JP3361223B2 - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板
等の基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させな
がらフォトレジスト液、洗浄液、現像液、エッチング液
等の処理液を基板表面へ供給して処理を行なう回転式基
板処理装置、特に、回転台の上面から少し間隔を設けて
基板を支持する回転式基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ等の基板を、水平姿勢に支
持され鉛直軸回りに回転させられる回転台の上面から所
定間隔を設けて水平姿勢に支持し、この状態で基板を回
転させながら処理液を基板表面へ供給して処理を行なう
回転式基板処理装置においては、例えば特開平５−９０
２３８号公報や実開平４−６５４４６号公報に開示され
たように、回転台の上面に複数個の支持ピンを立設し、
これらの支持ピンによって基板を位置決めし保持するよ
うにしている。このような処理装置では、基板は回転台
の上面から少し浮いた状態で保持されるので、基板が回
転台に当接して載置される場合に生じる基板裏面の損傷
や汚染を避けることができる一方、基板処理中に飛散し
た処理液のミストが基板の下側に回り込んで基板裏面に
付着し、ミストによって基板裏面が汚染される、といっ
た別の問題を生じる。このような問題を解消する方法の
１つとして、基板を回転させながら処理している際に基
板裏面へ純水等のリンス液を吹き付けて基板裏面へのミ
ストの回り込みを防止する、いわゆるバックリンスを行
なう方法があるが、特開平７−１３０６９５号公報に
は、基板処理中に少なくとも基板と同程度の大きさを有
する上下移動部材を基板裏面に近接させてミストが基板
裏面へ回り込むのを防止するようにした回転式基板処理
装置が開示されている。

【０００３】同号公報に開示された処理装置は、図４に
その概略構成を一部破断した状態の正面図で示し、図５
にその一部を拡大断面図で示すように、基板Ｗを水平姿
勢に保持して鉛直軸回りに回転する基板回転保持具７０
を有している。基板回転保持具７０は、下面の中心部に
回転軸７４が垂設され、水平姿勢にかつ鉛直軸回りに回
転自在に支持されて、モーター７６に回転軸７４を介し
て連結された回転台７２を備えている。回転台７２の上
面には、基板Ｗの周縁に当接して基板Ｗを位置決めし水
平姿勢に支持する複数個の支持ピン７８がねじ込み固定
されており、また、図５に示すように複数個の微小突起
８０が突設されている。支持ピン７８は、円柱状の胴部
７８ａと、この胴部７８ａの上部に一体形成され、外周
縁が胴部７８ａの外周面より外側に張り出し、上面が基
板Ｗの周縁と当接して基板Ｗを支持する鍔部７８ｂと、
この鍔部７８ｂの上部に一体形成され、基板Ｗの周縁と
当接して基板Ｗの水平方向の移動を規制する小突起７８
ｃとから構成されている。

【０００４】回転台７２の上面側には、薄板材からなる
円形状の上下移動部材８２が配設されている。この上下
移動部材８２の周辺部には、回転台７２上の各支持ピン
７８に対応する位置に支持ピン７８の胴部７８ａよりも
若干大径のガイド孔８４がそれぞれ形成されている。こ
れらガイド孔８４を貫通して支持ピン７８が回転台７２
に取着されていることにより、上下移動部材８２が支持
ピン７８の胴部７８ａに案内されて上下方向にのみ移動
可能になっている。この上下移動部材８２は、基板Ｗの
裏面へのミストの付着を防止するために、少なくとも基
板Ｗと同程度の大きさにされており、図示例では基板Ｗ
よりも若干大径に形成されている。尚、上下移動部材８
２に円形のガイド孔８４を形成するのに代えて、上下移
動部材の周縁に外方へ開放されたＵ字状の切欠きを形成
することもある。

【０００５】回転台７２の周辺部には、円周方向に等配
されて複数個、例えば３個の開口８６が形成されてお
り、その各開口８６の位置に、上下移動部材８２を上下
に駆動するための押し上げ機構８８がそれぞれ設けられ
ている。押し上げ機構８８は、作動片９０ａと垂下片９
０ｂとを有する逆Ｌ字形の押し上げ部材９０を備え、垂
下片９０ｂの下端部には、錘り９２が取着されている。
押し上げ部材９０の中間屈曲部にはピン９４が挿通さ
れ、このピン９４は、その両端が軸受け９６によってそ
れぞれ支持されて、そのピン軸が円形の回転台７２の接
線方向と平行に配置されている。そして、押し上げ部材
９０は、作動片９０ａがピン９４よりも外側に位置する
ように回転台７２に取着され、ピン９４の軸回りに揺動
可能になっていて、作動片９０ａが開口８６を通して回
転台７２の上面より上方へ揺動変位できるように構成さ
れている。

【０００６】基板回転保持具７０の周囲には、処理液の
飛散を防止するためのカップ本体９８が昇降可能に配設
されている。また、基板回転保持具７０の上方には、処
理の内容に応じてフォトレジスト液、純水等の洗浄液、
現像液、エッチング液などの処理液を供給するためのノ
ズル１００が水平方向へ往復移動可能に配設されてい
る。

【０００７】また、以上のような構成を有する回転式基
板処理装置の側方には、基板Ｗを処理装置内へ搬入して
基板回転保持具７０上に移載したり、処理済みの基板Ｗ
を基板回転保持具７０上から受け取って処理装置外へ搬
出したりするための搬送アーム１０２が、昇降及び水平
方向への進退可能に配設されている。この搬送アーム１
０２は、基板Ｗの搬入及び搬出時に回転台７２上の支持
ピン７８と干渉しないように、先端側が平面視でＵ字状
に形成された基板載置部１０２ａを備えている。搬送ア
ーム１０２の基板載置部１０２ａは、３個の突起（図示
せず）により基板Ｗを下面側から点接触で支持するよう
になっている。

【０００８】上記した処理装置における動作を説明する
と、まず、搬送アーム１０２によって基板Ｗを処理装置
内へ搬入する際は、カップ本体９８は下降しており、回
転台７２は停止している。このとき、押し上げ機構８８
の押し上げ部材９０は、図５に実線で示したように、垂
下片９０ｂの下端部に取着された錘り９２の重量により
作動片９０ａが水平姿勢をとっており、作動片９０ａが
回転台７２の上面より下方に位置している。このため、
上下移動部材８２は、図５に実線で示したように、回転
台７２の上面の複数個の微小突起８０に当接し支持され
て下方位置にある。

【０００９】この状態において、搬送アーム１０２が、
その基板載置部１０２ａに基板Ｗを載置して処理装置内
へ進入し、基板回転保持具７０の上方位置まで移動した
後、下降することにより、基板Ｗを回転台３上の支持ピ
ン７８に受け渡す。そして、搬送アーム１０２は、後退
して処理装置外へ退避する。この際の一連の基板受け渡
し動作が支障無く行なえるようにするために、支持ピン
７８上に支持された基板Ｗの下面と下方位置にある上下
移動部材８２の上面との間の距離が、搬送アーム１０２
の厚みよりも若干大きくなるように、支持ビン７８の高
さ（鍔部７８ｂの上面位置）が適宜に設定される。

【００１０】次に、処理に際しては、まず、カップ本体
９８が、基板回転保持具７０を囲う所定位置まで上昇
し、続いて、モーター７６が駆動されることにより、回
転台７２と基板Ｗとが一体になって回転する。そして、
ノズル１００が基板回転保持具７０の回転中心の上方位
置（図４に二点鎖線で示す位置）まで移動する。

【００１１】回転台７２が回転を始めて次第に回転速度
が増すにつれて、押し上げ機構８８の錘り９２に作用す
る遠心力が大きくなり、押し上げ部材９０が、図５にお
ける時計回りに揺動し変位し始める。そして、各押し上
げ部材９０の作動片９０ａが回転台７２の上面からそれ
ぞれ突出し、作動片９０ａにより、図５に二点鎖線で示
したように上下移動部材８２が水平姿勢を保ったまま上
方へ持ち上げられ、上下移動部材８２の上面周縁部が支
持ピン７８の鍔部７８ｂの下面に当接する。このように
して上下移動部材８２が上方位置へ移動することによ
り、基板Ｗの下面と上下移動部材８２の上面とが僅かな
隙間、例えば１〜１．５ｍｍの隙間を介して近接するこ
とになり、処理中、この状態が維持される。

【００１２】回転台７２が所定の回転速度に達すると、
ノズル１００から処理液が基板Ｗ上に供給され、基板Ｗ
に所要の処理が施される。この際、余剰の処理液は、基
板Ｗの周縁から周囲へ飛散し、飛散した処理液の一部が
ミストとなってカップ本体９８内を漂うが、上下移動部
材８２が上昇して基板Ｗと上下移動部材８２との間隔が
極めて狭くなっているので、基板Ｗの裏面側へミストが
回り込むことが殆んど無く、基板Ｗ裏面へのミストの付
着が防止されることとなる。

【００１３】基板Ｗの処理が終わると、モーター７６が
停止して、回転台７２の回転速度が徐々に低下してい
く。これに伴い、押し上げ機構８８の錘り９２に作用す
る遠心力も小さくなり、押し上げ部材９０が、図５に実
線で示した元の位置へ揺動し復帰する。そして、押し上
げ部材９０の作動片９０ａによって支持され持ち上げら
れていた上下移動部材８２が、図５に実線で示した元の
下方位置へ下降する。

【００１４】回転台７２が完全に停止すると、カップ本
体９８が下降し、ノズル１００が退去した後、搬送アー
ム１０２が駆動されて、その基板載置部１０２ａが、基
板Ｗと上下移動部材８２との間に形成された比較的広い
空間へ進入する。そして、搬送アーム１０２が上昇する
ことにより、基板回転保持具７０上から処理済みの基板
Ｗが基板載置部１０２ａ上へ移載され、続いて、搬送ア
ーム１０２が後退することにより、基板Ｗは処理装置か
ら搬出される。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】図４及び図５に示した
上記構成の回転式基板処理装置を使用すると、基板回転
保持具７０が回転して、それと一体に基板Ｗを回転させ
ながら処理している間は、回転台７２上に配設された上
下移動部材８２が上昇し、基板Ｗの裏面側へのミストの
回り込みを防止して、基板Ｗの裏面へのミストの付着が
防止され、バックリンスを行なわなくてもよくなる。ま
た、基板Ｗの搬入及び搬出に際しては、上下移動部材８
２が下降し、基板回転保持具７０に対する搬送アーム１
０２の進退動作が支障無く行なわれることとなる。

【００１６】ところが、搬送アーム１０２により基板Ｗ
を処理装置内へ搬入して基板回転保持具７０上へ受け渡
すとき、或いは、基板回転保持具７０上の処理済みの基
板Ｗを受け取って処理装置内から搬出するために搬送ア
ーム１０２を処理装置内へ進入させるときに、何らかの
原因で上下移動部材８２が下方位置まで下降していない
と、搬送アーム１０２の基板載置部１０２ａの下面或い
は先端面が上下移動部材８２の上面或いは周縁に接触し
て、基板の搬入及び搬出の動作に支障を生じ、また、機
器の一部を損傷する可能性もある。

【００１７】また、基板の処理中に、上下移動部材８２
が上方位置まで上昇していないと、基板の裏面側への処
理液ミストの回り込みを防止することができず、基板裏
面側にミストが付着してしまう。この結果、基板の品質
不良を生じることとなる。

【００１８】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、回転台の上面から少し間隔を設けて
基板を支持し、回転台上に配設された上下移動部材を上
下方向に移動させて、処理中における基板裏面への処理
液ミストの付着を防止するとともに、基板の搬入及び搬
出を支障無く行なえるようにした回転式基板処理装置に
おいて、上下移動部材が下方位置又は上方位置にあるこ
とを確認して、上下移動部材の動作不良により基板の搬
入及び搬出の動作に支障が生じたり基板の搬入及び搬出
の動作によって機器の一部を損傷したりすることを防止
するとともに、上下移動部材の動作不良により基板の処
理中に基板裏面側へ処理液ミストが付着することを防止
して、基板の品質不良を生じないようにする回転式基板
処理装置を提供することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
下面の中心部に回転軸が垂設され、水平姿勢にかつ鉛直
軸回りに回転自在に支持された回転台と、この回転台の
上面に固設されて、基板を水平姿勢にかつ回転台上面か
ら所定間隔を設けて支持する基板支持手段と、前記回転
台の回転軸を回転させる回転手段と、少なくとも基板と
同程度の大きさを有し、前記回転台の上面側に配設さ
れ、水平姿勢を保って上下方向に移動自在に支持された
上下移動部材と、この上下移動部材を、前記回転台が停
止している間は回転台上面に接触もしくは近接する下方
位置に、回転台が回転して基板の処理が行なわれている
間は前記基板支持手段に支持された基板の裏面に近接す
る上方位置に移動させる上下移動手段とを備えた回転式
基板処理装置において、前記上下移動部材の下面の中心
部に、上下移動部材と一体に上下方向に移動する検知用
軸を垂設し、前記回転台の回転軸を中空にするととも
に、回転台の中心部に、回転軸の中空部に連通し前記上
下移動部材の前記検知用軸が貫通されてその上下移動を
許容する貫通孔を形成し、前記検知用軸の下端部に形設
されて上下方向に移動する弁体と、前記上下移動部材が
前記回転台の上面に接触もしくは近接する下方位置に移
動したときに前記弁体の下面側と密接する下部弁座、及
び、上下移動部材が基板の下面に近接する上方位置に移
動したときに弁体の上面側と密接する上部弁座を有し、
下部弁座及び上部弁座の各部位がそれぞれ開口した容器
状をなし、前記回転軸の中空部に嵌着されたガイド筒
と、前記回転軸の中空部に流路接続された真空吸引路
と、この真空吸引路及び前記回転軸の中空部を通して前
記ガイド筒の内部を真空吸引する真空吸引手段と、前記
真空吸引路に介設されてその真空圧を検知し、その真空
圧の上昇から前記検知用軸の上下位置を検知して、前記
上下移動部材が所定位置に移動しているかどうかを確認
する検知手段とを備えたことを特徴とする。

【００２０】請求項２に係る発明は、請求項１記載の回
転式基板処理装置において、前記弁体の上面側が前記ガ
イド筒の前記上部弁座に密接したときに前記回転台の前
記貫通孔を通して外気にリークするリーク部を設けたこ
とを特徴とする。

【００２１】請求項３に係る発明は、下面の中心部に回
転軸が垂設され、水平姿勢にかつ鉛直軸回りに回転自在
に支持された回転台と、この回転台の上面に固設され
て、基板を水平姿勢にかつ回転台上面から所定間隔を設
けて支持する基板支持手段と、前記回転台の回転軸を回
転させる回転手段と、少なくとも基板と同程度の大きさ
を有し、前記回転台の上面側に配設され、水平姿勢を保
って上下方向に移動自在に支持された上下移動部材と、
この上下移動部材を、前記回転台が停止している間は回
転台上面に接触もしくは近接する下方位置に、回転台が
回転して基板の処理が行なわれている間は前記基板支持
手段に支持された基板の裏面に近接する上方位置に移動
させる上下移動手段とを備えた回転式基板処理装置にお
いて、前記上下移動部材の下面の中心部に、上下移動部
材と一体に上下方向に移動する検知用軸を垂設し、前記
回転台の回転軸を中空にするとともに、回転台の中心部
に、前記上下移動部材の前記検知用軸が貫通されてその
上下移動を許容する貫通孔を形成し、前記検知用軸を前
記回転軸の中空部に挿通して、検知用軸の下端部を回転
軸の下端よりさらに延設し、前記検知用軸の延設部の上
下位置を検知して、前記上下移動部材が所定位置に移動
しているかどうかを確認する検知手段を設けたことを特
徴とする。

【００２２】請求項４に係る発明は、請求項１ないし請
求項３のいずれかに記載の回転式基板処理装置におい
て、上記上下移動部材が所定位置に移動していないこと
が上記検知手段によって検知されたときに警報を発する
報知手段を設けたことを特徴とする。

【００２３】請求項１に係る発明の回転式基板処理装置
では、上下移動部材が上下方向に移動すると、その下面
の中心部に垂設された検知用軸は、回転台の中心部に形
成された貫通孔を貫通して上下方向に移動し、検知用軸
の下端部に形設された弁体が、回転軸の中空部に嵌着さ
れたガイド筒の内部において上下方向に移動する。ま
た、真空吸引手段により、回転軸の中空部及びその中空
部に流路接続された真空吸引路を通してガイド筒の内部
が真空吸引される。そして、上下移動部材が回転台の上
面に接触もしくは近接する下方位置に移動したときに
は、弁体の下面側がガイド筒の下部弁座に密接すること
により、下部弁座の部位に形成された開口が塞がれるた
め、回転軸の中空部及び真空吸引路における空気圧が低
下（真空圧が上昇）することになり、この真空圧の上昇
を圧力検知手段によって検知することにより、上下移動
部材が回転台の上面に接触もしくは近接する下方位置に
移動したことが確認される。また、上下移動部材が基板
の下面に近接する上方位置に移動したときには、弁体の
上面側がガイド筒の上部弁座に密接することにより、上
部弁座の部位に形成された開口が塞がれるため、ガイド
筒内、回転軸の中空部及び真空吸引路における空気圧が
低下（真空圧が上昇）することになり、この真空圧の上
昇を圧力検知手段によって検知することにより、上下移
動部材が基板の下面に近接する上方位置に移動したこと
が確認される。

【００２４】請求項２に係る発明の回転式基板処理装置
では、弁体の上面側がガイド筒の上部弁座に密接したと
きには、ガイド筒内がリーク部により回転台の貫通孔を
通して外気に一部リークするので、このときの真空吸引
路の真空圧は、弁体の下面側がガイド筒の下部弁座に密
接したときの真空圧に比べて低くなる。すなわち、上下
移動部材が基板の下面に近接する上方位置に移動したと
きの真空吸引路の真空圧が、上下移動部材が回転台の上
面に接触もしくは近接する下方位置に移動したときの真
空吸引路の真空圧に比べて低くなる。従って、この真空
圧の違いから、上下移動部材が上方位置にあるか下方位
置にあるかを確認することが可能となる。

【００２５】請求項３に係る発明の回転式基板処理装置
では、上下移動部材が上下方向に移動すると、その下面
の中心部に垂設された検知用軸は、回転台の中心部に形
成された貫通孔及び回転軸の中空部をそれぞれ貫通して
上下方向に移動し、検知用軸の下端部をなす延設部が、
回転軸の下端から突出した状態で上下方向に移動する。
従って、検知手段によって検知用軸の延設部の上下位置
を検知することにより、上下移動部材が所定位置に移動
しているかどうかを確認することが可能となる。

【００２６】請求項４に係る発明の回転式基板処理装置
では、検知手段により、上下移動部材が所定位置に移動
していないことが検知されたときに警報が発せられ、上
下移動部材の動作に何か異常があったことが作業者に知
らされる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の最良の実施形態
について図面を参照しながら説明する。

【００２８】図１及び図２は、この発明の実施形態の１
例を示し、図１は、回転式基板処理装置の要部の概略構
成を示す正面断面図、図２は、その一部を拡大した断面
図である。

【００２９】この回転式基板処理装置は、基板Ｗを水平
姿勢に保持して鉛直軸回りに回転する基板回転保持具１
０を有しており、基板回転保持具１０は、下面の中心部
に回転軸１４が垂設され、水平姿勢にかつ鉛直軸回りに
回転自在に支持されて、図示しないモーターに回転軸１
４を介して連結された回転台１２を備えている。回転台
１２の上面には、基板Ｗの周縁に当接して基板Ｗを位置
決めし水平姿勢に支持する複数個の支持ピン１６がねじ
込み固定されており、複数個の微小突起１８が突設され
ている。これらの構成は、図４及び図５に基づいて上述
した処理装置と同様であり、また、支持ピン１６の構成
も、図５に示したものと特に異なる点が無いので、その
説明を省略する。また、図示を省略しているが、図４及
び図５に示した処理装置と同様に、基板回転保持具１０
の周囲には、処理液の飛散を防止するためのカップ本体
が昇降可能に配設され、基板回転保持具１０の上方に
は、処理液を供給するためのノズルが水平方向へ往復移
動可能に配設されている。さらに、この処理装置の側方
には、基板Ｗを処理装置内へ搬入して基板回転保持具１
０上に移載したり、処理済みの基板Ｗを基板回転保持具
１０上から受け取って処理装置外へ搬出したりするため
の搬送アームが、昇降及び水平方向への進退可能に配設
されている。

【００３０】回転台１２の上面側には、薄板材からなる
円形状の上下移動部材２０が配設されている。そして、
図４及び図５に示した処理装置と同様に、上下移動部材
２０は、少なくとも基板Ｗと同程度の大きさにされてお
り、図示例では基板Ｗよりも若干大径に形成されてい
る。尚、上下移動部材２０に円形のガイド孔２２を形成
するのに代えて、上下移動部材の周縁に外方へ開放され
たＵ字状の切欠きを形成するようにしてもよい。また、
上下移動部材２０の周辺部には、回転台１２上の各支持
ピン１６に対応する位置に支持ピン１６の胴部よりも若
干大径のガイド孔２２がそれぞれ形成されていて、これ
らガイド孔２２を貫通して支持ピン１６が回転台１２に
取着されていることにより、上下移動部材２０が支持ピ
ン１６の胴部に案内されて上下方向にのみ移動可能にな
っている。

【００３１】また、この処理装置にも、図４及び図５に
より説明したような上記構成の押し上げ機構が設けられ
ており、その押し上げ機構によって上下移動部材２０が
上下に駆動されるようになっているが、押し上げ機構に
ついては、既に詳しく説明したので、図１及び図２にお
いては、押し上げ機構の図示を省略し、その説明もここ
では省略することにする。尚、上下移動部材２０を上下
方向に移動させる上下移動手段としては、図４及び図５
に示したような押し上げ機構８８に限らず、どのような
機構であっても上下移動部材を上下移動させることがで
きればよいが、上下移動手段そのものは、この発明の要
旨と直接関係しないので、これ以上の説明は省略する。

【００３２】この処理装置では、上下移動部材２０の下
面の中心部に検知用軸２４が垂設されており、検知用軸
２４は上下移動部材２０と一体に上下方向に移動する。
また、回転軸１４が中空に形成されているとともに、回
転台１２の中心部に、回転軸１２の中空部２６に連通し
検知用軸２４が貫通されてその上下移動を許容する貫通
孔２８が形成されている。

【００３３】検知用軸２４の下端部には、円形板部の下
面側に逆円錐形部を一体形成した形状の弁体３０が一体
に形設されている。また、回転軸１４の中空部２６の上
端部に、円筒容器状をなすガイド筒３２が嵌着されてお
り、このガイド筒３２内に検知用軸２４の弁体３０が挿
入されており、弁体３０は、ガイド筒３２内において上
下方向に移動可能になっている。ガイド筒３２は、弁体
３０の下面側円錐面と密接する下部弁座３４と、弁体３
０の上面側平面と密接する上部弁座３６を有し、下部弁
座３４及び上部弁座３６の各部位にそれぞれ開口３８、
４０が形成されている。そして、図２に実線で示したよ
うに、上下移動部材２０が回転台１２の上面に近接する
下方位置に移動したときに、弁体３０の下面側円錐面が
下部弁座３４に密接して、下部開口３８を閉塞するよう
になっている。また、図１に示し図２に二点鎖線で示し
たように、上下移動部材２０が基板Ｗの下面に近接する
上方位置に移動したときに、弁体３０の上面側平面が上
部弁座３６に密接して、上部開口４０を閉塞するように
なっている。また、弁体３０の円形板部には、リーク用
細孔４２が貫通して形成されている。そして、弁体３０
の上面側平面が上部弁座３６に密接して上部開口４０を
閉塞した際に、ガイド筒３２の内部がリーク用細孔４２
及び回転台１２の貫通孔２８を通して外気に一部リーク
するようになっている。尚、このリーク用細孔４２は、
弁体３０の円形板部に必ずしも形成しなくてもよい。

【００３４】回転軸１４の中空部２６には、図示しない
バキュームシール及びハウジングを介して真空吸引路４
４が流路接続されており、真空吸引路４４は真空吸引源
に流路接続されている。そして、真空吸引路４４及び回
転軸１４の中空部２６を通してガイド筒３２の内部を真
空吸引することができるように構成されている。また、
真空吸引路４４には、２接点付圧力計４６が介設されて
おり、この圧力計４６により真空吸引路４４の空気圧
（真空圧）が検知されるようになっている。尚、図示し
ていないが、２接点付圧力計４６によって上下移動部材
２０が所定位置に移動していないことが検知されたとき
に警報を発する報知器を設けておくとよい。

【００３５】次に、上記した構成の回転式基板処理装置
において上下移動部材２０が所定位置に移動しているか
どうかを確認する検知動作について説明する。

【００３６】ガイド筒３２の内部は、真空吸引源により
真空吸引路４４及び回転軸１４の中空部２６を通して常
時或いは任意のタイミングで真空吸引されており、ま
た、２接点付圧力計４６によって真空吸引路４４の真空
圧が常時或いは任意のタイミングでモニターされてい
る。そして、基板Ｗを処理装置内へ搬入しまた処理済み
の基板Ｗを処理装置内から搬出する際には、回転台１２
は停止しており、このとき、上下移動部材２０は、図２
に実線で示したように回転台１２の上面に近接した下方
位置にある。また、上下移動部材２０の下面の中心部に
垂設された検知用軸２４の下端部の弁体３０は、図２に
実線で示した最下位置にあり、その下面側円錐面がガイ
ド筒３２の下部弁座３４に密接した状態となっている。
これにより、ガイド筒３２の下部開口３８が塞がれ、こ
の結果、回転軸１４の中空部２６及び真空吸引路４４に
おける真空圧が上昇することになる。この真空圧の上昇
が２接点付圧力計４６によって検知されることにより、
上下移動部材２０が回転台１２の上面に近接する下方位
置にあることが確認される。

【００３７】一方、回転台１２が停止しているにも拘ら
ず、上下移動部材２０が回転台１２の上面に近接する下
方位置まで下降していないときは、弁体３０の下面側円
錐面がガイド筒３２の下部弁座３４に密接しておらず、
下部開口３８を通して回転軸１４の中空部２６とガイド
筒３２の内部とが連通した状態となっている。この結
果、ガイド筒３２の内部及び回転台１２の貫通孔２８を
通して回転軸１４の中空部２６が外気にリークし、真空
吸引路４４における真空圧が上昇しない。このときは、
２接点付圧力計４６によって異常が検知され、警報器か
ら警報が発せられる。そして、搬送アームも進入しな
い。

【００３８】基板Ｗの処理中において回転台１２が回転
しているときは、上下移動部材２０は、図１に示したよ
うにまた図２に二点鎖線で示したように基板Ｗの裏面に
近接した上方位置にある。そして、上下移動部材２０の
下面の中心部に垂設された検知用軸２４の下端部の弁体
３０は、図２に二点鎖線で示した最上位置にあり、その
上面側平面がガイド筒３２の上部弁座３６に密接した状
態となっている。これにより、ガイド筒３２の上部開口
４０が塞がれ、この結果、ガイド筒３２の内部、回転軸
１４の中空部２６及び真空吸引路４４における真空圧が
上昇することになる。このとき、弁体３０の円形板部に
はリーク用細孔４２が形成されており、そのリーク用細
孔４２及び回転台１２の貫通孔２８を通してガイド筒３
２の内部が外気に一部リークしているため、回転台１２
が停止して上下移動部材２０が回転台１２の上面に近接
した下方位置にあるとき程には、真空吸引路４４におけ
る真空圧は上昇しない。この真空圧の上昇が２接点付圧
力計４６によって検知されることにより、上下移動部材
２０が基板Ｗの裏面に近接した上方位置にあることが確
認される。

【００３９】一方、回転台１２が回転しているにも拘ら
ず、上下移動部材２０が基板Ｗの裏面に近接する上方位
置まで上昇していないときは、弁体３０の上面側平面が
ガイド筒３２の上部弁座３６に密接しておらず、上部開
口４０を通してガイド筒３２の内部と回転台１２の貫通
孔２８とが連通した状態となっている。この結果、ガイ
ド筒３２の内部、回転軸１４の中空部２６及び真空吸引
路４４における真空圧が上昇しない。このときは、２接
点付圧力計４６によって異常が検知され、警報器から警
報が発せられる。

【００４０】尚、弁体３０の円形板部にリーク用細孔４
２を形成しないときは、真空圧の検知だけからは、上下
移動部材２２が下方位置にあるのか上方位置にあるのか
が区別できないので、この場合には、基板回転保持具１
０が回転しているか停止しているかを示す信号と圧力計
からの信号とを組み合わせることにより、上下移動部材
２２の位置を検知するようにすればよい。

【００４１】上下移動部材の下面に垂設された検知用軸
の上下位置を検知して上下移動部材が所定の下方位置又
は上方位置にあるかどうかを確認する検知手段として
は、図１及び図２に示した構成のものに限定されない。
例えば、図３に示すように、モーター５０によって回転
駆動される回転軸５２を下方へ延長して配設し、回転軸
５２の軸心部に形成された中空部５４に、上下移動部材
５６の下面の中心部に垂設された検知用軸５８を挿通し
て、検知用軸５８の下端部を回転軸５２の下端よりさら
に延設し、その検知用軸５８の延設部５８ａに遮光板６
０を取着して、遮光板６０を挾むように上下２個所の位
置に２組の投光部６２ａ、６４ａ及び受光部６２ｂ、６
４ｂをそれぞれ配置したセンサーを設けた構成としても
よい。図中の符号６６は、軸受である。

【００４２】図３に示した処理装置では、上下移動部材
５６が二点鎖線で示したように回転台１２の上面に近接
した下方位置にあるときは、投光部６４ａから照射され
た光線が遮光板６０によって遮られ、受光部６４ｂから
信号が出力されない。これにより、上下移動部材５６が
回転台１２の上面に近接した下方位置にあることが確認
される。また、上下移動部材５６が実線で示したように
基板Ｗの裏面に近接した上方位置にあるときは、投光部
６２ａから照射された光線が遮光板６０によって遮ら
れ、受光部６２ｂから信号が出力されない。これによ
り、上下移動部材５６が基板Ｗの裏面に近接した上方位
置にあることが確認される。尚、上下移動部材５６の下
面に垂設された検知用軸５８の上下位置を光学式センサ
ーで検知するのに代えて、機械接触式の検知器によって
検知するようにしてもよい。

【００４３】

【発明の効果】回転台の上面から少し間隔を設けて基板
を支持し、回転台上に配設された上下移動部材を上下方
向に移動させて、処理中における基板裏面への処理液ミ
ストの付着を防止するとともに、基板の搬入及び搬出を
支障無く行なえるようにする回転式基板処理装置を、請
求項１及び請求項３に係る各発明のように構成すること
により、上下移動部材の動作不良により基板の搬入及び
搬出の動作に支障が生じたり基板の搬入及び搬出の動作
によって機器の一部を損傷したりすることを防止するこ
とができ、また、上下移動部材の動作不良により基板の
処理中に基板裏面側へ処理液ミストが付着することを防
止して、基板の品質不良を生じないようにすることがで
きる。

【００４４】

【００４５】請求項２に係る発明の回転式基板処理装置
では、回転台の回転軸の中空部に流路接続された真空吸
引路の真空圧の違いから、上下移動部材が上方位置又は
下方位置のどちらにあるかを確認することができる。

【００４６】請求項４に係る発明の回転式基板処理装置
では、作業者は、警報によって上下移動部材の動作に何
か異常があったことを正確に知ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施形態の１例を示し、回転式基板
処理装置の要部の概略構成を示す正面断面図である。

【図２】図１に示した処理装置の一部を拡大した断面図
である。

【図３】この発明の実施形態の別の例を示し、回転式基
板処理装置の要部の概略構成を示す正面断面図である。

【図４】従来の回転式基板処理装置の概略構成の１例を
示す一部破断正面図である。

【図５】図４に示した処理装置の一部拡大断面図であ
る。

【符号の説明】

１０ 基板回転保持具 １２ 回転台 １４、５２ 回転軸 １６ 支持ピン ２０、５６ 上下移動部材 ２４、５８ 検知用軸 ２６、５４ 回転軸の中空部 ２８ 回転台の貫通孔 ３０ 弁体 ３２ ガイド筒 ３４、３６ 弁座 ３８、４０ 開口 ４２ リーク用細孔 ４４ 真空吸引路 ４６ ２接点付圧力計 ５０ モーター ６０ 遮光板 ６２ａ、６４ａ 投光部 ６２ｂ、６４ｂ 受光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 彰彦 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大 日本スクリーン製造株式会社 洛西事業 所内 (56)参考文献 特開 平７−130695（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−216542（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下面の中心部に回転軸が垂設され、水平
   姿勢にかつ鉛直軸回りに回転自在に支持された回転台
   と、 この回転台の上面に固設されて、基板を水平姿勢にかつ
   回転台上面から所定間隔を設けて支持する基板支持手段
   と、 前記回転台の回転軸を回転させる回転手段と、 少なくとも基板と同程度の大きさを有し、前記回転台の
   上面側に配設され、水平姿勢を保って上下方向に移動自
   在に支持された上下移動部材と、 この上下移動部材を、前記回転台が停止している間は回
   転台上面に接触もしくは近接する下方位置に、回転台が
   回転して基板の処理が行なわれている間は前記基板支持
   手段に支持された基板の裏面に近接する上方位置に移動
   させる上下移動手段と、を備えた回転式基板処理装置に
   おいて、 前記上下移動部材の下面の中心部に、上下移動部材と一
   体に上下方向に移動する検知用軸を垂設し、前記回転台の回転軸を中空にするとともに、回転台の中
   心部に、回転軸の中空部に連通し前記上下移動部材の前
   記検知用軸が貫通されてその上下移動を許容する貫通孔
   を形成し、 前記検知用軸の下端部に形設されて上下方向に移動する
   弁体と、 前記上下移動部材が前記回転台の上面に接触もしくは近
   接する下方位置に移動したときに前記弁体の下面側と密
   接する下部弁座、及び、上下移動部材が基板の下面に近
   接する上方位置に移動したときに弁体の上面側と密接す
   る上部弁座を有し、下部弁座及び上部弁座の各部位がそ
   れぞれ開口した容器状をなし、前記回転軸の中空部に嵌
   着されたガイド筒と、 前記回転軸の中空部に流路接続された真空吸引路と、 この真空吸引路及び前記回転軸の中空部を通して前記ガ
   イド筒の内部を真空吸引する真空吸引手段と、 前記真空吸引路に介設されてその真空圧を検知し、その
   真空圧の上昇から 前記検知用軸の上下位置を検知して、
   前記上下移動部材が所定位置に移動しているかどうかを
   確認する検知手段と、を備えたことを特徴とする回転式
   基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記弁体の上面側が前記ガイド筒の前記
   上部弁座に密接したときに前記回転台の前記貫通孔を通
   して外気にリークするリーク部が設けられた請求項１記
   載の回転式基板処理装置。
3. 【請求項３】 下面の中心部に回転軸が垂設され、水平
   姿勢にかつ鉛直軸回りに回転自在に支持された回転台
   と、 この回転台の上面に固設されて、基板を水平姿勢にかつ
   回転台上面から所定間隔を設けて支持する基板支持手段
   と、 前記回転台の回転軸を回転させる回転手段と、 少なくとも基板と同程度の大きさを有し、前記回転台の
   上面側に配設され、水平姿勢を保って上下方向に移動自
   在に支持された上下移動部材と、 この上下移動部材を、前記回転台が停止している間は回
   転台上面に接触もしくは近接する下方位置に、回転台が
   回転して基板の処理が行なわれている間は前記基板支持
   手段に支持された基板の裏面に近接する上方位置に移動
   させる上下移動手段と、を備えた回転式基板処理装置に
   おいて、 前記上下移動部材の下面の中心部に、上下移動部材と一
   体に上下方向に移動する検知用軸を垂設し、 前記回転台の回転軸を中空にするとともに、回転台の中
   心部に、前記上下移動部材の前記検知用軸が貫通されて
   その上下移動を許容する貫通孔を形成し、 前記検知用軸を前記回転軸の中空部に挿通して、検知用
   軸の下端部を回転軸の下端よりさらに延設し、 前記検知用軸の延設部の上下位置を検知して、前記上下
   移動部材が所定位置に移動しているかどうかを確認する
   検知手段を設けたことを特徴とする 回転式基板処理装
   置。
4. 【請求項４】 上下移動部材が所定位置に移動していな
   いことが検知手段によって検知されたときに警報を発す
   る放置手段が設けられた請求項１ないし請求項３のいず
   れかに記載の回転式基板処理装置。