは反対の面側及び前記
    リードにおける前記ワイヤと接続される側とは反対の面
    側の該リードが延出する境界部分までは第2の封止樹脂
    で封止されており、前記第1の封止樹脂の厚さより、前
    記第2の封止樹脂の厚さが薄いことを特徴とする半導体
    装置。
  2. 【請求項2】前記第1の封止樹脂の厚さと前記第2の封
    止樹脂の厚さとの比は、2.25:4.5:1の範囲内であること
    を特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】前記第1の封止樹脂は熱硬化性樹脂である
    ことを特徴とする請求項1または請求項2記載の半導体
    装置。
  4. 【請求項4】半導体素子を搭載する搭載面を有するアイ
    ランドと、該アイランド上に搭載された半導体素子と、
    複数のリードと、該リードと前記半導体素子に設けられ
    たパッドとを接続するワイヤとを有し、前記アイラン
    ド、前記半導体素子、前記リード各々における前記アイ
    ランド近傍部分、及び前記ワイヤをそれぞれ樹脂封止
    し、前記リードが樹脂封止された部分から延出してなる
    半導体装置の製造方法において、 前記半導体素子の搭載面側及び前記リードの前記ワイヤ
    と接続される側の該リードが延出する境界部分までの樹
    脂封止を行った後に、前記搭載面とは反対の面側及び前
    記リードの前記ワイヤと接続される側とは反対側の該リ
    ードが延出する境界部分までを絶縁物にて覆うことを特
    徴とする半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】前記絶縁物は封止樹脂であることを特徴と
    する請求項4記載の半導体装置の製造方法。
  6. 【請求項6】前記絶縁物は保護テープであることを特徴
    とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】前記絶縁物は塗布された液体樹脂であるこ
    とを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】前記半導体素子の搭載面側の樹脂封止は、
    前記アイランドの前記搭載面とは反対の面を吸引した状
    態で、前記搭載面側に樹脂が供給されることを特徴とす
    る請求項4〜7のいずれか1つに記載の半導体装置の製
    造方法。
JP2222595A 1990-08-27 1990-08-27 半導体装置及びその製造方法 Expired - Lifetime JP2988986B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2222595A JP2988986B2 (ja) 1990-08-27 1990-08-27 半導体装置及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2222595A JP2988986B2 (ja) 1990-08-27 1990-08-27 半導体装置及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04106963A JPH04106963A (ja) 1992-04-08
JP2988986B2 true JP2988986B2 (ja) 1999-12-13

Family

ID=16784935

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2222595A Expired - Lifetime JP2988986B2 (ja) 1990-08-27 1990-08-27 半導体装置及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2988986B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2785770B2 (ja) * 1995-10-19 1998-08-13 日本電気株式会社 樹脂封止半導体装置の製造方法およびその製造装置
JP3106946B2 (ja) * 1996-02-21 2000-11-06 日本電気株式会社 樹脂封止型半導体装置の製造方法およびその金型
JP6743801B2 (ja) * 2017-10-27 2020-08-19 日亜化学工業株式会社 発光装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04106963A (ja) 1992-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2971834B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
TWI245429B (en) Photosensitive semiconductor device, method for fabricating the same and lead frame thereof
US5684328A (en) Semiconductor chip package using improved tape mounting
KR880014671A (ko) 수지로 충진된 반도체 장치
JPH08222681A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH065746A (ja) 集積回路装置用のヒートシンクを有するプラスチックモールドパッケージ
US5252783A (en) Semiconductor package
JP2988986B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3129660B2 (ja) Sonパッケージの樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JPH1022309A (ja) 半導体素子の樹脂封止金型
KR20010070247A (ko) 수지봉지형 반도체장치 및 그 제조방법
JPH05291459A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH04340751A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3105200B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH1041438A (ja) 半導体素子の構造及び半導体素子の封止構造並びに半導体素子の封止装置
JP3688440B2 (ja) 半導体装置
JPH10163383A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JPH08288428A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2596606B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP3886327B2 (ja) 半導体装置の樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JPH0546270Y2 (ja)
JPH0590318A (ja) 半導体装置
JP2860945B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
TW495942B (en) Semiconductor packaging device of chip base with opening and its manufacturing method
JP2837777B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008

Year of fee payment: 10

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008

Year of fee payment: 10

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101008

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term