JP2844349B2 - 芳香族ポリアミド分離膜 - Google Patents

芳香族ポリアミド分離膜

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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は新規な芳香族ポリアミド分離膜に関するもの
である。さらに詳しくいえば、本発明は、特に水素、一
酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気などの気体に対する選択
分離性や透過性などの分離性能に優れ、かつ良好な耐熱
性及び高い機械的強度を有し、実用的な気体分離膜とし
て好適な芳香族ポリアミド分離膜に関するものである。
[従来の技術] 近年、高分子膜を用いた膜分離技術は、装置のコンパ
クト化が可能で、操作が簡単であり、かつエネルギー消
費が少ないなどの特徴を有することから、例えば食品工
業、電子工業、製薬工業、原子力産業、化学工業などの
多くの分野において実用化されている。
この分離膜は気体分離膜と液体分離膜とに大別され、
前者の気体分離膜は、例えば水素分離、二酸化炭素分
離、水蒸気分離、酸素分離(酸素富化)などに用いられ
る。一方液体分離膜は、水や溶剤中に溶解、分散あるい
は浮遊しているイオン、分子、コロイド、微粒子などを
ふるい分けて、分離したり、濃縮したりするのに用いら
れ、分離する物質の大きさによって、精密ろ過膜(MF
膜)、限外ろ過膜(UF膜)、逆浸透膜(RO膜)などがあ
る。
ところで、ポリアミド分離膜は、従来逆浸透膜として
の利用が多くなされてきたが、最近、気体分離膜として
利用することが試みられている。例えば主鎖骨格まわり
の自由回転を規制するために置換基を導入した芳香族ポ
リイミド及びポリエステルと共にポリアミドを素材とす
る気体分離膜(特公昭55−41802号公報)、芳香族ポリ
アミドから成る非対称膜(特開昭62−97624号公報)、
さらに同様の芳香族ポリアミドから成る気体分離膜(特
開昭63−190607号公報)などが開示されている。
しかしながら、これらの芳香族ポリアミドから成る気
体分離膜は、いずれも実用膜としては気体透過性、選択
分離性などの分離性能や製膜性などについて必ずしも十
分ではないという欠点を有している。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、このような従来の芳香族ポリアミド分離膜
が有する欠点を克服し、特に、水素、一酸化炭素、二酸
化炭素、水蒸気などの気体に対する選択分離性や透過性
などの分離性能に優れ、かつ良好な耐熱性及び高い機械
的強度を有し、実用的な気体分離膜として好適な新規な
芳香族ポリアミド分離膜を提供することを目的としてな
されたものである。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、前記の好ましい性質を有する芳香族ポ
リアミド分離膜を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、ポ
リアミド主鎖骨格に特定構造の置換ビフェニルジアミン
単位を導入した芳香族ポリアミドを素材とする分離膜に
より、その目的を達成しうることを見い出し、この知見
に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、一般式 (式中のYは二価の芳香族基、R1ないしR8は、それぞれ
水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数1〜12の
有機基であり、それらは同一であってもよいし、たがい
に異なっていてもよいが、その中の少なくとも3つは水
素原子以外の基である) で表される繰り返し単位を有するポリアミドを素材とす
る芳香族ポリアミド分離膜を提供するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明分離膜において、素材として用いられる芳香族
ポリアミドは、前記一般式(I)で表される繰り返し単
位を有するものであって、その中のビフェニレン骨格
は、 のいずれの異性体構造を有するものであってもよい。該
一般式(I)中のR1ないしR8は、それぞれ水素原子、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハゲロン原子、ニトロ
基又は炭素数1〜12の有機基であり、それらは同一であ
ってもよいし、たがいに異なっていてもよいが、R1ない
しR8の中の少なくとも3つは水素原子以外の基であるこ
とが必要である。
前記炭素数1〜12の有機基としては、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、sec−ブチル、t−ブチルなどのアルキル
基、アリル、ビニル、ブテニルなどのアルケニル基、ア
セチレニル、2−プロピニルなどのアルキニル基、シク
ロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシ
クロアルキル基、フェニル、ナフチルなどのアリール
基、ベンジルなどのアラルキル基、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシなどのアルコキシ基、フェノキシ、ナフ
トキシなどのアリーロキシ基、遊離又は金属塩型カルボ
キシル基、アセチルなどのカルボニル基、アセトキシ、
カルボメトキシ、カルボエトキシなどの含エステル有機
基などが挙げられるが、これらの中で特にメチル、エチ
ル、プロピル、ブチルなどのアルキル基及びフェニル基
が好適である。
前記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する芳
香族ポリアミドの製造方法については特に制限はなく、
従来公知の方法を用いることができるが、通常ジカルボ
ン酸又はジカルボン酸ハライドと芳香族ビフェニルジア
ミンとの重縮合反応による方法が用いられる。
該芳香族ビフェニルジアミンとしては、例えば2,3,5
−トリメチルベンジジン、3,3′,5−トリメチルベンジ
ジン、2,2′,6,6−テトラメチルベンジジン、3,3′,5,
5′−テトラメチルベンジジン、2,2′,5,5′−テトラメ
チルベンジジン、2,2′,3,3′−テトラメチルベンジジ
ン、2,3′,5,5′−テトラメチルベンジジン、2,2′,3,5
−テトラメチルベンジジン、2,3,5,6−テトラメチルベ
ンジジン、2,2′,4,4′−テトラメチル−3,3′−ジアミ
ノジフェニル、2,2′,6,6′−テトラエチルベンジジ
ン、3,3′,5,5′−テトラエチルベンジジン、5,5′−ジ
エチル−3,3′−ジメチルベンジジン、3,3′,5,5′−テ
トラ−n−プロピルベンジジン、2,2′−ジ−イソプロ
ピル−5,5′−ジメチルベンジジン、3,3′,5,5′−テト
ラブロモベンジジン、2,2′,6,6′−テトラブロモベン
ジジン、3,3′,5,5′−テトラクロロベンジジン、2,
2′,6,6′−テトラクロロベンジジン、3,3′,5−トリブ
ロモベンジジン、4,4′−ジアミノ−5,5′−ジメチル−
(1,1′−ビフェニル)−3,3′−ジカルボン酸、4,4′
−ジアミノ−6′−ニトロ−(1,1′−ビフェニル)−
2,2′,6−トリカルボン酸、3,3′−ジフェニル−5,5′
ジメチルベンジジン、3,3′−ジフェニル−5,5′−ジエ
チルベンジジン、3,3′,5,5′−テトラメトキシベンジ
ジン、2,2′,6,6′−テトラエトキシベンジジン、3,3′
−フェノキシ−5,5′−ジメチルベンジジン、3,3′,5,
5′−テトラシクロヘキシルベンジジン、3,3′−ジアリ
ル−5,5′−ジメチルベンジジンなど及びこれらの塩類
が挙げられる。これらの芳香族ビフェニルジアミンは、
それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせ
て用いてもよい。
前記一般式(I)におけるYは二価の芳香族基であ
り、具体例としては などの基、一般式 〔式中のZは−CO−、−S−、−O−、−S−S−、−
SO2−、−CH2−、−C(CH3−、−C(CF3−、
−Si(CH3−などである〕 で表される基、及び などのヘテロ環を有する非ベンゼン系芳香族化合物残基
などが挙げられる。これらの二価の芳香族基には、適当
な置換基、例えばハロゲン原子、ニトロ基、アルキル
基、アルコキシ基などが導入されていてもよい。
前記二価の芳香族基のポリアミド主鎖骨格への導入
は、通常それらのジカルボン酸又はその酸ハロゲン化物
と前記芳香族ビフェニルジアミンとの反応により行われ
る。該芳香族ジカルボン酸の具体例としては、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,2′−ビフェニルジカ
ルボン酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、2,4′−ベ
ンゾフェノンジカルボン酸、4,4′−ベンゾフェノンジ
カルボン酸、3,3′−ジフェニルスルホンジカルボン
酸、ジチオサリチル酸、4,4′−ジフェニルエーテルジ
カルボン酸、2,3−ピリジンジカルボン酸、3,4−チオフ
ェンジカルボン酸などを挙げることができる。また、酸
ハロゲン化物としては、例えばイソフタル酸クロリド、
テレフタル酸クロリド、1,5−ナフタレンジカルボン酸
クロリド、2,6−ナフタレンジカルボン酸クロリド、2,
2′−ビフェニルジカルボン酸クロリド、4,4′−ビフェ
ニルジカルボン酸クロリド、2,4′−ベンゾフェノンジ
カルボン酸クロリド、4,4′−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸クロリド、3,3′−ジフェニルスルホンジカルボン
酸クロリド、ジチオサリチル酸クロリド、4,4′−ジフ
ェニルエーテルジカルボン酸クロリド、2,3−ピリジン
ジカルボン酸クロリド、3,4′−チオフェンジカルボン
酸クロリドなど、及びこれらに対応する酸ブロミドや酸
ヨージドなどを挙げることができる。これらの芳香族ジ
カルボン酸やその酸ハロゲン化物は1種用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明分離膜の素材として用いられる芳香族ポリアミ
ドは、前記一般式(I)で表される繰り返し単位を少な
くとも40モル%、好ましくは50モル%以上有するもので
あればよく、他のジアミン成分との共重合体であっても
よい。
本発明の芳香族ポリアミド分離膜は、均質膜や多孔膜
として使用することができるし、またち密層と多孔層を
同時に有する非対称膜としても使用することができ、さ
らに、他のポリアミドを含む有機材料又は無機材料との
混合膜や、他の多孔質基膜との複合膜として使用するこ
とができる。
本発明の芳香族ポリアミド分離膜の製造方法について
は特に制限はなく、従来公知の方法の中から任意の方法
を選択して用いることができる。該方法としては、例え
ば(1)該芳香族ポリアミドの溶液を水面上に展開する
方法、(2)支持基膜上へ重合体溶液を塗布する方法、
(3)該芳香族ポリアミドの原料単量体のジアミン及び
ジカルボン酸を支持基膜に塗布又は含浸後に重合させる
方法、(4)界面重合法による方法などが挙げられる。
また、分離膜の形状についても特に制限はなく、例え
ば、平膜状、中空繊維状、チューブ状など、いずれの形
状のものも使用することができる。
次に、本発明の芳香族ポリアミド分離膜における均質
膜の好適な製造方法の1例について説明すると、前記一
般式(I)で表わさせる繰り返し単位をもつ芳香族ポリ
アミドを含有する極性溶媒溶液をドープ液として用い、
例えばガラス板、テフロン板、ステンレス板、鋼板など
の表面が平滑な基材上に、ドクタープレードなどを用い
て、通常0〜100℃の範囲の温度において、1〜40ミル
程度の薄膜を形成させ、次いで溶媒を常圧下に蒸発させ
たのち、徐々に昇温して通常150℃以上、好ましくは200
〜400℃の範囲の温度において十分に溶媒を除去して乾
燥させることにより、均質膜が得られる。
このような均質膜の製造に用いられる芳香族ポリアミ
ドとしては、N−メチルピロリドンを溶媒に用いて、ポ
リマー濃度を0.5g/dlとし、温度30℃で測定した場合の
対数粘度が0.1以上、好ましくは0.3〜5のものが好適で
ある。
なお、対数粘度は以下で定義された式に従って測定さ
れたものである。
前記均質膜の製造において用いられるドープ液のポリ
マー濃度は、使用するポリアミドの分子量によって異な
るが、通常2〜40重量%の範囲になるように調整され
る。また、このドープ液の調製に用いられる極性溶媒と
しては、例えばN−メチルピロリドン、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素などが
挙げられる。これらの極性溶媒は1種用いてもよいし、
2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の芳香族ポリアミド分離膜は、優れた熱安定性
と高い機能的強度を有しているので、他の有機材料に比
較して高温、高圧下における厳しい環境下でも有利に使
用することができる。例えば、石油3次回収に用いられ
る二酸化炭素の分離、天然ガスからの水蒸気、ヘリウ
ム、二酸化炭素、二硫化炭素などの分離に加えて、さら
には石油精製、アンモニア合成プラントにおける水素の
回収、合成ガス、製鉄ガスからの一酸化炭素と水素の分
離、燃焼用及び医療用の酸素富化空気の製造又は不活性
ガスとしての窒素製造のための空気からの酸素又は窒素
の分離などの気体分離膜として用いることができるし、
また耐有機溶剤性にも優れているので、有機溶剤を含む
排水などの処理に用いられる逆浸透膜、限外ろ過膜、精
密ろ過膜としても有用である。
[実施例] 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
なお、気体透過性能は次式で算出される気体の透過係
数Pで表わすことができる。
Pの単位はcB(センチ・バーレル)で示される。
また、気体の透過性の測定は気体透過率測定装置を用
いて行った。これは、該装置のセルに装着したテスト膜
の一方の面に所定の試験ガスを定圧で供給し、膜の他方
の面から透過してくるガス量を圧力センサー又はガスク
ロマトグラフで分析するものである。
さらに、気体の選択分離性は、測定したそれぞれの気
体透過係数の比で表した。
実施例1 撹拌装置及び窒素導入管を備えた300ml四つ口フラス
コに、窒素雰囲気下、室温で3,3′,5,5′−テトラメチ
ルベンジジン(以下、TMBと略記する)5.08g(21ミリモ
ル)及びN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと略
記する)30mlを加え、撹拌して均一溶液とした。次い
で、撹拌下、イソフタル酸ジクロリド(以下、IPDCと略
記する)4.29g(21ミリモル)をNMP30mlと共に前記ジア
ミン溶液中に加え、120℃に昇温した。数分後に溶液は
増粘し、さらに120℃で4時間撹拌を続け、ポリマー濃
度15重量%の粘稠な芳香族ポリアミド溶液を得た。この
溶液の一部をとり、NMPで希釈して0.5g/dl溶液とし、30
℃における対数粘度を測定したところ1.35dl/gであっ
た。
上記重合体溶液をドクターナイフを用いて26ミルの厚
さにガラス板上に流延し、オーブン中窒素雰囲気下で10
0℃1時間乾燥し、次いで200℃に昇温して6時間乾燥を
続けたのち徐冷して厚さ1.2ミルの均質膜を得た。
この均質膜を用いて30℃においてガス透過試験を行っ
た。その結果を第1表に示す。
実施例2 実施例1と同様にして得た芳香族ポリアミド溶液をド
クターナイフを用いて26ミルの厚さにガラス板上に流延
し、オーブン中窒素雰囲下で100℃、1時間乾燥し、次
いで300℃に昇温して1時間乾燥を続けたのち徐冷して
厚さ0.9ミルの均質膜を得た。
この均質膜を用いて30℃においてガス透過試験を行っ
た結果を第1表に示す。
実施例3 実施例1と同様な300ml四つ口フラスコ中に、窒素雰
囲気下、室温でTMB5.08g(21ミリモル)及びNMP20mlを
加え、撹拌して溶解した。次いで撹拌下にIPDC2.14g(1
0.5ミリモル)をNMP20mlの溶液として加え、120℃に昇
温した。IPDC溶液の添加に伴い系は白濁し、そのままの
状態で10分間撹拌を続けた。次いで撹拌下にテレフタル
酸ジクロリド(以下、TPDCと略記する)2.14g(10.5ミ
リモル)をNMP20mlの溶液として加え、120℃で2時間撹
拌を続け、ポリマー濃度13重量%の透明で粘稠な芳香族
ポリアミド溶液を得た。この溶液の一部をとり、NMPで
希釈して0.5g/dl溶液とし、30℃における対数粘度を測
定したところ、2.04dl/gであった。
上記重合体溶液を80℃に加熱し、NMP80mlで希釈した
のち、80℃でガラス板上にドクターナイフを用いて33ミ
ルの厚さに流延し、オーブン中窒素雰囲気下で100℃、
1時間乾燥し、次いで300℃に昇温して1時間乾燥を続
けたのち、徐冷して厚さ0.9ミルの均質膜を得た。
この均質膜を用いて30℃においてガス透過試験を行っ
た結果を第1表に示す。
比較例1 ジアミンとして、m−フェニレンジアミン(以下、MP
Dと略記する)を用いた以外は、実施例2と全く同様に
して芳香族ポリアミド溶液を得、次いで該溶液をガラス
板上に延流、乾燥して、厚さ1.1ミルの芳香族ポリアミ
ド均質膜を得た。
この均質膜を用いて30℃におけるガス透過試験を起っ
た結果を第1表に示す。
この表から明らかに、TMBの代りにMPDを用いて得られ
た均質膜はガス透過性能に劣ることが分かる。
[発明の結果] 本発明の芳香族ポリアミド分離膜は、優れた耐熱性と
高い機械的強度を有し、かつ従来のポリアミドを素材と
する分離膜に比べて、特に水素、一酸化炭素、二酸化炭
素、水蒸気などの気体の選択分離性や透過性などの分離
性能に優れており、実用的な気体分離膜として好適であ
る。
さらに、耐有機溶剤性にも優れていて、精密ろ過膜、
限外ろ過膜などの多孔質ろ過膜や逆浸透膜としても有用
である。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−143924(JP,A) 特開 昭62−213807(JP,A) 特開 昭50−99971(JP,A) 特開 昭49−43879(JP,A) 特開 昭54−2279(JP,A) 特開 昭63−235328(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B01D 71/54 C08G 69/32

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中のYは二価の芳香族基、R1ないしR8は、それぞれ
    水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数1〜12の
    有機基であり、それらは同一であってもよいし、たがい
    に異なっていてもよいが、その中の少なくとも3つは水
    素原子以外の基である) で表される繰り返し単位を有するポリアミドを素材とす
    る芳香族ポリアミド分離膜。
  2. 【請求項2】有機基がアルキル基またはフェニル基であ
    る請求項1記載の芳香族ポリアミド分離膜。
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