JP2985113B2 - フォトセンサシステム及びフォトセンサシステムに使用されるフォトセンサ - Google Patents

フォトセンサシステム及びフォトセンサシステムに使用されるフォトセンサ

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JP2985113B2
JP2985113B2 JP4304586A JP30458692A JP2985113B2 JP 2985113 B2 JP2985113 B2 JP 2985113B2 JP 4304586 A JP4304586 A JP 4304586A JP 30458692 A JP30458692 A JP 30458692A JP 2985113 B2 JP2985113 B2 JP 2985113B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトセンサシステム
及びフォトセンサシステムに使用されるフォトセンサに
関し、詳しくは、フォトセンサの照射光の照度を正確に
検出するフォトセンサシステム及びそのフォトセンサシ
ステムに使用されるフォトセンサに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、フォトセンサシステムは、通常、
フォトダイオードやTFT(Thin Film Transistor)を
その受光素子(フォトセンサ)として利用し、複数のフ
ォトセンサをマトリックス状に配列している。そして、
各フォトセンサは、照射された光の量に応じた電荷を発
生し、この電荷量を見ることにより、照度を知ることが
できる。このマトリックス状に配列されたフォトセンサ
に、水平走査回路及び垂直走査回路から走査電圧を印加
して、各フォトセンサの電荷量を検出しているが、従
来、この各フォトセンサに蓄積された電荷量を検出する
ために、各フォトセンサに蓄積された電荷を搬送して、
ビデオ増幅器により増幅した後、A/D変換している。
そして、このA/D変換した結果により、諧調表示して
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のフォトセンサシステムにあっては、各フォト
センサに蓄積された電荷を搬送して、増幅した後、A/
D変換していたため、電荷の搬送時にノイズが重畳さ
れ、このノイズの影響を除去するために周辺回路が複雑
になるとともに、S/N比が小さく、照射光の照度を正
確に検出することができず、諧調表示が不正確になると
いう問題があった。
【0004】そこで、本発明は、フォトセンサのセンス
状態での所定の時点から照射光によりフォトセンサの出
力信号が反転するまでの時間に基づいて照射光の光量に
対応する諧調信号を出力するようにすることにより、周
辺回路を簡単、かつ小型化するとともに、ノイズの影響
を受けることなく照射光の照度を正確に計測して、正確
な諧調表示を行なうことのできるフォトセンサシステム
を提供することを目的としている。また、特に、このよ
うなフォトセンサシステムに適する照射光による出力信
号の反転特性が急峻なフォトセンサを提供することを目
的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のフォトセンサシ
ステムは、互いに異なる位置に配置され、それぞれの照
射光の照射される所定の照射時間内に所定の値から別の
所定の値に変化するまでの時間が前記照射光の光量の大
きさに対応する第1出力信号を出力する複数のフォトセ
ンサと、前記照射光の照射される所定の照射時間内に前
複数のフォトセンサからのそれぞれの第1出力信号が
所定の値から別の所定の値に変化するまでのそれぞれの
時間を計測する計測手段と、前記計測手段の計測した
れぞれの計測時間を前記照射光の光量に対応したそれぞ
れの第2出力信号として出力する出力手段と、を備える
ことにより、上記目的を達成している。
【0006】また、半導体層を挟んで、ソース電極とド
レイン電極が相対向して配され、これら半導体層、ソー
ス電極及びドレイン電極を挟んでその両側にそれぞれ絶
縁膜を介して該半導体層と相対向する第1ゲート電極及
び第2ゲート電極が配され、該第1ゲート電極または第
2ゲート電極のいずれか一方を照射電極とし、該照射電
極側から照射された照射光が、該照射電極側に設けられ
た絶縁膜を透過して前記半導体層に照射され、該照射光
の光量の大きさに対応した出力信号を出力するフォトセ
ンサを備えたフォトセンサシステムにおいて、前記照射
電極に印加する電圧を制御して前記フォトセンサのセン
ス状態を制御する状態制御手段と、前記状態制御手段に
より制御した前記フォトセンサのセンス状態での所定の
時点からフォトセンサの出力信号が反転するまでの時間
を計測する計測手段と、前記計測手段の計測した時間を
階調信号に変換する変換手段と、を備えたことにより、
上記目的を達成している。
【0007】本発明のフォトセンサは、半導体層を挟ん
で、ソース電極とドレイン電極が相対向して配され、こ
れら半導体層、ソース電極及びドレイン電極を挟んでそ
の両側にそれぞれ絶縁膜を介して該半導体層と相対向す
る第1ゲート電極及び第2ゲート電極が配され、該第1
ゲート電極または第2ゲート電極のいずれか一方を照射
電極とし、該照射電極側から照射された光が、該照射電
極側に設けられた絶縁膜を透過して前記半導体層に照射
されるフォトセンサであって、前記照射電極が、前記照
射光を遮光する物質で形成されるととともに、前記半導
体層の前記ソース電極と前記ドレイン電極との間の中間
の一部分を覆うことにより、上記目的を達成している。
【0008】
【作用】本発明のフォトセンサシステムによれば、その
フォトセンサが、照射光の光量の大きさに対応した出力
信号を出力し、照射光の照射される所定の照射時間内に
フォトセンサの出力信号が所定の値から別の所定の値ま
で変化する時間を、計測手段により、計測する。そし
て、この計測手段の計測した計測時間を、出力手段が、
照射光の光量に対応した出力信号として出力する。
【0009】したがって、フォトセンサの出力信号が所
定値間を変化するのに要する時間に基づいて光度を検出
しているので、ノイズの影響を受けることなく、照射光
の光度を正確に検出することができるとともに、周辺回
路を簡単、かつ小型化することができる。
【0010】また、そのフォトセンサが、半導体層を挟
んで、ソース電極とドレイン電極が相対向して配され、
これら半導体層、ソース電極及びドレイン電極を挟んで
その両側にそれぞれ絶縁膜を介して該半導体層と相対向
する第1ゲート電極及び第2ゲート電極が配されてお
り、該第1ゲート電極または第2ゲート電極のいずれか
一方を照射電極とし、該照射電極側から照射された光
が、該照射電極側に設けられた絶縁膜を透過して前記半
導体層に照射され、該照射光の光量の大きさに対応した
出力信号を出力するので、システム全体を小型化するこ
ともできる。
【0011】また、本発明のフォトセンサによれば、照
射電極が、照射光を遮光する物質で形成されるとととも
に、半導体層のソース電極とドレイン電極との間の中間
の一部分を覆っている。このため、この照射光領域のピ
ンチ・オフ点は、半導体層に光が照射されて、電子−正
孔対が誘起されても、他の部分よりも遅くまで残存し、
最後にチャンネルが形成され、その瞬間にドレイン電流
が急増するので、照射光による出力信号の反転特性を急
峻なものとすることができる。したがって、このフォト
センサを上記フォトセンサシステムに適用すると、セン
ス状態での所定時点から出力信号が反転するまでの時間
をより一層正確に計測することができ、階調表示をより
一層正確に行なうことができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0013】図1〜図9は、フォトセンサシステム及び
フォトセンサシステムに使用されるフォトセンサの一実
施例を示す図である。
【0014】図1において、フォトセンサ1は、基本的
には、逆スタガー型薄膜トランジスタとコプラナー型薄
膜トランジスタとを半導体層を単一層にして組み合わせ
た構成となっている。
【0015】すなわち、フォトトランジスタ1は、ガラ
ス等からなる絶縁性基板2上に、遮光性物質によるボト
ムゲート電極3が形成されており、このボトムゲート電
極(BG)3及び絶縁性基板2を覆うように、窒化シリ
コン(SiN)からなるボトムゲート絶縁膜4が形成さ
れている。このボトムゲート電極(BG)3上には、ボ
トムゲート電極(BG)3と対向する位置に、半導体層
5が形成されており、半導体層5は、i型アモルファス
・シリコン(i−a−Si)で形成されている。この半
導体層5を挟んで、該半導体層5上に所定の間隔を有し
て相対向する位置にソース電極(S)6及びドレイン電
極(D)7が形成されており、これらソース電極(S)
6及びドレイン電極(D)7は、リン等のドーパントが
拡散されたアモルファスシリコンよりなるn+ シリコン
層8、9を介して半導体層5と接続されている。これら
によりボトムトランジスタ(逆スタガー型薄膜トランジ
スタ)が構成されている。
【0016】上記ソース電極(S)6とドレイン電極
(D)7及び半導体層5のソース電極(S)6とドレイ
ン電極(D)7の間の部分は、窒化シリコンからなる透
明なトップゲート絶縁膜10により覆われており、トッ
プゲート絶縁膜10上には、前記ボトムゲート電極(B
G)3と相対向する位置にトップゲート電極(TG)1
1が形成されている。トップゲート電極(TG)11
は、光を遮光する物質で、しかも上記ソース電極(S)
6とドレイン電極(D)7との間の半導体層5の間隔よ
りも細く形成されており、該半導体層5のソース電極
(S)6とドレイン電極(D)7との間の中央部分の一
部を覆っている。そして、このトップゲート電極(T
G)11及びトップゲート絶縁膜10を覆うように、透
明な窒化シリコンからなるオーバーコート膜12が形成
されており、保護している。上記トップゲート電極(T
G)11、トップゲート絶縁膜10、半導体層5、ソー
ス電極(S)6及びドレイン電極(D)7により、トッ
プトランジスタ(コプラナー型薄膜トランジスタ)が形
成されている。
【0017】このフォトセンサ1は、本実施例では、図
1に示すように、トップゲート電極(TG)11側から
照射光Lが照射され、この照射光Lは、トップゲート絶
縁膜10を透過して、半導体層5に照射されるが、トッ
プゲート電極(TG)11では、遮光される。
【0018】このフォトセンサ1は、例えば、ボトムゲ
ート電極(BG)が1000オングストローム、ボトム
ゲート絶縁膜4が2000オングストローム、半導体層
5が1500オングストローム、ソース電極(S)及び
ドレイン電極(D)が500オングストローム、オーム
コンタクト層8、9が250オングストローム、トップ
ゲート絶縁膜10が2000オングストローム、トップ
ゲート電極(TG)が500オングストロームに形成さ
れており、半導体層5上のソース電極(S)とドレイン
電極(D)との間隔が、例えば、7μmに形成されてお
り、トップゲート電極(TG)は、これよりも細く形成
されている。
【0019】次に、作用を説明する。
【0020】フォトセンサ1は、図2にその等価回路で
示すように、ボトムゲート電極(BG)に正電圧、例え
ば、+10[V]を印加して、ボトムトランジスタにn
チャンネルを形成させ、ソース電極(S)−ドレイン電
極(D)間に正電圧、例えば、+10[V]を印加する
と、ソース電極(S)側から電子が供給されて電流が流
れる。この状態で、トップゲート電極(TG)にボトム
ゲート電極(BG)の電界によるチャンネルを消滅させ
るレベルの負電圧、例えば、−20[V]を印加する
と、トップゲート電極(TG)からの電界がボトムゲー
ト電極(BG)の電界がチャンネル層に与える影響を減
じる方向に働き、この結果、空乏層が半導体層5の厚み
方向に伸び、ボトムトランジスタのnチャンネルをピン
チ・オフする。このとき、トップゲート電極(TG)側
から照射光Lが照射されると、半導体層5のトップゲー
ト電極(TG)側に電子−正孔対が誘起される。トップ
ゲート電極(TG)に−20[V]が印加されているた
め、誘起された電子−正孔対はチャンネル領域に蓄積さ
れ、トップゲート電極(TG)の電界を打ち消す。この
ため、半導体層5のチャンネル領域にnチャンネルが形
成され、電流が流れる。この場合、ソース電極(S)−
ドレイン電極(D)間に流れる電流(以下ドレイン電
流)IDSは照射光Lの光量に応じて変化する。
【0021】したがって、トップゲート電極(TG)か
らの電界がボトムゲート電極(BG)からの電界による
チャンネル形成に対してそれを妨げる方向に働くように
制御し、nチャンネルをピンチ・オフするものであるか
ら、光無照射時に流れるドレイン電流IDSを、例えば、
10-14 A程度に、極めて小さくすることができる。そ
の結果、フォトセンサ1は、光照射時と光無照射時のド
レイン電流との差を充分大きくすることができ、また、
このときのボトムトランジスタの増幅率は、照射された
光量によって変化し、S/N比を大きくすることができ
る。
【0022】また、フォトセンサ1は、ボトムゲート電
極(BG)に、正電圧(+10[V])を印加した状態
で、トップゲート電極(TG)を、例えば、0[V]に
すると、半導体層5とトップゲート絶縁膜10との間の
トラップ準位から正孔を吐き出させてリフレッシュ、す
なわち、リセットすることができる。すなわち、フォト
センサ1は、連続使用されると、トップゲート絶縁膜1
0と半導体層5との間のトラップ準位が光照射により発
生する正孔及びドレイン電極(D)から注入される正孔
によって埋められていき、光無照射状態でのチャンネル
抵抗も小さくなって、光無照射時にドレイン電流が増加
する。そこで、トップゲート電極(TG)に0[V]を
印加し、この正孔を吐き出させて、リセットする。
【0023】さらに、フォトセンサ1は、ボトムゲート
電極(BG)に、正電圧を印加していないときには、ボ
トムトランジスタにチャンネルが形成されず、光照射を
行なっても、ドレイン電流が流れず、非選択状態とする
ことができる。すなわち、フォトセンサ1は、ボトムゲ
ート電極(BG)に印加する電圧VBGを制御することに
より、選択状態と非選択状態とを制御することができ
る。また、この非選択状態において、トップゲート電極
(TG)に0[V]を印加すると、上記同様に、半導体
層5とトップゲート絶縁膜10との間のトラップ準位か
ら正孔を吐き出させてリセットすることができる。
【0024】したがって、フォトセンサ1は、図2に示
すように、トップゲート電極(TG)に印加する電圧
を、例えば、0[V]と−20[V]とに制御すること
により、センス状態とリセット状態を制御することがで
き、また、ボトムゲート電極(BG)に印加する電圧V
TGを、例えば、0[V]と+10[V]とに制御するこ
とにより、選択状態及び非選択状態を制御することがで
きる。その結果、トップゲート電極(TG)及びボトム
ゲート電極(BG)に印加する電圧を制御することによ
り、フォトセンサ1を、それ自体で、フォトセンサとし
ての機能と、選択トランジスタとしての機能を兼ね備え
さたものとして、動作させることができる。
【0025】また、フォトセンサ1は、図3に示すよう
な電圧を印加した状態で、照射光Lを変化させて、その
ときの出力信号VOUT を調べてみると、図4に示すよう
になる。
【0026】すなわち、図3に示すように、フォトセン
サ1のドレイン電極(D)7に10メガオームの負荷抵
抗13を接続して、この負荷抵抗13を介してドレイン
電圧(VD )+10[V]をドレイン電極(D)に印加
し、ボトムゲート電極(BG)に+10[V]のボトム
ゲート電圧(VBG)を印加する。そして、トップゲート
電極(TG)にトップゲート電圧(VTG)として、0
[V]を印加してリセット状態、−20[V]を印加し
てセンス状態を制御するものとする。いま、トップゲー
ト電圧(VTG)として0[V]から−20[V]に切り
替えられると、フォトセンサ1は、センス状態となる
が、図5に示すように、半導体層5の中央部に、空乏層
が形成されてnチャンネルがピンチ・オフされる。この
状態は、チャンネル遮断状態であるから、フォトセンサ
1は、その出力信号VOUT は、図4に示すように、ドレ
イン電圧VD と同じ+10[V]程度である。このと
き、照射光Lが照射されると、図5に示すように、半導
体層5に電子−正孔対が誘起され、誘起された電子−正
孔対のうち、正孔は、図5に矢印で示すように、ドレイ
ン電極(D)及びソース電極(S)側に移動し、電子
は、図5に矢印で示すように、ボトムゲート電極(B
G)側に移動する。この場合、照射光Lは、図1に示す
ように、トップゲート電極(TG)11で遮光されるた
め、照射した瞬間は、図5に示す通り、トップゲート電
極(TG)11で遮光されたチャンネル形成領域の中央
部分に空乏層が存在している。そして、電子−正孔対の
キャリアの量が増えると、図5に矢印で示すように、キ
ャリアが徐々に空乏層に侵入して、ピンチ・オフ領域を
埋めていき、このピンチ・オフ領域をキャリアが貫通し
た時点で、フォトセンサ1の出力信号VOUT は、急激に
反転する。
【0027】そして、この照射光Lにより誘起される電
子−正孔対の量は、照射光Lの照度により変化し、照度
が大きいほど電子−正孔対の量が増えて、その分だけフ
ォトセンサ1の出力信号VOUT が反転するまでの時間が
短くなる。いま、図3のフォトセンサ1において、照射
光Lの照度を変化させて、そのときの出力信号VOUT
値と出力信号VOUT が反転するまでの時間の関係を調べ
てみると、図4に40ルックス(Lx)のときの特性曲
線E、50ルックスのときの特性曲線D、90ルックス
のときの特性曲線C、160ルックスのときの特性曲線
B及び500ルックスのときの特性曲線Aを示すよう
に、照射光Lの照度が大きくなるほど、出力信号VOUT
の値が急激に低下するまでの時間が短くなることが分か
る。この実験結果で得た照度と出力信号VOUT の反転す
るまでの時間の関係をプロットしてグラフとして描く
と、図6に示すような特性曲線を得ることができる。す
なわち、図6で明らかなように、フォトセンサ1に照射
する照射光Lの照度とフォトセンサ1の出力信号VOUT
が反転するまでの時間との間に、曲線上に則った一定の
関係のあることが分かる。
【0028】そこで、このような照度と出力信号VOUT
の反転までの時間の関係を利用して、フォトセンサ1に
照射されている照射光Lの照度を出力信号VOUTの反転
時間を計測することにより知ることができ、この反転時
間から階調信号を得ることができる。
【0029】図7〜図9は、上記フォトセンサ1の性質
を利用して、階調信号を得るフォトセンサシステムの一
例である。
【0030】図7において、フォトセンサシステム20
は、画素部駆動回路21、センサ部22、クロック発生
部23、カウンタ回路24及びデータ処理部25等を備
えている。
【0031】センサ部22は、図8に示すように、多数
のフォトセンサ1がマトリックス状に配されており、図
8には、その行方向にn、n+1番目及び列方向にm、
m+1番目に配設されたフォトセンサ1を表示してい
る。各フォトセンサ1は、そのボトムゲート電極(B
G)が行方向に配された駆動線31に接続され、そのド
レイン電極(D)が列方向に配された信号線32に接続
されている。
【0032】画素部駆動回路21は、図8に示すよう
に、センサ部22の駆動線31に接続された垂直走査回
路であるローアドレスデコーダー33と、センサ部22
の信号線32に接続された水平走査回路であるコラムス
イッチ34と、を備えており、ローアドレスデコーダー
33は、行毎に配されたフォトセンサ1のボトムゲート
電極(BG)に対して駆動線31を介してボトムゲート
電圧(φbg)を印加する。このコラムスイッチ24に
は、プルアップ抵抗35を介してドレイン電圧(φd)
が入力され、コラムスイッチ34からバッファ36を介
して出力信号VOU T が出力される。すなわち、信号線3
2にプルアップ抵抗35が直列接続され、各フォトセン
サ1の出力抵抗との抵抗値比を次段バッファへの入力と
している。さらに、画素部駆動回路21は、図8には図
示しないが、フォトセンサ1のトップゲート電極(T
G)にトップゲート電圧(φtg)を印加する電圧供給
回路を備えており、フォトセンサ1のソース電極(S)
は、接地されている。
【0033】クロック発生部23は、発信回路や分周回
路等を備え、画素部駆動回路21及びカウンタ回路24
にクロック発生部23から所定周波数のクロック信号及
びリセット信号を出力する。画素部駆動回路21は、ク
ロック発生部23から入力されるクロック信号及びリセ
ット信号に基づいて、センサ部22にセンス信号及びリ
セット信号として、トップゲート電圧(φtg)やボト
ムゲート電圧(φbg)を出力し、センサ部22の各フ
ォトセンサ1毎の駆動を行なう。
【0034】カウンタ回路24には、さらにセンサ部2
2から出力信号VOUT が入力されており、カウンタ回路
24は、クロック発生部23からリセット信号が入力さ
れた時点からセンサ部22からの出力信号VOUT が反転
するまでの間にクロック発生部23から入力されるクロ
ック信号の数をカウントして、そのカウント数をデータ
処理部25に出力する。
【0035】データ処理部25は、CPU(Central Pr
ocessing Unit)、RAM(RandomAccess Memory)及び
ROM(Read Only Memory)等を備え、そのRAMある
いはROM内には、図6に示した出力信号VOUT反転ま
での時間と照度との関係を示すテーブルあるいは出力信
号VOUT反転までの時間と階調データとの関係を示すデ
ータやフォトセンサシステム20としてのプログラムが
予め格納されている。データ処理部25は、センサ部2
2の駆動を制御しつつ、力ウンタ回路24から入力され
るカウント数に基づいてROMを検索して直接階調デー
タに変換したり、あるいは、該カウント数に基づいてR
OMを検索して照度に変換し、さらにこの照度から階調
データに変換する。
【0036】このような回路構成において、各フォトセ
ンサ1のボトムゲート電圧(φbg)、トツプゲート電
圧(φtg)及びドレイン電圧(φd)を、図9に示す
ように、制御することにより、選択/非選択の制御及び
センス/リセットの制御を行なうとともに、選択された
フォトセンサ1の出力信号VOUTの反転までの時間を力
ウンタ回路24で計測し、そのカウント数を階調データ
に変換している。
【0037】すなわち、クロック発生部23から出力さ
れるリセット信号及びクロック信号により、画素部駆動
回路21がセンサ部22にセンス信号及びリセット信号
を出力し、図9に示すように、あるフォトセンサ1のト
ップゲート電圧(φtg)を0[V]にして、リセット
した後、トップゲート電圧(φtg)を−20[V]に
して、ボトムゲート電圧(φbg)を10[V]にする
と、フォトセンサ1は、選択状態となる。そのフォトセ
ンサ1が選択状態となってから、トップゲート電圧(φ
tg)を−20[V]としてセンス状態とするととも
に、ドレイン電圧(φd)を+10[V]としてデータ
取出処理を行なうと、照射光Lが照射されているか照射
されていないか、すなわち、明時であるか暗時であるか
により、出力信号VOUT の値が変化する。
【0038】すなわち、明時であると、フォトセンサ1
が照射光Lの照射により、上述のように、フォトセンサ
1の半導体層5に電子−正孔対が誘起され、照射光Lの
照度に応じた時間の経過の後、オンとなって、出力信号
OUT は、図9に破線で示すように、+10[V]から
0[V]に急激に反転する。また、暗時であると、フォ
トセンサ1がオンしないため、ドレイン電圧(φd)の
電圧である+10[V]がそのまま出力信号VOUT とし
て出力される。
【0039】そこで、このリセット状態からセンス状態
に切り換わった時点から出力信号VOUTが反転するまで
の時間を力ウンタ回路24でカウントし、そのカウント
数をデータ処理部25に出力する。データ処理部25
は、力ウンタ回路24から入力されるカウント数を該カ
ウント数に対応する階調データに変換し、階調表示等の
データとして利用する。
【0040】このように、フォトセンサ1の出力信号V
OUTの反転を利用して、リセット状態からセンス状態に
切り換わった時点から出力信号VOUTが反転するまでの
時間をカウントし、このカウント数に基づいて階調デー
タを求めているので、従来のように、ノイズの影響をう
けることがなく、周辺回路を簡単、かつ小型化すること
ができるとともに、照射光Lの照度に対応した正確な
調データをものとして求めることができる。
【0041】また、図9において、その後、トップゲー
ト電圧(φtg)が0[V]になると、フォトセンサ1
は、リセットされる。そして、ボトムゲート電圧(φb
g)を0[V]にすると、フォトセンサ1は、非選択状
態となり、この状態でトップゲート電圧(φtg)を−
20[V]にして、センス状態にすると、このセンス状
態においては、ドレイン電圧(φd)が+10[V]と
なって、照射光Lが照射されていても、また、照射光L
が照射されていなくても、出力信号VOUT は、選択状態
での暗時の出力と同じ+10[V]である。すなわち、
トップゲート電圧(φtg)が−20[V]となってセ
ンス状態となっても、ボトムゲート電圧(φbg)を0
[V]とすることにより、照射光Lの照射にかかわら
ず、フォトセンサ1を非選択状態とすることができる。
また、図9からも明らかなように、ボトムゲート電圧
(φbg)のいかんにかかわらず、トップゲート電圧
(φtg)を0[V]とすることにより、リセット状態
とすることができ、フォトセンサ1を次のデータ取出処
理で確実に出力信号VOUT を取り出すことができる。
【0042】なお、上記実施例においては、図9に示す
ように、各状態の切り替えタイミングを、フォトセンサ
1を選択状態とした後に、リセット状態からセンス状態
に切り替えており、照射光Lの照射は、このリセット状
態に切り換わった時点で既に行なわれている。ところ
が、各状態の切り替えタイミングや照射光Lの照射タイ
ミングは、上記実施例のものに限るものではなく、例え
ば、図9に示すセンス状態となった後に、ボトムゲート
電圧(φbg)を+10[V]として非選択状態から選
択状態に切り換えてもよい。このような状態タイミング
の制御を行なう場合には、センス状態でかつ非選択状態
にあるときのある時点から照射光Lの照射を開始するよ
うにすると、この照射光Lの照射が開始された非選択状
態で、かつセンス状態において半導体層5で電子−正孔
対の誘起が開始されるので、選択状態に変化してから出
力信号VOUT が反転するまでの時間を短縮することがで
きる。このとき、カウンタ回路24でこの選択状態とな
ってから出力信号VOUT が反転するまでの時間をカウン
トするようにすると、カウンタ回路24でカウントする
時間を短くすることができる。なお、この場合、照射光
Lの照射を開始するタイミングを、最大照射量の照射光
Lを照射したときにも、出力信号VOUT が選択状態にお
いて反転するように設定する。
【0043】また、上記計測時間は、照射光Lの光量を
増大させることによっても短くすることができる。
【0044】さらに、上記実施例においては、リセット
時点から出力信号VOUT が反転するまでの時間を計測し
ているが、これに限るものではなく、照射光Lの照射さ
れているときに、出力信号VOUT が、所定の値、例え
ば、図4の9[V]から別の所定の値、例えば、図4の
2[V]まで変化する時間を計測してもよい。
【0045】また、この発明のフォトセンサは、上述し
た如き作用を有するものであるから、本発明のフォトセ
ンサシステムに適用するときに、大変優れた効果を奏す
るが、従来の如く、光電流に基づく電圧をA/D変換す
る駆動方法にも適用できるものである。
【0046】
【発明の効果】本発明のフォトセンサシステムによれ
ば、照射光の照射される所定の照射時間内にフォトセン
サの出力信号が所定の値から別の所定の値まで変化する
時間を計測して、この計測時間を照射光の光量に対応し
た出力信号として出力するので、フォトセンサの出力信
号が所定値間を変化するのに要する時間に基づいて光度
を検出することができ、ノイズの影響を受けることな
く、照射光の光度を正確に検出することができるととも
に、周辺回路を簡単、かつ小型化することができる。
【0047】フォトセンサが、半導体層を挟んで、ソー
ス電極とドレイン電極が相対向して配され、これら半導
体層、ソース電極及びドレイン電極を挟んでその両側に
それぞれ絶縁膜を介して該半導体層と相対向する第1ゲ
ート電極及び第2ゲート電極が配されており、該フォト
センサは、該第1ゲート電極または第2ゲート電極のい
ずれか一方を照射電極とし、該照射電極側から照射され
た光が、該照射電極側に設けられた絶縁膜を透過して前
記半導体層に照射され、該照射光の光量の大きさに対応
した出力信号を出力するので、システム全体を小型化す
ることもできる。
【0048】本発明のフォトセンサによれば、照射電極
が、照射光を遮光する物質で形成されるととともに、半
導体層のソース電極とドレイン電極との間の中間の一部
分を覆っている。このため、この照射光領域のピンチ・
オフ点は、半導体層に光が照射されて、電子−正孔対が
誘起されても、他の部分よりも遅くまで残存し、最後に
チャンネルが形成され、その瞬間にドレイン電流が急増
するので、照射光による出力信号の反転特性を急峻なも
のとすることができる。したがって、このフォトセンサ
を上記フォトセンサシステムに適用すると、センス状態
での所定時点から出力信号が反転するまでの時間をより
一層正確に計測することができ、階調表示をより一層正
確に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るフォトセンサの一実施例の側面断
面図。
【図2】図1のフォトセンサの各電極に印加する電圧と
その状態変化の説明図。
【図3】フォトセンサの出力信号VOUT の変化を検出す
るための各電極に印加する電圧と付属回路の構成図。
【図4】照射光の照度をパラメータとして出力信号V
OUT が反転するまでの時間と出力信号VOUT との関係を
示す特性曲線図。
【図5】フォトセンサの動作説明図。
【図6】フォトセンサの出力信号VOUT が反転するまで
の時間と照度との関係を示す図。
【図7】フォトセンサシステムの回路ブロック図。
【図8】図7の画素部駆動回路及びセンサ部の詳細な回
路図。
【図9】図8のセンサ部のフォトセンサの各部への印加
電圧と出力信号との関係を示すタイミング図。
【符号の説明】
1 フォトセンサ 2 絶縁性基板 3 ボトムゲート電極(BG) 4 ボトムゲート絶縁膜 5 半導体層 6 ソース電極(S) 7 ドレイン電極(D) 8、9 n+ シリコン層 10 トップゲート絶縁膜 11 トップゲート電極(TG) 12 オーバーコート膜 20 フォトセンサシステム 21 画素駆動回路 22 センサ部 23 クロック発生部 24 カウンタ回路 25 データ処理部

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに異なる位置に配置され、それぞれ
    の照射光の照射される所定の照射時間内に所定の値から
    別の所定の値に変化するまでの時間が前記照射光の光量
    の大きさに対応する第1出力信号を出力する複数のフォ
    トセンサと、 前記照射光の照射される所定の照射時間内に前記複数の
    フォトセンサからのそれぞれの第1出力信号が所定の値
    から別の所定の値に変化するまでのそれぞれの時間を計
    測する計測手段と、 前記計測手段の計測したそれぞれの計測時間を前記照射
    光の光量に対応したそれぞれの第2出力信号として出力
    する出力手段と、 を備えたことを特徴とするフォトセンサシステム。
  2. 【請求項2】 半導体層を挟んで、ソース電極とドレイ
    ン電極が相対向して配され、これら半導体層、ソース電
    極及びドレイン電極を挟んでその両側にそれぞれ絶縁膜
    を介して該半導体層と相対向する第1ゲート電極及び第
    2ゲート電極が配され、該第1ゲート電極または第2ゲ
    ート電極のいずれか一方を照射電極とし、該照射電極側
    から照射された照射光が、該照射電極側に設けられた絶
    縁膜を透過して前記半導体層に照射され、該照射光の光
    量の大きさに対応した出力信号を出力するフォトセンサ
    を備えたフォトセンサシステムにおいて、 前記照射電極に印加する電圧を制御して前記フォトセン
    サのセンス状態を制御する状態制御手段と、 前記状態制御手段により制御した前記フォトセンサのセ
    ンス状態での所定の時点からフォトセンサの出力信号が
    反転するまでの時間を計測する計測手段と、 前記計測手段の計測した時間を階調信号に変換する変換
    手段と、 を備えたことを特徴とするフォトセンサシステム。
  3. 【請求項3】 半導体層を挟んで、ソース電極とドレイ
    ン電極が相対向して配され、これら半導体層、ソース電
    極及びドレイン電極を挟んでその両側にそれぞれ絶縁膜
    を介して該半導体層と相対向する第1ゲート電極及び第
    2ゲート電極が配され、該第1ゲート電極または第2ゲ
    ート電極のいずれか一方を照射電極とし、該照射電極側
    から照射された光が、該照射電極側に設けられた絶縁膜
    を透過して前記半導体層に照射されるフォトセンサであ
    って、 前記照射電極が、前記照射光を遮光する物質で形成され
    るととともに、前記半導体層の前記ソース電極と前記ド
    レイン電極との間の中間の一部分を覆うことを特徴とす
    るフォトセンサ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP3089971B2 (ja) * 1995-01-20 2000-09-18 カシオ計算機株式会社 光電変換素子の駆動方法
JP3289535B2 (ja) * 1995-02-08 2002-06-10 カシオ計算機株式会社 光電変換装置
JP3858417B2 (ja) * 1998-01-19 2006-12-13 カシオ計算機株式会社 撮像装置及び撮像素子の駆動方法
JP3820786B2 (ja) * 1998-10-20 2006-09-13 カシオ計算機株式会社 光センサ及びそれを用いた表示装置
JP3911923B2 (ja) * 1999-09-27 2007-05-09 カシオ計算機株式会社 シフトレジスタ及び電子装置
JP3885222B2 (ja) * 1999-11-10 2007-02-21 カシオ計算機株式会社 フォトセンサシステムの駆動制御方法
JP3809750B2 (ja) * 1999-12-02 2006-08-16 カシオ計算機株式会社 シフトレジスタ及び電子装置
JP3997674B2 (ja) * 1999-12-09 2007-10-24 カシオ計算機株式会社 シフトレジスタ及び電子装置
JP2006120308A (ja) * 2005-10-28 2006-05-11 Casio Comput Co Ltd シフトレジスタ及び電子装置
WO2011077629A1 (ja) * 2009-12-25 2011-06-30 シャープ株式会社 フォトセンサー素子、フォトセンサー回路、薄膜トランジスタ基板、表示パネル及びフォトセンサー素子の製造方法
US8610226B2 (en) 2009-12-28 2013-12-17 Sharp Kabushiki Kaisha Photosensor element, photosensor circuit, thin-film transistor substrate, and display panel
KR101830196B1 (ko) * 2010-02-12 2018-02-20 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 그 구동 방법
JP6775641B1 (ja) * 2019-06-18 2020-10-28 Nttエレクトロニクス株式会社 受光素子および光回路の遮光構造

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