JP2881194B1 - 含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法 - Google Patents
含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2881194B1 JP2881194B1 JP10089292A JP8929298A JP2881194B1 JP 2881194 B1 JP2881194 B1 JP 2881194B1 JP 10089292 A JP10089292 A JP 10089292A JP 8929298 A JP8929298 A JP 8929298A JP 2881194 B1 JP2881194 B1 JP 2881194B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- och
- tfpa
- producing
- containing diether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
ぼす影響の少ない含フッ素ジエーテルを提供し、且つ、
簡便に効率よくそれを合成する方法を提供する。 【解決手段】 下記式(1) CF3CF(OCH3)CF(OCH3)CF3 (1) で表される含フッ素ジエーテル。前記式(1)の含フッ
素ジエーテルを製造する方法において、下記式(2) CF3CF(OCH3)COOM (2) (式中、Mは水素又はアルカリ金属を示す)で表される
含フッ素エーテルを電解ホモカップリングさせることを
特徴とする前記方法。
Description
熱媒体、作動流体、反応溶媒、水切り剤等として有利に
用いられる、塩素を含まず、フッ素、水素を含む、含フ
ッ素ジエーテル及びその製造方法に関するものである。
体、反応溶媒、水切り剤等として、クロロフルオロカー
ボン類(CFC)、ヒドロフルオロカーボン類(HCF
C)が広く用いられていた。しかしこのCFC類、HC
FC類、は、成層圏のオゾン層を破壊し、人類を含む地
球上の生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘され、
現在、その製造が禁止もしくは制限されている。このよ
うな問題に対応するために、大気中に放出された場合に
もオゾン層を破壊しない、溶剤、洗浄剤、伝熱媒体、作
動流体、反応溶媒、乾燥剤(水切り剤)として使用でき
るCFC類、HCFC類の代替化合物が求められてい
る。代替化合物として、有機溶剤系や水系が挙げられ
る。しかし、有機溶剤類はその殆どが可燃性であり、安
全性の点で懸念される。また、水系の場合は、その性能
が十分でない場合があり、また排水処理等の設備が必要
になる問題点が残されている。その他の技術としてヒド
ロフルオロカーボン類(HFC)がある。HFE類は塩
素原子を有しないので、オゾン層への影響はほとんど無
いが、一般に不燃性のHFCはその大気寿命が長く、地
球温暖化への影響が懸念される。そこでこれらのCF
C、HCFC類の代替化合物として有力なものに、ヒド
ロフルオロエーテル類(HFE)が挙げられる。CF
C、HCFC類代替用HFE類にはその沸点から、含フ
ッ素モノエーテルと含フッ素ジエーテルが適切である。
特にメチル基を有するHFE類は大気中のOHラジカル
とメチル基の反応が比較的速いのでその大気寿命は短
く、地球温暖化への影響が少なく、塩素原子を有しない
のでオゾン層への影響もゼロに近い。また、HFE類に
おいてその構成するフッ素原子の数と水素原子の数の比
が1以上の場合、つまり、フッ素原子の数≧水素原子の
数の場合、不燃性もしくは難燃性である。従来、HFE
類の製造方法としては、エーテル化合物をフッ素化する
方法Aと、フッ素原子を含む化合物をビルデイングブロ
ックとして、エーテル化合物を合成する方法Bとに大別
できる。方法Aとしては、以下の方法が挙げられる。 (1)エーテル化合物のフッ素ガスによる直接フッ素化 A.Sekiya et.al.,Chem.Lett
er,1990,609.;R.J.Ragow e
t.al.,J.Org.Chem.,53,78(1
988) (2)エーテル化合物の金属フッ化物等用いる間接フッ
素化 M.Brandwood et al.,J.Fluo
rine Chem.,5,521(1975) (3)エーテル化合物の電解フッ素化 T.Abe et al.,J.Fluorine C
hem.,15,353(1980) 方法Bとしては、以下の方法が挙げられる。 (4)含フッ素オレフィンへのアルコールの付加反応 R.D.Chambers et.al., Ad
v.FluorineChem., 4,50(196
5). (5)アルコールとハロゲン化アルキルとの反応 J.A.Young et.al.,J.Am.Che
m.Soc.,72,1860(1950) (6)含フッ素アルコールとスルホン酸エステルとの反
応 英国特許明細書 第813,493号 (7)酸フルオリドとスルホン酸エステルとの反応 独国特許明細書 第1,294,949号 (8)CF3C(OMe)2CH2COOHの電解カッ
プリング T. Kubota et.al., Chem. L
ett.,1987−1990(1988) しかし、前記の従来技術ではメチル基を有しかつ不燃性
もしくは難燃性の含フッ素ジエーテルを合成することは
困難である。
壊、地球温暖化等の地球環境に及ぼす影響の少ない含フ
ッ素ジエーテルを提供し、且つ、簡便に効率よくそれを
合成する方法を提供することをその課題とするものであ
る。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、下記式(1) CF3CF(OCH3)CF(OCH3)CF3 (1) で表される含フッ素ジエーテルが提供される。また、本
発明によれば、前記式(1)の含フッ素ジエーテルを製
造する方法において、下記式(2) CF3CF(OCH3)COOM (2) (式中、Mは水素又はアルカリ金属を示す)で表される
含フッ素エーテルを電解ホモカップリングさせることを
特徴とする前記方法が提供される。
料CF3CF(OCH3)COOH(TFPA)は、工業
的に利用可能なヘキサフルオロプロピレンオキシド(H
FPO)にメタノールを付加することによって合成され
たCF3CF(OMe)COOMeを、酸で加水分解す
ることによって容易に合成可能である。また、そのアル
カリ金属塩(TFPA−M)は、TFPAをアルカリ金
属その又は水酸化物で中和することによって得ることが
できる。
ーテルは、TFPA又はTFPA−Mを電解脱炭酸する
ことによってCF3CF(OCH3)ラジカルを発生さ
せ、これをホモカップリングさせることによって得るこ
とができる。以下詳細にその方法を説明する。電解装置
における電極は酸化還元電位の高い電極が好ましく、通
常白金製電極が使用可能である。電極間距離は、一般に
狭いほど電流効率が向上するので、狭い方が好ましい
が、狭すぎる場合、短絡の危険性がある。この場合、ポ
リエチレン製、またはテフロン製メッシュシート等の絶
縁体で絶縁することが好ましい。また、電極面積は一般
に広い方が生産性が向上することは自明である。電流密
度は0.02〜0.1A/cm2程度、好ましくは0.
04±0.01A/cm2となるように設定すると好適
な結果を与える。この範囲よりも低電流密度側では電解
の進行に時間を要し、経済的ではない。高電流密度側で
は、ジュール熱の発生が大きく、電解温度制御が困難と
なる。反応形式は当業者の所望によりバッチ式でも連続
式でも良い。また、生成したCF3CF(OCH3)CF
(OCH3)CF3の揮発性は原料であるTFPA又はT
FPA−Mの揮発性よりも高いので、反応蒸留によっ
て、連続的に分離することも可能である。
ルコール類が使用可能である。しかし、これらの溶媒に
水分が混入しても合成は可能であるが、電解効率が低下
するので、無水アルコールが好ましい。支持電解質は任
意のものが使用可能であるが、溶媒のアルコールのアル
カリ金属塩が好ましい。たとえば、MeOHを使用した
場合MeONa、MeOK、MeOLi等、EtOHを
使用した場合EtONa、EtOK、EtOLi等が使
用可能であるがMeOH/MeONaの系が最も適切で
ある。一般にNa塩は他のアルカリ金属塩と比較して電
流効率が高いからである。なお、支持電解質に使用した
アルコキシドのアルカリ金属は電解溶液中で容易に原料
のTFPA中のプロトンと容易に交換し、TFPAのア
ルカリ金属塩が生成する。支持電解質の濃度は0.5m
ol/lから2mol/lが適切であり、好ましくは
0.8mol/lから1.5mol/lが推奨される。
支持電解質の濃度が当該範囲より低濃度側の場合、電流
効率の著しい低下を招く。また、当該範囲より高濃度側
では副生成物が大量に生成する。さらに、電解の進行に
伴って多量の炭酸ナトリウムが電極上に析出して、継続
的な電解を妨げることもある。電解温度は−5℃から3
0℃好ましくは0℃から10℃が推奨される。一般にこ
のような1電子酸化反応の場合、低温側が有利である
が、当該範囲以下の温度ではイオン移動能の低下が起こ
り、電流効率が低下し、当該範囲以上では、副生成物が
増大する。TFPAは不斉炭素を有しているので目的生
成物であるCF3CF(OCH3)CF(OCH3)CF3
はmeso体とdl体の混合物になる。この時、両者の
沸点等の物理的性質はCFC類、HCFC類代替物とし
ての実用上の差違は認められない。本発明の化合物は、
103.9℃の沸点を有する。
する。
mmol)を溶解し0℃に冷却した。HFPOのMeO
H付加によって合成されたTFPAメチルエステル(5
00mmol)をゆっくり滴下し室温で1時間撹拌した
後、この溶液を減圧濃縮し、3Nの塩酸によって溶液を
酸性に調整した。この溶液をジエチルエーテルで抽出
後、ジエチルエーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。これにメタノールを20容量%加え減圧濃縮後、
シロップ状残渣を減圧蒸留し、TFPAを収率72%で
得た。
電極の間隔を7.0mmとし、接触による短絡を防ぐた
めにポリエチレンメッシュを両電極に巻き付けた電極、
および発生ガス補集用トラップを取り付けた無隔膜ビー
カー型電解セル(容量100cc)を使用した。また電
解電源として北斗電工製ポテンショスタット/ガルバノ
スタットHA−211型を用いた。溶媒−支持電解質系
として、メタノール(40ml)に金属ナトリウム(2
mmol)を反応させてメタノール−ナトリウムメトキ
シド系を得た。電解中に発生する熱を除去するため電解
セルを冷却し、電解温度を5℃に制御した。TFPA
(20mmol)をこのメタノール−ナトリウムメトキ
シド系に加えて溶液とし、上述の電解セル中で撹拌しな
がら一定電流(0.41A)で電解を行った。反応の進
行は19F−NMRで追跡し、9.27F/molの通
電で19F−NMRスペクトル上で生成物のシグナルが
増大しなくなったため電解を停止した。電解後、セルの
壁面、電極、ポリエチレンメッシュに付着した炭酸ナト
リウムは、乾燥メタノールで溶解させ電解溶液を合わせ
た。電解溶液中には、TFPAが二量化した1.1.
1.2.3.4.4.4−Octafluorobut
ane、未反応のTFPAの他に、少量ながらトリフル
オロ酢酸エチルエステル、炭酸ジメチルエステル、ジエ
チルエーテルの存在が、GC−MSおよびGC−IRよ
り確認された。電解後の溶液を単蒸留にて粗分離した。
この留分を2重量%の水酸化ナトリウム(20g)で洗
浄し、続いて、水20gで洗浄した後、硫酸ナトリウム
カラムを通して乾燥した。そしてシュナイダー型分留管
(3球)を用いて精留した。100℃〜101℃の留分
を採取し、分光学的分析を行った結果、つぎのようなス
ペクトルが得られた。また、この時の結果を表1に示
す。
量、電解温度、電極間距離、定電流値、通電量の条件を
表1の実施例2〜7の欄に示したように変更した以外、
実施例1と同様にして合成、精製を行った。その結果を
表1に示す。
破壊や地球温暖化等の地球環境に及ぼす影響の少ないも
ので、溶剤、洗浄剤、伝熱媒体、作動流体、反応溶媒、
水切り剤等として有利に適用される。また、本発明の合
成法によれば、前記含フッ素ジエーテルを簡便かつ効率
よく製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記式(1) CF3CF(OCH3)CF(OCH3)CF3 (1) で表される含フッ素ジエーテル。
- 【請求項2】 下記式(1) CF3CF(OCH3)CF(OCH3)CF3 (1) で表される含フッ素ジエーテルの製造方法において、下
記式(2) CF3CF(OCH3)COOM (2) (式中、Mは水素又はアルカリ金属を示す)で表される
含フッ素エーテルを電解ホモカップリングさせることを
特徴とする方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10089292A JP2881194B1 (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10089292A JP2881194B1 (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2881194B1 true JP2881194B1 (ja) | 1999-04-12 |
JPH11269115A JPH11269115A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13966624
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10089292A Expired - Fee Related JP2881194B1 (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2881194B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101097072B1 (ko) | 2005-04-01 | 2011-12-22 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 디술포닐플루오라이드 화합물의 제조 방법 |
WO2006115018A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Asahi Glass Company, Limited | カップリング反応によるフルオロスルホニル基を有する化合物の製造方法 |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP10089292A patent/JP2881194B1/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11269115A (ja) | 1999-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6023002A (en) | Process for preparing hydrofluoroethers | |
US5573654A (en) | Process for making hexafluoropropane and perfluoropropane | |
JP2000508655A (ja) | ヒドロフルオロエーテルの製造方法 | |
JP5097392B2 (ja) | フルオロハロゲンエーテルの製造方法 | |
JPS6140040B2 (ja) | ||
EP2484662A1 (en) | Method for producing perfluorosulfonic acid having ether structure and derivative thereof, and surfactant containing fluorine-containing ether sulfonic acid compound and derivative thereof | |
JP2881194B1 (ja) | 含フッ素ジエーテル化合物およびその製造方法 | |
JP2019182755A (ja) | フルオロオレフィンの製造方法 | |
US7408019B2 (en) | Fluorinated ether compound | |
JP3809864B2 (ja) | 新規な含フッ素アセタール化合物の製造法 | |
JP5558067B2 (ja) | エーテル構造を有するペルフルオロスルホン酸及びその誘導体の製造方法、並びに含フッ素エーテルスルホン酸化合物及びその誘導体を含む界面活性剤 | |
JP2936044B2 (ja) | トリフルオロプロピレンカーボナート及びその製造法 | |
JP2589960B2 (ja) | ヘプタフルオロプロピルフルオロアルキルエーテル類及びその製造方法 | |
JP4973135B2 (ja) | 新規な含フッ素化合物の製造方法および新規化合物 | |
JP5428191B2 (ja) | フルオロカーボンの製造方法 | |
JP2007131877A (ja) | フルオロスルホニル基を有する化合物の製造方法および新規化合物 | |
KR100744834B1 (ko) | 함불소알콕시실란 유도체의 제조방법 | |
JP4231999B2 (ja) | ω−ヨウ化含フッ素アルキルビニルエーテルの製造方法 | |
JP4324373B2 (ja) | 2−(2−フルオロスルホニル)−ペルフルオロエチレンオキシ3−ハロゲン−プロピオン酸のアルキルエステル及びその製造方法 | |
JP3177649B2 (ja) | N−フルオロアルキルペルフルオロ環状アミン類及びその製造方法 | |
JP4228668B2 (ja) | パーフルオロ(3−メトキシプロペン)の製造法 | |
Sawaguchi et al. | Electrochemical Fluorodeiodination of Alkyl Iodides | |
JPH0834754A (ja) | ペンタフルオロエチルフルオロプロピルエーテル類及びその製造方法 | |
JP2003212809A (ja) | 新規な含フッ素エーテル化合物およびその製造法 | |
JPH08325179A (ja) | 2−トリフルオロメチル−3,3,3−トリフルオロプロピオン酸の製造方法及び1,1,3,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080205 Year of fee payment: 9 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080205 Year of fee payment: 9 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080205 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090205 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100205 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110205 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120205 Year of fee payment: 13 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130205 Year of fee payment: 14 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |