JP2936607B2 - 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法 - Google Patents
感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれ
を用いた現像処理方法に関する。
を用いた現像処理方法に関する。
従来、半導体素子などの層間絶縁膜や表面保護膜には
ポリイミド系樹脂が用いられている。このポリイミド系
樹脂膜はスピニング法などにより半導体素子が製造され
たウエハ上に形成されることが知られている。一般に、
ポリイミド系樹脂膜のエッチング或いはパターン形成に
は、フォトレジスト膜がマスク材として用いられ、アル
カリ性水溶液又はヒドラジン系溶液をエッチング液に用
いて穴開け（パターン化）し、その後不要となったフォ
トレジスト膜は剥離液で処理され、剥離除去される。
ポリイミド系樹脂が用いられている。このポリイミド系
樹脂膜はスピニング法などにより半導体素子が製造され
たウエハ上に形成されることが知られている。一般に、
ポリイミド系樹脂膜のエッチング或いはパターン形成に
は、フォトレジスト膜がマスク材として用いられ、アル
カリ性水溶液又はヒドラジン系溶液をエッチング液に用
いて穴開け（パターン化）し、その後不要となったフォ
トレジスト膜は剥離液で処理され、剥離除去される。
しかし、最近はポリイミド前駆体にパターン形成能を
付与し、フォトレジスト膜の形成、剥離除去を不要とし
た感光性のポリイミド前駆体とち、プロセスの短縮化が
試みられている。
付与し、フォトレジスト膜の形成、剥離除去を不要とし
た感光性のポリイミド前駆体とち、プロセスの短縮化が
試みられている。
この感光性ポリイミド樹脂膜にパターン形成するに
は、一般にＮ−メチル−２−ピロリドン、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの極性有機
溶剤を主成分とする現像液が、露光により架橋構造を形
成した感光性ポリイミド前駆体に対して強い親和力を有
することが特開昭58−223149号、同62−299846号公報な
どに示されている。
は、一般にＮ−メチル−２−ピロリドン、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの極性有機
溶剤を主成分とする現像液が、露光により架橋構造を形
成した感光性ポリイミド前駆体に対して強い親和力を有
することが特開昭58−223149号、同62−299846号公報な
どに示されている。
しかしながら、半導体の高集積化に伴って素子面積及
びそのウエハサイズも合わせて大型化しているため、感
光性ポリイミド樹脂膜が３μｍ以上の比較的厚い膜厚の
場合は、静止パドル方式やスプレー方式などの現像処理
では、ウエハの面内でパターン寸法が不均一になる問題
があった。特に露光をコンタクト方式で行う場合にこの
問題は生じ易い。
びそのウエハサイズも合わせて大型化しているため、感
光性ポリイミド樹脂膜が３μｍ以上の比較的厚い膜厚の
場合は、静止パドル方式やスプレー方式などの現像処理
では、ウエハの面内でパターン寸法が不均一になる問題
があった。特に露光をコンタクト方式で行う場合にこの
問題は生じ易い。
すなわち、ウエハの中心部には良好なパターンが得ら
れるが、エッジ部に近くなるほどパターン化が不十分で
あり、同一現像時間でのパターン形成ができない欠点が
ある。
れるが、エッジ部に近くなるほどパターン化が不十分で
あり、同一現像時間でのパターン形成ができない欠点が
ある。
一般に解像力あるいは現像力の向上及び現像安定性を
改良する方法として、ポジ型感光性樹脂組成物について
はアルカリ性水溶液からなる現像液に界面活性剤を添加
する方法などが、特開昭62−32451号、同62−32452号、
同63−6548号、同60−17943号、同63−175858号公報な
どに示されている。
改良する方法として、ポジ型感光性樹脂組成物について
はアルカリ性水溶液からなる現像液に界面活性剤を添加
する方法などが、特開昭62−32451号、同62−32452号、
同63−6548号、同60−17943号、同63−175858号公報な
どに示されている。
しかしながら、これらの現像液は、感光性ポリイミド
前駆体用現像液としては使用できない。
前駆体用現像液としては使用できない。
本発明の目的は、前記従来技術の問題を解決し、膜厚
３μｍ以上の感光性ポリイミド樹脂膜を形成する場合
に、現像処理後にウエハ面内でパターン寸法にバラツキ
が無く、同一現像時間で均一なパターンを形成できる現
像液及びこれを用いた現像処理方法を提供することにあ
る。
３μｍ以上の感光性ポリイミド樹脂膜を形成する場合
に、現像処理後にウエハ面内でパターン寸法にバラツキ
が無く、同一現像時間で均一なパターンを形成できる現
像液及びこれを用いた現像処理方法を提供することにあ
る。
本発明は、（ａ）N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、1,3−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン、Ｎ−アセチル−ε−カプロラクタム、γ−ブ
チロラクトン、ヘキサメチルホスホルアミド及びテトラ
メチレンスルホンから選ばれる一種又は二種以上の溶
剤、 （ｂ）メチルアルコール及び（ｃ）フッ素系界面活性剤
を含有してなる感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこ
の現像液を用いて露光された感光性ポリイミド樹脂膜を
現像処理することを特徴とする感光性ポリイミド樹脂膜
の現像処理方法に関する。
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、1,3−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン、Ｎ−アセチル−ε−カプロラクタム、γ−ブ
チロラクトン、ヘキサメチルホスホルアミド及びテトラ
メチレンスルホンから選ばれる一種又は二種以上の溶
剤、 （ｂ）メチルアルコール及び（ｃ）フッ素系界面活性剤
を含有してなる感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこ
の現像液を用いて露光された感光性ポリイミド樹脂膜を
現像処理することを特徴とする感光性ポリイミド樹脂膜
の現像処理方法に関する。
本発明の現像液に用いられる前記（ｃ）のフッ素系界
面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を有するも
のが好ましく、例えばメガファックＦ−171、Ｆ−172、
Ｆ−173、Ｆ−177（いずれも大日本インキ化学工業社製
商品名）などが挙げられる。
面活性剤としては、パーフルオロアルキル基を有するも
のが好ましく、例えばメガファックＦ−171、Ｆ−172、
Ｆ−173、Ｆ−177（いずれも大日本インキ化学工業社製
商品名）などが挙げられる。
フッ素系界面活性剤の配合割合は、ウエハ面内のパタ
ーン寸法の均一化と現像時間の裕度の点から前記（ａ）
群の溶剤と（ｂ）メチルアルコールの総量に対して0.02
〜3.0重量％の範囲が好ましく、0.06〜0.8重量％の範囲
がより好ましい。
ーン寸法の均一化と現像時間の裕度の点から前記（ａ）
群の溶剤と（ｂ）メチルアルコールの総量に対して0.02
〜3.0重量％の範囲が好ましく、0.06〜0.8重量％の範囲
がより好ましい。
本発明の感光性ポリイミド前駆体用現像液においてメ
チルアルコールの配合割合は、前記（ａ）群の溶剤と
（ｂ）メチルアルコールとの総量に対して10〜40重量％
の範囲が好ましく、20〜30重量％範囲がより好ましい。
メチルアルコールの量が少ない場合、現像処理中に樹脂
膜が溶解したり、クラックが生じ易くなる。一方、多す
ぎる場合は樹脂膜が白化したり、良好なパターン形状が
得られず、現像処理が困難になる傾向がある。
チルアルコールの配合割合は、前記（ａ）群の溶剤と
（ｂ）メチルアルコールとの総量に対して10〜40重量％
の範囲が好ましく、20〜30重量％範囲がより好ましい。
メチルアルコールの量が少ない場合、現像処理中に樹脂
膜が溶解したり、クラックが生じ易くなる。一方、多す
ぎる場合は樹脂膜が白化したり、良好なパターン形状が
得られず、現像処理が困難になる傾向がある。
本発明においては、現像性に悪影響を及ぼさない範囲
内で、上記以外の溶剤を含有させてもよい。これらの溶
剤としては、アルコール類、多価アルコール類誘導体
類、エステル類、炭化水素類、エーテル類などが好適な
ものとして挙げられる。上記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）
の混合順序には制限がない。
内で、上記以外の溶剤を含有させてもよい。これらの溶
剤としては、アルコール類、多価アルコール類誘導体
類、エステル類、炭化水素類、エーテル類などが好適な
ものとして挙げられる。上記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）
の混合順序には制限がない。
本発明になる現像液を用いた現像処理を行うには、ま
ず、感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物をウエハなどの
上にスピニング塗布し、温風式乾燥器、ホットプレート
などで70〜130℃、好ましくは90〜120℃の比較的低い温
度で１時間以下の熱処理に付し、感光性ポリイミド系樹
脂膜を形成させる。
ず、感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物をウエハなどの
上にスピニング塗布し、温風式乾燥器、ホットプレート
などで70〜130℃、好ましくは90〜120℃の比較的低い温
度で１時間以下の熱処理に付し、感光性ポリイミド系樹
脂膜を形成させる。
この感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物としては、特
に制限はないが、下記式（１）で表されるポリイミド前
駆体に感光基をエステル結合で導入した感光性ポリイミ
ド前駆体に増感剤、光重合開始剤などを加えたもの、 ポリイミド前駆体に炭素−炭素二重結合を有するアミン
化合物を加えたものに光重合開始剤、増感剤、ビスアジ
ドなどを加えたもの、ポリイミド前駆体にイソシアナー
トエチルメタクリレートを反応させて得られる下記式
（２）で表わされる反応物に、 1,6−ヘキサンジオールジアクリレートなどの不飽和化
合物、光重合開始剤、増感剤などを加えたもの等が好ま
しい。
に制限はないが、下記式（１）で表されるポリイミド前
駆体に感光基をエステル結合で導入した感光性ポリイミ
ド前駆体に増感剤、光重合開始剤などを加えたもの、 ポリイミド前駆体に炭素−炭素二重結合を有するアミン
化合物を加えたものに光重合開始剤、増感剤、ビスアジ
ドなどを加えたもの、ポリイミド前駆体にイソシアナー
トエチルメタクリレートを反応させて得られる下記式
（２）で表わされる反応物に、 1,6−ヘキサンジオールジアクリレートなどの不飽和化
合物、光重合開始剤、増感剤などを加えたもの等が好ま
しい。
また、ポリイミド前駆体はシリコンを有してもよい。
次いで、公知の写真食刻技術によってポリイミド系樹
脂膜を露光し、静止パドル方式、スプレー方式、浸漬方
式の現像法により本発明の現像液を用いて室温で１〜15
分現像処理されてパターン部が形成される。この現像時
間はポリイミド系樹脂膜の膜厚、露光前の熱処理条件に
よって決られる。
脂膜を露光し、静止パドル方式、スプレー方式、浸漬方
式の現像法により本発明の現像液を用いて室温で１〜15
分現像処理されてパターン部が形成される。この現像時
間はポリイミド系樹脂膜の膜厚、露光前の熱処理条件に
よって決られる。
現像処理した後は、パターン部の現像残渣を取り除く
ためリンス液で良く洗浄される。
ためリンス液で良く洗浄される。
このリンス液は、現像液と混和性が良く、ポリイミド
系樹脂膜に対するダメージのない有機溶剤などが用いら
れる。リンス液としては、例えば水、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
系樹脂膜に対するダメージのない有機溶剤などが用いら
れる。リンス液としては、例えば水、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
リンス処理後、直ちにスピニング乾燥し、次いで窒素
雰囲気の乾燥機を用いて120〜160℃で30分間、200℃で3
0分間、更に350℃で60分間熱処理してポリイミド系樹脂
膜を得ることができる。
雰囲気の乾燥機を用いて120〜160℃で30分間、200℃で3
0分間、更に350℃で60分間熱処理してポリイミド系樹脂
膜を得ることができる。
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例１ 窒素気流下に4,4′−ジアミノジフェニルエーテル66.
81g（0.4モル）、1,3−ビス（アミノプロピル）テトラ
メチルジシロキサン10.36g（0.05モル）及び4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル−３−カルボンアミド 10.15
g（0.05モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン1000g中で
よく撹拌溶解させ、ピロメリット酸二無水物45.49g（0.
25モル）、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物67.19g（0.25モル）を徐々に加え、室温で
３時間反応させて粘度60ポアズ（25℃）のポリアミド酸
シリコン型中間体溶液を得た。
81g（0.4モル）、1,3−ビス（アミノプロピル）テトラ
メチルジシロキサン10.36g（0.05モル）及び4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル−３−カルボンアミド 10.15
g（0.05モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン1000g中で
よく撹拌溶解させ、ピロメリット酸二無水物45.49g（0.
25モル）、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物67.19g（0.25モル）を徐々に加え、室温で
３時間反応させて粘度60ポアズ（25℃）のポリアミド酸
シリコン型中間体溶液を得た。
この溶液20gに３−（N,N−ジメチルアミノ）プロピル
メタクリレート1.71g（0.01モル）、2,6−ジ（４′−ア
ジドベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサン0.40g
（0.001モル）を溶解し、次いで１μｍ孔のフィルター
を用いて加圧過した。
メタクリレート1.71g（0.01モル）、2,6−ジ（４′−ア
ジドベンザル）−４−カルボキシシクロヘキサン0.40g
（0.001モル）を溶解し、次いで１μｍ孔のフィルター
を用いて加圧過した。
得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を５イン
チのシリコンウエハ上に3000rpmで60秒間スピニング塗
布した後、ホットプレートを用いて90℃で70秒間熱処理
（プリベーク）を行い、膜厚が７μｍのポリイミド系樹
脂膜を形成した。
チのシリコンウエハ上に3000rpmで60秒間スピニング塗
布した後、ホットプレートを用いて90℃で70秒間熱処理
（プリベーク）を行い、膜厚が７μｍのポリイミド系樹
脂膜を形成した。
次に、この樹脂膜上を1KWの高圧水銀灯を有するコン
タクト式露光装置（ミカサ社製、Ｍ−3LD型）を用い、
ネガ型のクロムマスクを介して露光した後、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン74.6重量％、メチルアルコール24.8重
量％、フッ素系界面活性剤Ｆ−171,0.5重量％からなる
現像液を該樹脂膜上に濡れ拡げ、23℃で130秒間静止パ
ドル法により現像処理した。次にエチルアルコールでリ
ンス処理を30秒間シャワー法で行った。
タクト式露光装置（ミカサ社製、Ｍ−3LD型）を用い、
ネガ型のクロムマスクを介して露光した後、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン74.6重量％、メチルアルコール24.8重
量％、フッ素系界面活性剤Ｆ−171,0.5重量％からなる
現像液を該樹脂膜上に濡れ拡げ、23℃で130秒間静止パ
ドル法により現像処理した。次にエチルアルコールでリ
ンス処理を30秒間シャワー法で行った。
次に窒素雰囲気の乾燥機を用い150℃で30分間、次い
で200℃で30分間、更に350℃で60分間熱処理して膜厚３
μｍのポリイミド系樹脂膜を得た。
で200℃で30分間、更に350℃で60分間熱処理して膜厚３
μｍのポリイミド系樹脂膜を得た。
この樹脂膜は、ウエハ面内のパターン寸法（スルーホ
ール径80μｍ）にバラツキが無く、良好なパターン形状
であった。
ール径80μｍ）にバラツキが無く、良好なパターン形状
であった。
実施例２ 窒素気流下に4,4′−ジアミノジフェニルエーテル10
0.1g（0.5モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン418gに
溶解し、アミン溶液を調合した。ピロメリット酸二無水
物109.05g（0.5モル）をN,N−ジメチルアセトアミド279
gに溶解し、酸溶液を得た。60℃のアミン溶液に酸溶液
を加えて３時間反応させて粘度60ポアズ（25℃）のポリ
イミド酸中間体溶液を得た。
0.1g（0.5モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン418gに
溶解し、アミン溶液を調合した。ピロメリット酸二無水
物109.05g（0.5モル）をN,N−ジメチルアセトアミド279
gに溶解し、酸溶液を得た。60℃のアミン溶液に酸溶液
を加えて３時間反応させて粘度60ポアズ（25℃）のポリ
イミド酸中間体溶液を得た。
この溶液50gにミヒラーズケトン1.15gを30gのN,N−ジ
メチルアセトアミドに溶解した溶液及びジエチルアミノ
エチルメタクリレート10.2gを10gのN,N−ジメチルアセ
トアミドに溶解した溶液を混合し、次いで１μｍ孔のフ
ィルターを用いて加圧過した。
メチルアセトアミドに溶解した溶液及びジエチルアミノ
エチルメタクリレート10.2gを10gのN,N−ジメチルアセ
トアミドに溶解した溶液を混合し、次いで１μｍ孔のフ
ィルターを用いて加圧過した。
得られた感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を５イン
チのシリコンウエハ上に3500rpmで60秒間スピニング塗
布した後、ホットプレートを用いて90℃で60秒間熱処理
を行い、膜厚が７μｍのポリイミド系樹脂膜を形成し
た。
チのシリコンウエハ上に3500rpmで60秒間スピニング塗
布した後、ホットプレートを用いて90℃で60秒間熱処理
を行い、膜厚が７μｍのポリイミド系樹脂膜を形成し
た。
次に、実施例１と同様にして露光、現像し、さらにリ
ンス処理した樹脂膜はウエハ面内のパターン寸法にバラ
ツキが無く、良好なパターン形状であった。350℃で熱
処理後の膜厚は３μｍであった。
ンス処理した樹脂膜はウエハ面内のパターン寸法にバラ
ツキが無く、良好なパターン形状であった。350℃で熱
処理後の膜厚は３μｍであった。
実施例３ 窒素気流下に2,2−ビス（3,4−ジカルボキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン二無水物22.2g（0.05モ
ル）、1,3−ビス（3,4−ジカルボキシフェニル）−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物21.3g（0.05モ
ル）及び3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物32.2g（0.1モル）をＮ−メチル−２−ピロリ
ドン250mlに溶解し、その後、4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル40.0g（0.2モル）を加えて室温で４時間撹拌
した。
ル）ヘキサフルオロプロパン二無水物22.2g（0.05モ
ル）、1,3−ビス（3,4−ジカルボキシフェニル）−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物21.3g（0.05モ
ル）及び3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物32.2g（0.1モル）をＮ−メチル−２−ピロリ
ドン250mlに溶解し、その後、4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル40.0g（0.2モル）を加えて室温で４時間撹拌
した。
次に、この溶液にイソシアナートエチルメタクリレー
ト15.5g（0.1モル）を加え、室温で10時間撹拌した。
ト15.5g（0.1モル）を加え、室温で10時間撹拌した。
さらに、エタノール80mlを加え、水８中に注入した
ところ、重合体が糸状の固形物として析出した。
ところ、重合体が糸状の固形物として析出した。
この重合体10gに対してベンゾフェノン0.4g、ミヒラ
ーズケトン0.1g及1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト1.5gを38gのＮ−メチル−２−ピロリドンに撹拌溶解
し、次いで、１μｍ孔のフィルターを用いて加圧過し
て粘度50ポアズの感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を
得た。この組成物を５インチのシリコンウエハ上に3000
rpmで60秒間スピニング塗布した後、ホットプレートを
用いて95℃で60秒間熱処理を行い、膜厚が９μｍのポリ
イミド系樹脂膜を形成した。
ーズケトン0.1g及1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト1.5gを38gのＮ−メチル−２−ピロリドンに撹拌溶解
し、次いで、１μｍ孔のフィルターを用いて加圧過し
て粘度50ポアズの感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を
得た。この組成物を５インチのシリコンウエハ上に3000
rpmで60秒間スピニング塗布した後、ホットプレートを
用いて95℃で60秒間熱処理を行い、膜厚が９μｍのポリ
イミド系樹脂膜を形成した。
次に、実施例１と同様にして露光、現像し、さらにリ
ンス処理した樹脂膜はウエハ面内のパターン寸法にバラ
ツキが無く、良好なパターン形状であった。350℃で熱
処理後の膜厚は4.5μｍであった。
ンス処理した樹脂膜はウエハ面内のパターン寸法にバラ
ツキが無く、良好なパターン形状であった。350℃で熱
処理後の膜厚は4.5μｍであった。
実施例４ 実施例１と同じ感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を
５インチのシリコンウエハ上に2000rpmで60秒間スピニ
ング塗布した後、ホットプレートで95℃で130秒間熱処
理を行い、厚さ９μｍのポリイミド系樹脂膜を形成した
後、実施例１と同様にして露光し、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン74.8重量％、メチルアルコール24.9重量％及び
フッ素系界面活性剤Ｆ−177,0.3重量％からなる現像液
を用い、23℃で160秒間静止パドル法により現像処理、
リンス処理した後、熱処理して膜厚５μｍのポリイミド
系樹脂膜を得た。この樹脂膜はウエハ面内のパターン寸
法にバラツキが無く、良好なパターン形状であった。
５インチのシリコンウエハ上に2000rpmで60秒間スピニ
ング塗布した後、ホットプレートで95℃で130秒間熱処
理を行い、厚さ９μｍのポリイミド系樹脂膜を形成した
後、実施例１と同様にして露光し、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン74.8重量％、メチルアルコール24.9重量％及び
フッ素系界面活性剤Ｆ−177,0.3重量％からなる現像液
を用い、23℃で160秒間静止パドル法により現像処理、
リンス処理した後、熱処理して膜厚５μｍのポリイミド
系樹脂膜を得た。この樹脂膜はウエハ面内のパターン寸
法にバラツキが無く、良好なパターン形状であった。
実施例５ 実施例１と同じ感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物を
５インチのシリコンウエハ上に2000rpmで30秒間スピニ
ング塗布した後、ホットプレートを用いて95℃で180秒
間熱処理を行い、厚さ14.5μｍのポリイミド系樹脂膜を
形成した。次に、縮小投影露光装置（キャノン社製:FPA
−1550）を用いてネガ型クロムマスクを介して露光した
後、実施例１と同じ現像液で220秒間静止パドル法によ
り現像処理し、エチルアルコールでリンス処理をシャワ
ー法により40秒間行った。
５インチのシリコンウエハ上に2000rpmで30秒間スピニ
ング塗布した後、ホットプレートを用いて95℃で180秒
間熱処理を行い、厚さ14.5μｍのポリイミド系樹脂膜を
形成した。次に、縮小投影露光装置（キャノン社製:FPA
−1550）を用いてネガ型クロムマスクを介して露光した
後、実施例１と同じ現像液で220秒間静止パドル法によ
り現像処理し、エチルアルコールでリンス処理をシャワ
ー法により40秒間行った。
次に、窒素雰囲気の乾燥機を用い、120℃で60分間、
次いで200℃で30分間、さらに350℃で60分間熱処理し
て、膜厚が７μｍのポリイミド系樹脂膜を得た。この樹
脂膜はウエハ面内のパターン寸法（スルーホール径15μ
ｍ）にバラツキが無く、良好なパターン形状であった。
次いで200℃で30分間、さらに350℃で60分間熱処理し
て、膜厚が７μｍのポリイミド系樹脂膜を得た。この樹
脂膜はウエハ面内のパターン寸法（スルーホール径15μ
ｍ）にバラツキが無く、良好なパターン形状であった。
比較例１ 現像液としてＮ−メチル−２−ピロリドン75重量％及
びメチルアルコール25重量％からなる混合液を用いる他
は、実施例１と同様にしてスピニング塗布及び現像処理
を行い、ポリイミド系樹脂膜のパターンを形成した。こ
の樹脂膜はウエハの中心部は良好なパターン形状である
が、ウエハのエッジ部に近くなる程、現像残りがあり、
ウエハ面内のパターン寸法が不均一であった。
びメチルアルコール25重量％からなる混合液を用いる他
は、実施例１と同様にしてスピニング塗布及び現像処理
を行い、ポリイミド系樹脂膜のパターンを形成した。こ
の樹脂膜はウエハの中心部は良好なパターン形状である
が、ウエハのエッジ部に近くなる程、現像残りがあり、
ウエハ面内のパターン寸法が不均一であった。
比較例２ 現像液としてＮ−メチル−２−ピロリドン20重量％、
メチルアルコール10重量％及びエチレングリコール70重
量％からなる混合液を用いる他は、実施例１と同様にし
てスピニング塗布及び現像処理を行い、ポリイミド系樹
脂膜のパターンを形成した。この樹脂膜は現像時間60〜
90秒でクラックが発生した。
メチルアルコール10重量％及びエチレングリコール70重
量％からなる混合液を用いる他は、実施例１と同様にし
てスピニング塗布及び現像処理を行い、ポリイミド系樹
脂膜のパターンを形成した。この樹脂膜は現像時間60〜
90秒でクラックが発生した。
比較例３ 現像液とてＮ−メチル−２−ピロリドン80重量％及び
水20重量％の混合物を用いる他は、実施例１と同様にし
てスピニング塗布及び現像処理を行い、ポリイミド系樹
脂膜のパターンを形成した。ウエハ面内のパターン寸法
が不均一であり、現像処理に300秒間要した。
水20重量％の混合物を用いる他は、実施例１と同様にし
てスピニング塗布及び現像処理を行い、ポリイミド系樹
脂膜のパターンを形成した。ウエハ面内のパターン寸法
が不均一であり、現像処理に300秒間要した。
本発明の感光性ポリイミド前駆体要現像液及びこれを
用いた現像処理方法によれば、現像処理後のウエハ面内
のパターン寸法にバラツキが無く、同一現像時間で良好
なパターンを形成することができる。
用いた現像処理方法によれば、現像処理後のウエハ面内
のパターン寸法にバラツキが無く、同一現像時間で良好
なパターンを形成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−127738（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−223149（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−165754（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−127924（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−205149（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−318549（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−142547（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/32,7/30
Claims (4)
- 【請求項１】（ａ）N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、1,3−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン、Ｎ−アセチル−ε−カプロラクタム、γ−ブ
チロラクトン、ヘキサメチルホスホルアミド及びテトラ
メチレンスルホンから選ばれる一種又は二種以上の溶
剤、 （ｂ）メチルアルコール及び （ｃ）フッ素系界面活性剤 を含有してなる感光性ポリイミド前駆体用現像液。 - 【請求項２】フッ素系界面活性剤の配合割合を前記
（ａ）群の溶剤と（ｂ）メチルアルコールとの総量に対
して0.02〜3.0重量％とした請求項１記載の感光性ポリ
イミド前駆体用現像液。 - 【請求項３】メチルアルコールの配合割合を前記（ａ）
群の溶剤と（ｂ）メチルアルコールとの総量に対して10
〜40重量％とした請求項１記載の感光性ポリイミド前駆
体用現像液。 - 【請求項４】露光された感光性ポリイミド樹脂膜を請求
項１記載の感光性ポリイミド前駆体用現像液で現像処理
することを特徴とする感光性ポリイミド樹脂膜の現像処
理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32806589A JP2936607B2 (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32806589A JP2936607B2 (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03188449A JPH03188449A (ja) | 1991-08-16 |
| JP2936607B2 true JP2936607B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=18206126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32806589A Expired - Lifetime JP2936607B2 (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いた現像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2936607B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2748057B2 (ja) * | 1991-07-22 | 1998-05-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法及びアルカリ性現像液 |
| JP3366859B2 (ja) * | 1998-03-05 | 2003-01-14 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | 感光性ポリイミド前駆体用現像液及びこれを用いたパターン製造法 |
| JP2014219487A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、電子デバイス及びその製造方法、現像液 |
-
1989
- 1989-12-18 JP JP32806589A patent/JP2936607B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03188449A (ja) | 1991-08-16 |
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