JP2017069264A - 基板保持装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】可動ピン41が閉位置に配置されているとき、可動ピン41と一対の第1固定ピン42とは、回転軸線A1に対して可動ピン41側に偏心した第1仮想円上で基板Wの周端面に接触しており、一対の第2固定ピン62は、基板Wの周端面から離れている。可動ピン41が閉位置から開位置に移動すると、遠心力により回転軸線A1に対する基板Wの偏心量が増加する。可動ピン41が開位置に配置されると、一対の第2固定ピン62は、回転軸線A1に対して第1仮想円の偏心量よりも大きい偏心量で可動ピン41側に偏心した第2仮想円上で基板Wの周端面に接触し、一対の第1固定ピン42は、基板Wの周端面から離れる。
【選択図】図4
Description
この構成によれば、上方向および下方向の少なくとも一方への基板の移動が規制手段によって規制される。そのため、基板の姿勢が一定またはほぼ一定に維持される。したがって、第2固定ピンだけが基板の周端面に接触している状態であっても、基板の姿勢を安定させることができる。
この構成によれば、対向部が基板の上方に配置されているので、対向部は、基板の周縁部に上下方向に対向している。基板が上方に移動すると、基板の周縁部が対向部に接触し、上方向への基板の移動が規制される。これにより、上下方向への基板の移動量を所定範囲内に抑えることができる。そのため、回転している基板の浮き上がりを抑制することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置2を示す模式的な部分断面図である。
基板処理装置2は、半導体ウエハ等の円板状の基板Wを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置2は、リンス液や薬液などの処理液で基板Wを処理する処理ユニット3と、基板処理装置2を制御する制御装置4とを含む。制御装置4は、演算部と記憶部とを含むコンピュータである。処理ユニット3に対する基板Wの搬入および搬出は、搬送ロボット(図示せず)によって行われる。
ノズル移動機構17は、薬液ノズル7から吐出された薬液が基板保持装置1に保持されている基板Wの上面に着液する処理位置と、平面視で薬液ノズル7が基板保持装置1のまわりに位置する待機位置との間で、薬液ノズル7を移動させる。処理位置は、薬液ノズル7から吐出された薬液が基板Wの上面中央部に着液する中央処理位置と、薬液ノズル7から吐出された薬液が基板Wの上面周縁部に着液する周縁部処理位置とを含む。ノズル移動機構17は、制御装置4によって制御される。
<基板保持装置1の構成>
基板保持装置1は、鉛直方向に沿う回転軸線A1まわりに回転可能な円板状の回転台20と、回転台20から下方に突出した円板状のボス21と、ボス21を介して回転台20に結合された回転軸22とを備えている。回転台20の上面は、基板Wの直径よりも大きい外径を有している。基板Wは、回転台20の上方で水平に保持される。
同様に、基板Wの周縁部(ベベル部ともいう)も回転軸線A1よりも一方側X1の部分である一方側周縁部W1と、基板Wの周縁部において回転軸線A1よりも他方側X2の部分である他方側周縁部W2とに分けて説明することがある。他方側周縁部W2は、回転台20の中心(回転軸線A1)に対して一方側周縁部W1と反対側に位置する。
チャック開閉機構70は、閉用駆動マグネット72が形成する磁界に抗して可動ピン41を開位置に位置させる磁界を形成する開用駆動マグネット74を含む。開用駆動マグネット74は、たとえば、回転台20の周方向Sに沿った環状のマグネットである(図2参照)。また、チャック開閉機構70は、開用駆動マグネット74を下方から支持するマグネット支持部材75と、マグネット支持部材75を昇降させる昇降アクチュエータ76とを含む。昇降アクチュエータ76は、たとえば、エアシリンダである。
<基板保持装置1の動作>
搬送ロボット(図示せず)が、基板保持装置1に基板Wを置いたり、基板保持装置1から基板Wを取るときは、制御装置4が、開用駆動マグネット74が上位置に配置するように昇降アクチュエータ76を制御する。これにより、可動ピン41は、開位置に配置される。この状態で、基板保持装置1に対する基板Wの搬入および搬出が、搬送ロボット(図示せず)によって行われる。
第2チャック機構60が基板Wを保持するときは、制御装置4が、回転駆動機構37に回転軸22を回転させながら、開用駆動マグネット74が上位置に位置するように昇降アクチュエータ76を制御する。これにより、可動ピン41は、開用駆動マグネット74が形成する磁界によって開位置に配置される。このとき、可動ピン41が押し付け解除状態になるため、基板Wは、偏心による回転力Fによって第1の偏心位置(図4(a)に示す位置)から、第2の偏心位置(図4(b)に示す位置)へ移動する。これにより、基板Wの周端面が一対の第2固定ピン62に押し付けられるので、基板Wは、第2チャック機構60によって第2の偏心状態(図4(b)参照)で保持されたまま回転する。
<偏心状態での基板Wの姿勢保持>
基板保持装置1は、上方向および下方向への基板Wの移動を規制することにより、基板Wの姿勢を保持する規制手段80を備えている。規制手段80は、たとえば、ベルヌーイ機構である。規制手段80は、基板Wと回転台20との間に空間28を形成するように基板Wを下方から支持する支持部材としての第1固定ピン42および第2固定ピン62と、基板Wと回転台20との間の空間28に窒素ガスなどの不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段29とを備えている。
図5は、基板Wが第2の偏心状態で保持されているときの不活性ガスの流れを示す模式図である。図5は、図4(b)に示すV−V線に沿う断面を示している。
<基板Wの処理>
次に、図1を参照して、処理ユニット3によって行われる基板Wの処理について説明する。処理の内容としては、パーティクル等の異物を除去するための洗浄や、基板W上の不要な薄膜(窒化膜やレジスト)の除去が挙げられる。以下では、基板Wから異物を除去する例について説明する。
具体的には、第1の偏心状態で保持されて回転する基板Wから可動ピン41を離間させて押し付け解除状態とすると、遠心力により基板Wの中心が回転軸線A1から離れる方向に水平に移動する。そのため、基板Wの他方側周縁部W2が一対の第1固定ピン42から離間し、基板Wの一方側周縁部W1が一対の第2固定ピン62に押し付けられる。これにより、基板Wの保持が第2の偏心状態での保持に切り替えられる。そのため、基板Wを第1の偏心位置から第2の偏心位置に移動させるための可動ピンを設ける必要がない。
この発明は、以上に説明した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内において種々の変更が可能である。
基板Wの下面に接触することにより基板Wを水平に支持する複数の支持部材が設けられている場合は、前述のベルヌーイ機構や対向部82を省略してもよい。ガイド部44、47は、支持部材の一例である。支持部材は、各ピン41、42、62と一体であってもよいし、各ピン41、42、62とは別の部材であってもよい。
20 :回転台
25 :一方側周縁部
26 :他方側周縁部
28 :空間
28A:周縁領域
29 :不活性ガス供給手段
37 :回転駆動機構
40 :第1チャック機構
41 :可動ピン
42 :第1固定ピン
52 :開口
60 :第2チャック機構
62 :第2固定ピン
80 :規制手段
82 :対向部
A1 :回転軸線
C1 :中心
C2 :中心
F :回転力
L :仮想直線
W :基板
W1 :一方側周縁部
W2 :他方側周縁部
X1 :一方側
Claims (4)
- 円板状の基板の周端面に押し付けられる閉位置と前記基板の周端面から離れる開位置との間で移動可能であり鉛直な回転軸線に直交する水平な仮想直線上に配置された可動ピンと、前記回転軸線に対して前記可動ピンとは反対側の領域で前記仮想直線の両側に配置された一対の第1固定ピンと、を含み、前記可動ピンを前記閉位置に位置させることにより、前記回転軸線に対して前記可動ピン側に偏心した第1仮想円上で前記可動ピンと前記一対の第1固定ピンとを前記基板の周端面に接触させる第1チャック機構と、
前記回転軸線に対して前記可動ピンと同じ側の領域で前記仮想直線の両側に配置されており、前記可動ピンが前記開位置に配置されているときに、前記回転軸線に対して前記第1仮想円の偏心量よりも大きい偏心量で前記可動ピン側に偏心した第2仮想円上で前記基板の周端面に接触する一対の第2固定ピン、を含む第2チャック機構と、
前記第1チャック機構および第2チャック機構を回転させることにより、前記第1チャック機構または第2チャック機構によって支持された前記基板を前記回転軸線まわりに回転させる回転駆動機構と、を含む、基板保持装置。 - 鉛直方向への前記基板の移動を規制する規制手段をさらに備える、請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記規制手段は、上方向および下方向への前記基板の移動を規制するベルヌーイ機構を含み、
前記ベルヌーイ機構は、前記基板の下面に平行に対向する回転台の上面で開口しており、前記回転軸線まわりの方向である周方向に並んだ複数のガス吐出口から不活性ガスを吐出することにより、前記基板の下面と前記回転台の上面との間の空間を外方に流れる不活性ガスの流れを形成する不活性ガス供給手段を含む、請求項2に記載の基板保持装置。 - 前記規制手段は、前記基板の周縁部に上下方向に対向するように前記基板の上方に配置された対向部を含む、請求項2または3に記載の基板保持装置。
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