JP2951161B2 - スイッチマトリクス - Google Patents

スイッチマトリクス

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JP2951161B2
JP2951161B2 JP5190075A JP19007593A JP2951161B2 JP 2951161 B2 JP2951161 B2 JP 2951161B2 JP 5190075 A JP5190075 A JP 5190075A JP 19007593 A JP19007593 A JP 19007593A JP 2951161 B2 JP2951161 B2 JP 2951161B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の入力端子から入
力した夫々の信号波を任意の出力端子に出力するクロス
バ形スイッチマトリクスに関する。特に、本発明は、前
記クロスバ形スイッチマトリクスにおいて、入出力端子
間のアイソレーションを改善する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のクロスバ形状の分布形FETスイ
ッチマトリクスについては、例えば、S. Powell," B
road Band Monolithic Cross Point Switch M
atrices" IEEE Microwave and Millimeter M
onolithic Circuits Symposium 1990 pp.127〜130 に
記載されている。すなわち、この種のスイッチマトリク
スは、2×2スイッチマトリクスの場合、図14(回路
構成図)に示すように、入力端子1、入力線路2、出力
端子3、出力線路4、入力整合用インダクタ5、出力整
合用インダクタ6、デュアルゲートFET(以下、DG
−FETという)7及び終端抵抗13を主体に構成され
る。図14中、符号8は第1ゲート端子、9はドレイン
端子、10は第2ゲート端子、11は単位スイッチ、1
2は入力線路2と出力線路4との交差部である。
【0003】このスイッチマトリクスは、スイッチ素子
としてDG−FET7が使用され、DG−FET7のイ
ンピーダンス整合のために、入力線路2に入力整合用イ
ンダクタ5、出力線路4に出力整合用インダクタ6が夫
々設けられる。一般に、DG−FET7は、図15に示
すように、第2ゲート端子10に印加される電圧Vg2に
よって利得が変化する。DG−FET7は、この電圧V
g2により導通状態(Vg2=0V)と非導通状態(Vg2=
ピンチオフ電圧)とに切り換え、スイッチとして動作で
きる。
【0004】次に、前記スイッチマトリクスの動作につ
いて説明する。入力端子1aに入力した信号波は入力線
路2を伝搬する。この時、単位スイッチ11aが導通状
態であれば、第1ゲート端子8aでの信号波の電圧は、
DG−FET7aで増幅され、ドレイン端子9aに出力
される。この出力は、出力整合用インダクタ6aを介し
て出力線路4a、出力整合用インダクタ6bを介して出
力線路4bの夫々に等分配される。分配された信号波
は、一方が入出力線路の交差部12a、出力線路4aの
夫々を経由して終端抵抗13に吸収され、他方が出力線
路4b、入出力線路の交差部12c、単位スイッチ11
c、出力線路4cの夫々を経由して出力端子3aに出力
される。
【0005】また、入力端子1aに入力された信号波
は、単位スイッチ11aの状態が導通、非導通にかかわ
らず、入出力線路の交差部12a、入力線路2bの夫々
を経由して、次の単位スイッチ11bに至る。単位スイ
ッチ11bは単位スイッチ11aと同様に動作し、導通
状態であれば、信号波は出力端子3bに出力されるとと
もに、終端抵抗13に吸収される。
【0006】そして、入力端子1aに入力された信号波
は、入力線路2cを伝搬し、終端抵抗13に吸収され
る。
【0007】この結果、入力端子1aに入力した信号波
は、入力線路2a〜2cに接続された単位スイッチ11
a及び11bの状態により、任意の出力端子3に出力さ
れる。以上の動作は、他の入力端子1bについても同様
であり、スイッチマトリクスの各出力端子3からは入力
された信号波のうち、任意の信号波を取り出すことがで
きる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来のクロスバ形の分
布形FETスイッチマトリクスは入力線路2、出力線路
4の夫々が交差部12で交差する。この交差部12は、
図16(要部斜視図)に示すように、誘電体17上に形
成された入力線路2の中心導体と出力線路4の中心導体
とがエアブリッジ14により電気的に分離した状態で交
差している。図16中、符号16は地導体である。この
ような構造が採用されるので、入力線路2の中心導体と
エアブリッジ14との間に静電容量15が発生する。つ
まり、入力線路2と出力線路4との間が静電容量15に
より結合し、単位スイッチ11が非導通状態であっても
信号波が出力端子3に漏洩する。スイッチマトリクスが
大規模化するにつれて、このような入出力線路の交差部
12を多数用いるため、漏洩した信号波が互いに干渉す
る結果、スイッチマトリクスの全体の入出力端子間のア
イソレーションを著しく劣化させる問題がある。
【0009】また、図17(要部斜視図)に示すよう
に、前記スイッチマトリクスの単位スイッチ11に結線
される入力線路2、出力線路4の夫々の中心導体は通常
マイクロストリップ線路で構成される。このため、中心
導体から信号波の一部が空間に放射されるので、近接す
る入力線路2、出力線路4の夫々の間が空間を介して結
合し、入出力端子間のアイソレーションが劣化する問題
がある。
【0010】また、前記図14に示す分布形FETスイ
ッチマトリクスは、図18(等価回路図)に示すよう
に、入力線路2にゲート・ソース間容量(Cgs)19が
並列に装荷される。このゲート・ソース間容量19は、
それに対する入力整合インダクタ5と併せてT型の低域
通過フィルタを構成する。一方、図19(等価回路図)
に示すように、ドレイン・ソース間容量(Cds)22に
対する出力整合用インダクタ6と併せてT型の低域通過
フィルタを構成する。これらの低域通過フィルタ形の整
合回路には、容量成分とインダクタ成分のみならず、実
際にはゲート・ソース間容量(Cgs)19に並列にゲー
ト・ソース間抵抗(Rin)20が、ドレイン・ソース間
容量(Cds)22に直列にドレイン・ソース間抵抗(R
ds)23の夫々が存在する。このため、信号波が単位ス
イッチ11の入力端子21aから21bへ伝搬する場
合、若しくは単位スイッチの出力端子24aから24b
へ伝搬する場合、これらの抵抗20、23の夫々により
信号は減衰する。入力端子1又は出力端子3からの伝搬
距離が長いほど多くの単位スイッチ11を通過するの
で、入力線路2又は出力線路4の通過損失は大きくな
る。つまり、図20に示すように、入力端子間の出力線
路4が長いほど出力端子3に出力される信号波のレベル
が低下し、入出力端子間の損失に偏差が生じる問題があ
る。
【0011】また、単位スイッチ11の入出力端子は、
不整合による反射が生じるために、単位スイッチ11を
等間隔に配列すると、図21及び図22に示すように、
周波数によっては各単位スイッチ11での反射波の位相
が同相になり、互いに強調され、スイッチマトリクス全
体としての入力反射波特性、出力反射波特性のいずれも
劣化する。このため、振幅の周波数特性が波打ち、信号
波の伝搬特性が劣化する問題がある。
【0012】本発明は、このような問題点のいくつか
解決することを課題としてなされたものであり、クロス
バ形スイッチマトリクスにおいて、入出力端子間のアイ
ソレーションを高めることを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、スイッチマトリクスにおいて、
々、対向した2つの入力線路及び2つの出力線路を格子
状に配置し、前記入力 線路にゲート端子、前記出力線路
にドレイン端子を夫々並列に装荷したクロスバ形状の分
布形FETスイッチを使用するスイッチマトリクスにお
いて、同一基板の一主面に形成された前記2つの入力線
路と2つの出力線路とにより囲まれる領域の内側に、前
記2つの入力線路と2つの出力線路との間を接続する4
つの前記分布形FETスイッチを配置し、前記入力線
路、出力線路の交差部を前記基板の外周囲に引出し、こ
の交差部の間に遮蔽体を介在させたことを特徴とする。
【0014】
【作用】発明は、スイッチマトリクスにおいて、4つ
のFETスイッチからなるスイッチ回路部と、入力線
路、出力線路の夫々の交差部とを分離できる。小型化の
ため、スイッチ回路部を1つのマイクロ波集積回路のチ
ップで構成した場合でも、入力線路と出力線路との交差
部をチップの外に設けることができる。入力線路と出力
線路との交差部において、中心導体間を地導体(遮蔽
体)により遮蔽することができるので、前記交差部での
入出力線路間の結合を抑制できる。例えば、2×2スイ
ッチマトリクスを小型化した場合、入出力端子間のアイ
ソレーションの劣化を防止できる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について、図面
に基づき説明する。
【0016】なお、実施例の説明において、前述の従来
の説明と同一又は相当部分には同一符号を付け、その説
明は重複するので省略する。
【0017】本発明の実施例であるスイッチマトリクス
の構成を図1(回路図)に示す。図1に示すように、ス
イッチマトリクスは、対向する2つの入力線路2、及び
この入力線路2と直交しかつ対向する2つの出力線路4
により囲まれる枠の内側にスイッチ回路部25が構成さ
れる。このスイッチ回路部25は、4つの単位スイッチ
11が配置される。前記入力線路2、出力線路4の夫々
の交差部12は、スイッチ回路部25と分離され、この
スイッチ回路部25の外周部分に配置される。つまり、
本実施例のスイッチマトリクスは、2×2スイッチマト
リクスで構成される。
【0018】図2(A)の斜視図及び図2(B)の要部
断面図に示すように、前記スイッチマトリクスはスイッ
チ回路部25が1つのマイクロ波集積回路で構成され
る。入力線路2、出力線路4の夫々の中心導体はマイク
ロストリップ線路で構成される。入力線路2、出力線路
4の一部の夫々は、スイッチ回路部25からその外周の
第1の誘電体層26の表面上に引き出される。前記第1
の誘電体層26の裏面には地導体(遮蔽体)16を介在
して第2の誘電体層27が設けられる。
【0019】前記出力線路4の他の一部は、第1の誘電
体層26の表面(図2(A)中、上面)から、スルーホ
ール28を通して第2の誘電体層27の表面(図2
(B)中、下面)まで引き出され、この第2の誘電体層
27の表面上を延在する。スルーホール28は、第1の
誘電体層26、地導体16、第2の誘電体層27の夫々
を貫通する。
【0020】前述のように、入力線路2、出力線路4の
一部の夫々は、地導体16を中央部において共有する2
層の構造の誘電体層のうち、第1の誘電体層26の表面
上に配置され、出力線路4の他の一部は、2層の構造の
誘電体層のうち、第2の誘電体層27の表面上に配置さ
れる。すなわち、入力線路2及び出力線路4の一部は誘
電体層の1つの表面に配置され、出力線路4の他の一部
は誘電体層の対向する他の1つの表面に配置されること
になる。
【0021】入出力線路の交差部12は、スイッチ回路
部25の外周において、入力線路2と出力線路4の他の
一部とが交差する。つまり、この交差部12において
は、入力線路2と出力線路4の他の一部との間に第1の
誘電体層26、遮蔽体としての地導体16及び第2の誘
電体層27が介在される。
【0022】このような構造を採用するスイッチマトリ
クスは、入出力線路の交差部12において、入力線路2
と出力線路4の他の一部との間が地導体16により遮蔽
されるので、入力線路2、出力線路4の夫々の中心導体
間の静電容量による結合が生じない。この結果、スイッ
チマトリクスは、小型化を目的としてスイッチ回路部2
5を同一基板に設けても、入出力端子間のアイソレーシ
ョンの劣化が少なく、良好な性能を得ることができる。
【0023】なお、上記実施例においては、入出力線路
の交差部12を2層のマイクロストリップ線路で構成し
たが、本発明は、図3(A)の斜視図及び図3(B)の
要部断面図に示すように、入力線路2をマイクロストリ
ップ線路で構成し、出力線路4の他の一部をトリプレー
ト線路で構成してもよい。図3中、符号29は第1の地
導体、30は第2の地導体である。入出力線路の交差部
12において、入力線路2は第1の地導体29及び第1
の誘電体層26からなるマイクロストリップ線路で構成
され、出力線路4は第1の地導体29、第2の地導体3
0及び第2の誘電体層27からなるトリプレート線路で
構成される。
【0024】このスイッチマトリクスは、入力線路2、
出力線路4(の他の一部)の夫々が第1の地導体29に
より遮蔽されているので、前述と同様の効果が得られ
る。
【0025】また、本発明は、図4の斜視図に示すよう
に、上記実施例のスイッチ回路部25をパッケージに収
納する際、このパッケージの内部に入出力線路の交差部
12を配置することもできる。この場合、パッケージ
は、入出力線路の交差部12において、入力線路2と出
力線路4との間をパッケージの金属部31で遮蔽できる
ので、前述と同様の効果が得られる。また、パッケージ
の空き領域に入出力線路の交差部12を配置したので、
パッケージの小型化が図れる。
【0026】また、上記実施例は、入出力線路に並列に
装荷する4つのDG−FET7を夫々別々の点で接続
し、入出力線路上に夫々DG−FET7に対する入力整
合用インダクタ5及び出力整合用インダクタ6を設けた
が、本発明は、図5の回路図に示すように、入出力線路
にDG−FET7を2つずつ同一点で並列に装荷し、2
つのDG−FET7に対する入力整合用インダクタ5及
び出力整合用インダクタ6を設けてもよい。このように
構成されるスイッチマトリクスは、前述と同様の効果が
得られる。
【0027】また、上記実施例は、スイッチ素子として
使用するDG−FET7を1段構成としたが、本発明
は、図6の回路図に示すように、1段目のDG−FET
7の後に2段目のDG−FET32を連結し、2段構成
としてもよい。図6中、符号34は2段目のDG−FE
T32のドレイン端子である。DC阻止用のコンデン
サ、RF阻止用チョークコイル等の記載は省略してあ
る。2段目のDG−FET32の第1ゲート端子33は
1段目のDG−FET7のドレイン端子9に接続され、
2段目のDG−FET32のドレイン端子34は出力線
路4に接続される。このように構成されるスイッチマト
リクスは、DG−FETを1段構成とした場合に比べ
て、非導通時のアイソレーションを高めることができ
る。
【0028】また、上記実施例はスイッチ素子11とし
て2つのゲート端子を持つDG−FET7を使用した
が、本発明は、図7の回路図に示すように、1つのゲー
ト端子を持つシングルゲートFET35を使用してもよ
い。この場合、スイッチを切り換えるために印加するバ
イアス電圧を第1ゲート端子8からかけるので、入力線
路2上に直列にDC阻止用コンデンサ36、並列にゲー
トバイアス用回路37を配置する。
【0029】イッチマトリクスを収納する金属パッケ
ージの構成を図8(斜視図)に示す。
【0030】図8中、符号38は金属パッケージ、39
は金属壁、40は入出力線路基板、41は金属パッケー
ジの入力線路、42は金属パッケージの出力線路、43
はバイアス線路基板、44は分布形FETスイッチ、4
5は前記分布形FETスイッチの入力端子、46は前記
分布形FETスイッチの出力端子である。前記2つの入
力線路41は入出力線路基板40の一端側の表面にほぼ
並行に配置され、2つの出力線路42は入出力線路基板
40の他の一端側の表面にほぼ並行に配置される。これ
らの入力線路41、出力線路42の夫々は金属壁39の
内側に引き込まれる。前記金属壁39は、入出力線路基
板40の一端側から他の一端側に向かって、少なくとも
入出力線路基板40の外周囲に沿って構成される。前記
金属壁39の内側には2つの入力端子45及び2つの出
力端子46を有する分布形FETスイッチ44が収納さ
れる。この分布形FETスイッチ44の入力端子45は
金属壁39の内側に引き込まれた入力線路41に接続さ
れ、出力端子46は同様に引き込まれた出力線路42に
接続される。このように金属パッケージ38は分布形F
ETスイッチ44が収納された構造で構成される。
【0031】ここで、信号波の伝搬方向xと直交する方
向yの辺を横幅aと定義すると、x方向の長さLのとき
の空間伝搬の減衰量αは、次式で与えられる。
【0032】
【数1】 上記式によれば、横幅aを狭めるほど空間伝搬の減衰量
αが大きくなる。したがって、金属壁39の横幅aを狭
め、金属壁39の形状を信号波の伝搬方向に長く設定す
ることにより、仮りに分布形FETスイッチ44上のマ
イクロストリップ線路に放射が存在しても、放射された
信号波の金属パッケージ38内での空間伝搬の減衰量が
大きく、信号波が伝搬しないので、信号波の伝搬方向の
結合を抑え、スイッチとしてのアイソレーションを高め
ることができる。
【0033】また、スイッチの構成を図9(A)の平
面図及び図9(B)の部分断面を有する側面図(図9
(A)のA−A’線に沿う縦構造)に示す。
【0034】図9中、符号47は金属パッケージ用蓋、
48は入出力線路用蓋、49は台座、50は台座49上
の入出力線路基板、51は入出力線路用蓋48の固定ね
じである。金属パッケージ用蓋47は金属壁39上に取
付けられる。金属パッケージは、台座49の上面の凹部
に、金属パッケージの入出力線路基板40と台座49上
の入出力線路基板50の上面の高さとを同じにして配置
される。入出力線路用蓋48は、金属パッケージ用蓋4
7の上面におおいかぶせ、入出力線路用蓋48の固定ね
じ51で固定する。
【0035】このように構成されるスイッチは、入出力
線路間が蓋により遮断されるので、空間での結合を抑え
ることができ、入出力線路間のアイソレーションの劣化
を防止できる。
【0036】他のスイッチマトリックスの構成を図1
0(回路図)に示す。
【0037】図10に示すスイッチマトリクスは、入出
力線路の双方に増幅器52が設けられる。この増幅器5
2は整合用インダクタ53及び整合用抵抗54を備え
る。
【0038】入出力端子1から入力される信号波は、い
くつかの入力整合用インダクタ5、入出力線路の交差部
12を経由していくにつれて、単位スイッチ11の抵抗
成分や線路損失により信号波のレベルが低下してくる。
出力線路4についても同様に信号波のレベルが低下す
る。どの単位スイッチ11においても入力される信号波
のレベル或いは出力される信号波のレベルが同等になる
ように、入力線路2及び出力線路4に設けられた増幅器
52の利得が設定される。つまり、このスイッチマトリ
クスは、各出力端子3に出力される信号波のレベルに偏
差が生じることを防止できる。
【0039】イッチマトリクスのスイッチの導通時利
得設定の様子を図11(A)、図11(B)の夫々のグ
ラフに示す。
【0040】従来の構成によるクロスバ形状の分布形F
ETスイッチマトリックスにおいて、入力線路2に並列
に装荷されたすべての単位スイッチ11の導通時利得が
同じ場合、入力端子1からの伝搬距離が長い単位スイッ
チ11ほど入力される信号波が減衰するので、出力され
る信号波のレベルも低くなる。これは、出力端子3から
見ても同様である。
【0041】そこで、入出力端子からの伝搬距離が長い
ほど、又出力端子3からの伝搬距離が長いほど、スイッ
チの導通時利得が順に大きくなるように、単位スイッチ
11の制御電圧を設定する。このように、入出力端子か
らの伝搬距離が長いほど入出力線路上を伝搬する信号波
のレベルが低くても、出力される信号のレベルに偏差が
生じることを防止できる。
【0042】他のスイッチマトリクスの構成を図12
(回路図)で示す。
【0043】図12に示すスイッチマトリクスは3×3
スイッチマトリクスで構成される。入力端子1aから入
力された信号波は、単位スイッチ11間の入力線路2a
及び2bの線路長が同じである場合、単位スイッチ11
b及び11cで反射された波が入力端子1aにおいて同
相で重なりあい、反射特性が劣化する。出力側において
も同様に、単位スイッチ11間の出力線路4の線路長が
同じである場合、出力端子3での反射特性が劣化する。
そこで、単位スイッチ11間の入力線路2及び出力線路
4の線路長を不規則に設定する。
【0044】図13は各単位スイッチ11での反射波の
周波数に対する位相の変化を示すグラフである。各単位
スイッチ11間の線路長が不規則であるので、反射波の
位相は夫々異なる周波数で重なり合うにとどまる。この
ように、入出力端子におけるスイッチマトリクス全体の
反射特性の劣化を抑えることができる。
【0045】なお、本発明は、上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種
々変更できる。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
クロスバ形状の分布形FETスイッチマトリクスにおい
て、相互に対向する2つの入力線路と2つの出力線路と
により囲まれる枠の内側にスイッチ回路部を設け、この
スイッチ回路部の外側に入出力線路の交差部を配置し、
前記交差部における入力線路、出力線路の夫々の中心導
体を基板の対向する異なる面上に配置し、この交差部に
おける入力線路、出力線路の夫々の中心導体間を遮蔽体
で遮蔽したので、入出力端子間のアイソレーションを良
好にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例であるスイッチマトリクスの構
成を示す回路図。
【図2】(A)は前記スイッチマトリクスの斜視図、
(B)はその要部断面図。
【図3】(A)はスイッチマトリクスの他の例を示す斜
視図、(B)はその要部断面図。
【図4】スイッチマトリクスの他の例を示す斜視図。
【図5】スイッチマトリクスの他の例を示す回路図。
【図6】スイッチマトリクスの他の例を示す回路図。
【図7】スイッチマトリクスの他の例を示す回路図。
【図8】属パッケージの例を示す斜視図。
【図9】(A)はスイッチの平面図、(B)はその部
分断面を有する側面図。
【図10】イッチマトリクスの他例の回路図。
【図11】(A)、(B)の夫々はスイッチマトリクス
のスイッチの導通時利得の設定を示すグラフ。
【図12】イッチマトリクスの他例の回路図。
【図13】(A)、(B)の夫々は前記スイッチマトリ
クスにおける反射波を説明するグラフ。
【図14】従来のスイッチマトリクスの回路図。
【図15】前記従来のスイッチマトリクスのスイッチ素
子としてのDG−FETの第2ゲート端子に印加する電
圧に対する利得の変化図。
【図16】前記スイッチマトリクスにおける入出力線路
の交差部の斜視図。
【図17】前記スイッチマトリクスの斜視図。
【図18】前記スイッチマトリクスの要部の等価回路
図。
【図19】前記スイッチマトリクスの要部の等価回路
図。
【図20】前記スイッチマトリクスにおける入出力端子
間の経路長に対して出力される信号レベルの変化図。
【図21】前記スイッチマトリクスにおける反射波を説
明するグラフ。
【図22】前記スイッチマトリクスにおける反射波を説
明するグラフ。
【符号の説明】
1 入力端子 2 入力線路 3 出力端子 4 出力線路 5 入力整合用インダクタ 6 出力整合用インダクタ 7,32 DG−FET 8,10,33 ゲート端子 9,34 ドレイン端子 11 単位スイッチ 12 交差部 13 終端抵抗 16,29,30 地導体 25 スイッチ回路部 26,27 誘電体層 28 スルーホール 31 パッケージの金属部 35 シングルゲートFET 36 DC阻止用コンデンサ 37 ゲートバイアス用回路 38 金属パッケージ 39 金属壁 40 入出力線路基板 41 金属パッケージの入力線路 42 金属パッケージの出力線路 43 バイアス線路基板 44 分布形FETスイッチ 45 分布形FETスイッチの入力端子 46 分布形FETスイッチの出力端子 47 金属パッケージ用蓋 48 入出力線路用蓋 49 台座 50 台座の入出力基板 51 固定ねじ 52 増幅器 53 整合用インダクタ 54 整合用抵抗
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−99953(JP,A) 特開 平5−129803(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01P 1/15 H01P 3/08 H03K 17/693

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 夫々、対向した2つの入力線路及2つ
    の出力線路を格子状に配置し、 記入力線路にゲート端子、前記出力線路にドレイン端
    子を夫々並列に装荷したクロスバ形状の分布形FETス
    イッチを使用するスイッチマトリクスにおいて、 同一基板の一主面に形成された前記2つの入力線路と2
    つの出力線路とにより囲まれる領域の内側に、前記2つ
    の入力線路と2つの出力線路との間を接続する4つの
    記分布形FETスイッチを配置し、 前記入力線路、出力線路の交差部を前記基板の外周囲に
    引出し、この交差部の間に遮蔽体を介在させたことを特
    徴とするスイッチマトリクス。
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