JP2931935B2 - 新規ホスホベタイン - Google Patents
新規ホスホベタインInfo
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- JP2931935B2 JP2931935B2 JP25388491A JP25388491A JP2931935B2 JP 2931935 B2 JP2931935 B2 JP 2931935B2 JP 25388491 A JP25388491 A JP 25388491A JP 25388491 A JP25388491 A JP 25388491A JP 2931935 B2 JP2931935 B2 JP 2931935B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- bonded
- hydroxyl
- hydroxyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、毛髪、皮膚化粧料等の
基剤、保湿剤等として有用な新規ホスホベタインに関す
る。
基剤、保湿剤等として有用な新規ホスホベタインに関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
毛髪や皮膚にしっとりした感触を付与する目的で、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に保湿剤を配合することが行
われている。これまでに保湿剤として、プロピレングリ
コール、グリセリン、尿素、ソルビトール、アルコール
のアルキレンオキサイド付加物などが使用されている
が、これらは保湿性、吸湿性、吸湿速度又は感触等の点
で満足し得るものではなかった。
毛髪や皮膚にしっとりした感触を付与する目的で、シャ
ンプー、リンス、化粧品等に保湿剤を配合することが行
われている。これまでに保湿剤として、プロピレングリ
コール、グリセリン、尿素、ソルビトール、アルコール
のアルキレンオキサイド付加物などが使用されている
が、これらは保湿性、吸湿性、吸湿速度又は感触等の点
で満足し得るものではなかった。
【０００３】また、ヒアルロン酸などの天然多糖成分は
保湿性能や感触の点で比較的優れているものの、これら
は高価であるため、その使用範囲は比較的高価な化粧品
などに限定されるという欠点があった。
保湿性能や感触の点で比較的優れているものの、これら
は高価であるため、その使用範囲は比較的高価な化粧品
などに限定されるという欠点があった。
【０００４】従って、保湿性に優れしかも安価であり、
シャンプー、リンス、化粧品等に配合して使用できる化
合物の開発が望まれていた。
シャンプー、リンス、化粧品等に配合して使用できる化
合物の開発が望まれていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、保湿性に優れしかも
安価であり、毛髪、皮膚化粧料等の基剤、保湿剤等とし
て有用な新規ホスホベタインを見出し、本発明を完成し
た。
発明者らは鋭意研究を行った結果、保湿性に優れしかも
安価であり、毛髪、皮膚化粧料等の基剤、保湿剤等とし
て有用な新規ホスホベタインを見出し、本発明を完成し
た。
【０００６】すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００７】
【化３】
【０００８】〔式中、Ｚ：一般式（２） [R4O(E1O)p]rG[(OE2)qOH]S （２） で表されるポリオールより、ｍ＋ｎ個の水酸基を除いた
後に残る残基を示す。ここで、Ｇは単糖、糖アルコー
ル、オリゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリ
ン又はポリグリセリンよりｒ＋ｓ個の水酸基を除いた後
に残る残基を示す。[R4O(E1O)p] は、Ｇにおいて、除か
れた水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であ
り、Ｒ4 は水酸基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖の
炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｅ
1 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｐは０
〜５の数を示す。[(OE2)qOH]は、Ｇにおいて、除かれた
水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であり、Ｅ
2 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｑは０
又は１の数を示す。ｒは１以上の数を示し、ｓは０以上
の数を示す。但し、ｒ＋ｓは単糖、糖アルコール、オリ
ゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリン又はポ
リグリセリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない。
後に残る残基を示す。ここで、Ｇは単糖、糖アルコー
ル、オリゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリ
ン又はポリグリセリンよりｒ＋ｓ個の水酸基を除いた後
に残る残基を示す。[R4O(E1O)p] は、Ｇにおいて、除か
れた水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であ
り、Ｒ4 は水酸基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖の
炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｅ
1 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｐは０
〜５の数を示す。[(OE2)qOH]は、Ｇにおいて、除かれた
水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であり、Ｅ
2 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｑは０
又は１の数を示す。ｒは１以上の数を示し、ｓは０以上
の数を示す。但し、ｒ＋ｓは単糖、糖アルコール、オリ
ゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリン又はポ
リグリセリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない。
【０００９】
【化４】
【００１０】それぞれＺにおいて、除かれた水酸基が結
合していた炭素原子と結合する基である。ここで、
Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3は同一又は異なって、水酸基を有し
ていてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキル
基又はアルケニル基を示し、Ｍ1 及びＭ2 は同一又は異
なって、水素原子又は陽イオン性基を示す。 ｍ，ｎ：ｍは０以上の数を示し、ｎは１以上の数を示
す。但し、ｍ＋ｎは、一般式（２）で表されるポリオー
ルの水酸基の数を超えない。〕で表されるホスホベタイ
ンを提供するものである。
合していた炭素原子と結合する基である。ここで、
Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3は同一又は異なって、水酸基を有し
ていてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキル
基又はアルケニル基を示し、Ｍ1 及びＭ2 は同一又は異
なって、水素原子又は陽イオン性基を示す。 ｍ，ｎ：ｍは０以上の数を示し、ｎは１以上の数を示
す。但し、ｍ＋ｎは、一般式（２）で表されるポリオー
ルの水酸基の数を超えない。〕で表されるホスホベタイ
ンを提供するものである。
【００１１】本発明の新規ホスホベタインにおいて、一
般式（１）中、Ｚは一般式（２）で表されるポリオール
よりｍ＋ｎ個の水酸基を除いた後に残る残基を示し、一
般式（２）において、Ｇは単糖、糖アルコール、オリゴ
糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリン又はポリ
グリセリンよりｒ＋ｓ個の水酸基を除いた後に残る残基
を示すが、単糖としては、例えばヘキソース、ペントー
ス等が挙げられる。ヘキソースとしては、例えばアロー
ス、アルトロース、ガラクトース、グルコース、グロー
ス、イドース、マンノース、タロース、フルクトース、
イノシトール等が挙げられ、ペントースとしては、例え
ばアラビノース、リボース、デオキシリボース、リキソ
ース、リブロース等が挙げられる。また、これら単糖の
水酸基が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、
エーテル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化
など、適当な有機残基で修飾されたものでもよい。
般式（１）中、Ｚは一般式（２）で表されるポリオール
よりｍ＋ｎ個の水酸基を除いた後に残る残基を示し、一
般式（２）において、Ｇは単糖、糖アルコール、オリゴ
糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリン又はポリ
グリセリンよりｒ＋ｓ個の水酸基を除いた後に残る残基
を示すが、単糖としては、例えばヘキソース、ペントー
ス等が挙げられる。ヘキソースとしては、例えばアロー
ス、アルトロース、ガラクトース、グルコース、グロー
ス、イドース、マンノース、タロース、フルクトース、
イノシトール等が挙げられ、ペントースとしては、例え
ばアラビノース、リボース、デオキシリボース、リキソ
ース、リブロース等が挙げられる。また、これら単糖の
水酸基が、少なくとも１つを除いて、例えばアシル化、
エーテル化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化
など、適当な有機残基で修飾されたものでもよい。
【００１２】糖アルコールとしては、例えば単糖を還元
して得られるソルビトール、マンニトール、ガラクチト
ール、キシリトール、アラビニトール、リビトール等
や、オリゴ糖を還元して得られるマルチトール等が挙げ
られる。また、これら糖アルコールの水酸基が、少なく
とも１つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アル
キレンオキサイド付加、アセタール化など、適当な有機
残基で修飾されたものでもよい。
して得られるソルビトール、マンニトール、ガラクチト
ール、キシリトール、アラビニトール、リビトール等
や、オリゴ糖を還元して得られるマルチトール等が挙げ
られる。また、これら糖アルコールの水酸基が、少なく
とも１つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アル
キレンオキサイド付加、アセタール化など、適当な有機
残基で修飾されたものでもよい。
【００１３】オリゴ糖としては、例えばマルトース、イ
ソマルトース、マルトトリオース、マルトテトラオー
ス、マルトヘプタオース等のマルトオリゴ糖、シクロデ
キストリン、セロビオース等のセロオリゴ糖、マンノオ
リゴ糖、フルクトオリゴ糖、ショ糖、乳糖などが挙げら
れる。また、これらオリゴ糖の水酸基が、少なくとも１
つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アルキレン
オキサイド付加、アセタール化など、適当な有機残基で
修飾されたものでもよい。
ソマルトース、マルトトリオース、マルトテトラオー
ス、マルトヘプタオース等のマルトオリゴ糖、シクロデ
キストリン、セロビオース等のセロオリゴ糖、マンノオ
リゴ糖、フルクトオリゴ糖、ショ糖、乳糖などが挙げら
れる。また、これらオリゴ糖の水酸基が、少なくとも１
つを除いて、例えばアシル化、エーテル化、アルキレン
オキサイド付加、アセタール化など、適当な有機残基で
修飾されたものでもよい。
【００１４】多糖類としては、例えばデンプン、アミロ
ース、アミロペクチン、セルロース、デキストラン、カ
ードラン、プルラン、イヌリン、ガラクタン、アラビナ
ン、アガロース、キシラン、マンナン、キチン、キトサ
ン、アルギン酸等が挙げられる。多糖類の加水分解物と
しては、例えば上記多糖類を酸や酵素で加水分解した生
成物が挙げられる。また、これら多糖類又は加水分解物
に置換し得る基としては、例えばアシル化、エーテル
化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化などによ
り修飾された基が挙げられる。なお、これら多糖類とし
て構成単糖の縮合度が異なる多糖の混合物や２種類以上
の多糖の混合物を用いることもできる。例えば、デンプ
ンやセルロースなどの天然多糖は、グルコース縮合度が
通常数百〜数万の混合物であるが、当該多糖類として好
ましいものである。
ース、アミロペクチン、セルロース、デキストラン、カ
ードラン、プルラン、イヌリン、ガラクタン、アラビナ
ン、アガロース、キシラン、マンナン、キチン、キトサ
ン、アルギン酸等が挙げられる。多糖類の加水分解物と
しては、例えば上記多糖類を酸や酵素で加水分解した生
成物が挙げられる。また、これら多糖類又は加水分解物
に置換し得る基としては、例えばアシル化、エーテル
化、アルキレンオキサイド付加、アセタール化などによ
り修飾された基が挙げられる。なお、これら多糖類とし
て構成単糖の縮合度が異なる多糖の混合物や２種類以上
の多糖の混合物を用いることもできる。例えば、デンプ
ンやセルロースなどの天然多糖は、グルコース縮合度が
通常数百〜数万の混合物であるが、当該多糖類として好
ましいものである。
【００１５】また、一般式（１）におけるＲ1 、Ｒ2 及
びＲ3 、並びに一般式（２）におけるＲ4 は水酸基を有
していてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキ
ル基又はアルケニル基を示し、特にＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 の
うち少なくとも一つは炭素数５〜24のアルキル基又はア
ルケニル基であるものが好ましい。ここで、直鎖又は分
岐鎖の炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基、ヘンエイコシル基、ドコシル
基、トリコシル基、テトラコシル基、エテニル基、プロ
ペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル
基、ドデセニル基、ウンデセニル基、トリデセニル基、
テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル
基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニ
ル基、エイコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコセニ
ル基、トリコセニル基、テトラコセニル基、メチルヘキ
シル基、エチルヘキシル基、メチルヘプチル基、エチル
ヘプチル基、メチルノニル基、メチルウンデセニル基、
メチルヘプタデカニル基、ヘキシルデシル基、オクチル
デシル基等が挙げられる。
びＲ3 、並びに一般式（２）におけるＲ4 は水酸基を有
していてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキ
ル基又はアルケニル基を示し、特にＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 の
うち少なくとも一つは炭素数５〜24のアルキル基又はア
ルケニル基であるものが好ましい。ここで、直鎖又は分
岐鎖の炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基、ヘンエイコシル基、ドコシル
基、トリコシル基、テトラコシル基、エテニル基、プロ
ペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル
基、ドデセニル基、ウンデセニル基、トリデセニル基、
テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル
基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニ
ル基、エイコセニル基、ヘンエイコセニル基、ドコセニ
ル基、トリコセニル基、テトラコセニル基、メチルヘキ
シル基、エチルヘキシル基、メチルヘプチル基、エチル
ヘプチル基、メチルノニル基、メチルウンデセニル基、
メチルヘプタデカニル基、ヘキシルデシル基、オクチル
デシル基等が挙げられる。
【００１６】本発明のホスホベタイン（１）は、例えば
次の方法により製造することができる。 （製法１）一般式（３）で表されるリン酸エステルと、
一般式（４）で表されるエポキシ化合物とを反応させ
る。
次の方法により製造することができる。 （製法１）一般式（３）で表されるリン酸エステルと、
一般式（４）で表されるエポキシ化合物とを反応させ
る。
【００１７】
【化５】
【００１８】ここで用いられるリン酸エステル（３）
は、例えば特願平2-110894号に記載されている方法に従
って製造することができ、このリン酸エステル（３）の
リン酸基に対して１〜10倍モル、好ましくは１〜５倍モ
ルのエポキシ化合物（４）を反応させる。反応は、不活
性溶媒の存在下、０〜150 ℃、特に20〜80℃で行うのが
好ましい。不活性溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性溶媒を、単独又は２種以上組み合わせて用いること
ができ、特に、水又は水と低級アルコールの混合溶媒が
好ましい。
は、例えば特願平2-110894号に記載されている方法に従
って製造することができ、このリン酸エステル（３）の
リン酸基に対して１〜10倍モル、好ましくは１〜５倍モ
ルのエポキシ化合物（４）を反応させる。反応は、不活
性溶媒の存在下、０〜150 ℃、特に20〜80℃で行うのが
好ましい。不活性溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
極性溶媒を、単独又は２種以上組み合わせて用いること
ができ、特に、水又は水と低級アルコールの混合溶媒が
好ましい。
【００１９】（製法２）リン酸エステル（３）とエピハ
ロヒドリンとを反応させてハロゲン化合物（５）を得、
次いでハロゲン化合物（５）を第三級アミン（６）と反
応させる。
ロヒドリンとを反応させてハロゲン化合物（５）を得、
次いでハロゲン化合物（５）を第三級アミン（６）と反
応させる。
【００２０】
【化６】
【００２１】
【化７】
【００２２】まず、リン酸エステル（３）のリン酸基に
対して１〜10倍モル、好ましくは１〜５倍モルのエピハ
ロヒドリンを反応させる。エピハロヒドリンとしては、
例えばエピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、エピ
ヨードヒドリン等を使用することができ、特に経済性の
点からエピクロロヒドリンが好ましい。
対して１〜10倍モル、好ましくは１〜５倍モルのエピハ
ロヒドリンを反応させる。エピハロヒドリンとしては、
例えばエピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、エピ
ヨードヒドリン等を使用することができ、特に経済性の
点からエピクロロヒドリンが好ましい。
【００２３】得られたハロゲン化合物（５）と第三級ア
ミン（６）との反応は、不活性溶媒の存在下、０〜150
℃、特に20〜80℃で行うのが好ましい。不活性溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド等の極性溶媒を、単独又は２種以
上組み合わせて用いることができ、特に、リン酸エステ
ル（３）とエピハロヒドリンとの反応及びハロゲン化合
物（５）と第三級アミン（６）との反応を連続して行う
ためには、水又は水と低級アルコールとの混合溶媒が好
ましい。
ミン（６）との反応は、不活性溶媒の存在下、０〜150
℃、特に20〜80℃で行うのが好ましい。不活性溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド等の極性溶媒を、単独又は２種以
上組み合わせて用いることができ、特に、リン酸エステ
ル（３）とエピハロヒドリンとの反応及びハロゲン化合
物（５）と第三級アミン（６）との反応を連続して行う
ためには、水又は水と低級アルコールとの混合溶媒が好
ましい。
【００２４】また、得られたハロゲン化合物（５）と塩
基を反応させてグリシジルエステル（７）を得た後、こ
れと第三級アミン（６）とを反応させることによって
も、本発明のホスホベタイン（１）を得ることができ
る。塩基としては、例えばアルカリ金属水酸化物、炭酸
塩、重炭酸塩、アミン等を使用することができ、特に、
経済性の点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等が
好ましい。グリシジルエステル（７）と第三級アミン
（６）との反応は、前記ハロゲン化合物（５）と第三級
アミン（６）の反応と同様に行えばよい。
基を反応させてグリシジルエステル（７）を得た後、こ
れと第三級アミン（６）とを反応させることによって
も、本発明のホスホベタイン（１）を得ることができ
る。塩基としては、例えばアルカリ金属水酸化物、炭酸
塩、重炭酸塩、アミン等を使用することができ、特に、
経済性の点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等が
好ましい。グリシジルエステル（７）と第三級アミン
（６）との反応は、前記ハロゲン化合物（５）と第三級
アミン（６）の反応と同様に行えばよい。
【００２５】このようにして得られた本発明のホスホベ
タイン（１）は、使用目的によってはそのまま使用する
こともできるが、さらに高純度品が必要とされる場合に
は、例えば溶媒分別法、透析法、再結晶法、分配クロマ
トグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、ゲル濾
過法など、公知の方法により適宜精製して使用すればよ
い。
タイン（１）は、使用目的によってはそのまま使用する
こともできるが、さらに高純度品が必要とされる場合に
は、例えば溶媒分別法、透析法、再結晶法、分配クロマ
トグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、ゲル濾
過法など、公知の方法により適宜精製して使用すればよ
い。
【００２６】
【発明の効果】本発明の新規ホスホベタイン（１）は、
保湿性に優れしかも安価であり、シャンプー、リンス、
化粧品等に使用することができ、毛髪、皮膚化粧料等の
基剤、保湿剤等として有用なものである。
保湿性に優れしかも安価であり、シャンプー、リンス、
化粧品等に使用することができ、毛髪、皮膚化粧料等の
基剤、保湿剤等として有用なものである。
【００２７】
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 合成例１ 反応器にソルビトール91ｇ、Ｎ−メチルピロリドン 100
ｇ及び水酸化ナトリウム１ｇを入れ、 100℃に加熱して
溶解した後、乾燥窒素ガスを吹き込み、水及びＮ−メチ
ルピロリドン約10ｇを留出させて、反応系中の水分を除
去した。これに、セチルグリシジルエーテル30ｇを２時
間かけて滴下した後、110 ℃で４時間攪拌しながら反応
させた。反応終了後、反応混合物に酢酸 1.5ｇを加えて
触媒を中和し、減圧下、Ｎ−メチルピロリドンを80℃で
完全に蒸留除去し、その残留物にアセトン 500ｇを加
え、析出した未反応ソルビトールを濾別した。得られた
濾液を減圧下でアセトンを留去し、ソルビトール・セチ
ルグリシジルエーテルの付加体の粗生成物41ｇを得た。
この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを
用い、クロロホルム：メタノール＝５：１の溶出溶媒で
分離精製を行い、ソルビトール・セチルグリシジルエー
テルの１モル付加体を溶出させ、その溶出画分を集めて
溶媒を留去し、ソルビトール・セチルグリシジルエーテ
ルの１モル付加体18ｇ（収率37％）を得た。1 H-NMR(CDCl3) : δ(ppm) 3.35-3.94(15H,m,-O-CH2-,O-CH-), 1.15-1.38(28H,m,-C
H2-),0.82(3H,t,-CH3) IR（液膜）cm-1 : νO-H (-OH) 3200〜3400
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 合成例１ 反応器にソルビトール91ｇ、Ｎ−メチルピロリドン 100
ｇ及び水酸化ナトリウム１ｇを入れ、 100℃に加熱して
溶解した後、乾燥窒素ガスを吹き込み、水及びＮ−メチ
ルピロリドン約10ｇを留出させて、反応系中の水分を除
去した。これに、セチルグリシジルエーテル30ｇを２時
間かけて滴下した後、110 ℃で４時間攪拌しながら反応
させた。反応終了後、反応混合物に酢酸 1.5ｇを加えて
触媒を中和し、減圧下、Ｎ−メチルピロリドンを80℃で
完全に蒸留除去し、その残留物にアセトン 500ｇを加
え、析出した未反応ソルビトールを濾別した。得られた
濾液を減圧下でアセトンを留去し、ソルビトール・セチ
ルグリシジルエーテルの付加体の粗生成物41ｇを得た。
この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを
用い、クロロホルム：メタノール＝５：１の溶出溶媒で
分離精製を行い、ソルビトール・セチルグリシジルエー
テルの１モル付加体を溶出させ、その溶出画分を集めて
溶媒を留去し、ソルビトール・セチルグリシジルエーテ
ルの１モル付加体18ｇ（収率37％）を得た。1 H-NMR(CDCl3) : δ(ppm) 3.35-3.94(15H,m,-O-CH2-,O-CH-), 1.15-1.38(28H,m,-C
H2-),0.82(3H,t,-CH3) IR（液膜）cm-1 : νO-H (-OH) 3200〜3400
【００２８】合成例２ 反応器に合成例１で得たソルビトール・セチルグリシジ
ルエーテル１モル付加体10ｇ及び水20mlを入れ、これに
オキシ塩化リン 3.2ｇを、０〜５℃でかきまぜながら、
約２時間で滴下した。このとき、10Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液を添加して反応液のｐＨを常に13.5に維持し、オ
キシ塩化リン添加終了後もｐＨの変化が認められなくな
るまでアルカリを滴下した。反応混合物をカチオン交換
樹脂（ダウエックス50×4H+ 型）を用いて中和し、減圧
下濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨを10に
調整した。次に、エタノール10mlを加えて冷却し、析出
した無機塩を濾去した後、減圧下溶媒留去し、溶液を電
気透析装置に通し、リン酸ナトリウムを脱塩し、水を留
去して、精製ソルビトールセチルリン酸エステルナトリ
ウム塩 6.9ｇを得た。
ルエーテル１モル付加体10ｇ及び水20mlを入れ、これに
オキシ塩化リン 3.2ｇを、０〜５℃でかきまぜながら、
約２時間で滴下した。このとき、10Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液を添加して反応液のｐＨを常に13.5に維持し、オ
キシ塩化リン添加終了後もｐＨの変化が認められなくな
るまでアルカリを滴下した。反応混合物をカチオン交換
樹脂（ダウエックス50×4H+ 型）を用いて中和し、減圧
下濃縮し、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨを10に
調整した。次に、エタノール10mlを加えて冷却し、析出
した無機塩を濾去した後、減圧下溶媒留去し、溶液を電
気透析装置に通し、リン酸ナトリウムを脱塩し、水を留
去して、精製ソルビトールセチルリン酸エステルナトリ
ウム塩 6.9ｇを得た。
【００２９】合成例３ 反応器に合成例１で得たソルビトール・セチルグリシジ
ルエーテル１モル付加体10ｇ、ｎ−ヘキサン30ml及びト
リフルオロボラン・エーテル錯体 0.1ｇを入れ、不活性
ガス気流下、20℃に保ち、エピクロルヒドリン 2.4ｇを
約30分で滴下した。次に、室温で１時間攪拌した後、氷
水冷下、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で中和した。残存
したエピクロルヒドリンをエバポレーターで減圧留去
し、粗モノクロルヒドリン体11.9ｇを得た。これをエタ
ノール20ml及び水20mlに溶解し、ｐＨ10が変わらなくな
るまで48％水酸化ナトリウム水溶液を加えた。これにリ
ン酸モノナトリウム・２水和物 6.0ｇを水20mlに溶解し
た混合液を、60℃にて30分で滴下した。次いで、60℃を
保ち、４時間熟成させ、溶媒を減圧留去することによ
り、粗ソルビトールセチルリン酸エステルナトリウム塩
を得た。これを多量の水に溶解し、溶液を電気透析装置
に通し、未反応リン酸ナトリウムを脱塩し、水を留去し
て、精製ソルビトールセチルリン酸エステルナトリウム
塩10.3ｇを得た。
ルエーテル１モル付加体10ｇ、ｎ−ヘキサン30ml及びト
リフルオロボラン・エーテル錯体 0.1ｇを入れ、不活性
ガス気流下、20℃に保ち、エピクロルヒドリン 2.4ｇを
約30分で滴下した。次に、室温で１時間攪拌した後、氷
水冷下、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で中和した。残存
したエピクロルヒドリンをエバポレーターで減圧留去
し、粗モノクロルヒドリン体11.9ｇを得た。これをエタ
ノール20ml及び水20mlに溶解し、ｐＨ10が変わらなくな
るまで48％水酸化ナトリウム水溶液を加えた。これにリ
ン酸モノナトリウム・２水和物 6.0ｇを水20mlに溶解し
た混合液を、60℃にて30分で滴下した。次いで、60℃を
保ち、４時間熟成させ、溶媒を減圧留去することによ
り、粗ソルビトールセチルリン酸エステルナトリウム塩
を得た。これを多量の水に溶解し、溶液を電気透析装置
に通し、未反応リン酸ナトリウムを脱塩し、水を留去し
て、精製ソルビトールセチルリン酸エステルナトリウム
塩10.3ｇを得た。
【００３０】実施例１ 合成例２で得たソルビトールセチルリン酸エステルナト
リウム塩８ｇ、水15ml及びエタノール10mlを反応器に入
れ、１Ｎ塩酸を用いてｐＨ７とした後、60℃で攪拌しな
がらグリシジルトリメチルアンモニウムクロライド 8.7
ｇを添加し、60℃で10時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧下留去した。残渣を
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝１：１）により精製し、純粋なソルビトールセチルグ
リセリルエーテルの〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルア
ンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルフォスフェート〕
3.8ｇ（収率39％）を得た。1 H-NMR(D2O) :δ(ppm) 0.82(3H,t,Ha), 1.18-1.37(28H,m,Hb),3.26(9H,s,Hc),
3.33-4.20(19H,m,Hd+He), 4.40(1H,m,Hf)
リウム塩８ｇ、水15ml及びエタノール10mlを反応器に入
れ、１Ｎ塩酸を用いてｐＨ７とした後、60℃で攪拌しな
がらグリシジルトリメチルアンモニウムクロライド 8.7
ｇを添加し、60℃で10時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧下留去した。残渣を
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝１：１）により精製し、純粋なソルビトールセチルグ
リセリルエーテルの〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルア
ンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルフォスフェート〕
3.8ｇ（収率39％）を得た。1 H-NMR(D2O) :δ(ppm) 0.82(3H,t,Ha), 1.18-1.37(28H,m,Hb),3.26(9H,s,Hc),
3.33-4.20(19H,m,Hd+He), 4.40(1H,m,Hf)
【００３１】
【化８】
【００３２】実施例２ 合成例３で得たソルビトールセチルリン酸エステルナト
リウム塩９ｇ、水20ml及びエタノール10mlを反応器に入
れ、１Ｎ塩酸を用いてｐＨ７とした後、60℃で攪拌しな
がらグリシジルトリメチルアンモニウムクロライド 8.7
ｇを添加し、60℃で15時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧下留去した。残渣を
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝１：１）により精製し、純粋なグリセリルソルビトー
ルセチルグリセリルエーテルの〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルフォス
フェート〕 4.2ｇ（収率39％）を得た。1 H-NMR(D2O): δ(ppm) 0.81(3H,t,Ha), 1.13-1.41(28H,m,Hb),3.26(9H,s,Hc),
3.35-4.18(24H,m,Hd+He), 4.41(1H,m,Hf)
リウム塩９ｇ、水20ml及びエタノール10mlを反応器に入
れ、１Ｎ塩酸を用いてｐＨ７とした後、60℃で攪拌しな
がらグリシジルトリメチルアンモニウムクロライド 8.7
ｇを添加し、60℃で15時間反応させた。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧下留去した。残渣を
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝１：１）により精製し、純粋なグリセリルソルビトー
ルセチルグリセリルエーテルの〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルフォス
フェート〕 4.2ｇ（収率39％）を得た。1 H-NMR(D2O): δ(ppm) 0.81(3H,t,Ha), 1.13-1.41(28H,m,Hb),3.26(9H,s,Hc),
3.35-4.18(24H,m,Hd+He), 4.41(1H,m,Hf)
【００３３】
【化９】
【００３４】実施例３ 合成例２で得たソルビトールセチルリン酸エステルナト
リウム塩８ｇ、水15ml及びエタノール10mlを反応容器に
入れ、エピクロルヒドリン 1.5ｇを60℃で約30分で滴下
した。その後、60℃で２時間攪拌し、次いで氷水冷下、
48％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ10とした。この反応
液を10℃に保ち、25％トリメチルアミン水溶液10ｇを約
30分で滴下し、10℃で２時間攪拌した後、残存するアミ
ン及び溶媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム：メタノール＝１：１）により精
製し、純粋なソルビトールセチルグリセリルエーテルの
〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオ）−２−ヒ
ドロキシプロピルフォスフェート〕 4.9ｇ（収率50％）
を得た。
リウム塩８ｇ、水15ml及びエタノール10mlを反応容器に
入れ、エピクロルヒドリン 1.5ｇを60℃で約30分で滴下
した。その後、60℃で２時間攪拌し、次いで氷水冷下、
48％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ10とした。この反応
液を10℃に保ち、25％トリメチルアミン水溶液10ｇを約
30分で滴下し、10℃で２時間攪拌した後、残存するアミ
ン及び溶媒を減圧留去した。残渣をカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム：メタノール＝１：１）により精
製し、純粋なソルビトールセチルグリセリルエーテルの
〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオ）−２−ヒ
ドロキシプロピルフォスフェート〕 4.9ｇ（収率50％）
を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 9/10 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｚ：一般式（２） [R4O(E1O)p]rG[(OE2)qOH]s （２） で表されるポリオールより、ｍ＋ｎ個の水酸基を除いた
後に残る残基を示す。ここで、Ｇは単糖、糖アルコー
ル、オリゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリ
ン又はポリグリセリンよりｒ＋ｓ個の水酸基を除いた後
に残る残基を示す。[R4O(E1O)p] は、Ｇにおいて、除か
れた水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であ
り、Ｒ4 は水酸基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖の
炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ｅ
1 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｐは０
〜５の数を示す。[(OE2)qOH]は、Ｇにおいて、除かれた
水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であり、Ｅ
2 は炭素数１〜５のアルキル基又は水酸基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｑは０
又は１の数を示す。ｒは１以上の数を示し、ｓは０以上
の数を示す。但し、ｒ＋ｓは単糖、糖アルコール、オリ
ゴ糖、多糖もしくはその加水分解物、グリセリン又はポ
リグリセリンがそれぞれ有する水酸基の数を超えない。 【化２】 それぞれＺにおいて、除かれた水酸基が結合していた炭
素原子と結合する基である。ここで、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ
3 は同一又は異なって、水酸基を有していてもよい直鎖
又は分岐鎖の炭素数１〜24のアルキル基又はアルケニル
基を示し、Ｍ1 及びＭ2 は同一又は異なって、水素原子
又は陽イオン性基を示す。 ｍ，ｎ：ｍは０以上の数を示し、ｎは１以上の数を示
す。但し、ｍ＋ｎは、一般式（２）で表されるポリオー
ルの水酸基の数を超えない。〕で表されるホスホベタイ
ン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25388491A JP2931935B2 (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 新規ホスホベタイン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25388491A JP2931935B2 (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 新規ホスホベタイン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597877A JPH0597877A (ja) | 1993-04-20 |
| JP2931935B2 true JP2931935B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=17257466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25388491A Expired - Fee Related JP2931935B2 (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | 新規ホスホベタイン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2931935B2 (ja) |
-
1991
- 1991-10-01 JP JP25388491A patent/JP2931935B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0597877A (ja) | 1993-04-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |