JP2891894B2 - 基板回転装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】円形をなすシリコンウエハ等の基
板は、例えば、基板を回転させつつこれに向けて超純水
等の洗浄流体を噴射させることにより洗浄されるが、本
発明は、かかる洗浄工程において基板を水平回転させる
ための基板回転装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板回転装置としては、
図８及び図９に示す如く、回転駆動される回転軸３３の
上端部に円形の回転盤３２を同心状に設け、回転盤３２
の上面に吸引溝３４ａを形成すると共に、回転軸３３に
吸引溝３４ａに開口し且つ真空ポンプの吸引部（図示せ
ず）に連通する吸引通路３４ｂを形成して、シリコンウ
エハ等の基板８を、その裏面８ｃを回転盤３２の上面に
吸着保持させた同心状態で、水平回転させるように構成
されたもの（以下「従来装置」という）がよく知られて
いる。而して、洗浄工程にあっては、図８に示す如く、
基板８を回転盤３２上に吸着保持させた上、回転盤３２
を回転軸３３の駆動により所定速度で回転させながら、
回転盤３２の上方に配置したノズル２３から洗浄流体
（例えば、超純水又はこれを凍結させた微凍結粒との混
合スラリ）２４を基板表面８ｂに向けて噴射させ、この
噴射流体により基板表面８ｂを全面的に洗浄するのであ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来装置にあ
っては、基板裏面８ｃを回転盤３２の上面に直接吸着さ
せるため、基板裏面８ｃが回転盤３２との接触により汚
染されたり、傷付いたりする虞れがある。しかも、ノズ
ル２３から噴射された洗浄流体２４の一部が、基板表面
８ｂの洗浄後に吸引溝３４ａへと吸引されて、吸引通路
３４ｂから真空ポンプ側へと侵入する虞れがあり、真空
ポンプの運転状態次第では、基板８の吸着保持が不安定
となる虞れがある。また、基板８を、その重心が回転盤
３２の回転中心と一致させた状態（以下「適正状態」と
いう）で回転盤３２に保持させておかないと、基板８が
遠心力により回転盤３２から離脱して落下し、破損する
虞れがある。一方、かかる適正状態となるように基板８
を回転盤３２上にセットすることは、極めて困難であ
り、かなりの熟練度を要する。また、基板８の洗浄は基
板裏面８ｃについても行う必要がある場合があるが、従
来装置では、基板裏面８ｃを全面的に回転盤３２に吸着
保持させる構造であるため、基板裏面８ｃについての洗
浄はこれを行うことができない。

【０００４】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
で、上記したような問題を生じることなく、円形の基板
を確実且つ容易に回転させることができ、基板表面につ
いては勿論、基板裏面についても必要に応じて良好に洗
浄させることができる基板回転装置を提供することを目
的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明の基板回転装置は、特に、水平回転自在に支持された
環状の回転盤と、回転盤を回転駆動させる駆動機構と、
回転盤上の一定位置に保持されており、円形の基板を回
転盤と同心状の水平状態に保持すべく基板の周縁部を係
合保持する複数の固定爪と、回転盤上に、固定爪に係合
保持させた基板の周縁部を係合保持しうる基板保持位置
と該基板の周縁部から所定量離間する基板保持解除位置
とに亘って水平揺動自在に設けられた複数の可動爪と、
各可動爪と回転盤との間に介装されており、当該可動爪
を前記両位置に亘って動作させる可動爪動作機構と、を
具備するものである。而して、固定爪群と可動爪群と
は、回転盤の直径線を挟んで対向配置されている。

【０００６】

【作用】洗浄工程の開始に当たっては、まず、基板を回
転盤上にこれと同心状の水平状態つまり適正状態にセッ
トさせる。すなわち、各可動爪を基板保持解除位置に位
置させた上、基板を固定爪群と可動爪群との間に挿入さ
せ、更に基板周縁部を各固定爪に係合保持させる。この
とき、固定爪群と可動爪群とが回転盤の直径線を挟んで
対向配置されていることから、基板周縁部を固定爪群に
係合保持させることによって、基板を適正状態に位置決
めし且つ保持させておくことができる。しかる後、各可
動爪を基板保持位置に動作させて基板周縁部に係合させ
る。これによって、基板は固定爪群及び可動爪群により
適正状態に確実に保持されることになる。

【０００７】このように基板を回転盤上にセットさせた
上で、洗浄工程を開始する。すなわち、回転盤を回転駆
動させると共に、基板に向けて洗浄流体を噴出させる。

【０００８】このとき、回転盤が環状のものであるた
め、基板裏面側には洗浄流体を噴出させるスペースが存
在することから、基板が周縁部のみを固定爪及び可動爪
により係合保持されているにすぎないこととも相俟っ
て、基板裏面についても、洗浄流体の噴出による洗浄を
行うことができる。すなわち、必要に応じて、基板表面
のみならず、基板裏面をも同時に洗浄させることができ
る。

【０００９】また、基板はその周縁部のみが係合保持さ
れているにすぎないことから、従来装置における如く基
板裏面が汚染されたり、傷付いたりすることがない。し
かも、基板は、その周縁部を固定爪群及び可動爪群によ
り径方向移動を阻止された状態で、回転盤と同心状に保
持されているから、回転による遠心力が作用した場合に
も、回転盤から離脱，落下するようなことが全くない。

【００１０】さらに、一般に、基板の重心はその中心位
置にあるから、基板を上記した如く回転盤と同心状に保
持させておくと、基板の重心と回転盤の回転中心とが一
致することになり、遠心力により基板が径方向に偏倚す
るような虞れがない。つまり、回転に伴い基板が振動す
るようなことがなく、固定爪群及び可動爪群による基板
保持が確実に行われる。

【００１１】以上のようにして基板表面又は基板両面の
洗浄が終了すると、各可動爪を基板保持解除位置にもた
らして基板周縁部から離脱させた上、基板を固定爪群か
ら離脱させるべく移動させることによって、回転盤から
取外す。このとき、各可動爪を基板保持解除位置へと動
作できること、固定爪群と可動爪群とが回転盤の直径線
を挟んで対向配置されていることから、各可動爪を基板
保持解除位置へと動作させることにより、基板を容易に
回転盤から取外すことができる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の構成を図１〜図７に示す実施
例に基づいて具体的に説明する。

【００１３】この実施例の基板回転装置１は、図１〜図
４に示す如く、回転盤２と、これを回転駆動させる駆動
機構３と、回転盤２上に設けられた複数の固定爪４…及
び可動爪５…と、各可動爪５を動作させる各可動爪動作
機構６とを具備してなり、洗浄槽内に配置された移動架
台７上に取付けられている。

【００１４】回転盤２は、図１及び図４に示す如く、内
径部をシリコンウエハ等の円形状基板８より大径とした
円環状の本体２ａ及びその上面に着脱自在に取付けた支
持台２ｂからなり、本体２ａと移動架台７に固着した円
環状の支持体９との間に介装したベアリング１０によ
り、移動架台７上に水平回転自在に支持されている。な
お、本体２ａと支持体９との間には、円環状の凹凸から
なるラビリンス１１ａ，１１ｂが形成されていて、洗浄
液等のベアリング１０への侵入を防止すべく工夫されて
いる。

【００１５】駆動機構３は、図１及び図４に示す如く、
回転盤２の本体２ａの内径部に形成した大径の内歯状ギ
ヤ２ｃと、移動架台７に取付けた駆動モータ１２と、そ
のモータ駆動軸に取付けられて前記ギヤ２ｃに噛合する
ピニオンギヤ１２ａとを具備してなり、駆動モータ１２
により回転盤２を所定速度で一定方向に回転駆動させる
ように構成されている。

【００１６】固定爪群４…と可動爪群５…とは、図１に
示す如く、回転盤２上にその直径線Ｘ−Ｘを挟んで対向
配置されており、夫々、次のように構成されている。な
お、この実施例では、４個の固定爪４…と２個の可動爪
５…とを設けてある。

【００１７】各固定爪４は、図１〜図４、図６及び図７
に示す如く、基板８の周縁部８ａに係合しうる略Ｖ字形
の係合凹部４ａを形成した矩形ブロック状のものであ
り、回転盤２の支持台２ｂ上に一対の水平支軸１３，１
３及びコイルバネ１４，１４を介して回転盤２の径方向
に進退可能に附勢保持されている。すなわち、図６に示
す如く、固定爪４に固着した一対の水平支軸１３，１３
を支持台２ｂ上に立設した支持体１５に回転盤２の径方
向に進退自在に支持させると共に、各水平支軸１３に固
定爪４と支持体１５との間に配してコイルバネ１４を嵌
挿し、且つ固定爪４の回転盤２の中心方向へのコイルバ
ネ１４，１４による変位量を各水平支軸１３の端部に取
付けたストッパ１３ａにより規制することによって、固
定爪４を、基板８を回転盤２と同心状に係合保持しうる
一定位置に、附勢保持させてある（図１参照）。すなわ
ち、各固定爪４は、図７に示す如く、コイルバネ１４，
１４及びストッパ１３ａにより、係合凹部４ａが基板周
縁部８ａを係合保持しうる前記一定位置たる位置決め位
置（図７（Ａ）位置）に、係合凹部４ａが基板周縁部８
ａから離間する方向へと移動可能な状態で附勢保持され
ている。なお、各固定爪４には、その支持手段（水平支
軸１３等）の上面側をカバーするカバー１６が取付けら
れており、水平支軸１３，１３はカバー１６に固着され
ている。

【００１８】各可動爪５は、図１〜図４及び図５に示す
如く、基板周縁部８ａに係合しうる略Ｖ字形の係合凹部
５ａを形成した固定爪４と同様の矩形ブロック状のもの
であり、回転盤２の支持台２ｂに立設した鉛直支軸１７
により水平揺動自在に軸支された揺動体１８に取付けら
れていて、基板８を固定爪４…により回転盤２と同心状
に水平保持させたときにおいて基板周縁部８ａを係合保
持しうる基板保持位置（図１及び図５に示す位置）と、
基板周縁部８ａから所定量離間する基板保持解除位置
（図３に示す位置）とに亘って、水平揺動自在とされて
いる。

【００１９】各可動爪動作機構６は、図１〜図５に示す
如く、回転盤２の支持台２ｂと揺動体１８との間に介装
した線状バネ１９と、回転盤２の本体２ａに取付けた可
動爪動作体たる空気圧シリンダ２０とからなる。バネ１
９は、図４及び図５に示す如く、中央部分をコイル状に
巻回したもので、コイル状部分を鉛直支軸１７に嵌挿支
持させ、一端部を支持台２ｂ側のピン２１に係止させる
と共に他端部を揺動体１８側のピン２２に係止させるこ
とによって、揺動体１８つまり可動爪５を基板保持位置
方向に附勢している。また、空気圧シリンダ２０は揺動
体１８を押圧揺動させうるピストンロッド２０ａを有す
るもので、揺動体１８に取付けられた可動爪５をバネ１
９に抗して基板保持解除位置へと動作させる最伸長位置
たる作動位置（図２及び図３に示す位置）と可動爪５を
何ら動作させ得ない最縮小位置たる非作動位置（図１に
示す位置）とに亘って、ピストンロッド２０ａを回転盤
２の径方向に伸縮させるものである。ピストンロッド２
０ａを作動位置から非作動位置にもたらすと、可動爪５
がバネ１９により基板保持解除位置から基板保持位置へ
と自動復帰され、該位置に保持されることになるが、作
動位置に位置するピストンロッド２０ａは揺動体１８か
ら所定量離間しており、可動爪５の基板保持解除位置へ
の変位（バネ１９に抗しての揺動変位）を妨げないよう
になっている。つまり、ピストンロッド２０ａを非作動
位置に位置させた状態では、可動爪５はバネ１９により
基板保持位置に附勢保持されるも、基板保持解除位置方
向への一定以上の負荷（バネ１９の附勢力を超える負
荷）が作用した場合には、バネ１９に抗して適正状態に
ある基板８の周縁部８ａから係合凹部５ａが離脱する状
態へと変位されうるようになっている。

【００２０】なお、上記各バネ１４，１９による附勢力
は、基板８を固定爪４…及び可動爪５…により保持させ
た場合において、基板８が回転盤２と同心位置に位置す
べくバランスされ且つ回転盤２による回転力によっても
基板８が適正状態に維持されることを条件として、可及
的に小さく設定しておくことが望ましい。

【００２１】ところで、移動架台７は、洗浄開始位置と
該位置から基板８の半径に略一致する距離だけ離れた洗
浄終了位置との間に亘って往復直線移動されるようにな
っている。そして、この移動架台７の移動経路上には、
回転盤２上に保持された基板８に向けて洗浄流体２４を
噴出する上下一対のノズル２３ａ，２３ｂが固定配置さ
れている。両ノズル２３ａ，２３ｂは、基板８の表裏面
８ｂ，８ｃにおける同一箇所に向けて洗浄流体２４を噴
出させるもので、移動架台７を洗浄開始位置に位置させ
た状態では、洗浄流体２４を基板８の中心に向けて噴出
させ（図１鎖線図示参照）、移動架台７を洗浄終了位置
に位置させた状態では、洗浄流体２４を基板８の周縁部
８ａに向けて噴出させる（図１及び図４実線図示参照）
ようになっている。すなわち、移動架台７の洗浄開始位
置から洗浄終了位置への移動に伴って、各ノズル２３
ａ，２３ｂから噴出される洗浄流体２４の基板表面８ｂ
及び基板裏面８ｃへの衝突位置が、基板８の中心位置か
ら周縁位置へと相対的に直線移動されるようになってい
る。なお、下ノズル２３ｂは、移動架台７の移動によっ
ては回転盤２に干渉しないように、回転盤２の内径部に
臨んで配置されている。

【００２２】以上のように構成された基板回転装置１を
使用すれば、従来装置を使用した場合におけるような問
題を生じることなく、基板８の洗浄を容易に且つ良好に
行うことができる。

【００２３】洗浄工程の開始に当たっては、基板８を回
転盤２上にこれと同心状の適正状態にセットさせるが、
かかるセット作業は何らの熟練を必要とせず極めて容易
に行うことができる。すなわち、まず、各空気圧シリン
ダ２０を最伸長させて各可動爪５を基板保持解除位置に
位置させた上、基板８を固定爪４…と可動爪５…との間
に挿入させる（図３参照）。そして、基板周縁部８ａを
各固定爪４の係合凹部４ａに係合させる（図２参照）。
このとき、固定爪群４…と可動爪群５…とが回転盤２の
直径線Ｘ−Ｘを挟んで対向配置されていることから、基
板周縁部８ａを固定爪群４…の係合凹部４ａ…に係合保
持させることによって、基板８を適正状態に位置決めし
且つ保持させておくことができる。しかる後、各空気圧
シリンダ２０を最縮小させると、各可動爪５はバネ１９
により基板保持位置に自動的復帰して、各可動爪５の係
合凹部５ａが基板周縁部８ａに係合する。これによっ
て、基板８は、回転盤２と同心の適正状態に確実に保持
されることになる（図１及び図４参照）。したがって、
何らの熟練を必要とするなく、基板８を回転盤２と同心
状の水平状態に容易に且つ確実にセットさせることがで
きる。また、ロボットによるセットも可能となる。

【００２４】このように基板８を適正状態にセットさせ
た上、モータ１２を起動して回転盤２を回転させると共
に、各ノズル２３ａ，２３ｂから洗浄流体２４を噴出さ
せて、基板８の表裏面８ｂ，８ｃを同時に洗浄させる。
そして、基板８における洗浄箇所つまり洗浄流体の衝突
箇所は、移動架台７を洗浄開始位置から洗浄終了位置へ
と移動させるに伴って、基板中心部から基板周縁部へと
相対的に変位していき、基板８が回転されていることと
も相俟って、基板表面８ｂ及び基板裏面８ｃが全面的に
洗浄される。

【００２５】このとき、基板８がその周縁部８ａのみを
保持されていることから、従来装置における如く基板裏
面８ｃが汚染されたり、傷付いたりすることがない。ま
た、基板８は、その周縁部８ａを固定爪４…及び可動爪
５…により径方向移動を阻止された状態で、回転盤２と
同心状に保持されているから、回転による遠心力が作用
した場合にも、回転盤２から離脱，落下するようなこと
が全くない。しかも、一般に、基板８の重心はその中心
位置にあるから、基板８を上記した如く回転盤２と同心
状に保持させておくと、基板８の重心と回転盤２の回転
中心とが一致することになり、遠心力により基板８が径
方向に偏倚するような虞れがない。つまり、回転に伴い
基板８が振動するようなことがなく、固定爪４…及び可
動爪５…による基板保持が確実に行われる。

【００２６】ところで、洗浄残滓は遠心力とノズル２３
ａ，２３ｂからの噴出流体２４によって基板８上をその
周縁部方向へと流動し、基板外に飛散するが、固定爪４
…及び可動爪５…によって係合保持されて箇所において
は、係合凹部４ａ…，５ａ…に洗浄残滓が侵入，堆積す
るため、これが洗浄後も基板８に付着，残存して、基板
８の清浄化が不十分となる虞れがある。しかし、かかる
虞れは、次のような作用により完全に排除される。

【００２７】すなわち、固定爪４又は可動爪５には、こ
れが回転盤２の回転に伴ってノズル２３ａ，２３ｂに直
対向する位置にもたらされたとき、ノズル２３ａ，２３
ｂから噴出される洗浄流体２４，２４が衝突して、バネ
１４，１９に抗する方向への押圧力が作用することにな
る。而して、洗浄工程の初期段階つまり移動架台４が洗
浄開始位置ないしその近傍に位置している段階では、洗
浄流体２４，２４がノズル２３ａ，２３ｂから基板周縁
部８ａから離れた箇所に噴出されているため、上記押圧
力がバネ１４，１９による附勢力に比して小さく、固定
爪４又は可動爪５がバネ１４，１９により基板周縁部８
ａを係合保持しうる位置から変位しない（図７（Ａ）参
照）。しかし、洗浄工程の終了段階つまり移動架台４が
洗浄開始位置に位置する段階に近づくと、洗浄流体２
４，２４の噴射箇所が固定爪４又は可動爪５に近づくた
め、上記押圧力が大きくなってバネ１４，１９による附
勢力に打ち勝ちようになり、ノズル２３ａ，２３ｂに直
対向する位置にもたらされた固定爪４又は可動爪５がバ
ネ１４，１９に抗して変位し、基板周縁部８ａから離脱
することになる（図７（Ｂ）参照）。その結果、基板周
縁部８ａから離脱した固定爪４又は可動爪５の係合凹部
４ａ，５ａに侵入，堆積した洗浄残渣は、洗浄流体２
４，２４により洗い流され、基板周縁部８ａに残留する
ことがない。したがって、基板８の表裏面８ｂ，８ｃ
を、固定爪４…及び可動爪５…で保持させた部分を含め
て、全面的且つ完璧に清浄化することができる。なお、
一の固定爪４又は可動爪５が基板周縁部８ａから離脱し
た場合にも、基板８は他の固定爪４…及び可動爪５…に
よって保持されていることから、固定爪４及び可動爪５
の設置数及び設置場所を適当に設定しておく（例えば、
図１参照）ことにより、全体として基板８を適正状態に
保持する機能は何ら損なわれない。

【００２８】基板洗浄の終了後は、各可動爪５を空気圧
シリンダ２０により基板保持解除位置にもたらして基板
周縁部８ａから離脱させた上（図２参照）、基板８を固
定爪４…から離脱させるべく移動させることによって
（図３参照）、回転盤２から取外す。このとき、可動爪
５…を基板保持解除位置へと動作できること、固定爪群
４…と可動爪群５…とが回転盤２の直径線Ｘ−Ｘを挟ん
で対向配置されていることから、可動爪５…を基板保持
解除位置へと動作させた上で、基板８を上記直交線Ｘ−
Ｘと直交する方向に水平移動させるだけで、基板８を容
易に回転盤２から取外すことができる。なお、固定爪４
…及び可動爪５…を支持させた支持台２ｂは回転盤２の
本体２ａに着脱自在となっているから、固定爪４…及び
可動爪５…の配置を異にする支持台２ｂを複数種類用意
しておくことにより、基板回転装置１を径の異なる基板
８に対して汎用的に適用することが可能となり、便利で
ある。

【００２９】なお、本発明は上記各実施例に限定される
ものではなく、本発明の基本原理を逸脱しない範囲にお
いて、適宜に変更，改良することができる。

【００３０】例えば、固定爪４及び可動爪５の数，形状
は任意であり、基板８の形状等に応じて適宜に設定する
ことができる。また、各固定爪４は、上記実施例の如く
附勢保持させることなく、一定位置に固定させるように
しておいてもよい。また、駆動機構３の構成は任意であ
り、例えば外歯状ギヤ１０に代えて内歯状ギヤを使用し
てもよい。また、可動爪動作機構６の構成も任意であ
り、例えば、上記実施例の如く基板保持位置へと附勢保
持させず、シリンダ等により基板保持位置と基板保持解
除位置とに選択的に動作させるように構成してもよい。
さらに、上記実施例では、本発明を基板表面８ｂのみな
らず基板裏面８ｃをも洗浄する場合に適用したが、基板
表面８ｂのみを洗浄する場合にも当然に適用することが
できる。

【００３１】

【発明の効果】以上の説明から容易に理解されるよう
に、請求項１の発明によれば、基板を、基板裏面を汚染
させたり傷付けたりすることなく、回転盤上の適正位置
に確実に保持させた状態で、安定して回転させることが
できる。また、基板の回転盤上への取付，取外を容易に
且つ効率良く行うことができる。しかも、回転盤を環状
のものとして、基板裏面下に洗浄流体の噴出領域を確保
できるようにしたから、基板表面のみならず基板裏面を
も洗浄させることができる。したがって、本発明の基板
回転装置を使用すれば、冒頭で述べた如き問題を生じる
ことなく、基板の洗浄を極めて良好且つ効率良く行うこ
とができる。

【００３２】さらに、請求項２の発明によれば、基板周
縁部の固定爪及び可動爪による係合部分における洗浄残
滓付着を確実に防止し、基板の洗浄による清浄化を極め
て完全に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板回転装置の一実施例を示した
もので、基板周縁部を固定爪群及び可動爪群に係合保持
させた状態を示す平面図である。

【図２】基板周縁部を固定爪群にのみ係合保持させた状
態を示す図１相当の平面図である。

【図３】基板周縁部が固定爪群及び可動爪群の何れにも
係合しない状態を示す図１相当の平面図である。

【図４】図１のIV−IV線に沿う断面図である。

【図５】図１のＶ部（可動爪）を拡大して示す一部切欠
の平面図である。

【図６】図１のVI部を（固定爪）を拡大して示す一部切
欠の平面図である。

【図７】図６のVII−VII線に沿う断面図である。

【図８】従来装置を示す縦断側面図である。

【図９】図９のIX−IX線に沿う横断平面図である。

【符号の説明】

１…基板回転装置、２…回転盤、３…駆動機構、４…固
定爪、４ａ，５ａ…係合凹部、５…可動爪、６…可動爪
動作機構、７…移動架台、８…基板、８ａ…基板周縁
部、８ｂ…基板表面、８ｃ…基板裏面、９…ベアリン
グ、１４…コイルバネ、１９…線状バネ、２０…空気圧
シリンダ（可動爪動作体）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−138737（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−224337（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−123582（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/304 H01L 21/68 B08B 3/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水平回転自在に支持された環状の回転盤
   と、回転盤を回転駆動させる駆動機構と、回転盤上の一
   定位置に保持されており、円形の基板を回転盤と同心状
   の水平状態に保持すべく基板の周縁部を係合保持する複
   数の固定爪と、回転盤上に、固定爪に係合保持させた基
   板の周縁部を係合保持しうる基板保持位置と該基板の周
   縁部から所定量離間する基板保持解除位置とに亘って移
   動自在に設けられた複数の可動爪と、各可動爪と回転盤
   との間に介装されており、当該可動爪を前記両位置に亘
   って動作させる可動爪動作機構と、を具備し、固定爪群
   と可動爪群とが回転盤の直径線を挟んで対向配置されて
   いることを特徴とする基板回転装置。することを特徴と
   する基板回転装置。
2. 【請求項２】 各固定爪及び可動爪は、基板の周縁部を
   係合保持しうる係合凹部を有するものであり、各固定爪
   は、その係合凹部が基板の周縁部を係合保持しうる前記
   一定位置たる位置決め位置に、該係合凹部が基板の周縁
   部から離間する方向へと移動可能な状態で附勢保持され
   ており、各可動爪動作機構が、可動爪を基板保持位置へ
   と附勢保持するバネと、可動爪をその係合凹部が基板の
   周縁部から離間する方向へと前記バネに抗して移動可能
   ならしめる非作動位置と可動爪を基板保持解除位置へと
   動作させる作動位置とに亘って操作自在な可動爪動作体
   とを具備してなるものであることを特徴とする、請求項
   １に記載する基板回転装置。