JP2969220B2 - 酸化物超電導体の製造方法 - Google Patents

酸化物超電導体の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、酸化物超電導体の製造方法に関し、詳細に
は、高密度で且つ高配向の酸化物超電導体の製造方法に
関する。
(従来技術) 近年、超電導体として従来から用いられてきた金属系
超電導体によりも高い臨界温度Tc(抵抗がゼロになる温
度)を有する材料として酸化物超電導体が発見され、そ
の実用化が期待されている。
現在、酸化物超電導体としては、主としてY−Ba−Cu
−O系(以下、Y系という)およびBi−Sr−Ca−Cu−O
系(以下、Bi系という)の2種が知られており、後者の
酸化物超電導体では、更にTcが110Kの高Tc相と、Tcが80
K相の低Tc相の2種が知られており、Y系に比較してTc
が高いことからその実用化化が特に進められている。
このBi系における高Tc相と低Tc相は、具体的には、高
Tc相が Bi2Sr2Ca2Cu3O10+δ からなり、低Tc相が Bi2Sr2Ca1Cu2O8+δ からなる。
これら酸化物超電導体は、その実用化に際しては高い
臨界温度を有するとともに臨界電流密度(抵抗ゼロにお
ける電流値)が大きいことが必要とされている。そこで
Bi系酸化物超電導体においてはその結晶が燐片状粒子か
らなることから、この燐片状粒子を一方向に配向させる
ことにより臨界電流密度を高くすることができると考え
られている。また、焼結体としてその相対密度を高め、
高緻密化することも特性上大きな要因であると言われて
いる。
そこで、高密度の酸化物超電導体を作成する方法とし
て、高い機械的な圧力を加えつつ加熱するホットプレス
法が採用されている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、Bi系酸化物超電導体を作成する場合、
例えば低Tc相の仮焼粉末をホットプレス焼成すると緻密
化自体は進行するが、高Tc相の生成が少ないために高Tc
化、高Jc化が望めない。そこで、上記ホットプレス後の
焼結体をさらに熱処理し、高Tc相を生成することも提案
されるが、熱処理によって粒成長が生じるために密度は
逆に低下する傾向にある。
また上記の方法では、焼結体の緻密化にはそれなりの
効果があるが、粒子の配向化の点からは不十分であるた
めに、得られる焼結体のJc値もせいぜい1000A/cm2以下
であり、実用的レベルには到底達していないのが現状で
あった。
(問題点を解決するための手段) 本発明者は、上記問題点に対して先に低Tc相の仮焼粉
末を常圧で焼成して充分に高Tc相を生成した後、該焼結
体に圧力を加えつつ加熱処理を行う、いわゆるホットフ
ォージング処理を行うことによって、高配向、高密度で
Jc値が1500〜4500A/cm2程度の優れた酸化物超電導体が
得られることを提案したが、この方法に基づき、さらに
高いJc値を得るための方法について検討したとろ、上記
の構成においてホットフォージング処理するに際し、焼
結体を延性のある金属板を介して処理するにより焼結体
の配向性をより高め、さらに高いJc値を有する酸化物超
電導体が得られることを知見した。
即ち、本発明は、酸化物超電導体を構成する元素の酸
化物あるいは酸化物形成化合物からなる混合体を成形す
るか、あるいは該混合体を仮焼した後に成形し、該成形
体を一旦酸化性雰囲気中で焼成した後に、該焼結体を延
性金属板を介してホットフォージング処理することを特
徴とするものである。
以下、本発明を図面を参照しつつ説明する。
本発明の製造方法によれば、まず酸化物超電導体を構
成する金属の酸化物粉末あるいは焼成により酸化物を形
成しうる炭酸塩や硝酸塩粉末を用いてこれらを酸化物超
電導体を形成しうる割合に秤量混合する。具体的には前
述したBi系酸化物超電導体のうち高Tc相を作成する場合
には、Bi2O3、SrO、CaCO3、CuOの各粉末を用いてこれら
を原子比においてSrを2としたとき、Biが1.8〜2.2、Ca
が2.0〜3.5、Cuが3.0〜4.5の範囲になるように秤量す
る。また、高Tc相の生成量を増加させることを目的とし
て上記の混合体にさらにPbO粉末、およびK2CO3、Na2C
O3、Li2CO2等をSrを2としてPbを0.1〜0.5、K、Li、Na
を0.05〜0.6の割合で混合することができる。
上記のようにして得られた混合粉末を公知の成形手段
によって成形する。また、所望によっては上記の混合粉
末を700〜850℃の酸化性雰囲気中で1〜20時間程度仮焼
後、粉砕し同様に成形する。この仮焼工程によれば、前
述した組成からなる混合粉末を仮焼すると低Tc相を主体
とする酸化物超電導体粉末となる。
なお、成形方法としてはプレス成形、押し出し成形、
ドクターブレード成形法等が採用される。
次に、上記のようにして得られた成形体を840〜855℃
の酸化性雰囲気中で焼成する。この焼成によって一旦低
Tc相の燐片状の結晶が生成されるとともに焼成が進行す
るに従い、低Tc相から高Tc相に変換される。
この焼成を非加圧で行うと燐片状の結晶の成長により
低密度の焼結体となるために、ホットプレス焼成を行っ
てもよい。
上記焼成工程終了時点では、焼結体の燐片状結晶はほ
とんど無配向状態である。
そこで、上記の焼結体を特定の延性金属に挟んだ状態
でホットフォージング処理する。この処理方法を第1図
を用いて説明する。第1図中、1は焼結体、2、3はプ
レスパンチである。本発明によれば、焼結体1とプレス
パンチ2、3との間に延性のある金属板4を介して配置
し、プレスパンチ2、3によってA方向に圧力を付与す
ると同時に加熱手段6によって加熱を行う。
この時の圧力は50kg/cm2以上、加熱温度は800〜850℃
であることが望ましい。
このホットフオージング処理は、繰り返し行うことに
よりさらに焼結体の密度および配向性を高めることが可
能となる。
なお、ホットフォージング処理において用いられる延
性金属板としては銀、白金、金、銅等からなるものが好
適で、厚さ0.05mm以上が好適である。
(作用) 本発明の構成によれば、焼成によって得た焼結体を延
性のある金属に挟んだ状態でホットフォージング処理す
る点が最も重要である。このような処理を施すると、第
1図におけるA方向からの圧力によって延性金属4自身
がB方向に圧延され、それと同時に焼結体1もB方向に
圧延されるために焼結体中の燐片状結晶粒子もB方向に
配向されるとともに圧縮され焼結体の密度を高くするこ
とができる。
それにより、燐片状結晶同士の密着性が飛躍的に向上
するために酸化物超電導体の臨界電流密度をさらに高く
することができる。
また、本発明によれば、上記ホットフォージング処理
により焼結体内に生成した高Tc相が分解されて低Tc相が
生成され易くなるために、最終的に830〜855℃の酸化性
雰囲気中で非加圧下で10〜200時間程度熱処理すること
により粒界の不純物としての低Tc相量が低減され、さら
に高い臨界電流密度を得ることができる。
以下、本発明を次の例で説明する。
(実施例1) (i)原料粉末としてBi2O3、PbO、SrCO3、CaCO3、CuO
の各粉末を各金属のモル比がBi:Pb:Sr:Ca:Cu=1.93:0.3
6:2:3.17:4.25となるように秤量後、750〜810℃で20時
間仮焼し、粉砕して平均粒径5μmの低Tc相を多量に含
む仮焼粉末を得た。
(ii)この仮焼粉末をφ12mmの金型を用いて成形圧1ton
/cm2で成形して厚み約1mmの円板状成形体を得た。
(iii)上記成形体を大気中で840℃の温度で150時間焼
成したところ、比重2.0(アルキメデス法に基づく)の
焼結体が得られた。また、組織観察したところ、高Tc相
の燐片状の結晶がランダムに配列していた。
(iv)次に、この焼結体を第1図に従い、焼結体の上下
面に銀製の厚み0.1mmのプレートを配置し、このプレー
トを介して焼結体に対して1ton/cm2の圧力で820℃の温
度でホットフォージング処理した。このようにして得ら
れた焼結体を試料No.1とした。
〔特性の評価〕
最終的に得られた焼結体に対してアルキメデス法によ
り比重を調べるとともにX線回折測定を行い、X線回折
のチャートデータに基づき、次式から(001)面の配
向度fを求めた。
f=(P−Po)/(1−Po) ・・・・ 式中、 P(配向試料)=ΣI(00l)/〔ΣI(hkl) +ΣI(00 l)〕 Po(未配向試料)=ΣI′(00l)/〔ΣI′(hk
l) +ΣI′(00l)〕 さらに、上記焼結体について、抵抗法に基づき、試料
を液体窒素中で電流を徐々に高め、高圧端子に1μV/cm
の電圧が生じた時の電流値を臨界電流密度Jcとして求
め、同時に臨界温度Tcも測定した。結果は第1表に示し
た。
(比較例1) 実施例1において、ホットフォージング処理時に延性
金属を何ら用いない以外は、実施例1と全く同様にして
焼結体(試料No.2)を作成し、同様に特性の評価を行っ
た。結果は第1表に示した。
(実施例2) 実施例1において、ホットフォージング処理を焼結体
の上下面に銀製の厚み0.1mmのプレートを配置し、この
プレートを介して焼結体に対して1ton/cm2の圧力で820
℃の温度で行った後、一旦室温まで冷却し、再度同じ条
件でホットフォージング処理を行い、最終的にこのホッ
トフォージング処理を3回行った。
得られた焼結体(試料No.3)に対して、実施例1と同
様に特性の評価を行った。結果は第1表に示した。
(比較例2) 実施例1で得た成形体を大気中850℃で焼成した後、
室温で5ton/cm2で一軸プレス処理しさらに840℃で50時
間熱処理を行った。得られた焼結体(試料No.4)に対し
て実施例1と同様に特性の評価を行った。結果は第1表
に示した。
(実施例3) 実施例1及び実施例2で得られたホットフォージング
後の焼結体(試料No.1および3)に対して840℃の大気
中で50時間熱処理を行い、試料No.5および6の試料を
得、同様に特性の評価を行った。結果は第1表に示し
た。
第1表から明らかなように、延性金属を挟まずにホッ
トフォージング処理した比較例1では従来法の比較例2
よりいずれの特性も優れたものであったが、ホットフォ
ージング処理に際して延性金属を用いた実施例1は比
重、配向度、Jc値、Tc値のいずれにおいてもさらに優
れ、このホットフォージング処理を繰り返すことにより
その効果はさらに顕著となり、また、ホットフォージン
グ処理後に熱処理することによりさらに臨界電流密度の
高い酸化物超電導体を得ることができた。
(発明の効果) 以上、詳述した通り、本発明の方法によれば、酸化物
超電導体、例えば、Bi−Sr−Ca−Cu−O系酸化物超電導
体の作成に際してある程度緻密化した焼結体をホットフ
ォージング処理するに当たり、延性金属を介して処理を
行うことによって、焼結体の結晶粒子の配向度を高める
とともに高密度化が達成できるために高臨界温度を有し
且つ臨界電流密度が極めて高い酸化物超電導体を安定し
て得ることができる。
このように、臨界電流密度の高い酸化物超電導体が得
られることにより酸化物超電導体の実用化をさらに進め
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の酸化物超電導体の製造方法における
ホットフォージング処理を説明するための図である。 1……焼結体 2,3……プレスパンチ 4……延性金属板

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】酸化物超電導体を構成する元素の酸化物あ
    るいは酸化物形成化合物からなる混合体を成形するか、
    あるいは該混合体を仮焼後成形する工程と、 該成形体を酸化性雰囲気中で焼成する工程と、 該焼結体を延性金属板を介して加圧すると同時に加熱処
    理する工程と、 を具備する酸化物超電導体の製造方法。
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