JP2891344B2 - 電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方法 - Google Patents

電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方法

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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線や電子線等の電
離放射線の照射による凹凸化粧材の製造方法に関するも
ので、詳しくは凹凸模様を賦形する凹凸型ロール版から
の剥離(脱型)性が良く、微細な凹凸模様を再現性よく
形成できる電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、表面に凹凸模様を有する化粧材の
製造方法は種々知られており、特に凹凸型ロール版を用
いたメカニカルエンボス法は、現在広く実施されてい
る。
【0003】このメカニカルエンボス法による従来技術
としては例えば、基材上に電子線硬化性液状物を塗布
し、ウェット状態で凹凸ロールに接触させ、接触中に基
材側から電子線を照射して上記液状物を硬化させ、最後
に凹凸ロールから凹凸硬化物を脱型する方法(特公昭63
-50066号)が知られている。
【0004】また、基材上に電離放射線硬化性樹脂層を
形成し、エンボス加工を施した後、電離放射線を照射す
ることにより樹脂層の表面を充分硬化させ、凹凸を形成
する方法(特開昭 59-227413号)が知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
公昭63-50066号の方法では、電子線硬化性液状物を凹凸
ロールに接触中に硬化させるため、凹凸模様の形状によ
っては硬化後の脱型がしにくい場合があるという問題を
有している。
【0006】一方、上記特開昭 59-227413号の方法で
は、エンボス加工を施してから電離放射線照射による硬
化までの間に時間があくため、その間にエンボスされた
樹脂層の形状が若干回復して、エンボス版の凹凸模様を
正確に再現することが出来ず、特に微細な凹凸模様の形
成が困難であるという問題を有している。
【0007】本発明は上記従来の問題に鑑みなされたも
ので、凹凸模様を賦形する凹凸型ロール版からの剥離
(脱型)性が良く、微細な凹凸模様を再現性よく形成で
きる電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方法を提供
することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、基材上に電離放射線硬化型樹脂を塗布
後、その樹脂層側を凹凸型ロール版に接触させ、接触中
は電離放射線を照射せずに、しかる後、基材を樹脂層と
ともに凹凸型ロール版より剥離する際、その剥離する直
前および直後の上記樹脂層に電離放射線を照射すること
を特徴とする。
【0009】また、本発明は、凹凸型ロール版の少なく
とも凹部に電離放射線硬化型樹脂を充填させつつ該ロー
ル版及び充填された前記樹脂に基材を圧着させ、圧着中
は電離放射線を照射せずに、しかる後、該基材を前記ロ
ール版より剥離する際、その剥離する直前および直後の
ロール版と基材間に介在している前記樹脂に電離放射線
を照射することを特徴とする。
【0010】以下、本発明を詳述する。
【0011】図1は本発明方法を実施するための装置の
概略を示す構成図である。
【0012】まず、基材1上に、良好な塗布性が得られ
る適度な粘度に調整した液状の電離放射線硬化型樹脂2
を塗布し、ロール4により、ウェット状態でその樹脂層
側を凹凸型ロール版3に接触させて、樹脂層の表面に凹
凸模様を賦形し、接触中は電離放射線を照射せずに、
かる後、基材1を上記樹脂層とともに凹凸型ロール版3
より剥離する際、その剥離する直前および直後の樹脂層
に、照射装置6によって電離放射線を照射し、その樹脂
層を硬化せしめて脱型を行なう。
【0013】ここで、上記基材1としては、建材用紙、
混沙紙、不織布、樹脂フィルム等を使用でき、坪量20
g/m2〜 150g/m2程度のものが望ましい。また、基材
1の表面に所望の柄印刷を施してもかまわない。
【0014】本発明において用いることのできる電離放
射線硬化型樹脂2は、紫外線や電子線等の電離放射線で
硬化する樹脂であり、この電離放射線硬化型樹脂として
は、分子中にエチレン性不飽和結合を有するプレポリマ
ーまたはオリゴマー、例えば、不飽和ポリエステル類、
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウ
レタンアクリレートなどの各種アクリレート類、ポリエ
ステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレートな
どの各種メタクリレート類などの一種もしくは二種以上
に、必要に応じ分子中にエチレン性不飽和結合を有する
モノマー、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなど
のスチレン系モノマー類、アクリル酸メチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシルなどのアクリル酸エステル類、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタク
リル酸エステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド
などの不飽和カルボン酸アミド、アクリル酸−2−
(N,N−ジエチルアミノ)エチル、メタクリル酸−2
−(N,N−ジメチルアミノ)エチルなどの不飽和酸の
置換アミノアルコールエステル類、エチレングリコール
ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレートなどの多官能性化合物、
および(または)分子中に2個以上のチオール基を有す
るポリチオール化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレートなどを混合したものである。
【0015】以上の化合物は任意に混合して用いること
ができるが、適当な塗布適性を持たせるため、上記プレ
ポリマーまたはオリゴマーを希釈剤として使用する。ま
た、この他に界面活性剤、帯電防止剤、安定剤、滑り剤
等の各種添加剤を任意に用いることができる。
【0016】なお、紫外線硬化型とする場合には、上記
樹脂の中に更に光重合開始剤として、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類など、光増感剤としてn−ブチル
アミン、トリエチルアミンなどを混合して用いる。開始
剤の含有量は樹脂に対して 0.1〜10重量部程度であ
る。
【0017】上記電離放射線硬化型樹脂2は市販品とし
て入手することも出来る。
【0018】この電離放射線硬化型樹脂2を基材1上に
塗布する方法は、ロールコート、ナイフコート、グラビ
アコートなどの公知方法を任意に採用することが出来
る。塗布量は特に限定はされないが、一定の厚みを得る
には、3g/m2〜 120g/m2程度が望ましい。
【0019】こうして基材1に塗布された電離放射線硬
化型樹脂2は、ウェット状態で凹凸型ロール版3と接触
し、ここで凹凸模様が表面に賦形される。凹凸型ロール
版3の周面には、木目導管柄や抽象柄など所望する凹凸
模様が形成されており、版深は一般に 0.1μm〜 100μ
m程度である。凹凸型ロール版3は通常金属製の材質の
ものを用いることができるが、当然のことながら電離放
射線があたっても何ら支障の無い材質のものが選択され
るのが望ましい。
【0020】このように凹凸型ロール版3と接触し、
ール4及びロール5間で電離放射線型樹脂2が凹凸型ロ
ール版3と接触中は電離放射線を照射せずに、凹凸模様
が賦形された電離放射線硬化型樹脂2は、しかる後、凹
凸型ロール版3から剥離される。本発明では、この剥離
される直前および直後の樹脂層に照射装置6からの電離
放射線の照射を行なう。この照射により、凹凸型ロール
版3から剥離する直前の樹脂層の少なくとも表面層を瞬
時に硬化させるため、凹凸型ロール版3の凹凸模様を正
確に再現でき、かつ凹凸型ロール版3からの剥離も容易
となる。しかも、凹凸型ロール版3からの剥離直後にも
照射を受けるので、この段階で樹脂の硬化が十分に進行
する。
【0021】電離放射線の照射位置はほぼ図1に示すと
おりであるが、特に、図2に示す如く、樹脂層が凹凸型
ロール版3から剥離するときの接線方向mと電離放射線
の照射方向nとのなす角度α(照射角度)が1〜90
度、好ましくは10〜70度程度となるような照射位置
が望ましい。このような照射位置より電離放射線の照射
を行なうと、凹凸型ロール版3から剥離する直前および
直後の樹脂層へ効率良く照射が行える。また、図1にお
ける樹脂層の剥離位置と電離放射線の照射位置との距離
Aは照射装置6の出力によって異なるが、例えば 200K
V、数mA〜数十mAの出力で電子線照射を行なう場合
には、Aは5mm程度とすることが望ましい。
【0022】電離放射線の照射量は、例えば電子線照射
の場合は4Mrad 〜10Mrad 、紫外線照射の場合は 3
00mJ/cm2 〜1000mJ/cm2 程度が望ましい。
【0023】また、電離放射線は図1に示す照射位置で
はなくて、凹凸型ロール版3の内部に照射装置を配置
し、ここから樹脂層の剥離部位へ照射することも可能で
ある。この場合、凹凸型ロール版3は電子線又は紫外線
透過性の材質で形成される。また別の方法として、ロー
ル5の内部或は近傍に照射装置を配置して、基材1裏面
側より樹脂層の剥離部位へ電離放射線を照射することも
可能である。なお、この場合には、基材1が電子線又は
紫外線透過性の材質で形成されている必要がある。
【0024】また、図1には示していないが、基材1に
電離放射線硬化型樹脂2を塗布した後、これを凹凸型ロ
ール版3と接触させる前又は凹凸型ロール版3から剥離
した後に必要に応じてヒーターによるプレヒート又はポ
ストヒートを行なってもよい。
【0025】図3は本発明の別の態様を示したもので、
凹凸型ロール版3の少なくとも凹部に電離放射線硬化型
樹脂2を充填させつつ基材1をロール4及びロール5間
圧着させ、その圧着中は電子放射線を照射せず、しか
る後、基材1を凹凸型ロール版3より剥離する際、その
剥離する直前および直後のロール版3と基材1間に介在
している上記樹脂2に前述したのと同様にして電離放射
線を照射することにより硬化せしめ、凹凸化粧材を製造
する方法を示している。凹凸型ロール版3の少なくとも
凹部に電離放射線硬化型樹脂2を充填させつつ基材1を
圧着させる具体的な方法としては、図3に示すように、
あらかじめ基材1にロールコート法又はその他適当な塗
布手段により電離放射線硬化型樹脂2を一定の厚みに塗
布し、これを凹凸型ロール版3とロール4の当接部へ供
給する方法の他、電離放射線硬化型樹脂2を基材1に塗
布する代わりに、凹凸型ロール版3とロール4の当接部
上部に貯溜させて該当接部へ供給する方法を採用するこ
とが出来る。
【0026】このような本発明方法によれば、ほぼ60
m/分〜 150m/分程度の速度で、安定した凹凸化粧材
の製造が可能である。
【0027】
【実施例】以下、実施例を示して本発明をさらに具体的
に説明する。
【0028】実施例−1 表面に木目柄印刷を施した坪量30g/m2の建材用紙
(天間特殊製紙(株)製TP−30)の上にロールコー
タで下記組成物(粘度200cps)を20g/m2の塗布量で
均一塗布した。 ・ウレタンアクリレート (ダイセルユーシーピー(株)製 EB−4883) 100重量部 ・1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 10重量部 この塗布物をウェット状態のまま図1に示すように、木
目導管柄の凹凸型ロール版に接触させ、しかる後、該ロ
ール版より剥離する際に、 200KV、14.9mAで4Mra
d の電子線を照射角度10度の位置で照射して硬化させ
ることにより、表面に木目導管模様を有する木目柄凹凸
化粧材を得た。なお、製造は全てインラインで 100m/
分の速度で行った。
【0029】実施例−2 実施例−1の電子線照射角度を70度とした以外は実施
例−1と全く同様にして木目柄凹凸化粧材を得た。
【0030】実施例−3 実施例−1の電子線照射角度を90度とした以外は実施
例−1と全く同様にして木目柄凹凸化粧材を得た。
【0031】実施例−4 実施例−1の電子線照射角度を5度とした以外は実施例
−1と全く同様にして木目柄凹凸化粧材を得た。
【0032】実施例−5 実施例−1で用いた木目柄印刷を施した建材用紙の上に
ロールコータで下記組成物(粘度200cps)を20g/m2
の塗布量で均一塗布した。 ・ウレタンアクリレート(実施例−1と同一のもの) 100重量部 ・1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 10重量部 ・反応開始剤(メルク(株)製 DAROCURE1173) 0.1重量部 この塗布物を実施例−1と同様、木目導管柄の凹凸型ロ
ール版に接触させ、しかる後、該ロール版より剥離する
際に、 500mJ/cm2 の紫外線を照射角度20度の位置
で照射して硬化させることにより、表面に木目導管模様
を有する木目柄凹凸化粧材を得た。なお、製造は40m
/分の速度で行った。
【0033】実施例−6 実施例−5の紫外線照射角度を90度とした以外は実施
例−5と全く同様にして木目柄凹凸化粧材を得た。
【0034】なお、上記実施例1〜6において、各々得
られた化粧材の凹凸模様の再現性および凹凸型ロール版
からの剥離性につき以下の基準により評価したところ、
表1の結果を得た。 ○:良好 △:やや不良であるが、使用可能 ×:不良
【0035】
【表1】 表1の結果より、電子線又は紫外線の照射角度を10〜
70度の範囲とすることにより特に良好な結果が得られ
ることが判った。
【0036】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、凹凸模様を樹脂層表面に賦形する凹凸型ロール版
から剥離する直前および直後の電離放射線硬化型樹脂層
に電離放射線を照射して硬化せしめることにより、凹凸
型ロール版からの剥離性が良好で、かつ該ロール版の凹
凸模様を正確に再現することが出来、特に微細な凹凸模
様であっても再現性よく形成出来るという優れた効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法を実施するための装置の概略を示す
構成図である。
【図2】電離放射線の照射角度を説明するための構成図
である。
【図3】本発明方法を実施するための別の装置の概略を
示す構成図である。
【符号の説明】
1 基材 2 電離放射線硬化型樹脂 3 凹凸型ロール版 4,5 ロール 6 照射装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B05C 11/02 B05C 11/02 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B05D 3/00 - 3/14 B05D 5/00 - 5/14 B05D 7/00 - 7/18 B05D 7/24 B05C 9/00 - 11/08

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に電離放射線硬化型樹脂を塗布
    後、その樹脂層側を凹凸型ロール版に接触させ、接触中
    は電離放射線を照射せずに、しかる後、基材を樹脂層と
    ともに凹凸型ロール版より剥離する際、その剥離する直
    前および直後の上記樹脂層に電離放射線を照射すること
    を特徴とする電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 凹凸型ロール版の少なくとも凹部に電離
    放射線硬化型樹脂を充填させつつ該ロール版及び充填さ
    れた前記樹脂に基材を圧着させ、圧着中は電離放射線を
    照射せずに、しかる後、該基材を前記ロール版より剥離
    する際、その剥離する直前および直後のロール版と基材
    間に介在している前記樹脂に電離放射線を照射すること
    を特徴とする電離放射線照射による凹凸化粧材の製造方
    法。
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