JP2952912B2 - ディスクのエッジ洗浄装置 - Google Patents

ディスクのエッジ洗浄装置

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JP2952912B2 JP1318918A JP31891889A JP2952912B2 JP 2952912 B2 JP2952912 B2 JP 2952912B2 JP 1318918 A JP1318918 A JP 1318918A JP 31891889 A JP31891889 A JP 31891889A JP 2952912 B2 JP2952912 B2 JP 2952912B2
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和彦 権守
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気ディスクや光ディスク等の円環状記録
媒体を構成するハードディスクの外周エッジ部分を洗浄
するためのディスクのエッジ洗浄装置に関するものであ
る。
[従来の技術] 例えば、アルミニウム円板等のハードディスクからな
る磁気ディスクの製造工程においては、磁気記録膜の形
成前、また必要に応じて磁気記録膜の形成後に、ディス
クの洗浄が行われる。しかも、このディスクの洗浄は、
完全性を期すために、その表裏の両面だけでなく、内周
及び外周のエッジ部分の洗浄も行わなければならない。
このディスクの外周エッジを洗浄するために、第4図に
示した構成を有する洗浄装置を用いたものが従来から知
られている。
同図において、1はディスクDの外周エッジEを洗浄
するための、スポンジ等からなるエッジ洗浄部材、2は
このエッジ洗浄部材1を回転駆動するための回転軸をそ
れぞれ示す。ディスクDの外周エッジEはエッジ洗浄部
材1の側面に押し付けられており、この状態で、回転軸
2によってエッジ洗浄部材1を回転駆動することによっ
て、ディスクDの外周エッジEをブラッシングすると共
に、該ディスクDに対して回転力を作用させることによ
って、その外周エッジEの全周の洗浄を行うようにして
いる。
[発明が解決しようとする課題] ところで、前述したように、エッジ洗浄部材1の側面
にディスクDの外周エッジEを押し付けるようにした場
合には、該エッジ洗浄部材1は極めて狭い範囲で当接す
るので、このエッジ洗浄部材1が部分的に著しく摩耗し
たり、切れたりすることがあり、その寿命が極めて短い
という問題点がある。そして、このようにエッジ洗浄部
材1のディスクDとの当接部分が摩耗すると、該ディス
クDに対して回転駆動力が円滑に伝達されないことにな
って、このディスクの回転が不安定となるという問題点
もある。さらに、ディスクDの外周エッジEにはチャン
ファCという面取りを施した部分があるが、このチャン
ファCに対するブラッシングを円滑に行えないという欠
点もある。
このために、エッジ洗浄部材1を揺動させたり、また
傾斜した状態で回転させたりするように構成したものも
知られている。このように構成すれば、エッジ洗浄部材
をある程度広い面を利用することができるものの、なお
部分的な摩耗,まチャンファCの部分の洗浄効率という
問題を解消するには不十分である。
本発明は叙上の点に鑑みてなされたものであって、そ
の目的とするところは、エッジ洗浄部材の極めて広い面
に摺接させて、その部分的な摩耗の低減を図り、かつエ
ッジEのチャンファCに対しても効率的なブラッシング
を行わせることができるようにしたディスクのエッジ洗
浄装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 前述の目的を達成するために、本発明は、ディスクの
外周エッジを、そのチャンファの部位を含めてブラッシ
ングするようにして洗浄するための装置であって、円形
平面の洗浄面を有するエッジ洗浄部材と、該エッジ洗浄
部材を回転駆動するために、前記洗浄面と直交する方向
に延在させた回転軸とを有し、該回転軸により前記エッ
ジ洗浄部材を回転駆動する間に、前記ディスクの外周エ
ッジを前記エッジ洗浄部材の洗浄面に対して、その回転
中心から所定量ずらせた位置で、該洗浄面に概略直交す
る方向に当接させることにより洗浄する構成としたこと
を特徴とするものである。
[作用] このような構成を採用することによって、エッジ洗浄
部材の先端面の広い面にディスクの外周エッジを摺接さ
せた状態で洗浄を行うことができるようになり、該エッ
ジ洗浄部材が局所的に摩耗するのを防止することができ
るようになる。この結果、長期間作動させても、ディス
クを安定的に回転駆動することができるようになる。し
かも、エッジ洗浄部材の回転によって、該エッジ洗浄部
材がディスクの外周エッジに対して、単に該ディスクを
回転させる方向の力だけでなく、板厚方向に押動する力
が作用し、しかもこの板厚方向に作用する力はエッジ洗
浄部材の回転中心を基準として一側に当接している部分
と他側に当接している部分とは反対向きの力が作用する
ので、ディスクの外周端面だけでなく、両側のチャンフ
ァの部分にもブラッシング力が作用することになって、
この外周エッジを極めて効率的に、しかも完全に洗浄す
ることができるようになる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。
まず、第1図にエッジ洗浄装置の要部構成を示す。同
図において、10はスポンジ等からなるエッジ洗浄部材を
示し、該エッジ洗浄部材10は、回転軸11の先端に取り付
けられており、該回転軸11をモータ等の回転駆動手段
(図示せず)によって回転駆動せしめられるようになっ
ている。このエッジ洗浄部材10は所定の厚みを有する円
形の部材からなり、その円形で平面形状を有する先端面
10aが洗浄面となっており、この洗浄面として機能する
先端面10aは回転軸11の回転軸線と直交する平面であ
る。そして、エッジ洗浄部材10のこの先端面10aに対し
て、ディスクDは概略それと直交する方向にして、その
外周のエッジEが当接するようになっている。
ここで、第2図に示したように、このエッジ洗浄部材
10の先端面10aにおいて、回転中心Oを中心としたX軸,
Y軸を描いたときに、ディスクDの板面がY軸と平行と
なるようにして、中心OからX軸方向に距離αだけずれ
た位置となり、該ディスクDのエッジ洗浄部材10の当接
中心部AはこのX軸上に置かれている。
このように構成することによって、第2図において、
ディスクDのエッジEを幅Bの範囲でエッジ洗浄部材10
に当接させた状態で、回転軸11によってエッジ洗浄部材
10を回転駆動しながら、洗浄液を供給することによっ
て、該ディスクDの外周エッジEをブラシ洗浄すること
ができる。
而して、この洗浄時に、ディスクDにはエッジ洗浄部
材10の回転によって、接線方向の力Fが作用することに
なる。この力FのベクトルはY軸方向の成分F1とX軸方
向の成分F2との成分を有する。そして、このY軸方向の
成分F1はディスクDのエッジ洗浄部材10に対する当接部
の全体にわたって同一方向となっている(なお、当接中
心部Aの位置では、接線方向はディスクDの板面方向、
即ち該ディスクDを回転させる方向のみとなる。)。従
って、ディスクDに対するベクトル成分F1の力によって
ディスクDが回転駆動せしめられることになり、該ディ
スクDを格別の手段によって回転駆動しなくとも、洗浄
中に自転することになり、その外周エッジEの全周を洗
浄することができるようになる。
しかも、このエッジ洗浄部材10は、洗浄作業中におい
ては、同図に斜線で示した部分がディスクDのエッジE
と摺接することになり、極めて広い面で摺接するので、
該エッジ洗浄部材10が部分的に摩耗するのを防止するこ
とができるようになり、その長寿命化を図ることができ
る。そして、このようにエッジ洗浄部材10の部分的な摩
耗が低減される結果、該エッジ洗浄部材10とディスクD
との間の押し付け力が一定となるので、該ディスクDの
回転駆動が安定する。
而して、ディスクDの外周エッジEには、端面部の両
側にチャンファCが形成されているが、このチャンファ
Cの部分に対しても、十分なブラッシング力を発揮しな
ければならない。そこで、第2図に示したように、ディ
スクDに作用する成分F2はX軸を基準として図面の上方
の部分と下方の部分とでは方向が反対方向となってい
る。このために、X軸を基準とした上方部分において
は、第3図(a)に示したように、片側のチャンファC
がブラッシングされ、またY軸の下方部分においては、
第3図(b)に示したように他側のチャンファCがブラ
ッシングされることになる。従って、洗浄作業中にはデ
ィスクDがエッジ洗浄部材10の回転に追従回転するが、
該ディスクDの回転軸線はエッジ洗浄部材10の回転軸線
である回転軸11と直交する方向となるから、両チャンフ
ァCを確実かつ強力にブラッシング洗浄することができ
るようになる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は、円形平面形状の洗浄
面を有するエッジ洗浄部材を用いるようになし、このエ
ッジ洗浄部材は回転軸により回転駆動されるものであ
り、回転軸の回転軸線は洗浄面と直交する方向となって
おり、かつこのエッジ洗浄部材は洗浄面に対して、この
洗浄面の回転中心から所定量ずらせた位置に当接させる
構成としたので、エッジ洗浄部材における極めて広いエ
リアでディスクの外周エッジを摺接させることができる
ようになり、該エッジ洗浄部材が部分的に異常に摩耗す
るのを防止することができて、その長寿命化を図ること
ができると共に、ディスクの回転駆動を安定的に行わせ
ることができ、さらに該ディスクの外周エッジの端面部
分だけでなく、チャンファの部分も確実かつ効率的に洗
浄することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明の一実施例を示すもので、第
1図はディスクのエッジ洗浄装置の要部構成説明図、第
2図はディスクとエッジ洗浄部材との位置関係及び作動
を示す説明図、第3図(a)及び(b)はチャンファの
部分の洗浄状態を示す説明図、第4図は従来技術の洗浄
装置の要部構成説明図である。 10:エッジ洗浄部材、11:回転軸、D:ディスク、E:エッ
ジ、C:チャンファ。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−86544(JP,A) 特開 昭62−141634(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/84 Z

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ディスクの外周エッジを、そのチャンファ
    の部位を含めてブラッシングするようにして洗浄するた
    めの装置であって、円形平面の洗浄面を有するエッジ洗
    浄部材と、該エッジ洗浄部材を回転駆動するために、前
    記洗浄面と直交する方向に延在させた回転軸とを有し、
    該回転軸により前記エッジ洗浄部材を回転駆動する間
    に、前記ディスクの外周エッジを前記エッジ洗浄部材の
    洗浄面に対して、その回転中心から所定量ずらせた位置
    で、該洗浄面に概略直交する方向に当接させることによ
    り洗浄する構成としたことを特徴とするディスクのエッ
    ジ洗浄装置。
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