JPH03183089A - ディスクのエッジ洗浄装置 - Google Patents
ディスクのエッジ洗浄装置Info
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- JPH03183089A JPH03183089A JP1318918A JP31891889A JPH03183089A JP H03183089 A JPH03183089 A JP H03183089A JP 1318918 A JP1318918 A JP 1318918A JP 31891889 A JP31891889 A JP 31891889A JP H03183089 A JPH03183089 A JP H03183089A
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- Japan
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
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- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、磁気ディスクや光ディスク等の円環状記録媒
体を構成するハードディスクの外周エツジ部分を洗浄す
るためのディスクのエツジ洗浄装置に関するものである
。
体を構成するハードディスクの外周エツジ部分を洗浄す
るためのディスクのエツジ洗浄装置に関するものである
。
[従来の技術〕
例えば、アルミニウム円板等のハードディスクからなる
磁気ディスクの製造工程においては、磁気記録膜の形成
前、また必要に応じて磁気記録膜の形成後に、ディスク
の洗浄が行われる。しかも、このディスクの洗浄は、完
全性を期するために、その表裏の両面だけでなく、内周
及び外周のエツジ部分の洗浄も行わなければならない。
磁気ディスクの製造工程においては、磁気記録膜の形成
前、また必要に応じて磁気記録膜の形成後に、ディスク
の洗浄が行われる。しかも、このディスクの洗浄は、完
全性を期するために、その表裏の両面だけでなく、内周
及び外周のエツジ部分の洗浄も行わなければならない。
このディスクの外周エツジを洗浄するために、第4図に
示した構成を有゛する洗浄装置を用いたものが従来から
知られている。
示した構成を有゛する洗浄装置を用いたものが従来から
知られている。
同図において、1はディスクDの外周エツジEを洗浄す
るための、スポンジ等からなるエツジ洗浄部材、2はこ
のエツジ洗浄部材1を回転駆動するための回転軸をそれ
ぞれ示す。ディスクDの外周エツジEはエツジ洗浄部材
1の側面に押し付けられており、この状態で、回転軸2
によってエツジ洗浄部材1を回転駆動することによって
、ディスフDの外周エツジEをブラッシングすると共に
、該ディスクDに対して回転力を作用させることによっ
て、その外周エツジEの全周の洗浄を行うようにしてい
る。
るための、スポンジ等からなるエツジ洗浄部材、2はこ
のエツジ洗浄部材1を回転駆動するための回転軸をそれ
ぞれ示す。ディスクDの外周エツジEはエツジ洗浄部材
1の側面に押し付けられており、この状態で、回転軸2
によってエツジ洗浄部材1を回転駆動することによって
、ディスフDの外周エツジEをブラッシングすると共に
、該ディスクDに対して回転力を作用させることによっ
て、その外周エツジEの全周の洗浄を行うようにしてい
る。
[発明が解決しようとする課題1
ところて、前述したように、エツジ洗浄部材1の側面に
ディスクDの外周エツジEを押し付けるようにした場合
には、該エツジ洗浄部材1は極めて狭い範囲で出接する
ので、このエツジ洗浄部材1が部分的に著しく摩耗した
り、切れたりすることがあり、その寿命か極めて短いと
いう問題点かある。そして、このようにエツジ洗浄部材
1のディスクDとの出接部分が摩耗すると、該ディスク
Dに対して回転駆動力が円滑に伝達されないことになっ
て、このディスクの回転が不安定となるという問題点も
ある。さらに、ディスクDの外周エツジEにはチャンフ
ァCという面取りを施した部分かあるが、このチャンフ
ァCに対するブラッシングな円滑に行えないという欠点
もある。
ディスクDの外周エツジEを押し付けるようにした場合
には、該エツジ洗浄部材1は極めて狭い範囲で出接する
ので、このエツジ洗浄部材1が部分的に著しく摩耗した
り、切れたりすることがあり、その寿命か極めて短いと
いう問題点かある。そして、このようにエツジ洗浄部材
1のディスクDとの出接部分が摩耗すると、該ディスク
Dに対して回転駆動力が円滑に伝達されないことになっ
て、このディスクの回転が不安定となるという問題点も
ある。さらに、ディスクDの外周エツジEにはチャンフ
ァCという面取りを施した部分かあるが、このチャンフ
ァCに対するブラッシングな円滑に行えないという欠点
もある。
このために、エツジ洗浄部材1を揺動させたり、また傾
斜した状態で回転させたりするように構成したものも知
られている。このように構成すれば、エツジ洗浄部材を
ある程度広い面を利用することができるものの、なお部
分的な摩耗、まチャンファCの部分の洗浄効率という問
題を解消するには不十分である。
斜した状態で回転させたりするように構成したものも知
られている。このように構成すれば、エツジ洗浄部材を
ある程度広い面を利用することができるものの、なお部
分的な摩耗、まチャンファCの部分の洗浄効率という問
題を解消するには不十分である。
本発明は叙上の点に鑑みてなされたものであって、その
目的とするところは、エツジ洗浄部材の極めて広い面に
摺接させて、その部分的な摩耗の低減を図り、かつエツ
ジEのチャンファCに対しても効率的なブラッシングを
行わせることかできるようにしたディスクのエツジ洗浄
装置を提供することにある。
目的とするところは、エツジ洗浄部材の極めて広い面に
摺接させて、その部分的な摩耗の低減を図り、かつエツ
ジEのチャンファCに対しても効率的なブラッシングを
行わせることかできるようにしたディスクのエツジ洗浄
装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
前述の目的を達成するために、本発明は、回転軸に連結
したエツジ洗浄部材の先端面に、該回転軸の軸線力向に
板面を向け、かつその回転中心から所定量ずらせた位置
に、ディスクの外周エツジを当接させて、前記回転軸を
回転駆動して、エツジ洗浄部材を回転させることによっ
て、ディスクを回転駆動しながら、その外周エツジを洗
浄するように構成したことをその特徴とするものである
。
したエツジ洗浄部材の先端面に、該回転軸の軸線力向に
板面を向け、かつその回転中心から所定量ずらせた位置
に、ディスクの外周エツジを当接させて、前記回転軸を
回転駆動して、エツジ洗浄部材を回転させることによっ
て、ディスクを回転駆動しながら、その外周エツジを洗
浄するように構成したことをその特徴とするものである
。
[作用1
このような構成を採用することによって、エツジ洗浄部
材の先端面の広い面にディスクの外周エツジを摺接させ
た状態で洗浄を行うことかできるようになり、該エツジ
洗浄部材か局所的に摩耗するのを防止することかできる
ようになる。この結果、長期間作動させても、ディスク
を安定的に回転駆動することができるようになる。しか
も、エツジ洗浄部材の回転によって、該エツジ洗浄部材
がディスクの外周エツジに対l)で、単に該ディスクを
回転させる方向の力だけでなく、板厚方向に押動する力
が作用し、しかもこの板厚方向に作用する力はエツジ洗
浄部材の回転中心を基準として一側に当接している部分
と他側に当接している部分とは反対向きの力か作用する
ので、ディスクの外周端面たけてなく5両側のチャンフ
ァの部分にもブラッシング力が作用することになって、
この外周エツジを極めて効率的に、しかも完全に洗浄す
ることができるようになる。
材の先端面の広い面にディスクの外周エツジを摺接させ
た状態で洗浄を行うことかできるようになり、該エツジ
洗浄部材か局所的に摩耗するのを防止することかできる
ようになる。この結果、長期間作動させても、ディスク
を安定的に回転駆動することができるようになる。しか
も、エツジ洗浄部材の回転によって、該エツジ洗浄部材
がディスクの外周エツジに対l)で、単に該ディスクを
回転させる方向の力だけでなく、板厚方向に押動する力
が作用し、しかもこの板厚方向に作用する力はエツジ洗
浄部材の回転中心を基準として一側に当接している部分
と他側に当接している部分とは反対向きの力か作用する
ので、ディスクの外周端面たけてなく5両側のチャンフ
ァの部分にもブラッシング力が作用することになって、
この外周エツジを極めて効率的に、しかも完全に洗浄す
ることができるようになる。
[実施例1
以下1本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
まず、第1図にエツジ洗浄装置の要部構成を示す。同図
において、10はスポンジ等からなるエツジ洗浄部材を
示し、該エツジ洗浄部材10は、回転軸11の先端に取
り付けられており、該回転軸11をモータ等の回転駆動
手段(図示せず)によって回転駆動せしめられるように
なっている。このエツジ洗浄部材10は所定の厚みを有
する円形の部材からなり、その先端面10aにディスク
DのエツジEが当接せしめられるようになっている。
において、10はスポンジ等からなるエツジ洗浄部材を
示し、該エツジ洗浄部材10は、回転軸11の先端に取
り付けられており、該回転軸11をモータ等の回転駆動
手段(図示せず)によって回転駆動せしめられるように
なっている。このエツジ洗浄部材10は所定の厚みを有
する円形の部材からなり、その先端面10aにディスク
DのエツジEが当接せしめられるようになっている。
ここで、第2図に示したように、このエツジ洗浄部材1
0の先端面10aにおいて、回転中心0を中心としたX
軸、Y軸を描いた1きに1.ディスクDの板面がY軸と
平行となる。Lうにして、中心0からX軸方向に距離α
だけずれた位置となり、該ディスクDのエツジ洗浄部材
10の5接中心部AはごのX1IIJ:に置かれている
。
0の先端面10aにおいて、回転中心0を中心としたX
軸、Y軸を描いた1きに1.ディスクDの板面がY軸と
平行となる。Lうにして、中心0からX軸方向に距離α
だけずれた位置となり、該ディスクDのエツジ洗浄部材
10の5接中心部AはごのX1IIJ:に置かれている
。
このように構成することによって、第2図において、デ
ィスクDのエツジEを幅Bの範囲でエツジ洗浄部材10
に当接させた状態で、回転軸J1によってエツジ洗浄部
材IOを回転駆動しながら、洗浄液を供給することによ
って、該ディスクDの外周エツジEをブラシ洗浄するこ
とができる。
ィスクDのエツジEを幅Bの範囲でエツジ洗浄部材10
に当接させた状態で、回転軸J1によってエツジ洗浄部
材IOを回転駆動しながら、洗浄液を供給することによ
って、該ディスクDの外周エツジEをブラシ洗浄するこ
とができる。
而して、この洗浄時に、ディスクDにはエツジ洗浄部材
10の回転によって、接線方向の力Fが作用することに
なる。この力FのベクトルはY軸方向の成分F1とX軸
方向の成分F2との成分を有する。そし又、このY軸方
向の成分F1はディスクDのエツジ洗浄部材1oに対す
る出接部の全体にわたって同一方向となっている(なお
、当接中心部Aの位置では、接線方向はディスクDの板
面方向、即ちUディス)7Dを同転させる方向の・みと
なる、)。従っ′C、ディスクDに対するベクトル成分
F1の力によってディスクDが回転駆動せしめられるこ
とになr)、該ディスク0を格別のf段によって回転駆
動l、・なくこも、洗浄中に自転することになり、その
外周エツジEの全周を洗浄することができるようになる
。
10の回転によって、接線方向の力Fが作用することに
なる。この力FのベクトルはY軸方向の成分F1とX軸
方向の成分F2との成分を有する。そし又、このY軸方
向の成分F1はディスクDのエツジ洗浄部材1oに対す
る出接部の全体にわたって同一方向となっている(なお
、当接中心部Aの位置では、接線方向はディスクDの板
面方向、即ちUディス)7Dを同転させる方向の・みと
なる、)。従っ′C、ディスクDに対するベクトル成分
F1の力によってディスクDが回転駆動せしめられるこ
とになr)、該ディスク0を格別のf段によって回転駆
動l、・なくこも、洗浄中に自転することになり、その
外周エツジEの全周を洗浄することができるようになる
。
しかも、このエツジ洗浄部材10は、洗浄作業中におい
ては、同図に斜線で示した部分がディスクDのエツジE
と摺接することいなり、極めて広い面で摺接するので、
該エツジ洗浄部材10が部分的に摩耗するのを防止する
ことができるようになり、その長寿命化を図ることかで
きる。そして、このようにエツジ洗浄部材10の部分的
な摩耗が低減される結果、該エツジ洗浄部材10とディ
スクDとの間の押し付は力が一定となるので、該ディス
クDの回転駆動が安定する。
ては、同図に斜線で示した部分がディスクDのエツジE
と摺接することいなり、極めて広い面で摺接するので、
該エツジ洗浄部材10が部分的に摩耗するのを防止する
ことができるようになり、その長寿命化を図ることかで
きる。そして、このようにエツジ洗浄部材10の部分的
な摩耗が低減される結果、該エツジ洗浄部材10とディ
スクDとの間の押し付は力が一定となるので、該ディス
クDの回転駆動が安定する。
而して、ディスクDの外周エツジEには、端面部の両側
にチャンファCが形成古れているが、このチャン、ファ
Cの部分に対しても、十分なブラッシング力を発揮しt
7:ければならない。そこで、第2図に示したように、
ディスクDに作用する成分F2はX軸を基準として図面
の上方の部分と下方の部分とでは方向が反対方向となっ
ている。このために、X軸を基準とした一L方部分にお
いては、第3図(a)に示したように1片側のチャンフ
ァCがブラッシングされ、またY軸の下方部分に才マい
“〔は、第3図(b)に示したように他側の・チャンフ
ァCがブラッシングさむるごとになる。従って、洗浄作
業中にディスクDか回転することから1両チャンファC
を確実か”つ強力にブラシシンク洗浄することができる
ようになる。
にチャンファCが形成古れているが、このチャン、ファ
Cの部分に対しても、十分なブラッシング力を発揮しt
7:ければならない。そこで、第2図に示したように、
ディスクDに作用する成分F2はX軸を基準として図面
の上方の部分と下方の部分とでは方向が反対方向となっ
ている。このために、X軸を基準とした一L方部分にお
いては、第3図(a)に示したように1片側のチャンフ
ァCがブラッシングされ、またY軸の下方部分に才マい
“〔は、第3図(b)に示したように他側の・チャンフ
ァCがブラッシングさむるごとになる。従って、洗浄作
業中にディスクDか回転することから1両チャンファC
を確実か”つ強力にブラシシンク洗浄することができる
ようになる。
[発明の効果1
以上説明したように、本発明は、エツジ洗浄部材の先端
面に、それを回転させるための回転軸の軸線方向に板面
な向け、かつその回転中心から所定量ずらせた位置に、
ディスクの外周エツジを当接させて5洗浄を行うように
したので1工ツジ洗浄部材における極めて広いエリアて
ディスクの外周エツジを摺接させることができるように
なり、該エツジ洗浄部材が部分的に異常に摩耗するのな
防止することかできて、その長寿命化を図ることができ
ると共に、ディスクの回転駆動を安定的に行わせること
かでき、さらに該ディスクの外周エツジの端面部分だけ
でなく、チャンファの部分も確実か′つ効率的に洗浄す
ることかできるようになる。
面に、それを回転させるための回転軸の軸線方向に板面
な向け、かつその回転中心から所定量ずらせた位置に、
ディスクの外周エツジを当接させて5洗浄を行うように
したので1工ツジ洗浄部材における極めて広いエリアて
ディスクの外周エツジを摺接させることができるように
なり、該エツジ洗浄部材が部分的に異常に摩耗するのな
防止することかできて、その長寿命化を図ることができ
ると共に、ディスクの回転駆動を安定的に行わせること
かでき、さらに該ディスクの外周エツジの端面部分だけ
でなく、チャンファの部分も確実か′つ効率的に洗浄す
ることかできるようになる。
第1国力うた第3図は本発明の一実施例を示すもので、
第1図はディスクのエツジ洗浄装置の要部構成説明図、
第2図はディスクとエツジ洗浄部材との位置関係及び作
動を示す説明図、第3図(a)及び(b)はチャンファ
の部分の洗浄状態を示す説明図、第4図は従来技術の洗
浄装置の要部構成説明図である。 10:エツジ洗浄部材、11:回転軸、D=ディスク、
E:エツジ、C:チャンファ。
第1図はディスクのエツジ洗浄装置の要部構成説明図、
第2図はディスクとエツジ洗浄部材との位置関係及び作
動を示す説明図、第3図(a)及び(b)はチャンファ
の部分の洗浄状態を示す説明図、第4図は従来技術の洗
浄装置の要部構成説明図である。 10:エツジ洗浄部材、11:回転軸、D=ディスク、
E:エツジ、C:チャンファ。
Claims (1)
- 回転軸に連結したエッジ洗浄部材の先端面に、該回転軸
の軸線方向に板面を向け、かつその回転中心から所定量
ずらせた位置に、ディスクの外周エッジを当接させて、
前記回転軸を回転駆動して、エッジ洗浄部材を回転させ
ることによって、ディスクを回転駆動しながら、その外
周エッジを洗浄するように構成したことを特徴とするデ
ィスクのエッジ洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1318918A JP2952912B2 (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ディスクのエッジ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1318918A JP2952912B2 (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ディスクのエッジ洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03183089A true JPH03183089A (ja) | 1991-08-09 |
JP2952912B2 JP2952912B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=18104431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1318918A Expired - Fee Related JP2952912B2 (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ディスクのエッジ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2952912B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099082A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-12-11 JP JP1318918A patent/JP2952912B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099082A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2952912B2 (ja) | 1999-09-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |