JP2847977B2 - 光学記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光学記録媒体およびその製造方法Info
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- JP2847977B2 JP2847977B2 JP3023632A JP2363291A JP2847977B2 JP 2847977 B2 JP2847977 B2 JP 2847977B2 JP 3023632 A JP3023632 A JP 3023632A JP 2363291 A JP2363291 A JP 2363291A JP 2847977 B2 JP2847977 B2 JP 2847977B2
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- Japan
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- recording
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- optical recording
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学記録媒体およびそ
の製造方法、特に、レーザービーム等により情報を高密
度・大容量で記録・再生できる光ディスク等の光学記録
媒体およびその製造方法に関する。
の製造方法、特に、レーザービーム等により情報を高密
度・大容量で記録・再生できる光ディスク等の光学記録
媒体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、レーザービーム等により情報を
媒体に記録しかつ再生する光ディスク等の光学記録メモ
リーは、記録密度が高いことから大容量記録装置として
優れた特徴を有している。この光学記録媒体としては最
初にタンタルと鉛が使用された｛サイエンス（Ｓｃｉｅ
ｎｃｅ）１５４，１５５０，（１９６６）｝。その後、
種々の材料，種々の構成の光学記録媒体が開発された。
その代表的な媒体の概略断面図が図３である。
媒体に記録しかつ再生する光ディスク等の光学記録メモ
リーは、記録密度が高いことから大容量記録装置として
優れた特徴を有している。この光学記録媒体としては最
初にタンタルと鉛が使用された｛サイエンス（Ｓｃｉｅ
ｎｃｅ）１５４，１５５０，（１９６６）｝。その後、
種々の材料，種々の構成の光学記録媒体が開発された。
その代表的な媒体の概略断面図が図３である。
【０００３】すなわち、基板３１の上に透明干渉膜３
２，相変化膜３３，透明干渉膜３４，反射膜３５からな
る記録膜が積層され、記録再生用光ビームの光源として
は通常波長８３０ｎｍ前後の半導体レーザーが用いられ
光ヘッドにより基板３１を通して記録膜におよそφ１．
４μｍに絞られて照射される。
２，相変化膜３３，透明干渉膜３４，反射膜３５からな
る記録膜が積層され、記録再生用光ビームの光源として
は通常波長８３０ｎｍ前後の半導体レーザーが用いられ
光ヘッドにより基板３１を通して記録膜におよそφ１．
４μｍに絞られて照射される。
【０００４】基板３１としては、フォトポリマーのつい
たガラス板やフォトポリマーのついたアクリル板やポリ
カーボネイト樹脂板等が用いられ、通常案内溝が設けら
れている。記録前の相変化膜３３は結晶状態にされてい
る。情報を記録再生するときには光学記録媒体を回転さ
せ記録したい情報に対応させて高パワーの光照射を行な
うことにより相変化膜３３に光エネルギーを吸収させ、
それを熱エネルギーに変換させ昇温させ融解し、高パワ
ーの光照射停止後の相変化膜３３の冷却速度を相変化膜
材料固有の臨界冷却速度よりも速くすることにより相変
化膜の状態を非晶状態にし、照射部分の反射率を増大さ
せることにより記録し、低パワーの光照射を行なうこと
により反射率の違いから相変化膜の状態の違いを読出し
て情報を再生する。
たガラス板やフォトポリマーのついたアクリル板やポリ
カーボネイト樹脂板等が用いられ、通常案内溝が設けら
れている。記録前の相変化膜３３は結晶状態にされてい
る。情報を記録再生するときには光学記録媒体を回転さ
せ記録したい情報に対応させて高パワーの光照射を行な
うことにより相変化膜３３に光エネルギーを吸収させ、
それを熱エネルギーに変換させ昇温させ融解し、高パワ
ーの光照射停止後の相変化膜３３の冷却速度を相変化膜
材料固有の臨界冷却速度よりも速くすることにより相変
化膜の状態を非晶状態にし、照射部分の反射率を増大さ
せることにより記録し、低パワーの光照射を行なうこと
により反射率の違いから相変化膜の状態の違いを読出し
て情報を再生する。
【０００５】ここで記録再生用の光ビームが記録膜上で
およそφ１．４μｍに集光されるためには光ヘッドの集
光レンズの位置がフィードバック制御されることによる
フォーカシング・サーボが行なわれている。このフォー
カシング・サーボは再生用の低パワーの光ビームを記録
膜に照射し、そこからの反射光をナイフエッジ法やプッ
シュプル法等により検出して行なわれる。このことを図
２に示す従来の光学記録媒体の概略平面図を用いて説明
する。
およそφ１．４μｍに集光されるためには光ヘッドの集
光レンズの位置がフィードバック制御されることによる
フォーカシング・サーボが行なわれている。このフォー
カシング・サーボは再生用の低パワーの光ビームを記録
膜に照射し、そこからの反射光をナイフエッジ法やプッ
シュプル法等により検出して行なわれる。このことを図
２に示す従来の光学記録媒体の概略平面図を用いて説明
する。
【０００６】図において、１は中心穴、２２は情報記録
領域、２３はサーボ引込領域である。情報記録領域２２
およびサーボ引込領域２３には相変化膜３３を少なくと
も備えている記録膜が形成されており、その相変化膜は
結晶状態であるため、比較的反射率の低い状態になって
いる。
領域、２３はサーボ引込領域である。情報記録領域２２
およびサーボ引込領域２３には相変化膜３３を少なくと
も備えている記録膜が形成されており、その相変化膜は
結晶状態であるため、比較的反射率の低い状態になって
いる。
【０００７】このような光学記録媒体に記録再生しよう
とするときには、中心穴１で媒体を回転スピンドルに固
定し、媒体を回転させた後再生用光ビームを媒体のサー
ボ引込領域２３に照射して、媒体からの反射光をナイフ
エッジ法等で検出してフォーカス・サーボ可能範囲内に
入るように光ヘッドの集光レンズの位置を移動させ、集
光レンズと媒体との間隔を適切な間隔にしている。
とするときには、中心穴１で媒体を回転スピンドルに固
定し、媒体を回転させた後再生用光ビームを媒体のサー
ボ引込領域２３に照射して、媒体からの反射光をナイフ
エッジ法等で検出してフォーカス・サーボ可能範囲内に
入るように光ヘッドの集光レンズの位置を移動させ、集
光レンズと媒体との間隔を適切な間隔にしている。
【０００８】情報記録領域２２およびサーボ引込領域２
３の相変化膜が結晶状態である従来の光学記録媒体を製
造するには、相変化膜を高温状態で成膜するか、あるい
は相変化膜を低速度で成膜するか、あるいは上方の透明
干渉膜あるいは反射膜を高温状態で成膜するか、あるい
はすべての膜を成膜した後に全領域を一括してアニール
する方法によっている。
３の相変化膜が結晶状態である従来の光学記録媒体を製
造するには、相変化膜を高温状態で成膜するか、あるい
は相変化膜を低速度で成膜するか、あるいは上方の透明
干渉膜あるいは反射膜を高温状態で成膜するか、あるい
はすべての膜を成膜した後に全領域を一括してアニール
する方法によっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな上述した従来の光学記録媒体は、ときとしてフォー
カス・サーボを引込むときに誤動作をおこし、集光レン
ズが光学記録媒体と接触してしまうという事故が発生
し、光ヘッドや光学記録媒体を破損してしまうという欠
点があった。
うな上述した従来の光学記録媒体は、ときとしてフォー
カス・サーボを引込むときに誤動作をおこし、集光レン
ズが光学記録媒体と接触してしまうという事故が発生
し、光ヘッドや光学記録媒体を破損してしまうという欠
点があった。
【００１０】本発明はこのような問題のない光学記録媒
体を提供することを目的とする。
体を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光を照射し、
その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態へ相変化さ
せ反射率が増大することにより情報を記録する光学記録
媒体であって、前記情報記録領域はあらかじめ結晶状態
にしておき、それ以外のサーボ引込領域は非晶状態にし
ておくことにより構成される。
は、少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光を照射し、
その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態へ相変化さ
せ反射率が増大することにより情報を記録する光学記録
媒体であって、前記情報記録領域はあらかじめ結晶状態
にしておき、それ以外のサーボ引込領域は非晶状態にし
ておくことにより構成される。
【００１２】また、本発明の光学記録媒体の製造方法
は、少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光を照射し、
その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態へ相変化さ
せ反射率が増大することにより情報を記録する光学記録
媒体の製造方法であって、前記相変化膜は高温状態にな
らないようにして前記記録膜を成膜して相変化膜を非晶
状態にし、その後情報記録領域のみをアニールすること
により情報記録領域の相変化膜は結晶状態にするように
構成される。
は、少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光を照射し、
その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態へ相変化さ
せ反射率が増大することにより情報を記録する光学記録
媒体の製造方法であって、前記相変化膜は高温状態にな
らないようにして前記記録膜を成膜して相変化膜を非晶
状態にし、その後情報記録領域のみをアニールすること
により情報記録領域の相変化膜は結晶状態にするように
構成される。
【００１３】
【作用】本発明について、図１に示す光学記録媒体の概
略平面図を用いて説明する。
略平面図を用いて説明する。
【００１４】１は媒体固定用の中心穴であり、２は情報
記録領域、３はサーボ引込領域であり、２，３には記録
膜が成膜されている。
記録領域、３はサーボ引込領域であり、２，３には記録
膜が成膜されている。
【００１５】媒体の断面構造は図３に示す従来の媒体と
同様であるが、記録膜の情報記録領域２およびサーボ引
込領域３に形成する相変化膜はその成膜時に温度があが
らないように高速度で成膜し、かつ上方の透明干渉膜や
反射膜の成膜時にも高温状態にならないようにすること
により非晶状態で形成する。
同様であるが、記録膜の情報記録領域２およびサーボ引
込領域３に形成する相変化膜はその成膜時に温度があが
らないように高速度で成膜し、かつ上方の透明干渉膜や
反射膜の成膜時にも高温状態にならないようにすること
により非晶状態で形成する。
【００１６】その後情報記録領域２のみをアニールする
ことにより、相変化膜を結晶状態にできる。
ことにより、相変化膜を結晶状態にできる。
【００１７】図１に示すような光学記録媒体はサーボ引
込領域の反射率が高いのでサーボ信号を大きくとること
でき、フォーカス・サーボ引込み時の誤動作がなくな
る。
込領域の反射率が高いのでサーボ信号を大きくとること
でき、フォーカス・サーボ引込み時の誤動作がなくな
る。
【００１８】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１９】図１は本発明の一実施例を示す概略平面
図、図３は図１に示す情報記録領域の部分断面図であ
る。
図、図３は図１に示す情報記録領域の部分断面図であ
る。
【００２０】フォトポリマーにより案内溝が形成されて
いる直径２００ｍｍ，厚さ１．２ｍｍのガラス製のディ
スク状の基板３１をスパッタ装置内に載置し、１×１０
-6Ｔｏｒｒ以下に真空排気した状態で基板３１を約１０
０℃に加熱した。
いる直径２００ｍｍ，厚さ１．２ｍｍのガラス製のディ
スク状の基板３１をスパッタ装置内に載置し、１×１０
-6Ｔｏｒｒ以下に真空排気した状態で基板３１を約１０
０℃に加熱した。
【００２１】しかる後３×１０-7Ｔｏｒｒ以下の真空度
でかつ、基板温度が４０℃以下の状態でＺｎＳとＳｉＯ
2 との混合物の焼結スパッタターゲットを用いてＺｎＳ
とＳｉＯ2 との混合物で８３０ｍｍの波長での屈折率が
およそ２．２で厚さが６５ｎｍの透明干渉膜３２を形成
した。
でかつ、基板温度が４０℃以下の状態でＺｎＳとＳｉＯ
2 との混合物の焼結スパッタターゲットを用いてＺｎＳ
とＳｉＯ2 との混合物で８３０ｍｍの波長での屈折率が
およそ２．２で厚さが６５ｎｍの透明干渉膜３２を形成
した。
【００２２】次に、Ｇｅ2 Ｓｂ2 Ｔｅ5 の化合物組成の
スパッタターゲットを用いて１０ｎｍ厚の相変化膜３３
をおよそ０．１２ｎｍ／ｓｅｃの成膜速度で成膜し、非
晶状態で形成した。
スパッタターゲットを用いて１０ｎｍ厚の相変化膜３３
をおよそ０．１２ｎｍ／ｓｅｃの成膜速度で成膜し、非
晶状態で形成した。
【００２３】次に、透明干渉膜２２のときと同様にして
厚さが９０ｎｍの透明干渉膜３４を形成し、次にＡｌＣ
ｒスパッタターゲット（Ｃｒの含有率は５原子％）を用
いて４０ｎｍ厚の反射膜３５を形成した。
厚さが９０ｎｍの透明干渉膜３４を形成し、次にＡｌＣ
ｒスパッタターゲット（Ｃｒの含有率は５原子％）を用
いて４０ｎｍ厚の反射膜３５を形成した。
【００２４】相変化膜３３，透明干渉膜３４，反射膜３
５の成膜時の基板温度は４０℃以下に保って成膜した。
５の成膜時の基板温度は４０℃以下に保って成膜した。
【００２５】以上の成膜が終了した後、スパッタ装置か
ら大気中に取出し、反射膜３５の上にＵＶ硬化樹脂をス
ピンコートし、ＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂を
硬化させ厚さおよそ９．５μｍの保護膜を形成した。
ら大気中に取出し、反射膜３５の上にＵＶ硬化樹脂をス
ピンコートし、ＵＶ照射することによりＵＶ硬化樹脂を
硬化させ厚さおよそ９．５μｍの保護膜を形成した。
【００２６】このようにして作製した２枚のディスクを
記録膜が内側になるようにホットメルトで貼合せた。
記録膜が内側になるようにホットメルトで貼合せた。
【００２７】これを、中心穴１を中心にして線速度５．
６５ｍ／ｓｅｃ一定で波長８３０ｎｍの楕円形状の光ビ
ームをφ１００ｍｍ〜φ１８５ｍｍの範囲に照射するこ
とにより、相変化膜３３が結晶状態の情報記録領域２を
形成した。この情報記録領域２の波長８３０ｎｍでの反
射率はおよそ１９％であった。
６５ｍ／ｓｅｃ一定で波長８３０ｎｍの楕円形状の光ビ
ームをφ１００ｍｍ〜φ１８５ｍｍの範囲に照射するこ
とにより、相変化膜３３が結晶状態の情報記録領域２を
形成した。この情報記録領域２の波長８３０ｎｍでの反
射率はおよそ１９％であった。
【００２８】一方、相変化膜３３が結晶状態のφ８５ｍ
ｍ〜φ１００ｍｍのサーボ引込領域３の反射率は４８％
であった。
ｍ〜φ１００ｍｍのサーボ引込領域３の反射率は４８％
であった。
【００２９】このようにして作製した光ディスクを１８
００ｒｐｍで回転させ、波長８３０ｎｍ，パワー０．５
ｍＷの再生用光ビームを媒体のサーボ引込領域３に照射
してフォーカス・サーボを引込んでも誤動作をおこすこ
とはなく、集光レンズと光学記録媒体とが接触してしま
うという事故がなくなった。
００ｒｐｍで回転させ、波長８３０ｎｍ，パワー０．５
ｍＷの再生用光ビームを媒体のサーボ引込領域３に照射
してフォーカス・サーボを引込んでも誤動作をおこすこ
とはなく、集光レンズと光学記録媒体とが接触してしま
うという事故がなくなった。
【００３０】
【発明の効果】本発明の光学記録媒体およびその製造方
法はサーボ引込領域の反射率を情報記録領域よりも高く
することにより、フォーカス・サーボを引込むときの誤
動作をなくし、光ヘッドや光学記録媒体の破損を防げる
という効果がある。
法はサーボ引込領域の反射率を情報記録領域よりも高く
することにより、フォーカス・サーボを引込むときの誤
動作をなくし、光ヘッドや光学記録媒体の破損を防げる
という効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す概略平面図
【図２】従来の一例を示す概略平面図
【図３】図１，図２に示す情報記録領域の部分断面図
１ 中心穴 ２，２２ 情報記録領域 ３，２３ サーボ引込領域 ３１ 基板 ３２，３４ 透明干渉膜 ３３ 相変化膜 ３５ 反射膜
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光
を照射し、その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態
へ相変化させ反射率が増大することにより情報を記録す
る光学記録媒体において、前記情報記録領域はあらかじ
め結晶状態にしておき、それ以外のサーボ引込領域は非
晶状態にしておくことを特徴とする光学記録媒体。 - 【請求項２】 少なくとも相変化膜を備えた記録膜に光
を照射し、その部分の相変化膜を結晶状態から非晶状態
へ相変化させ反射率が増大することにより情報を記録す
る光学記録媒体の製造方法において、前記相変化膜は高
温状態にならないようにして前記記録膜を成膜して相変
化膜を非晶状態にし、その後情報記録領域のみをアニー
ルすることにより情報記録領域の相変化膜は結晶状態に
することを特徴とする光学記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3023632A JP2847977B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3023632A JP2847977B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04263135A JPH04263135A (ja) | 1992-09-18 |
| JP2847977B2 true JP2847977B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=12115961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3023632A Expired - Lifetime JP2847977B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光学記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2847977B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6335069B1 (en) * | 1997-02-28 | 2002-01-01 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Phase-changeable optical recording medium, method of manufacturing the same, and method of recording information on the same |
-
1991
- 1991-02-19 JP JP3023632A patent/JP2847977B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04263135A (ja) | 1992-09-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981006 |