JP2837824B2 - 光保護性化粧品組成物およびその使用方法 - Google Patents
光保護性化粧品組成物およびその使用方法Info
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- JP2837824B2 JP2837824B2 JP7133068A JP13306895A JP2837824B2 JP 2837824 B2 JP2837824 B2 JP 2837824B2 JP 7133068 A JP7133068 A JP 7133068A JP 13306895 A JP13306895 A JP 13306895A JP 2837824 B2 JP2837824 B2 JP 2837824B2
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- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
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- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
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- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/59—Mixtures
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に紫外線から皮膚お
よび／または髪を光保護するための局所使用用の新規な
化粧品組成物（以下、該組成物を、耐太陽光線組成物と
称する）、ならびに、上記美容的な適用における組成物
の使用に関する。より詳細には、本発明は、化粧品とし
て許容される担体中に、少なくとも２つの特別な親油性
遮蔽剤類を共存させて含有した組成物に関し、該遮蔽剤
の１つは、他の遮蔽剤に対して溶解特性を有するもので
ある。本発明はさらに、１または２の特別な固形親油性
遮蔽剤を、１または２の他の液状親油性遮蔽剤を用いて
溶解する方法に関する。
よび／または髪を光保護するための局所使用用の新規な
化粧品組成物（以下、該組成物を、耐太陽光線組成物と
称する）、ならびに、上記美容的な適用における組成物
の使用に関する。より詳細には、本発明は、化粧品とし
て許容される担体中に、少なくとも２つの特別な親油性
遮蔽剤類を共存させて含有した組成物に関し、該遮蔽剤
の１つは、他の遮蔽剤に対して溶解特性を有するもので
ある。本発明はさらに、１または２の特別な固形親油性
遮蔽剤を、１または２の他の液状親油性遮蔽剤を用いて
溶解する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】２８
０nmから４００nmまでの間の波長を有する光線によっ
て、ヒトの表皮は日焼けをするが、UV−B光線として知
られている２８０nmから３２０nmまでの間の波長を有す
る光線では、自然な日焼けを損なう紅班および火傷を起
こすことが知られている。したがって、このUV−B光線
は遮へいされなければならないものである。また、皮膚
に日焼けを起こす３２０nmから４００nmまでの間の波長
を有するUV−A光線は、特に、敏感肌または太陽光線に
連続してさらされた皮膚の場合には、皮膚に害を与える
可能性がある。特に、UV−A光線によって、皮膚の弾性
が失われ、しわが発現して、老化を早発させることにな
る。UV−A光線は、紅班反応の触発を促進し、または、
この反応をある主体において強調し、光毒性または光ア
レルギー性反応の原因にもなりうるものである。したが
って、UV−A光線も同様に遮へいすることが望まれる。
０nmから４００nmまでの間の波長を有する光線によっ
て、ヒトの表皮は日焼けをするが、UV−B光線として知
られている２８０nmから３２０nmまでの間の波長を有す
る光線では、自然な日焼けを損なう紅班および火傷を起
こすことが知られている。したがって、このUV−B光線
は遮へいされなければならないものである。また、皮膚
に日焼けを起こす３２０nmから４００nmまでの間の波長
を有するUV−A光線は、特に、敏感肌または太陽光線に
連続してさらされた皮膚の場合には、皮膚に害を与える
可能性がある。特に、UV−A光線によって、皮膚の弾性
が失われ、しわが発現して、老化を早発させることにな
る。UV−A光線は、紅班反応の触発を促進し、または、
この反応をある主体において強調し、光毒性または光ア
レルギー性反応の原因にもなりうるものである。したが
って、UV−A光線も同様に遮へいすることが望まれる。
【０００３】多くの皮膚の光保護（UV−Aおよび／また
はUV−B）用化粧品組成物が提案されている。特に、よ
り良好な使用感を得るための種々の理由（柔軟性、緩和
性、適用のしやすさ等）から、近年の耐太陽光線組成物
は、通常、水中油形エマルション形態（すなわち、水性
分散連続相と油性分散不連続相とからなる化粧品として
許容される担体である）であり、種々の濃度で、有害な
UV線を選択的に吸収可能な、１以上の標準有機遮蔽剤を
含有するものである。該遮蔽剤類は、所望の保護ファク
ター（保護ファクター（PF）は、UV遮へい剤なしでの紅
班発生限界に達するのに必要な照射期間に対する、UV遮
へい剤を用いた場合の紅班発生限界に達するのに必要な
照射期間の比率によって数学的に表わされる）の性質に
応じて選択される。遮へい剤の親油性、または、親水性
に依存して、遮へい剤は、最終組成物の脂肪相または水
相のいずれかに分布可能である。
はUV−B）用化粧品組成物が提案されている。特に、よ
り良好な使用感を得るための種々の理由（柔軟性、緩和
性、適用のしやすさ等）から、近年の耐太陽光線組成物
は、通常、水中油形エマルション形態（すなわち、水性
分散連続相と油性分散不連続相とからなる化粧品として
許容される担体である）であり、種々の濃度で、有害な
UV線を選択的に吸収可能な、１以上の標準有機遮蔽剤を
含有するものである。該遮蔽剤類は、所望の保護ファク
ター（保護ファクター（PF）は、UV遮へい剤なしでの紅
班発生限界に達するのに必要な照射期間に対する、UV遮
へい剤を用いた場合の紅班発生限界に達するのに必要な
照射期間の比率によって数学的に表わされる）の性質に
応じて選択される。遮へい剤の親油性、または、親水性
に依存して、遮へい剤は、最終組成物の脂肪相または水
相のいずれかに分布可能である。
【０００４】特に有利で現在まで広く使用されている２
つの遮蔽剤は、特にメルク社から”ユーソレックス（EU
SOLEX）６３００”の商品名で販売されている、４−メ
チルベンジリデンショウノウ、および、特にギバウダン
（Givaudan）社から”パルソル（PARSOL）１７８９”の
商品名で販売されている、４−（tert−ブチル）−４’
−メトキシジベンゾイルメタンである。
つの遮蔽剤は、特にメルク社から”ユーソレックス（EU
SOLEX）６３００”の商品名で販売されている、４−メ
チルベンジリデンショウノウ、および、特にギバウダン
（Givaudan）社から”パルソル（PARSOL）１７８９”の
商品名で販売されている、４−（tert−ブチル）−４’
−メトキシジベンゾイルメタンである。
【０００５】該２つの遮蔽剤は親油性遮蔽剤であり、２
つの遮蔽剤のうちの最初の遮蔽剤が、UV−B領域におい
て非常に活性があり、第２の遮蔽剤が、UV−A領域にお
いて非常に活性があるものであるが、両者とも室温では
固体であるという欠点を有する。結果としては、耐太陽
光線化粧品組成物において、該２つの遮蔽剤を別々にま
たは組み合わせて使用することは、製剤性およびその使
用に関して、特に、単独でまたは共に適当に溶解可能な
溶媒を見つけることに関しては、幾分無理なものがあ
る。この点に関して、現在まで通常は、エステル類、特
にC１２〜C１５アルキルベンゾアート類（ファインテッ
クス（Finetex）社から販売されている”フィンソルブ
（FINSOLV）TN”）等のオイル類、または、トリグリセ
リド類、特に、C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（ヒ
ュールス（Huls）”マイグリオール（MIGLYOL）８１
２”）、または、モノアルコール類またはポリオール
類、たとえばエタノール、またはこれらの混合物が使用
されている。これらには、上記２つの遮蔽剤に対する溶
解特性はあるが、これらの製品はやはり、UV、UV−Aま
たはUV−B光線のいずれかの遮蔽に関して、実質的な活
性がないという欠点を有するものである。
つの遮蔽剤のうちの最初の遮蔽剤が、UV−B領域におい
て非常に活性があり、第２の遮蔽剤が、UV−A領域にお
いて非常に活性があるものであるが、両者とも室温では
固体であるという欠点を有する。結果としては、耐太陽
光線化粧品組成物において、該２つの遮蔽剤を別々にま
たは組み合わせて使用することは、製剤性およびその使
用に関して、特に、単独でまたは共に適当に溶解可能な
溶媒を見つけることに関しては、幾分無理なものがあ
る。この点に関して、現在まで通常は、エステル類、特
にC１２〜C１５アルキルベンゾアート類（ファインテッ
クス（Finetex）社から販売されている”フィンソルブ
（FINSOLV）TN”）等のオイル類、または、トリグリセ
リド類、特に、C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（ヒ
ュールス（Huls）”マイグリオール（MIGLYOL）８１
２”）、または、モノアルコール類またはポリオール
類、たとえばエタノール、またはこれらの混合物が使用
されている。これらには、上記２つの遮蔽剤に対する溶
解特性はあるが、これらの製品はやはり、UV、UV−Aま
たはUV−B光線のいずれかの遮蔽に関して、実質的な活
性がないという欠点を有するものである。
【０００６】しかしながら、本出願人は、予想外で驚く
べきことに、サリチル酸ホモメンチル（以後、ホモサラ
ート（ｈｏｍｏｓａｌａｔｅ）と称する）とサリチル酸
オクチルを、単独でまたは混合したものが、上記２つの
固体遮蔽剤、すなわち、４−メチルベンジリデンショウ
ノウ、および／または、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−
４’−メトキシジベンゾイルメタンの注目すべき溶媒で
あることを発見した。該２つの固体遮蔽剤は、上記ホモ
サラートとサリチル酸オクチルに、非常に高い溶解度を
有し、全ての場合において、該溶媒は、現在まで使用さ
れていたその他の溶媒全てにおいて得られる溶解度に顕
著に優るものである。すなわち、該２つの溶媒は、同量
溶媒において、使用される遮蔽剤をより多くの量、溶解
可能である。サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸
オクチルは、ＵＶ−Ｂ活性があるとして既に知られてい
る液状親油性遮蔽剤であるが、上記２つの固体遮蔽剤に
対する溶解特性はこれまで開示されていなかった。該発
見は、４−メチルベンジリデンショウノウおよび／また
は４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾ
イルメタンをこれまで知られている溶媒以外の溶媒でそ
れ自体ＵＶ−Ｂ活性を有するという優位性がある溶媒、
サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルで溶
解可能とした点、および、最終耐太陽光線組成物におい
て該２つの遮蔽剤、４−メチルベンジリデンショウノウ
および４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベ
ンゾイルメタンを、遮蔽効果を有さない従来の溶媒に溶
解した場合と、サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル
酸オクチルに溶解した（本願）場合とで比較すると、本
願による遮蔽組成物の方が、耐太陽光線レベルが向上可
能であるという点で、２倍の効果を有する。該発見が本
発明の基となるものである。
べきことに、サリチル酸ホモメンチル（以後、ホモサラ
ート（ｈｏｍｏｓａｌａｔｅ）と称する）とサリチル酸
オクチルを、単独でまたは混合したものが、上記２つの
固体遮蔽剤、すなわち、４−メチルベンジリデンショウ
ノウ、および／または、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−
４’−メトキシジベンゾイルメタンの注目すべき溶媒で
あることを発見した。該２つの固体遮蔽剤は、上記ホモ
サラートとサリチル酸オクチルに、非常に高い溶解度を
有し、全ての場合において、該溶媒は、現在まで使用さ
れていたその他の溶媒全てにおいて得られる溶解度に顕
著に優るものである。すなわち、該２つの溶媒は、同量
溶媒において、使用される遮蔽剤をより多くの量、溶解
可能である。サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸
オクチルは、ＵＶ−Ｂ活性があるとして既に知られてい
る液状親油性遮蔽剤であるが、上記２つの固体遮蔽剤に
対する溶解特性はこれまで開示されていなかった。該発
見は、４−メチルベンジリデンショウノウおよび／また
は４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾ
イルメタンをこれまで知られている溶媒以外の溶媒でそ
れ自体ＵＶ−Ｂ活性を有するという優位性がある溶媒、
サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル酸オクチルで溶
解可能とした点、および、最終耐太陽光線組成物におい
て該２つの遮蔽剤、４−メチルベンジリデンショウノウ
および４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベ
ンゾイルメタンを、遮蔽効果を有さない従来の溶媒に溶
解した場合と、サリチル酸ホモメンチルおよびサリチル
酸オクチルに溶解した（本願）場合とで比較すると、本
願による遮蔽組成物の方が、耐太陽光線レベルが向上可
能であるという点で、２倍の効果を有する。該発見が本
発明の基となるものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段および作用】本発明によれ
ば、４−メチルベンジリデンショウノウ（化合物A）、
４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメ
タン（化合物B）、およびこれらの混合物から選択され
る溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に
含有する局所使用用皮膚および／または髪の光保護用耐
太陽光線化粧品組成物の製造方法であって、サリチル酸
ホモメンチル（化合物C）、サリチル酸オクチル（化合
物D）、およびこれらの混合物から選択される溶解性遮
蔽成分を、前記溶解対象遮蔽成分の全てを溶解するのに
十分な量を用いて溶解させる工程を含むことを特徴とす
る、耐太陽光線化粧品組成物の製造方法が提供される。
ば、４−メチルベンジリデンショウノウ（化合物A）、
４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメ
タン（化合物B）、およびこれらの混合物から選択され
る溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容される担体中に
含有する局所使用用皮膚および／または髪の光保護用耐
太陽光線化粧品組成物の製造方法であって、サリチル酸
ホモメンチル（化合物C）、サリチル酸オクチル（化合
物D）、およびこれらの混合物から選択される溶解性遮
蔽成分を、前記溶解対象遮蔽成分の全てを溶解するのに
十分な量を用いて溶解させる工程を含むことを特徴とす
る、耐太陽光線化粧品組成物の製造方法が提供される。
【０００８】
【０００９】さらに、本発明によれば、耐太陽光線化粧
品組成物において、４−メチルベンジリデンショウノウ
および／または４−（tert−ブチル）−４’−メトキシ
ジベンゾイルメタンを溶解するためにサリチル酸ホモメ
ンチルおよび／またはサリチル酸オクチルを使用する、
サリチル酸ホモメンチルおよび／またはサリチル酸オク
チルの使用方法が提供される。本発明の他の特徴部、優
位点等は、以下の詳細な記載から明らかとなるであろ
う。
品組成物において、４−メチルベンジリデンショウノウ
および／または４−（tert−ブチル）−４’−メトキシ
ジベンゾイルメタンを溶解するためにサリチル酸ホモメ
ンチルおよび／またはサリチル酸オクチルを使用する、
サリチル酸ホモメンチルおよび／またはサリチル酸オク
チルの使用方法が提供される。本発明の他の特徴部、優
位点等は、以下の詳細な記載から明らかとなるであろ
う。
【００１０】上記のように、４−メチルベンジリデンシ
ョウノウ（溶解されるべき化合物A）は、UV−B領域にお
いて活性で、それ自体知られている遮蔽剤であり、固体
形態で、メルク社から”ユーソレックス（EUSOLEX）６
３００”の商品名で、または、ギバウダン（Givaudan）
社から”パルソル（PARSOL）５０００”の商品名で販売
されている。該製品は、以下の化学式（I）：
ョウノウ（溶解されるべき化合物A）は、UV−B領域にお
いて活性で、それ自体知られている遮蔽剤であり、固体
形態で、メルク社から”ユーソレックス（EUSOLEX）６
３００”の商品名で、または、ギバウダン（Givaudan）
社から”パルソル（PARSOL）５０００”の商品名で販売
されている。該製品は、以下の化学式（I）：
【００１１】
【化１】
【００１２】で表わされる。同様に、４−（tert−ブチ
ル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン（溶解される
べき化合物B）は、UV−A領域において活性であり、それ
自体既に知られている固体遮蔽剤であり、特にギバウダ
ン（Givaudan）社から”パルソル（PARSOL）１７８９”
の商品名で販売されている。該製品は、以下の化学式
（II）：
ル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン（溶解される
べき化合物B）は、UV−A領域において活性であり、それ
自体既に知られている固体遮蔽剤であり、特にギバウダ
ン（Givaudan）社から”パルソル（PARSOL）１７８９”
の商品名で販売されている。該製品は、以下の化学式
（II）：
【００１３】
【化２】
【００１４】で表わされる。ホモサラートとしても知ら
れているサリチル酸ホモメンチル（化合物Aおよび／ま
たは化合物Bを溶解するための化合物C）はまた、商業的
に入手可能であり、ウイトコ（Witco）社から”ケメス
テール（KEMESTER）HMS”として特に販売されている。
該化合物は、以下の化学式（III）：
れているサリチル酸ホモメンチル（化合物Aおよび／ま
たは化合物Bを溶解するための化合物C）はまた、商業的
に入手可能であり、ウイトコ（Witco）社から”ケメス
テール（KEMESTER）HMS”として特に販売されている。
該化合物は、以下の化学式（III）：
【００１５】
【化３】
【００１６】で表わされる。最後に、サリチル酸オクチ
ル（化合物Aおよび／または化合物Bを溶解するために、
化合物Cとともに、または単独で使用される化合物D）
は、BASF社から”ユビナル（UVINUL）O−１８”の商品
名で特に販売されており、以下の化学式（IV）：
ル（化合物Aおよび／または化合物Bを溶解するために、
化合物Cとともに、または単独で使用される化合物D）
は、BASF社から”ユビナル（UVINUL）O−１８”の商品
名で特に販売されており、以下の化学式（IV）：
【００１７】
【化４】
【００１８】で表わされる。化合物Aおよび／またはB
（溶解されるべき遮蔽剤類）は、組成物の全重量に対し
て０．２５重量％から１５重量％までの濃度で存在して
もよい。本発明の特徴によれば、これらの化合物類は、
単独でまたは混合して、最終組成物に、完全な、または
実質的に完全な溶解状態で存在しなければならない。化
合物Cおよび／またはD（溶解剤類）は、組成物の全重量
に対して０．５重量％から２０重量％までの濃度で存在
してもよい。本発明による組成物の特徴によれば、これ
らの化合物類は、単独でまたは混合して、組成物に存在
する化合物Aまたは化合物Bまたは混合物［（化合物A）
＋（化合物B）］の全てまたは実質的に全てを溶解する
のに十分な量で使用されなければならない。固体遮蔽剤
（類）を完全にしかも安定に溶解するための溶媒の最小
限量は、通常、該溶媒における前記遮蔽剤の溶解パラメ
ーターを検討することによって決定可能である。
（溶解されるべき遮蔽剤類）は、組成物の全重量に対し
て０．２５重量％から１５重量％までの濃度で存在して
もよい。本発明の特徴によれば、これらの化合物類は、
単独でまたは混合して、最終組成物に、完全な、または
実質的に完全な溶解状態で存在しなければならない。化
合物Cおよび／またはD（溶解剤類）は、組成物の全重量
に対して０．５重量％から２０重量％までの濃度で存在
してもよい。本発明による組成物の特徴によれば、これ
らの化合物類は、単独でまたは混合して、組成物に存在
する化合物Aまたは化合物Bまたは混合物［（化合物A）
＋（化合物B）］の全てまたは実質的に全てを溶解する
のに十分な量で使用されなければならない。固体遮蔽剤
（類）を完全にしかも安定に溶解するための溶媒の最小
限量は、通常、該溶媒における前記遮蔽剤の溶解パラメ
ーターを検討することによって決定可能である。
【００１９】一般的には、室温で、化合物Aは、化合物
溶媒Cに４０重量％、化合物溶媒Dに５０重量％溶解可能
であり；化合物Bは、化合物溶媒Cに５０重量％、化合物
溶媒Dに３０重量％溶解可能であり；化合物AとBの３：
１の比率の混合物は、化合物溶媒Cに５５重量％、化合
物溶媒Dに５７重量％溶解可能である。さらに、化合物A
および／またはB、および、化合物Cおよび／またはDの
濃度は、最終組成物の太陽光線保護ファクターが好まし
くは少なくとも２であるように、選択されるのが一般的
である。
溶媒Cに４０重量％、化合物溶媒Dに５０重量％溶解可能
であり；化合物Bは、化合物溶媒Cに５０重量％、化合物
溶媒Dに３０重量％溶解可能であり；化合物AとBの３：
１の比率の混合物は、化合物溶媒Cに５５重量％、化合
物溶媒Dに５７重量％溶解可能である。さらに、化合物A
および／またはB、および、化合物Cおよび／またはDの
濃度は、最終組成物の太陽光線保護ファクターが好まし
くは少なくとも２であるように、選択されるのが一般的
である。
【００２０】本発明による組成物の特に優位な特徴によ
れば、該組成物は好ましくは、上記化合物Cおよび／ま
たはD以外の、化合物A、Bまたは（A＋B）用溶解剤を含
有しない、または実質的に含有しないものである。本発
明によれば、ある化合物が他の化合物に関して溶解特性
がないとされるのは、後者の化合物が、前者の化合物に
おいて、約１重量％よりも小さい溶解度を有する場合で
ある。さらに本発明の好ましい実施態様によれば、化合
物A、B、CまたはDが含有されている、化粧品として許容
される担体は、水中油形エマルションである。
れば、該組成物は好ましくは、上記化合物Cおよび／ま
たはD以外の、化合物A、Bまたは（A＋B）用溶解剤を含
有しない、または実質的に含有しないものである。本発
明によれば、ある化合物が他の化合物に関して溶解特性
がないとされるのは、後者の化合物が、前者の化合物に
おいて、約１重量％よりも小さい溶解度を有する場合で
ある。さらに本発明の好ましい実施態様によれば、化合
物A、B、CまたはDが含有されている、化粧品として許容
される担体は、水中油形エマルションである。
【００２１】最後に、本発明の特に好ましい他の実施態
様によれば、本発明による溶解形態における遮蔽溶液
は、上記２つの固体親油性遮蔽剤、すなわち、４−メチ
ルベンジリデンショウノウであるＵＶ−Ｂ遮蔽剤と、４
−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタンであるＵＶ−Ａ遮蔽剤との組み合わせからなり、
最終的には有害なＵＶ領域（２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）
において最大の保護を行う、有用な耐太陽光線製剤とす
ることが可能であるため、該組成物は、さらに完全な安
定性を有するものである。
様によれば、本発明による溶解形態における遮蔽溶液
は、上記２つの固体親油性遮蔽剤、すなわち、４−メチ
ルベンジリデンショウノウであるＵＶ−Ｂ遮蔽剤と、４
−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタンであるＵＶ−Ａ遮蔽剤との組み合わせからなり、
最終的には有害なＵＶ領域（２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）
において最大の保護を行う、有用な耐太陽光線製剤とす
ることが可能であるため、該組成物は、さらに完全な安
定性を有するものである。
【００２２】本発明による耐太陽光線化粧品組成物は、
明らかに、上記親油性遮蔽剤以外の、UV−Aおよび／ま
たはUV−B領域で活性な親水性または親油性遮へい剤を
１以上含有可能である。これらのさらなる遮へい剤は特
に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘
導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、β，β−ジフェニルアクリラー
ト誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、および特許出願W
O−９３−０４６６５に記載の遮蔽シリコーン類および
遮蔽ポリマー類から選択される。有機遮蔽剤類の他の例
としては、特許出願EP−A−０，４８７，４０４に記載
されたものが挙げられる。
明らかに、上記親油性遮蔽剤以外の、UV−Aおよび／ま
たはUV−B領域で活性な親水性または親油性遮へい剤を
１以上含有可能である。これらのさらなる遮へい剤は特
に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘
導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベ
ンゾイルメタン誘導体、β，β−ジフェニルアクリラー
ト誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、および特許出願W
O−９３−０４６６５に記載の遮蔽シリコーン類および
遮蔽ポリマー類から選択される。有機遮蔽剤類の他の例
としては、特許出願EP−A−０，４８７，４０４に記載
されたものが挙げられる。
【００２３】本発明による組成物はまた、皮膚を人工的
に日焼けさせる、および／または、着色するための薬剤
（自己着色剤類）、たとえば、ジヒドロキシアセトン
（DHA）等を含有してもよい。本発明による化粧品組成
物はまた、被覆または非被覆の金属酸化物のピグメント
類またはナノピグメント類（主要粒子の平均粒子径：一
般的には５nmから１００nmまでの間、好ましくは１０nm
から５０nmまでの間）、たとえば、酸化チタン（ルチル
および／またはアナターゼ形態に結晶化したものまたは
アモルファスのもの）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコ
ニウム、または酸化セリウムのナノピグメント類を更に
含有可能である。該ナノピグメント類は、それ自体良く
知られている光保護剤類であり、物理的にUV光線をブロ
ック（反射および／または散乱）することにより作用す
るものである。通常の被覆剤類は、さらに、アルミナお
よび／またはステアリン酸アルミニウムである。被覆ま
たは非被覆の金属酸化物ナノピグメント類は、特に、特
許出願EP−A−０，５１８，７７２およびEP−A−０，５
１８，７７３に開示されている。
に日焼けさせる、および／または、着色するための薬剤
（自己着色剤類）、たとえば、ジヒドロキシアセトン
（DHA）等を含有してもよい。本発明による化粧品組成
物はまた、被覆または非被覆の金属酸化物のピグメント
類またはナノピグメント類（主要粒子の平均粒子径：一
般的には５nmから１００nmまでの間、好ましくは１０nm
から５０nmまでの間）、たとえば、酸化チタン（ルチル
および／またはアナターゼ形態に結晶化したものまたは
アモルファスのもの）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコ
ニウム、または酸化セリウムのナノピグメント類を更に
含有可能である。該ナノピグメント類は、それ自体良く
知られている光保護剤類であり、物理的にUV光線をブロ
ック（反射および／または散乱）することにより作用す
るものである。通常の被覆剤類は、さらに、アルミナお
よび／またはステアリン酸アルミニウムである。被覆ま
たは非被覆の金属酸化物ナノピグメント類は、特に、特
許出願EP−A−０，５１８，７７２およびEP−A−０，５
１８，７７３に開示されている。
【００２４】本発明の組成物は、脂肪類、有機溶媒類、
イオンまたは非イオン性増粘剤類、柔軟剤類、特に抗フ
リーラジカル酸化防止剤等の酸化防止剤類、乳白剤類、
安定化剤類、緩和剤類、シリコーン類、α−ヒドロキシ
酸類、消泡剤類、水和剤類、ビタミン類、香料類、防腐
剤類、界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤類、
ポリマー類、推進剤類、塩基性化または酸性化剤類、お
よび、染料類から選択される従来の添加物、または化粧
品において一般的に使用される、特にエマルション形態
の耐太陽光線組成物の製造において使用される他の成分
から選択される添加物を更に含有可能である。
イオンまたは非イオン性増粘剤類、柔軟剤類、特に抗フ
リーラジカル酸化防止剤等の酸化防止剤類、乳白剤類、
安定化剤類、緩和剤類、シリコーン類、α−ヒドロキシ
酸類、消泡剤類、水和剤類、ビタミン類、香料類、防腐
剤類、界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤類、
ポリマー類、推進剤類、塩基性化または酸性化剤類、お
よび、染料類から選択される従来の添加物、または化粧
品において一般的に使用される、特にエマルション形態
の耐太陽光線組成物の製造において使用される他の成分
から選択される添加物を更に含有可能である。
【００２５】脂肪類は、オイルまたはワックスまたはこ
れらの混合物からなるものであってもよく、脂肪酸類、
脂肪アルコール類、および、脂肪酸エステル類も含有す
る。オイル類は、動物油、植物油、鉱油または合成油、
特に、流動ワセリン、パラフィン油、揮発性または非揮
発性シリコーン油類、イソパラフィン類、およびポリ−
α−オレフィン類、フッ素油、および過フッ素油から選
択される。同様に、ワックス類としては、それ自体知ら
れている、動物、化石、植物、鉱物、または合成ワック
ス類が挙げられる。有機溶媒類としては、低級ポリオー
ル類およびアルコール類が挙げられる。
れらの混合物からなるものであってもよく、脂肪酸類、
脂肪アルコール類、および、脂肪酸エステル類も含有す
る。オイル類は、動物油、植物油、鉱油または合成油、
特に、流動ワセリン、パラフィン油、揮発性または非揮
発性シリコーン油類、イソパラフィン類、およびポリ−
α−オレフィン類、フッ素油、および過フッ素油から選
択される。同様に、ワックス類としては、それ自体知ら
れている、動物、化石、植物、鉱物、または合成ワック
ス類が挙げられる。有機溶媒類としては、低級ポリオー
ル類およびアルコール類が挙げられる。
【００２６】増粘剤類は、特に、架橋ポリアクリル酸
類、変性または無変性のグアガム類およびセルロース
類、たとえばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒド
ロキシエチルセルロース、およびヒドロキシプロピルメ
チルセルロースから選択可能である。本発明の組成物
は、水中油形または油中水形エマルション類の合成にお
いて特に当業者に良く知られている技術にしたがって調
製可能である。該組成物は、クリーム、乳液、ゲルまた
はクリームゲル等の単純なまたは複合した（O／W、W／
O、O／W／O、またはW／O／W）エマルション形態、また
は固形スティック形態であってもよく、また、任意にエ
アゾールとして容器に収容されたり、フォームまたはス
プレーの形態としても提供可能である。
類、変性または無変性のグアガム類およびセルロース
類、たとえばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒド
ロキシエチルセルロース、およびヒドロキシプロピルメ
チルセルロースから選択可能である。本発明の組成物
は、水中油形または油中水形エマルション類の合成にお
いて特に当業者に良く知られている技術にしたがって調
製可能である。該組成物は、クリーム、乳液、ゲルまた
はクリームゲル等の単純なまたは複合した（O／W、W／
O、O／W／O、またはW／O／W）エマルション形態、また
は固形スティック形態であってもよく、また、任意にエ
アゾールとして容器に収容されたり、フォームまたはス
プレーの形態としても提供可能である。
【００２７】エマルションの場合には、該エマルション
の水相は、公知の方法（文献：Bangham, Standish and
Watkins, J. Mol. Biol. １３、２３８（１９６５）、F
R−２，３１５，９９１およびFR−２，４１６，００
８）にしたがって調製された非イオン性小胞分散液を含
有してもよい。本発明の化粧品組成物は、ヒトの表皮ま
たは髪を紫外線から保護するための組成物として、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ製品用組成物
として使用可能である。
の水相は、公知の方法（文献：Bangham, Standish and
Watkins, J. Mol. Biol. １３、２３８（１９６５）、F
R−２，３１５，９９１およびFR−２，４１６，００
８）にしたがって調製された非イオン性小胞分散液を含
有してもよい。本発明の化粧品組成物は、ヒトの表皮ま
たは髪を紫外線から保護するための組成物として、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ製品用組成物
として使用可能である。
【００２８】本発明による化粧品組成物がヒトの表皮を
紫外線から保護するための組成物として、または、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ用組成物とし
て使用される場合には、溶媒類または脂肪類中における
懸濁液または分散液の形態で、非イオン性小胞分散液の
形態で、または、好ましくは水中油形であるエマルショ
ンの形態で、たとえば、クリームまたは乳液、または、
軟膏、ゲル、クリームゲル、固形スティック、スティッ
ク、エアゾールフォーム、またはスプレー形態で提供可
能である。
紫外線から保護するための組成物として、または、耐太
陽光線組成物として、またはメークアップ用組成物とし
て使用される場合には、溶媒類または脂肪類中における
懸濁液または分散液の形態で、非イオン性小胞分散液の
形態で、または、好ましくは水中油形であるエマルショ
ンの形態で、たとえば、クリームまたは乳液、または、
軟膏、ゲル、クリームゲル、固形スティック、スティッ
ク、エアゾールフォーム、またはスプレー形態で提供可
能である。
【００２９】本発明による化粧品組成物が、髪を保護す
るために使用される場合には、シャンプー、ローショ
ン、ゲル、エマルション、非イオン性小胞分散液、また
はヘアースプレーの形態で提供可能であり、たとえば、
シャンプーの前後、染色または脱色の前後、またはパー
マネントウエーブまたはストレートパーマ処理の前、処
理中、または処理後に適用される、洗い流される組成
物、スタイリングまたはトリートメントローションまた
はゲル、ブローまたはヘアーセット用ローションまたは
ゲル、パーマネントウエーブまたはストレートパーマ処
理、染色または脱色用組成物を構成するものであっても
よい。本発明による組成物が、表皮トリートメントクリ
ーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャ
ドウ、ブラッシャー、マスカラ、または”アイライナ
ー”等のまつげ、眉毛、または皮膚用メークアップ製品
として使用される場合には、無水または水性、固形また
はペースト状形態、たとえば、水中油形または油中水形
エマルション、非イオン性小胞分散液または懸濁液とし
て存在可能である。
るために使用される場合には、シャンプー、ローショ
ン、ゲル、エマルション、非イオン性小胞分散液、また
はヘアースプレーの形態で提供可能であり、たとえば、
シャンプーの前後、染色または脱色の前後、またはパー
マネントウエーブまたはストレートパーマ処理の前、処
理中、または処理後に適用される、洗い流される組成
物、スタイリングまたはトリートメントローションまた
はゲル、ブローまたはヘアーセット用ローションまたは
ゲル、パーマネントウエーブまたはストレートパーマ処
理、染色または脱色用組成物を構成するものであっても
よい。本発明による組成物が、表皮トリートメントクリ
ーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャ
ドウ、ブラッシャー、マスカラ、または”アイライナ
ー”等のまつげ、眉毛、または皮膚用メークアップ製品
として使用される場合には、無水または水性、固形また
はペースト状形態、たとえば、水中油形または油中水形
エマルション、非イオン性小胞分散液または懸濁液とし
て存在可能である。
【００３０】一般的には、水中油形エマルションの担体
を有する本発明による耐太陽光線製品としては、水相
は、一般的には製品の全重量に対して、５０重量％から
９５重量％、好ましくは７０重量％から９０重量％存在
し、（特に溶解されるおよび溶解する親油性遮蔽剤を含
有する）油相は、一般的には製品の全重量に対して、５
重量％から５０重量％、好ましくは１０重量％から３０
重量％存在し、（共）乳化剤（類）は、製品の全重量に
対して、０．５重量％から２０重量％、好ましくは２重
量％から１０重量％存在する。本発明によれば、該エマ
ルションの脂肪相は、上記遮蔽剤（類）Aおよび／また
はBが溶解される、化合物Cおよび／またはD（溶媒有機
遮蔽剤）、任意にさらなる遮蔽剤類、および他の従来の
親油性化粧品アジュバント類を主成分とすることが可能
である。
を有する本発明による耐太陽光線製品としては、水相
は、一般的には製品の全重量に対して、５０重量％から
９５重量％、好ましくは７０重量％から９０重量％存在
し、（特に溶解されるおよび溶解する親油性遮蔽剤を含
有する）油相は、一般的には製品の全重量に対して、５
重量％から５０重量％、好ましくは１０重量％から３０
重量％存在し、（共）乳化剤（類）は、製品の全重量に
対して、０．５重量％から２０重量％、好ましくは２重
量％から１０重量％存在する。本発明によれば、該エマ
ルションの脂肪相は、上記遮蔽剤（類）Aおよび／また
はBが溶解される、化合物Cおよび／またはD（溶媒有機
遮蔽剤）、任意にさらなる遮蔽剤類、および他の従来の
親油性化粧品アジュバント類を主成分とすることが可能
である。
【００３１】本発明の開示の最初に記載したように、本
発明によれば、紫外線に対して、皮膚または髪を保護す
るための、皮膚または髪用美容処理方法が提供され、該
方法は、皮膚または髪に、上記化粧品組成物を有効量適
用することからなる。以下、本発明を例解する実施例を
記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
発明によれば、紫外線に対して、皮膚または髪を保護す
るための、皮膚または髪用美容処理方法が提供され、該
方法は、皮膚または髪に、上記化粧品組成物を有効量適
用することからなる。以下、本発明を例解する実施例を
記載するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００３２】
実施例１ 水中油形エマルション： −４−メチルベンジリデンショウノウ（”ユーソレック
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・６g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・２g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・１０g −ナノピグメント級のTiO２・・・・・・４g −セチルステアリルアルコールと３３モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物（ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス（SINNOWAX）AO”）（乳化剤）・・・・・・
７g −グリセリル＝モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物（共乳化剤）・・・・・・２g −C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（”ミグリオール
（MIGLYOL）８１２”）・・・・・・３g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・１．５g −セチルアルコール・・・・・・１．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計１００g 上記エマルションは、遮蔽剤を脂肪相に溶解し、次いで
約８０℃にした該脂肪相に（共）乳化剤を添加して、最
後に、これを急速に攪拌しながら、同温で予め加熱され
た水相を添加することによって調製した。
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・６g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・２g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・１０g −ナノピグメント級のTiO２・・・・・・４g −セチルステアリルアルコールと３３モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物（ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス（SINNOWAX）AO”）（乳化剤）・・・・・・
７g −グリセリル＝モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物（共乳化剤）・・・・・・２g −C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（”ミグリオール
（MIGLYOL）８１２”）・・・・・・３g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・１．５g −セチルアルコール・・・・・・１．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計１００g 上記エマルションは、遮蔽剤を脂肪相に溶解し、次いで
約８０℃にした該脂肪相に（共）乳化剤を添加して、最
後に、これを急速に攪拌しながら、同温で予め加熱され
た水相を添加することによって調製した。
【００３３】実施例２ 水中油形エマルション： −４−メチルベンジリデンショウノウ（”ユーソレック
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・３g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・１g −サリチル酸オクチル・・・・・・８g −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンショウノウ
−１０−スルホン）］酸・・・・・・１．５g −セチルステアリルアルコールと３３モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物（ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス（SINNOWAX）AO”）（乳化剤）・・・・・・
７g −グリセリル＝モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物（共乳化剤）・・・・・・２g −C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（”ミグリオール
（MIGLYOL）８１２”）・・・・・・３g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・１．５g −セチルアルコール・・・・・・１．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計１００g 該エマルションは、実施例１と同様に調製した。
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・３g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・１g −サリチル酸オクチル・・・・・・８g −ベンゼン−１，４−［ジ（３−メチリデンショウノウ
−１０−スルホン）］酸・・・・・・１．５g −セチルステアリルアルコールと３３モルのエチレンオ
キシド含有のオキシエチレン化セチルステアリルアルコ
ールとの混合物（ヘンケル社から販売されている”シン
ノワックス（SINNOWAX）AO”）（乳化剤）・・・・・・
７g −グリセリル＝モノ−、ジ−およびトリステアラートの
混合物（共乳化剤）・・・・・・２g −C８〜C１２脂肪酸トリグリセリド類（”ミグリオール
（MIGLYOL）８１２”）・・・・・・３g −ポリジメチルシロキサン・・・・・・１．５g −セチルアルコール・・・・・・１．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −脱イオン水・・・・・・合計１００g 該エマルションは、実施例１と同様に調製した。
【００３４】実施例３ 油中水形エマルション： −４−メチルベンジリデンショウノウ（”ユーソレック
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・６g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・２g −サリチル酸オクチル・・・・・・８g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・５g −２０モルのプロピレンオキシドと３０モルのエチレン
オキシド含有の［イソステアリン酸およびヒドロキシス
テアリン酸ソルビトールおよびグリセリル］混合物（IC
I社から販売されている”アルラセル（ARLACEL）７８
０”）・・・・・・２．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −香料 ・・・・・・適量 −水・・・・・・合計１００ｇ
ス（EUSOLEX）６３００”）・・・・・・６g −４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイル
メタン（”パルソル（PARSOL）１７８９”）・・・・・
・２g −サリチル酸オクチル・・・・・・８g −サリチル酸ホモメンチル・・・・・・５g −２０モルのプロピレンオキシドと３０モルのエチレン
オキシド含有の［イソステアリン酸およびヒドロキシス
テアリン酸ソルビトールおよびグリセリル］混合物（IC
I社から販売されている”アルラセル（ARLACEL）７８
０”）・・・・・・２．５g −防腐剤 ・・・・・・適量 −香料 ・・・・・・適量 −水・・・・・・合計１００ｇ
Claims (6)
- 【請求項１】 ４−メチルベンジリデンショウノウ（化
合物A）、４−（tert−ブチル）−４’−メトキシジベ
ンゾイルメタン（化合物B）、およびこれらの混合物か
ら選択される溶解対象遮蔽成分を化粧品として許容され
る担体中に含有する局所使用用皮膚および／または髪の
光保護用耐太陽光線化粧品組成物の製造方法であって、
サリチル酸ホモメンチル（化合物C）、サリチル酸オク
チル（化合物D）、およびこれらの混合物から選択され
る溶解性遮蔽成分を、前記溶解対象遮蔽成分の全てを溶
解するのに十分な量を用いて溶解させる工程を含むこと
を特徴とする、耐太陽光線化粧品組成物の製造方法。 - 【請求項２】 前記溶解対象遮蔽成分が、化合物Aおよ
び化合物Bの混合物からなることを特徴とする、請求項
１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記溶解対象遮蔽成分が、組成物の全重
量に対して０．２５重量％から１５重量％までの濃度で
存在することを特徴とする、請求項１または２に記載の
方法。 - 【請求項４】 前記溶解性遮蔽成分が、組成物の全重量
に対して０．５重量％から２０重量％までの濃度で存在
することを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１
項に記載の方法。 - 【請求項５】 前記組成物が、化合物Cおよび／またはD
以外に、化合物A、B、または（A＋B）の溶解剤を全く含
有しない、または、実質的に含有しないことを特徴とす
る、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 前記化粧品として許容される担体が、水
中油形エマルション形態であることを特徴とする、請求
項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9406830 | 1994-06-03 | ||
| FR9406830A FR2720639B1 (fr) | 1994-06-03 | 1994-06-03 | Compositions cosmétiques photoprotectrices et utilisations. |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10192159A Division JP3024102B2 (ja) | 1994-06-03 | 1998-07-07 | 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7133068A Expired - Fee Related JP2837824B2 (ja) | 1994-06-03 | 1995-05-31 | 光保護性化粧品組成物およびその使用方法 |
| JP10192159A Expired - Fee Related JP3024102B2 (ja) | 1994-06-03 | 1998-07-07 | 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10192159A Expired - Fee Related JP3024102B2 (ja) | 1994-06-03 | 1998-07-07 | 光保護性化粧品組成物およびそれを用いた美容処理方法 |
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| DK (1) | DK0685222T4 (ja) |
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| HU (1) | HU217352B (ja) |
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| RU (1) | RU2146514C1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5827508A (en) * | 1996-09-27 | 1998-10-27 | The Procter & Gamble Company | Stable photoprotective compositions |
| US5783173A (en) * | 1996-11-21 | 1998-07-21 | The C. P. Hall Company | Stable sunscreen composition containing dibenzoylmethane derivative, E. G., PARSOL 1789, and C12, C16, C18, branched chain hydroxybenzoate and/or C12, C16, branched chain benzoate stabilizers/solubilizers |
| US6048517A (en) * | 1996-11-25 | 2000-04-11 | Schering-Plough Healthcare Products, Inc. | High SPF sunscreen formulations |
| FR2768730B1 (fr) * | 1997-09-25 | 1999-12-31 | Jean Noel Thorel | Procede de photostabilisation du 4-(ter.butyl) 4'-methoxy dibenzoylmethane, compositions filtrantes ainsi obtenues et leurs utilisations |
| DE19808066A1 (de) * | 1998-02-26 | 1999-09-09 | Beiersdorf Ag | Verwendung von Lichtschutzfilterkombinationen gegen die Zersetzung von Dihydroxyaceton in kosmetischen Zubereitungen |
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