JP2918524B2 - プラズマディスプレイパネル保護層およびその形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル保護層およびその形成方法Info
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Description
ディスプレイパネル)保護層およびその形成方法に関す
る。より詳細には、本発明は、PDP基板の表面上に優
れた保護層を形成し得るPDP保護層およびその形成方
法に関する。
す。図1に示すように、PDPは以下を包含する:前面
ガラス基板1の同一表面上に形成された一対の上部電極
4を有する上部構造;上部電極4上にプリンティング法
で形成された誘電体層2;誘電体層2上に蒸着された薄
膜層3(本明細書中の以下で保護層という);背面ガラ
ス基板11上に形成された下部電極12を有する下部構
造;下部電極12間に隣接するセル中の誤放電(mis-dis
charge)を防止するために形成されたバリアリブ6;お
よびバリアリブ6と下部電極12とのまわりに形成され
た発光体8、9、および10;ならびに不活性ガスを注
入することにより上部構造と下部構造との間の空間に形
成された、放電領域5。
れ、これに画像データが転送される。上部電極4は、セ
ル内に供給された画像データを放電させる走査電極と、
セルの放電を持続させる維持電極とを含む、「表示電
極」と呼ばれる。
信号を表示し得、かつ大きなサイズで製造され得るの
で、平板表示デバイスとして広範に用いられる。
ータが転送され、そして上部電極の走査電極に放電信号
が供給されると、上部電極と下部電極との間の放電空間
で駆動電圧が印加され、誘電体層2および保護層3の表
面上の放電領域5内で表面放電が生じる。このような表
面放電は、信号が入力される間、紫外線照射を生じる。
長い時間では終わらないので、下部電極12を通る画像
データの入力のない間、上部電極4の走査電極および維
持電極によりそれぞれ印加される放電信号および維持信
号は、表示のための余分の放電時間を提供する。
励起させ、カラー信号を表示する。
により、主に不活性混合ガス(すなわちHeおよびさら
なるXe、Ne、または他のガス)からなるペニング(p
enning)混合ガスと衝突して、陰(−)電極へ向かって
加速される。このように励起された不活性ガスは、14
7nmの波長を有する紫外線7を生じる。紫外線7が、下
部電極12およびバリアリブ6を囲んでいる発光体8、
9、10と衝突して、紫外線スペクトル領域の光を生じ
る。
引き起こされるスパッタリング効果から誘電体層2を保
護するために、誘電体層の全表面に保護層3を有するべ
きであり、保護層3は一般に酸化マグネシウム(本明細
書中の以下で、MgOという)からなる透明層である。
保護層3は、セルの誘電体層2を保護して、パネルの寿
命を延長し、そして駆動電圧を低減する。
DIGEST (323-326頁、Amanoによる)に開示される。
ここでは、 MgOペーストを溶媒中のMgO粉末混合
物から調製し、スクリーンプリンティングして、2μm
の厚さのMgO保護層を形成し、そして500℃で加熱
する。
低コストの材料で行われ、かつ代替の新技術として有用
である。ACPDPのガラス基板上にMgOを蒸着する
ことは適用可能である。しかし、PDPの特性によりM
gOの厚い層を蒸着することが難しいので、これは不適
切な方法である。
に、数百ナノメータの厚さを有するMgO保護層を、真
空法でコーティングし得る。真空法は、電子線スパッタ
リングおよび高周波スパッタリングであり、これらは真
空および熱処理などの複雑なプロセスに起因して費用が
かかり、かつ生産性において非効率的である。さらに、
真空法に関する他の制限があり、これは焼成電圧を低下
させること、およびスパッタリングの間にデバイスの寿
命を延長するためにイオン衝突を防止することを包含す
る。
おける制限および不利な点に起因する問題を実質的にな
くす、PDP保護層およびその形成方法に関する。
のペーストを調製することおよびMg含有溶液を使用す
ることによって、保護層がより簡便にコーティングされ
得る、PDP保護層およびその形成方法を提供すること
である。
書の以下に記載され、そして明細書から部分的に明らか
になるか、あるいは本発明の実施により習得され得る。
本発明の目的および他の利点は、記載された明細書およ
びその請求の範囲、ならびに添付の図面において特に指
摘された構造により、理解されかつ達成される。
部電極、およびバリアリブを有するプラズマディスプレ
イパネルの保護層を形成する方法であって、上部電極上
に誘電体層を形成する工程と、プリンティングまたはス
ピンコーティングを用いて、誘電体層上にMgO溶液の
保護層を形成する工程とを包含し、MgO溶液が、Mg
含有塩、酢酸、エチルアルコール、および硝酸の混合物
である、方法に関する。
レー工程または浸漬工程によって形成され得る。
約1重量%〜10重量%の割合で添加される。上記Mg
含有塩は、Mg(NO 3 )、MgCl 2 、およびMg(C
H 3 COO) 2 等から構成される。
量%〜10重量%の割合で添加される。
ルが、約80重量%〜95重量%の割合で添加される。
量%〜5重量%の割合で添加される。
ル用の基板上にMgO薄膜を形成するためのペースト中
で、MgO粒子、Mg含有塩、および有機バインダーか
らなる、プラズマディスプレイパネル用のMgO保護層
であって、有機バインダーが、エタノール、アセトン、
またはメチルエチルケトンからなる群から選択される少
なくとも2つの材料である、保護層に関する。
イズが、0.1μm〜0.5μmである。
Mg(NO3)2、MgCl2、およびMg(CH3C
OO)2である。
ペーストが、0.01重量%〜0.2重量%のMgO粒
子、0.35重量%〜7.0重量%のMg含有塩、およ
び残りの有機バインダーからなる。
ル基板の表面上にMgOパシベーションを形成するため
のプラズマディスプレイパネル保護層を形成する方法で
あって、MgO粒子、Mg含有塩、および有機バインダ
ーを混合することによりペーストを調製する工程と、ペ
ーストを基板の表面上にコーティングする工程と、コー
ティングされた基板を焼成する工程とを包含する方法に
関する。
ペーストが、0.01重量%〜0.2重量%の割合の
0.2μm〜0.4μmのサイズを有するMgO粒子
と、0.35重量%〜7.0重量%のMg含有塩と、残
りの有機バインダーとからなる。
℃〜500℃の温度で5分〜20分間行われる。
表面上に形成されたMgO保護層を有するプラズマディ
スプレイパネルであって、該MgOの粒子サイズが、
0.1μm〜0.5μmである、プラズマディスプレイ
パネルに関する。
達成するために、ならびに本発明の目的に関して、具体
化しそして広範に記載したように、上部電極、下部電
極、およびバリアリブを有するPDP保護層の形成方法
は、以下の工程を包含する:上部電極上に誘電体層を形
成する工程;プリンティングまたはスピンコーティング
を用いて、誘電体層上にMgO溶液の保護層を形成する
工程。
ョンを形成するためのPDP保護層を形成する方法は、
以下の工程を包含する:MgO粒子、Mg含有塩、およ
び有機バインダーを混合することによりペーストを調製
する工程;ペーストを基板の表面上にコーティングする
工程;コーティングされた基板を焼成する工程。
ためのペースト中で、PDP用のMgO保護層は、Mg
O粒子、Mg含有塩、および有機バインダーからなる。
の両方は、例示および説明のためのものであり、クレー
ムされた本発明のさらなる説明を提供することが意図さ
れる。
わたって参照する。それらの例は、添付の図面に例示さ
れる。
O粒子、Mg含有塩、および有機バインダーからなるM
gO保護層を形成するためのマイクロペースト(micro-p
aste)から作製される。
び維持電極と呼ばれる一対の上部電極4を形成する。上
部電極4には、代表的に、蒸着された酸化インジウム層
または酸化スズ層のいずれかからなる透明ITO(イン
ジウムスズオキシド)電極を使用する。
得る上部電極4の電流を制限するために、主に酸化鉛を
含む誘電体物質のペーストをプリントして誘電体層を形
成し、その後、乾燥および焼成する。
リングから誘電体層が損傷されることを防ぐために、M
gO溶液を用いて保護層3を形成する。
のMg含有塩と、アルコール、酢酸(CH3COOH)、
エチルアルコール(C2H5OH)などの中性物質とを混合
して、希釈溶液を作製する。溶液に含まれる粒子を、超
音波の作用で溶解させ、希釈溶液を硝酸と混合する。溶
液中の粒子を完全に溶解させないべきであり、かつ粒子
のサイズは、好ましくは0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることに留意するべきである。
グネシウム含有塩、1重量%〜10重量%の酢酸、80
重量%〜95重量%のエチルアルコール、および1重量
%〜10重量%の硝酸からなる。このように調製された
MgO溶液を、スピンコーティング法またはプリンティ
ング法のいずれかによりコーティングする。
てプリンティング法を用いることにより絶縁ペーストを
コーティングして、放電セルを形成するバリアリブを形
成する。
る。上部絶縁基板および下部絶縁基板をフリットガラス
(flit glass)を用いて結合させ、続いて内部に放電ガス
を導入して完璧に密封する。
する物質の混合プロセスに関する。
MgO粒子を0.01重量%〜0.2重量%、好ましく
は0.03重量%〜0.15重量%、最も好ましくは
0.04重量%〜0.1重量%の割合で含む。 MgO
粒子のサイズは、0.1μm〜0.5μmであり、最も
好ましくは0.2μm〜0.4μmである。
量%、好ましくは1.5重量%〜5.0重量%、最も好
ましくは2.0重量%〜4.0重量%の割合のMg(N
O3)、MgCl2、およびMg(CH3COO)2か
らなる。
はメチルエチルケトンのような有機バインダーである。
目的に適切な技術により誘電体の表面上にコーティング
して使用する。例えば、誘電体とスクイズ(squee
ze)との間の必要なギャップ(gap)を固定させる
ことによりマイクロペーストをコーティングする。スク
イズは、均一な表面を有するべきであり、チューブタイ
プ、コアタイプ、またはロッドタイプのような種々の形
態で用いられる。スクイズは、マイクロペーストと反応
しないガラスあるいはチタンのような金属から作製され
る。
術、およびスピンコーティング技術が挙げられる。
を用いてコーティングし、薄層を形成する。
を蒸発させて、最初のMgO粒子を含む塩を残存させ
る。次いで、このようにコーティングされた基板を40
0℃以上で、好ましくは420℃以上で、最も好ましく
は450℃以上で焼成する。焼成は、最高温度で5〜2
0分間、好ましくは10分〜15分間行う。焼成時間
は、40分〜120分、好ましくは60分〜90分間、
上記温度を超えるまで徐々に昇温させる。
分、好ましくは約60分〜120分間である。
要としない物質を塩から蒸発させる。
して成長を開始するシードとして機能する、存在してい
るMgO粒子に付着する。
調製されたマイクロペースト100gを基板上に蒸着し
た後、基板をベルト炉(belt furnace)の中に配置して、
図2に例示するような様式で熱処理した。
調整されたマイクロペースト100gを、実施例1と同
様の様式で処理した。
gOの厚い層を用いて、図1に示すようなACPDPセ
ルを製造する。焼成電圧を測定した結果を図3に示す。
図3に示すように、本発明のACPDPセルは、電子線
法により製造されたACPDPセルよりも優れた電気的
特性を示す。本発明により製造されたACPDPセルと
電子線法により製造されたACPDPセルとの間の電気
的特性の差は重要ではないので、 ACPDPはいずれ
の方法によっても製造され得る。
および有機バインダーを適切に配合し、そしてコーティ
ング方法に拘らず、PDP用基板の表面上にMgO保護
層(薄膜)を簡易な設備およびプロセスでコーティング
することによりいくらかの利点が得られる。これらの利
点には、PDP生産コスト、製造時間、および焼成電圧
を大幅に低減させるためのPDPのMgO保護層の形
成、ならびに保護層の厚さの調製が挙げられる。
において、本発明の精神および範囲を逸脱することなく
種々の改変および変化がなされ得ることは、当業者に明
らかである。従って、本発明は、添付の特許請求の範囲
およびその同等物の範囲内で、本発明の改変および変化
を包含することが意図される。
有するPDP保護層を形成する方法は、以下の工程を包
含する:上部電極上に誘電体層を形成する工程;プリン
ティングまたはスピンコーティングを用いて、誘電体層
上にMgO溶液の保護層を形成する工程。MgO粒子、
塩含有Mg、および有機バインダーを適切に混合し、そ
してコーティング方法に拘わらず、単純な設備および加
工によってPDP基板の表面上にMgO保護層(薄膜)
をコーティングすることにより、いくつかの利点が導か
れる。これらの利点には、PDP生産コスト、製造時
間、および焼成電圧を大幅に低減させるためのPDPの
MgO保護層の形成、ならびに保護層の厚さの調製が挙
げられる。
優れた保護層を形成し得るPDP保護層およびその形成
方法が提供される。
る。
Claims (14)
- 【請求項1】 上部電極、下部電極、およびバリアリブ
を有するプラズマディスプレイパネルの保護層を形成す
る方法であって、該方法が、 該上部電極上に誘電体層を形成する工程と、 プリンティングまたはスピンコーティングを用いて、該
誘電体層上にMgO溶液の保護層を形成する工程とを包
含し、 ここで、該MgO溶液が、Mg含有塩、酢酸、エチルア
ルコール、および硝酸の混合物である、方法 。 - 【請求項2】 前記保護層が、スプレー工程または浸漬
工程によって形成され得る、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記Mg含有塩が、約1重量%〜10重
量%の割合で添加される、請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記酢酸が、約1重量%〜10重量%の
割合で添加される、請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前記エチルアルコールが、約80重量%
〜95重量%の割合で添加される、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項6】 前記硝酸が、約1重量%〜5重量%の割
合で添加される、請求項1に記載の方法。 - 【請求項7】 プラズマディスプレイパネル用の基板上
にMgO薄膜を形成するためのペースト中で、 MgO粒子、Mg含有塩、および有機バインダーからな
る、プラズマディスプレイパネル用のMgO保護層であ
って、 ここで、該有機バインダーが、エタノール、アセトン、
またはメチルエチルケトンからなる群から選択される少
なくとも2つの材料である、保護層 。 - 【請求項8】 前記MgO粒子のサイズが、0.1μm
〜0.5μmである、請求項7に記載のMgO保護層。 - 【請求項9】 前記Mg含有塩が、Mg(NO3)2、M
gCl2、およびMg(CH3COO)2である、請求項
7に記載のMgO保護層。 - 【請求項10】 100重量%の前記ペーストが、0.
01重量%〜0.2重量%のMgO粒子、0.35重量
%〜7.0重量%のMg含有塩、および残りの有機バイ
ンダーからなる、請求項7に記載のMgO保護層。 - 【請求項11】 プラズマディスプレイパネル基板の表
面上にMgOパシベーションを形成するためのプラズマ
ディスプレイパネル保護層を形成する方法であって: MgO粒子、Mg含有塩、および有機バインダーを混合
することによりペーストを調製する工程と、 該ペーストを該基板の表面上にコーティングする工程
と、 該コーティングされた基板を焼成する工程とを包含す
る、方法。 - 【請求項12】 100重量%の前記ペーストが、0.
01重量%〜0.2重量%の割合の0.2μm〜0.4
μmのサイズを有するMgO粒子と、0.35重量%〜
7.0重量%のMg含有塩と、残りの有機バインダーと
からなる、請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 前記焼成が、400℃〜500℃の温
度で5分〜20分間行われる、請求項11または12に
記載の方法。 - 【請求項14】 MgO保護層からなる基板表面上に形
成されたMgO保護層を有するプラズマディスプレイパ
ネルであって、該MgOの粒子サイズが、0.1μm〜
0.5μmである、プラズマディスプレイパネル。
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