JP5416511B2 - Ｏ／ｗ型日焼け止め化粧料 - Google Patents

Description

本発明は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料に関する。

従来、日焼け止め化粧料に期待される紫外線防御効果としては、主にサンバーンを起こすと考えられているＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）の紫外線に対するものであった。ところが、近年、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）の紫外線は、皮膚を黒化させるとともに皮膚の深部にまで到達し、皮膚の老化を促進し、皮膚ガンの原因になりうるということが分かってきた。このように、日焼け止め化粧料にはＵＶ−Ｂ領域だけでなくＵＶ−Ａ領域にも高い紫外線防御効果が求められている。

一般に、日焼け止め化粧料には、ベンゾフェノン系化合物、パラアミノ安息香酸化合物、ケイ皮酸系化合物等のＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤や、酸化チタン、微粒子酸化チタン、酸化亜鉛、微粒子酸化亜鉛等の紫外線散乱剤が配合されている（特許文献１〜３参照）。そこで高使用感を得ることを目的として、Ｏ／Ｗ系での処方が検討されてきたが、顔料が経時で凝集・沈殿したり、極端に増粘あるいは減粘したりと保存安定性が悪いという欠点を有していた。

さらに、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤として４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンやジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルが知られており、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤であるメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルと組み合わせて紫外線吸収効果の持続性を向上させた皮膚外用剤が開発されている。しかしながら、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤の多くは常温で固形又はペースト状であり、これらを含んだ日焼け止め化粧料はべたつき感を生じる場合があり、使用感の点で満足できるものではない。

そこで使用感の向上を目的として、Ｏ／Ｗ系処方でのアクリル酸系の高分子と紫外線吸収剤を組み合わせる研究が行われている（特許文献４）。また、アクリル酸系高分子はべたつきを有し、使用性が悪いためシリコーンオイルと組み合わせたり、他の高分子増粘剤と組み合わせる研究も行われている（特許文献５）。しかしながら、アクリル酸系の高分子を含有するＯ／Ｗ系組成物は、保存安定性の点で未だ満足できるものではない。

また、日焼け止め化粧料にアスコルビン酸誘導体やグリチルリチン酸誘導体等を配合すること、日焼けによって生じる炎症を抑制する効果が期待できるため有益である。しかしながら、高分子増粘剤を使用した化粧料ではこれらの電解質を配合すると、塗布時によれを生じやすいという問題がある。

また、増粘剤であるヒドロキシエチルアクリル酸又はアクリル酸ナトリウムとアクリルジメチルタウリンナトリウムの共重合体は、スクワランやイソヘキサデカンなどの油剤と非イオン界面活性剤と共に、油中に分散された組成物として市販されており、この組成物を用いると、他の界面活性剤を配合しなくてもシリコーン油などの油剤を乳化し安定に配合することができるため、肌なじみが良く、べたつきのない優れた使用感触が得られるということが知られている。また、前記組成物中に含まれる界面活性剤はごく少量であり、それ以外の界面活性剤を配合しなくても良いので、得られた乳化物は安全性にも優れている。しかし、前記組成物に電解質成分を配合すると極端に粘度が低下し、油剤の安定性も悪くなるという問題があった。そこで、このような粘度低下を補うために他の水溶性増粘剤を併用するという技術も報告されている（特許文献６）。しかし、このような組成物も、塗布時の崩れ感が悪く、肌なじみも悪いという欠点があった。

特開平５−０２５０２８号公報 特開平９−２２７３５０号公報 特開２０００−２７３０１１号公報 特開２００５−２７２３８９号公報 特開平８−２４５３５７号公報 特開２００３−３００８５６号公報

本発明の課題は、優れたＵＶ−Ａ吸収能を持ち、保存安定性に優れ、指どれが良く、べたつきがなく、よれを生じにくく、塗布時のくずれがよく、肌なじみに優れた使用感を有するＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を提供することにある。

そこで、本発明者は、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤を含有する日焼け止め化粧料における保存安定性と、塗布性及び使用感とを両立すべく種々検討した。上記特許文献６のヒドロキシエチルアクリル酸又はアクリル酸ナトリウムとアクリロイルジメチルタウリンの共重合体と水溶性増粘剤と電解質を含有する系に、パラメトキシケイヒ酸２−エチルヘキシル等のＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤を配合すると、べたつきが生じ使用感が悪化してしまうにもかかわらず、全く意外にも前記２種の増粘剤と、グリチルリチン酸若しくはその誘導体又はアスコルビン酸若しくはその誘導体と、２０℃で固形状又はペースト状のＵＶ−Ａ紫外線吸収剤とを配合すれば、優れたＵＶ−Ａ吸収能に加えて、保存安定性が良好であるとともに、塗布時の指どれ等がよく、かつ塗布時の使用感も良好なＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料が得られることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）ポリアクリルアミド、及び／又はアクリル酸ナトリウム／アクリロイルジメチルタウリン共重合体
（Ｂ）２０℃で固形状又はペースト状を呈するＵＶ−Ａ紫外線吸収剤
（Ｃ）前記の成分（Ａ）を除くカルボキシル基含有の増粘性高分子
（Ｄ）グリチルリチン酸若しくはその誘導体及び／又はアスコルビン酸若しくはその誘導体
を含むＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を提供するものである。

本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、優れたＵＶ−Ａ吸収能を持ち、保存安定性に優れ、指どれが良く、べたつきがなく、よれを生じにくく、塗布時のくずれがよく、肌なじみに優れた使用感を有するものである。

本発明で用いる成分（Ａ）のポリアクリルアミド、及びアクリル酸ナトリウム／アクリロイルジメチルタウリン共重合体としては、いずれか一方を用いてもよいし、両者を併用してもよい。これらの成分は市販されているものを使用することができる。例えば、スクワランやイソヘキサデカンなどの油剤と非イオン界面活性剤と共に、油中に分散された組成物として、ＳＥＰＰＩＣ社（フランス）からＳＥＰＩＧＥＬ５０１又はＳＥＰＩＧＥＬ３０５、ＳＩＭＵＬＧＥＬ ＥＧ（登録商標）として提供されているものを使用することができる。これらの中でも、アクリル酸ナトリウム／アクリロイルジメチルタウリン共重合体を組成物として配合しているＳＩＭＵＬＧＥＬ ＥＧを用いると、保存安定性や塗布時の伸びのよさの点で望ましい。

また、本発明における成分（Ａ）の好ましい含有量は、重合体量（純分）として本発明化粧料中に０．０１〜２質量％（以下、単に％として示す）であり、より好ましくは０．０５〜１．５％である。この範囲内であれば、保存安定性、及び塗布時の伸びがよく、指どれが良く、肌なじみに優れる。

本発明に用いられる成分（Ｂ）の２０℃で固形状又はペースト状を呈するＵＶ−Ａ紫外線吸収剤としては、具体的には、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、メチレンビズベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンなどが挙げられ、これらは市販されている。これらの中でもジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルが塗布時にきしみを生じず、肌なじみに優れる点で望ましい。これらのＵＶ−Ａ紫外線吸収剤は単独で用いても２種以上を併用してもよい。

また、本発明における成分（Ｂ）の好ましい含有量は、本発明化粧料中に０．１〜５．０％であり、特に好ましくは０．３〜３．０％である。この範囲内であれば、十分なＵＶ−Ａ領域の紫外線防御効果が得られ、且つべたつきがない使用感が得られる。

本発明で用いる成分（Ｃ）のカルボキシル基含有増粘性高分子は、カルボキシル基をアルカリ性物質で中和することにより水溶性となり、水系の粘度を上昇させるものであり、具体的にはカルボキシビニルポリマー、アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体、アクリル酸アルキル・メタクリル酸アルキルポリオキシエチレンエステル共重合体、アクリル酸アルキル・イタコン酸アルキルポリオキシエチレンエステル共重合体、メチルビニルエーテル・無水マレイン酸・デカジエン共重合体、ステアレス−１０アリルエーテル・アクリル酸アルキル共重合体等が挙げられる。ただし、成分（Ａ）であるポリアクリルアミド及び／又はアクリル酸ナトリウムとアクリロイルジメチルタウリン共重合体は除く。これらの中でも、カルボキシビニルポリマー又はアルキル変性カルボキシビニルポリマーを用いると、塗布時のくずれがよく、また保存安定性にも優れ望ましい。カルボキシビニルポリマー及びアルキル変性カルボキシビニルポリマーは、市販されているものを用いることもでき、例えば、前者であれば３Ｖシグマ製のシンタレンＫ、シンタレンＬ（登録商標）など、後者であればルーブリゾール社製のＣＡＲＢＯＰＯＬ １３４２、ＣＡＲＢＯＰＯＬ ＥＴＤ２０２０、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ−１、ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ−２（登録商標）などを使用することができる。これらの増粘性高分子は単独で用いても２種以上を併用してもよい。

また、本発明における成分（Ｃ）の含有量は、本発明化粧料中に好ましくは０．００１〜３％、より好ましくは０．０１〜２％である。この範囲内であれば、保存安定性、及びよれがなく、指どれが良く、くずれ感のよい優れた使用感が得られる。

さらに、本発明で用いる水溶性増粘剤は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を組み合わせて使用することが、優れた保存安定性を示す点においても、指どれを良くし、べたつきやよれを生じにくくする点においても重要である。成分（Ａ）と成分（Ｃ）の含有質量比（Ａ／Ｃ）は、８／１〜１／３、さらに５／１〜１／３、特に４／１〜１／２が保存安定性及び使用感の点から好ましい。

本発明で用いる成分（Ｄ）のグリチルリチン酸又はその誘導体、及びアスコルビン酸又はその誘導体はいずれも水溶性の電解質であり、本発明の日焼け止め化粧料においては抗炎症作用、美白作用等を期待して配合される。これらの成分は単独で用いても２種以上を併用してもよい。
これらの誘導体は、塩の形で配合されることが多いため、増粘剤により、増粘、安定化している製剤に配合した場合には、製剤の粘度が低下してしまう。
粘度低下として問題となる場合は、これらの電解質を配合しない場合に比較して、配合した場合の粘度が１／２以下に低下したような場合である。こうした場合、本来目的とした剤系を保つことができず、また保存安定性においても悪化する場合がある。

本発明で用いられるグリチルリチン酸誘導体としては、グリチルリチン酸塩が挙げられ、例えば、グリチルリチン酸ジカリウム、グリチルリチン酸モノアンモニウム等が例示できる。またアスコルビン酸誘導体としては、アスコルビン酸塩、アスコルビン酸エステル、アスコルビン酸エステルの塩が挙げられ、アスコルビン酸エステルとしては、例えば、アスコルビン酸グルコシド、アスコルビン酸−２−リン酸エステル、アスコルビン酸−３−リン酸エステル、アスコルビン酸−６−リン酸エステル、アスコルビン酸−２−ポリリン酸エステル、アスコルビン酸−２−硫酸エステル、アスコルビン酸−２−パルミチン酸エステル、アスコルビン酸−６−パルミチン酸エステル、アスコルビン酸−２−ステアリン酸エステル、アスコルビン酸−６−ステアリン酸エステル、アスコルビン酸−２，６−ジブチルエステル、アスコルビン酸−２，６−ジパルミチン酸エステル等が例示できる。またこれらの塩類としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩、アンモニウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールミン塩、トリエタノールアミン塩、モノイソプロパノールアミン塩、トリイソプロパノールアミン塩等が挙げられる。
本発明では、グリチルリチン酸ジカリウム、アスコルビン酸２−グルコシド、リン酸Ｌ−アスコルビルマグネシウム等が好ましく用いられる。

本発明における成分（Ｄ）の好ましい含有量は、配合する成分により適宜設定されるものであるが、本発明化粧料中に０．０１〜１０％、さらに好ましくは０．１〜５％である。この範囲内であれば、保存安定性に優れ、且つ塗布時のくずれがよく、肌なじみの点においても優れる。

本発明のＯ／Ｗ型日焼止め化粧料は、上記必須成分に加え、有機系紫外線吸収剤を配合することにより、より高い紫外線防御効果を得ることができる。本発明で用いられる有機系紫外線吸収剤としては、例えば、パラメトキシケイ皮酸ベンジル、パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシケイ皮酸２−エトキシエチル、ジパラメトキシケイ皮酸モノ−２−エチルヘキサン酸グリセリル、パラメトキシケイ皮酸イソプロピル・ジイソプロピルケイ皮酸エステル混合物等のケイ皮酸系紫外線吸収剤；ヒドロキメトキシベンゾフェノン、ヒドロキメトキシベンゾフェノンスルホン酸、ヒドロキメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム、ジヒドロキメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキメトキシベンゾフェノンジスルホン酸ナトリウム、ジヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンジフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；パラアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセリル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル、パラジメチルアミノ安息香酸オクチル、４−［Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミノ］安息香酸エチル等の安息香酸エステル系紫外線吸収剤；サリチル酸エチレングリコール、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸ホモメンチル等のサリチル酸系紫外線吸収剤；２，４，６−トリアニリノ−ｐ−（カルボ−２’−エチルヘキシル−１’−オキシ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；オキシベンゾン、アントラニル酸メンチル、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸等が挙げられ、これらを１種単独又は２種以上を組み合わせて配合することができる。好ましい含有量は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基準として、０．１〜１０％である。

本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料には上記成分の他に、目的に応じて本発明の効果を損なわない量的質的範囲内で、セタノール、ベヘニルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オクチルドデカノール等の高級アルコール類、ステアリン酸、ミリスチン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、ウンデシレン酸等の脂肪酸類、ミリスチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸セチル、ミリスチン酸ミリスチル、ラウリン酸ヘキシル、オレイン酸デシル、ミリスチン酸イソプロピル、ジメチルオクタン酸へキシルデシル、モノステアリン酸グリセリン、トリオクタン酸グリセリン、フタル酸ジエチル、モノステアリン酸エチレングリコール、オキシステアリン酸オクチル等のエステル類、コレステロール、フィトステロール等のステロール類、分岐脂肪酸コレステロールエステル、マカデミアナッツ油脂肪酸フィトステロールエステル、ステアリン酸コレステリル、オレイン酸コレステロールエステル等のステロール脂肪酸エステル類、流動パラフィン、ワセリン、スクワラン等の炭化水素類、ミツロウ、モクロウ、カルナバロウ等のロウ類、米糠油、オリーブ油、大豆油、米胚芽油、ホホバ油、ヒマシ油、紅花油、ヒマワリ油、オリーブ油、マカデミアナッツ油等の油脂類、ジプロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ソルビトール、マルチトール、ジグリセリン等の保湿剤、セチル硫酸ナトリウム、Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム塩等の陽イオン界面活性剤、ベタイン型、スルホベタイン型、スルホアミノ酸型等の両性界面活性剤、レシチン、水素添加レシチン、リゾフォスファチジルコリン、セラミド、セレブロシド等の天然系界面活性剤、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン等のシリコーン系界面活性剤、スクレロチウムガム、カラギーナン、トラガカントガム、クインスシード、カゼイン、デキストリン、ゼラチン、ＣＭＣ、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、グアーガム、キサンタンガム、ベントナイト等の水溶性増粘剤、カミツレ、センブリ、アロエ、モモ、カロット、スギナ、クワ、桃の葉、セージ、ビワ葉、キュウカンバー、セイヨウキズタ、ハイビスカス、ウコン、ローズマリー、オウゴン、チョウジ、フェンネル、プルーン、ジュズダマ、甘草等の植物エキス、ビタミンＡ類、Ｂ類、Ｅ類等のビタミン類、酸化防止剤、防腐剤、消炎剤、香料等の通常化粧料に配合される他の成分を適宜配合することが可能である。

本発明の組成物は、例えば乳液、ゲル、クリーム等の製剤の形態で適用可能である。従来から公知の方法でこれらの形態に調製し、乳剤、ゲル剤、クリーム剤等の種々の剤型とすることができる。これらを身体に塗布等することにより適用することができる。特にこれら剤型の中で、乳剤、ジェル剤、クリーム剤等の半固形製剤が指どれの良さや肌上での垂れにくさという点で適している。

ここで言う半固形製剤とは、Ｂ型粘度計において、製剤３０℃のものをローターＮｏ．４、回転数６ｒｐｍで測定した１分後の示度により算出した値が３００００ｍＰａ・ｓ以上のものを言う。
本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、粘度が３００００ｍＰａ・ｓ以上で、半固形であれば、指どれがよく、垂れにくいために塗布しやすく、さらに、水溶性高分子を多く配合しても、よれを生じにくく、肌なじみが良く、指どれが良く、塗布時の崩れが良く、肌なじみの良い製剤が可能となる。

次に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではないことは言うまでもない。配合量は、全て質量％である。

実施例に記載の試験方法は下記の通りである。

＜安定性試験＞
下記表１のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を０℃、３０℃及び４５℃の恒温槽に保管し、下記基準により安定性を評価した。
＜評価＞
◎：分離又は粘度変化することなく安定な期間が６ヶ月以上であった。
○：分離又は粘度変化することなく安定な期間が１ヶ月以上、６ヶ月未満であった。
△：分離又は粘度変化することなく安定な期間が２週間以上、１ヶ月未満であった。
×：分離又は粘度変化することなく安定な期間が２週間未満であった。
ここで粘度変化とは、試料作成直後に測定したときの粘度と比較して、恒温槽保管後に測定したときの１／２以下に低下したような場合、もしくは極端に粘度が増加したような場合である。

＜使用性評価試験＞
下記表１のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を用いて、女性パネラー２０名により官能試験を行い、「指どれ」、「よれ」、「塗布時のくずれ」「肌なじみ」、「べたつき感の無さ」の各項目について下記基準により評価し、その平均点にて判定した。
＜評価項目＞
指どれ：剤を指ですくい上げたときのとれやすさ、たれにくさを評価した。
よれ：剤を肌に塗布したときに均一に塗布できるかを評価した。
塗布時の崩れ：剤を肌上に塗布したときに速やかに崩れ、良好な伸びがあるかを評価した。
肌なじみ：剤を肌上で伸ばしたとき、肌残りせず速やかに肌になじむかを評価した。
べたつき感の無さ：剤を肌上で伸ばした後に、不快なべたつきがないかを評価した。
＜評価＞
５点：非常に良好
４点：良好
３点：普通
２点：やや不良
１点：不良
＜判定＞
◎：平均点４．５点以上
○：平均点３．５点以上、４．５点未満
△：平均点２．５点以上、３．５点未満
×：平均点２．５点未満

＜ＵＶ−Ａ防御効果＞
実施例、比較例の日焼け止め化粧料の試料を２ｍｇ／ｃｍ²の割合で、石英硝子上に張り付けた樹脂テープ上に塗布し、ＳＰＦアナライザー（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社、ＵＶ−１０００Ｓ）を用いてＵＶ−Ａ領域の紫外線防御能を測定した。
実施例と比較例１との性能を比較し、以下に示す基準に従って評価した。
○：比較例１よりＵＶ−Ａ領域の紫外線防御能が優れる。
△：比較例１とＵＶ−Ａ領域の紫外線防御能が同等。
×：比較例１よりＵＶ−Ａ領域の紫外線防御能が劣る。

実施例１〜４、比較例１〜８
表１に示す組成のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を常法により調製し、上記安定性試験及び使用性評価試験を行った。その結果を表１に併せて示す。

表１から明らかなように、本発明に係る実施例のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、安定性及び使用感において優れたものであった。また、必須成分を欠いた比較例では、安定性、使用感のいずれかの点において劣っていた。特に、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤であるパラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルを配合した化粧料（比較例２）は、ＵＶ−Ａ防御効果がなかっただけでなく、塗布時崩れ感が悪く、べたつきも生じるものであった。また、成分（Ａ）に代えて、（ヒドロキシエチルアクリル酸／アクリルジメチルタウリンナトリウム）共重合体を配合した化粧料（比較例８）は、安定性が十分でなく、塗布時の崩れ感が悪く、べたつきが生じるものであった。

実施例５
下記に示す組成のＯ／Ｗ型日焼け止めクリームを常法に従い調製した。該Ｏ／Ｗ型日焼け止めクリームは、粘度が３００００ｍＰａ・ｓ以上であり、上記試験を行ったところ、安定性及び使用感に優れたものであった。
（成分） （質量％）
パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ７．５
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン １．０
ミリスチン酸イソセチル ３．０
イソノナン酸イソニノル １．０
ジメチルポリシロキサン １．０
ＳＩＭＵＬＧＥＬ ＥＧ（ＳＥＰＰＩＣ社製） １．５
アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体 ０．４
グリチルリチン酸アンモニウム ０．３
エタノール ８．０
エデト酸二ナトリウム ０．０１
キサンタンガム ０．１
香料 ０．２
精製水 残 量

実施例６
下記に示す組成のＯ／Ｗ型日焼け止めクリームを常法に従い調製した。該Ｏ／Ｗ型日焼け止めクリームは、粘度が３００００ｍＰａ・ｓ以上であり、上記試験を行ったところ、安定性及び使用感に優れたものであった。
（成分） （質量％）
パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ５．０
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル １．０
ミリスチン酸イソセチル ３．０
メチルフェニルポリシロキサン ２．０
ＳＩＭＵＬＧＥＬ ＥＧ（ＳＥＰＰＩＣ社製） １．５
エタノール ５．０
エデト酸二ナトリウム ０．０１
カルボキシビニルポリマー（シンタレンＬ、３Ｖシグマ製） ０．５
水酸化カリウム ０．８
キサンタンガム ０．０５
アスコルビン酸２グルコシド ２．０
ポリオキシエチレン（２０）ヤシ油脂肪酸ソルビタン ０．１
ポリオキシエチレン（６０）硬化ヒマシ油 ０．６
フェノキシエタノール ０．０５
精製水 残 量

尚、上記実施例で用いた香料は、下記香料処方のものである。

本発明により、優れたＵＶ−Ａ吸収能を持ち、保存安定性に優れ、指どれが良く、べたつきがなく、よれを生じにくく、塗布時のくずれ感がよく、肌なじみに優れたＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料を提供できる。

Claims (5)

1. 次の成分（Ａ）〜（Ｄ）：
   （Ａ）ポリアクリルアミド、及び／又はアクリル酸ナトリウム／アクリロイルジメチルタウリン共重合体、
   （Ｂ）４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、メチレンビズベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール及びビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジンから選ばれる１種又は２種以上であるＵＶ−Ａ紫外線吸収剤 ０．３〜３．０質量％、
   （Ｃ）前記の成分（Ａ）を除くカルボキシル基含有の増粘性高分子、
   （Ｄ）グリチルリチン酸若しくはその誘導体及び／又はアスコルビン酸若しくはその誘導体
   を含み、成分（Ａ）と成分（Ｃ）の含有質量比（Ａ／Ｃ）が４／１〜１／２であり、かつ３０℃で半固形であるＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。
2. 成分（Ｃ）が、カルボキシビニルポリマー及び／又はアルキル変性カルボキシビニルポリマーである請求項１に記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。
3. 成分（Ａ）が、アクリル酸ナトリウム／アクリロイルジメチルタウリン共重合体である請求項１又は２に記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。
4. 成分（Ａ）の含有量が、０．０５〜１．５質量％である請求項１〜３のいずれか１項記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。
5. 粘度（３０℃）が３０，０００ｍＰａ・ｓ以上の半固形である請求項１〜４のいずれか１項記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。