JP4643520B2 - 検査方法および検査装置 - Google Patents
検査方法および検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4643520B2 JP4643520B2 JP2006218563A JP2006218563A JP4643520B2 JP 4643520 B2 JP4643520 B2 JP 4643520B2 JP 2006218563 A JP2006218563 A JP 2006218563A JP 2006218563 A JP2006218563 A JP 2006218563A JP 4643520 B2 JP4643520 B2 JP 4643520B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- chuck
- rim
- gas
- peripheral portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
2…チャック本体、
3…リム、
31〜33…吸着口、
41〜46…排気口、
5…エアスピンドル、
50…ウェハ基板、
51〜53…基板支持部材、
6…回転モータ、
61〜66…エアギャップ形成部、
71〜76…エア供給口、
81〜86…中心部エア排気溝、
91〜96…排気口。
Claims (8)
- 上面の中央部が周辺部よりも高く外周部にリムが形成され該リム上の複数の箇所に設けた回動可能な支持部材で基板の外周側面を把持するチャックを用いて前記基板を把持し、該把持された基板の裏面と前記チャックの上面の周辺部よりも高い中央部との間の第1の間隙部分に前記チャックに設けた供給口から気体を供給し、該供給された気体を前記基板の裏面と前記チャックの周辺部の前記第1の間隙よりも大きい第2の間隙と前記外周部のリムで形成される空間部に流出させ、該空間部に流出した気体を前記チャックに設けた排出口から前記チャックの外部に排出することにより前記空間部の圧力を所定の圧力に保って前記チャックに保持された基板の表面をほぼ平坦に維持し、前記チャックに保持されて表面がほぼ平坦に維持された前記基板に光を照射して該基板を検査することを特徴とする基板の検査方法。
- 前記チャックの上面の周辺部よりも高い中央部には溝部が形成されており、前記基板の裏面と前記チャックの中央部との間の第1の間隙部分に供給した気体を前記溝部を通して前記空間部に流出させることを特徴とする請求項1記載の検査方法。
- 前記チャックの外周部のリムにも排気用の孔が形成されており、該リムの排気用の孔からも前記空間部に流出した気体を排気することを特徴とする請求項2記載の検査方法。
- 前記基板を保持したチャックを回転させながら前記基板に光を照射して該基板を検査することを特徴とする請求項2記載の検査方法。
- 上面の中央部が周辺部よりも高く外周部にリムが形成され該リム上の複数の箇所に設けた回動可能な支持部材で基板の外周側面を把持するチャック手段を備え、該チャック手段で把持された基板に光を照射して該基板を検査する検査装置であって、前記チャック手段は、前記外周部よりも高い中央部に気体を供給する気体供給口を複数有し、また、前記外周部に前記中央部から供給された気体を排気する気体排気口を複数有し、前記チャック手段で基板を把持した状態で該基板の裏面と前記チャック手段の中央部との間の第1の間隙部分に前記複数の気体供給口から供給された気体を前記基板の裏面と前記チャック手段の周辺部の前記第1の間隙よりも大きい第2の間隙と前記外周部のリムとで囲まれた空間部に流出させて前記チャック手段の周辺部に設けた複数の気体排気口から排出させるように構成したことを特徴とする検査装置。
- 前記チャック手段の上面の周辺部よりも高い中央部には複数の溝部が形成されており、前記基板の裏面と前記チャックの中央部との間の第1の間隙部分に供給した気体を前記溝部を通して前記空間部に流出させるようにしたことを特徴とする請求項5記載の検査装置。
- 前記リム部にも排気用の複数の孔を設けたことを特徴とする請求項6記載の検査装置。
- 前記チャック手段を回転させる回転駆動手段を更に有し、該回転駆動手段で前記基板を保持したチャック手段を回転させながら前記基板に光を照射して該基板を検査することを特徴とする請求項6記載の検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006218563A JP4643520B2 (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 検査方法および検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006218563A JP4643520B2 (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 検査方法および検査装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000080695A Division JP3936828B2 (ja) | 2000-03-22 | 2000-03-22 | 基板搭載装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006324692A JP2006324692A (ja) | 2006-11-30 |
JP2006324692A5 JP2006324692A5 (ja) | 2007-04-12 |
JP4643520B2 true JP4643520B2 (ja) | 2011-03-02 |
Family
ID=37544079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006218563A Expired - Lifetime JP4643520B2 (ja) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 検査方法および検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4643520B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5414602B2 (ja) | 2010-03-31 | 2014-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
CN109461691A (zh) * | 2017-09-06 | 2019-03-12 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 晶圆支撑装置 |
JP7331139B2 (ja) * | 2019-12-24 | 2023-08-22 | 株式会社日立ハイテク | 基板検査装置 |
CN112105166B (zh) * | 2020-09-02 | 2024-03-29 | 深圳市鑫达辉软性电路科技有限公司 | 一种fpc翘曲修复装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08274060A (ja) * | 1995-03-30 | 1996-10-18 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | 基板回転装置 |
JPH11111819A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd | ウェハーの固定方法及び露光装置 |
-
2006
- 2006-08-10 JP JP2006218563A patent/JP4643520B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08274060A (ja) * | 1995-03-30 | 1996-10-18 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | 基板回転装置 |
JPH11111819A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd | ウェハーの固定方法及び露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006324692A (ja) | 2006-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI512873B (zh) | Liquid treatment method and liquid treatment device | |
JP2006310697A (ja) | 吸着チャック | |
JP3936828B2 (ja) | 基板搭載装置 | |
JP4643520B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP2009088244A (ja) | 基板クリーニング装置、基板処理装置、基板クリーニング方法、基板処理方法及び記憶媒体 | |
JP5726686B2 (ja) | 液処理装置、及び液処理装置の制御方法 | |
JP2009295662A (ja) | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | |
JP2009117567A (ja) | 真空チャック | |
JP2008060299A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2004140058A (ja) | ウエハ搬送装置およびウエハ処理装置 | |
JP3745214B2 (ja) | ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法 | |
JP2012084792A (ja) | スピンナ洗浄装置及びスピンナ洗浄方法 | |
JP5037379B2 (ja) | 板状物の搬送装置 | |
JP2009514208A (ja) | スピンチャック | |
JP2022171969A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2017069264A (ja) | 基板保持装置 | |
JP5527960B2 (ja) | 回転処理装置 | |
JP3322630B2 (ja) | 回転処理装置 | |
JP2007329297A (ja) | 薄膜状物体の保持装置及び薄膜状物体を保持するためのハンド | |
JP2008114342A (ja) | 基板加工機のワークローダ | |
JP3361223B2 (ja) | 回転式基板処理装置 | |
JPH11289002A (ja) | 枚葉処理機構 | |
JP3846697B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2020155590A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004140057A (ja) | ウエハ位置決め装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070223 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100209 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100409 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100622 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100907 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101116 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4643520 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |